JPH0515120Y2 - - Google Patents
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- JPH0515120Y2 JPH0515120Y2 JP1985081463U JP8146385U JPH0515120Y2 JP H0515120 Y2 JPH0515120 Y2 JP H0515120Y2 JP 1985081463 U JP1985081463 U JP 1985081463U JP 8146385 U JP8146385 U JP 8146385U JP H0515120 Y2 JPH0515120 Y2 JP H0515120Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案はESCAなどの表面分析装置において、
微小部を測定するために使用されるX線銃に関す
るものである。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) This invention is applicable to surface analysis devices such as ESCA.
The present invention relates to an X-ray gun used for measuring minute parts.
(従来の技術)
微小部ESCAを実現するためには種々の方法が
あるが、その一手法として励起源であるX線を絞
る方法がある。X線を絞る方法にも種々の方法が
あり、例えば、
(1) フレネルゾレーンプレートによる方法、
(2) X線ミラーによる方法、
などがある。しかし、現在のところ、また強度的
に問題があり、そのような手段によるESCA用の
微小部X線銃は得られていない。(Prior Art) There are various methods for realizing microscopic ESCA, and one method is to narrow down the X-rays that are the excitation source. There are various methods for concentrating X-rays, such as (1) a method using a Fresnel Solane plate, and (2) a method using an X-ray mirror. However, at present, there are problems in terms of strength, and a micro X-ray gun for ESCA has not been obtained by such means.
また、別の手法として、電子銃によつて細く絞
られた電子線をターゲツトに当て、発生したX線
を分光結晶により分光して試料上に収束させる手
法がある。 Another method is to use an electron gun to direct a finely focused electron beam onto a target, and then use a spectroscopic crystal to separate the generated X-rays and focus them on the sample.
(考案が解決しようとする問題点)
電子銃によつて細く絞られた電子線をターゲツ
トに当てると、ターゲツトには高電流密度の電子
線が当たるため、ターゲツトの冷却だけではター
ゲツトの損失は免れず、電子線の照射位置を変え
る必要がある。(Problem that the invention aims to solve) When a target is hit with a finely focused electron beam using an electron gun, the target is hit by an electron beam with a high current density, so cooling the target alone can prevent loss of the target. Therefore, it is necessary to change the irradiation position of the electron beam.
従来は、そのために回転ターゲツトを用いてい
るが、超高真空中でターゲツトを回転させるに
は、ターゲツトを回転可能に支持するためにガス
の発生源となるベアリングなどを超高真空中に設
けなければならない問題がある。 Conventionally, a rotating target is used for this purpose, but in order to rotate the target in an ultra-high vacuum, it is necessary to install a bearing, which is a gas generation source, in the ultra-high vacuum to rotatably support the target. There is an unavoidable problem.
本考案は、電子銃によつて細く絞られた電子線
をターゲツトに当て、発生したX線を分光結晶に
より分光して試料上に収束させることにより微小
部X線銃を実現するものであるが、超高真空中に
ベアリングなどの機構部品を設けないでターゲツ
ト上の電子線照射位置を移動させるとともに、試
料を照射するX線強度を強くすることを目的とす
るものである。 The present invention realizes a microscopic X-ray gun by applying a finely focused electron beam to a target using an electron gun, separating the generated X-rays using a spectroscopic crystal, and converging them onto a sample. The purpose is to move the electron beam irradiation position on the target without installing mechanical parts such as bearings in an ultra-high vacuum, and to increase the intensity of the X-rays irradiating the sample.
(問題点を解決するための手段)
本考案の微小部分析用X線銃は、軸対称な表面
をもつターゲツトと、ターゲツトの表面側でその
ターゲツトの表面の対称軸上に中心軸を有し、タ
ーゲツト方向に向けて配置され、X偏向電極電位
VxとY偏向電極電位Vyが
Vx2+Vy2=a2(aは定数)
の関係を保つて変化させられる電子銃と、前記対
称軸を回転中心としターゲツトの電子線照射位置
と試料位置を含むローランド円による回転体の曲
面上で、かつ、前記対称軸に垂直な一平面上に配
置された複数個のX線分光結晶とを備えている。(Means for Solving the Problems) The X-ray gun for analyzing minute parts of the present invention has a target having an axially symmetrical surface and a central axis on the axis of symmetry of the surface of the target on the surface side of the target. , is placed toward the target, and has an X-deflection electrode potential of
It includes an electron gun in which Vx and Y deflection electrode potential Vy are changed while maintaining the relationship of Vx 2 + Vy 2 = a 2 (a is a constant), and the electron beam irradiation position of the target and the sample position with the axis of symmetry as the center of rotation. A plurality of X-ray spectroscopy crystals are arranged on a curved surface of a rotating body formed by a Rowland circle and on a plane perpendicular to the axis of symmetry.
また、好ましい態様では、ターゲツトの表面側
が凸面状であり、前記対称軸が垂直方向に配置さ
れ、ターゲツトの裏面側が大気中にあつて凹部を
有し、その凹部には冷媒が供給される。 Further, in a preferred embodiment, the front side of the target is convex, the axis of symmetry is arranged in a vertical direction, and the back side of the target is in the atmosphere and has a recess, and the refrigerant is supplied to the recess.
(実施例)
2は円錐状ターゲツトであり、その凸面側が下
向きになり、分析装置の超高真空容器内になるよ
うに設置されている。ターゲツト2は用途に応じ
てアルミニウムやマグネシウムにより製作され
る。ターゲツト2の凹面側は大気側になつてお
り、その凹面側には冷媒としての液体窒素や水な
どが供給される。(Example) Reference numeral 2 denotes a conical target, which is installed with its convex side facing downward and inside the ultra-high vacuum container of the analyzer. The target 2 is made of aluminum or magnesium depending on the purpose. The concave side of the target 2 faces the atmosphere, and liquid nitrogen, water, or the like as a refrigerant is supplied to the concave side.
4は電子銃であり、電子銃4の中心軸6がター
ゲツト2の中心軸8上にあるように、電子銃4と
ターゲツト2が位置決めされている。 4 is an electron gun, and the electron gun 4 and the target 2 are positioned so that the central axis 6 of the electron gun 4 is on the central axis 8 of the target 2.
電子銃4のX偏向電極電位をVx、Y偏向電極
電位をVyとすると、
Vx2+Vy2=a2 ……(1)
(ただしaは定数)の関係を保ちつつ、Vx,
Vyが変化させられる。 If the X deflection electrode potential of the electron gun 4 is Vx, and the Y deflection electrode potential is Vy, then Vx 2 +Vy 2 = a 2 ...(1) While maintaining the relationship (where a is a constant), Vx,
Vy can be changed.
10は試料であり、測定点はターゲツト2の中
心軸8と電子銃4の中心軸6を結ぶ直線上にあ
る。 10 is a sample, and the measurement point is on a straight line connecting the central axis 8 of the target 2 and the central axis 6 of the electron gun 4.
12−1,……12−m,……はX線分光結晶
であり、それぞれターゲツト2の電子線照射位置
14−1,……14−m,……と試料10の測定
点を含むローランド円15−1,……15−m,
……上に設けられている。ローランド円15−
1,……15−m,……は、ターゲツト2の中心
軸8(電子銃4の中心軸6)上の直線を中心軸と
する回転体を形成する。各X線分光結晶12−
1,……12−m,……は、その回転体の曲面と
その回転体の中心軸に垂直(図では紙面に対して
垂直方向)な平面16との交点が形成する円周上
に配列されている。 12-1, . . . 12-m, . . . are X-ray spectroscopy crystals, and the Rowland circles include the electron beam irradiation positions 14-1, . . . 14-m, . 15-1,...15-m,
...It is placed above. Roland yen 15-
1, . . . 15-m, . . . form a rotating body whose central axis is a straight line on the central axis 8 of the target 2 (the central axis 6 of the electron gun 4). Each X-ray spectroscopic crystal 12-
1,...12-m,... are arranged on the circumference formed by the intersection of the curved surface of the rotating body and the plane 16 perpendicular to the central axis of the rotating body (in the figure, perpendicular to the plane of the paper). has been done.
本実施例において、電子銃4のX,Y偏向電極
電位Vx,Vyを(1)式を満たすように変化させる
と、電子銃4からの電子線18はターゲツト2上
を円に沿つて掃引する。それによりターゲツト2
の電子線照射位置14−1,……14−m,……
から発生した特性X線20は、対応するX線分光
結晶12−1,……12−m,……により分光さ
れ、収束されて試料10上の測定点を照射する。
試料10から発生した電子は、アナライザにより
分析される。 In this embodiment, when the X and Y deflection electrode potentials Vx and Vy of the electron gun 4 are changed to satisfy equation (1), the electron beam 18 from the electron gun 4 sweeps over the target 2 along a circle. . As a result, target 2
Electron beam irradiation position 14-1,...14-m,...
The characteristic X-rays 20 generated from the X-rays are separated by the corresponding X-ray spectroscopic crystals 12-1, . . . 12-m, .
Electrons generated from the sample 10 are analyzed by an analyzer.
本実施例では電子銃4のX,Y偏向電極電位を
電子線が円に沿つて移動するように変化させてい
るので、X線分光結晶12−1,……12−m,
……を平面16内の円周上に配列することがで
き、設計が容易になる。 In this embodiment, the X and Y deflection electrode potentials of the electron gun 4 are changed so that the electron beam moves along a circle.
... can be arranged on the circumference within the plane 16, making the design easier.
ターゲツト2は円錐状であるので、図のように
ターゲツト2の凸面側を下向きに設置すれば、冷
媒により電子線照射位置を冷却することが容易に
なる。しかし、例えば、ターゲツトの面を平面と
し、そのターゲツト面を電子銃4の中心軸6に対
して垂直に設置してもよい。また、ターゲツトの
面は曲面であつてもよい。 Since the target 2 has a conical shape, if the convex side of the target 2 is placed facing downward as shown in the figure, the electron beam irradiation position can be easily cooled by the coolant. However, for example, the target surface may be a flat surface and the target surface may be placed perpendicular to the central axis 6 of the electron gun 4. Further, the target surface may be a curved surface.
また、実施例ではターゲツト2を冷媒で冷却し
ているが、ターゲツトの材質や厚み、あるいは用
途によつては必ずしも冷却しなくてもよいことも
ある。 Further, in the embodiment, the target 2 is cooled with a refrigerant, but depending on the material and thickness of the target, or the intended use, cooling may not necessarily be necessary.
(考案の効果)
本考案のX線銃によれば、電子銃により電子線
をターゲツト上で移動させるので、ターゲツトを
回転させる必要がない。そのため超高真空度を低
下させるような機構部品を真空容器内に設ける必
要がなくなる。(Effects of the invention) According to the X-ray gun of the invention, since the electron gun moves the electron beam on the target, there is no need to rotate the target. Therefore, there is no need to provide mechanical parts in the vacuum container that would lower the degree of ultra-high vacuum.
発生したX線は試料上に収束されるとともに、
ターゲツト上の円形の電子線照射位置に対応して
複数の分光結晶を有し、発生したX線を有効に試
料上に導くことができるので、試料を照射するX
線の強度を高くして試料の微小部の分析を可能に
する。 The generated X-rays are focused on the sample, and
It has a plurality of spectroscopic crystals corresponding to the circular electron beam irradiation position on the target, and can effectively guide the generated X-rays onto the sample.
The intensity of the line is increased to enable analysis of minute parts of the sample.
図は一実施例を示す概略断面図である。
2……ターゲツト、4……電子銃、10……試
料、12−1,……12−m,……X線分光結
晶、14−1,……14−m,……電子線照射位
置、15−1,……15−m,……ローランド
円。
The figure is a schematic sectional view showing one embodiment. 2...Target, 4...Electron gun, 10...Sample, 12-1,...12-m,...X-ray spectroscopy crystal, 14-1,...14-m,...Electron beam irradiation position, 15-1,...15-m,...Roland yen.
Claims (1)
ゲツトの表面側でそのターゲツトの表面の対称
軸上に中心軸を有し、ターゲツト方向に向けて
配置され、X偏向電極電位VxとY偏向電極電
位Vyが Vx2+Vy2=a2(aは定数) の関係を保つて変化させられる電子銃と、 前記対称軸を回転中心とし前記ターゲツトの
電子線照射位置と試料位置を含むローランド円
による回転体の曲面上で、かつ、前記対称軸に
垂直な一平面上に配置された複数個のX線分光
結晶と、 を備えたことを特徴とする微小部分析用X線
銃。 (2) 前記ターゲツトの表面側が凸面状であり、前
記対称軸が垂直方向に配置され、前記ターゲツ
トの裏面側が大気中にあつて凹部を有し、その
凹部には冷媒が供給される実用新案登録請求の
範囲第1項に記載の微小部分析用X線銃。[Claims for Utility Model Registration] (1) A target having an axially symmetrical surface, and having a central axis on the axis of symmetry of the surface of the target on the surface side of the target, and is arranged toward the target, An electron gun in which the deflection electrode potential Vx and the Y deflection electrode potential Vy are changed while maintaining the relationship of Vx 2 +Vy 2 =a 2 (a is a constant); A plurality of X-ray spectroscopy crystals arranged on a curved surface of a rotating body formed by a Rowland circle including the sample position and on a plane perpendicular to the axis of symmetry. X-ray gun. (2) A utility model registration in which the front side of the target is convex, the axis of symmetry is arranged in a vertical direction, the back side of the target is in the atmosphere and has a recess, and a refrigerant is supplied to the recess. An X-ray gun for microscopic part analysis according to claim 1.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP1985081463U JPH0515120Y2 (en) | 1985-05-29 | 1985-05-29 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP1985081463U JPH0515120Y2 (en) | 1985-05-29 | 1985-05-29 |
Publications (2)
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---|---|
JPS61197547U JPS61197547U (en) | 1986-12-10 |
JPH0515120Y2 true JPH0515120Y2 (en) | 1993-04-21 |
Family
ID=30628267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985081463U Expired - Lifetime JPH0515120Y2 (en) | 1985-05-29 | 1985-05-29 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0515120Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009109207A (en) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | X-ray generation device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52100891A (en) * | 1976-02-19 | 1977-08-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X ray generation method and its device |
JPS57182152A (en) * | 1981-04-20 | 1982-11-09 | Us Government | Diffraction device |
-
1985
- 1985-05-29 JP JP1985081463U patent/JPH0515120Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52100891A (en) * | 1976-02-19 | 1977-08-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X ray generation method and its device |
JPS57182152A (en) * | 1981-04-20 | 1982-11-09 | Us Government | Diffraction device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61197547U (en) | 1986-12-10 |
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