JPH05150108A - 位相シフト回折格子及びその製造方法 - Google Patents
位相シフト回折格子及びその製造方法Info
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- JPH05150108A JPH05150108A JP31655891A JP31655891A JPH05150108A JP H05150108 A JPH05150108 A JP H05150108A JP 31655891 A JP31655891 A JP 31655891A JP 31655891 A JP31655891 A JP 31655891A JP H05150108 A JPH05150108 A JP H05150108A
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- phase shift
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 所望の位相シフト性能を有すると共に、回折
格子パターンの形成工程と位相シフト領域の形成工程と
が分離された簡易な製造工程で製造でき得る構造の位相
シフト回折格子と、その製造方法を提案する。 【構成】 回折格子面上の少なくとも１箇所の領域（領
域II）において、回折格子の厚さ方向の光路長（Ｄ）
を、所望の位相シフト量に相当する、所定量（δＤ）だ
け変化させる。又、光路長を変化せしめる手段として、
エッチング又は堆積によって該領域の厚さを変化させる
手段、或いは該領域にイオン打ち込み屈折率を変化させ
て実効的に光路長を変化せしめる手段を利用する。
格子パターンの形成工程と位相シフト領域の形成工程と
が分離された簡易な製造工程で製造でき得る構造の位相
シフト回折格子と、その製造方法を提案する。 【構成】 回折格子面上の少なくとも１箇所の領域（領
域II）において、回折格子の厚さ方向の光路長（Ｄ）
を、所望の位相シフト量に相当する、所定量（δＤ）だ
け変化させる。又、光路長を変化せしめる手段として、
エッチング又は堆積によって該領域の厚さを変化させる
手段、或いは該領域にイオン打ち込み屈折率を変化させ
て実効的に光路長を変化せしめる手段を利用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回折格子にかかり、特
に位相シフト領域を有する位相シフト回折格子及びその
製造方法に関する。
に位相シフト領域を有する位相シフト回折格子及びその
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、回折光学素子が広汎な分野で利用
されるようになってきた。例えば、特開昭６３−９０３
７号公報には、光ディスク装置の光学ヘッドのフォーカ
スサーボを、楕円形の回折型レンズを用いて行う装置が
開示されている。この楕円形の回折型レンズは、通常の
集光レンズの作用とシリンドリカルレンズの作用とを合
わせ持ち、光学装置全体の集積化・軽量化等に寄与して
いる。一方、位相シフト回折格子に関しては、例えば、
集光作用をもつように間隔を調節して輪帯状に格子を配
置した回折型レンズ（フェーズ・フレネル・レンズ）に
おいて、レンズの中心付近と外周付近とに位相差を与え
ることにより該レンズの結像性能が向上され得ることが
知られている。このレンズを用いた結像方法は、レンズ
の中心付近と外周付近とで振幅透過率に差を与えた（振
幅強度変調）レンズを用いた方法と比較して、光の利用
効率が良いため、今後光ピックアップ等への応用が期待
されている。
されるようになってきた。例えば、特開昭６３−９０３
７号公報には、光ディスク装置の光学ヘッドのフォーカ
スサーボを、楕円形の回折型レンズを用いて行う装置が
開示されている。この楕円形の回折型レンズは、通常の
集光レンズの作用とシリンドリカルレンズの作用とを合
わせ持ち、光学装置全体の集積化・軽量化等に寄与して
いる。一方、位相シフト回折格子に関しては、例えば、
集光作用をもつように間隔を調節して輪帯状に格子を配
置した回折型レンズ（フェーズ・フレネル・レンズ）に
おいて、レンズの中心付近と外周付近とに位相差を与え
ることにより該レンズの結像性能が向上され得ることが
知られている。このレンズを用いた結像方法は、レンズ
の中心付近と外周付近とで振幅透過率に差を与えた（振
幅強度変調）レンズを用いた方法と比較して、光の利用
効率が良いため、今後光ピックアップ等への応用が期待
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例において、
位相シフト回折格子を形成する場合は、位相をシフトさ
せる境界面において格子間隔を調整する方法が採られて
いた。例えば、分布帰還型レーザーに利用されるλ／４
シフト回折格子は２光束干渉を利用したフォトリソグラ
フィーで形成される。この場合、位相シフト領域を形成
する方法としては、例えば特開平３−６１９０１号公報
に開示されている如く位相シフト領域を異種の感光材料
（ネガ型・ポジ型）で分離する方法、或いは特開平２−
１９６２０２号公報に開示されている如く位相シフト領
域の境界に段差を設ける方法等がある。しかし、いずれ
の方法も格子間隔を調整することで位相シフト領域を形
成する方式であることにかわりはなく、この方式による
と、位相のシフト量、又は位相をシフトさせる領域に変
更が加わる毎に回折格子パターン全体を変更しなければ
ならない。即ち、この場合、位相シフトの与え方によっ
て、パターンの異なる回折格子を個々に作製しなければ
ならないことになる。又、一般的に、格子間隔を調整し
て位相シフト領域を与える上記回折格子の製造方法は、
必ずしも容易なものではない。
位相シフト回折格子を形成する場合は、位相をシフトさ
せる境界面において格子間隔を調整する方法が採られて
いた。例えば、分布帰還型レーザーに利用されるλ／４
シフト回折格子は２光束干渉を利用したフォトリソグラ
フィーで形成される。この場合、位相シフト領域を形成
する方法としては、例えば特開平３−６１９０１号公報
に開示されている如く位相シフト領域を異種の感光材料
（ネガ型・ポジ型）で分離する方法、或いは特開平２−
１９６２０２号公報に開示されている如く位相シフト領
域の境界に段差を設ける方法等がある。しかし、いずれ
の方法も格子間隔を調整することで位相シフト領域を形
成する方式であることにかわりはなく、この方式による
と、位相のシフト量、又は位相をシフトさせる領域に変
更が加わる毎に回折格子パターン全体を変更しなければ
ならない。即ち、この場合、位相シフトの与え方によっ
て、パターンの異なる回折格子を個々に作製しなければ
ならないことになる。又、一般的に、格子間隔を調整し
て位相シフト領域を与える上記回折格子の製造方法は、
必ずしも容易なものではない。
【０００４】本発明は、従来の技術の有するこのような
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、所望の位相シフト性能を有すると共に容易に製
造でき得る構造の位相シフト回折格子及びその製造方法
を提供することにある。
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、所望の位相シフト性能を有すると共に容易に製
造でき得る構造の位相シフト回折格子及びその製造方法
を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】実際に回折格子を作製す
る場合、回折格子は一定の厚さを有する基板上に作製さ
れる。この回折格子を、基板も含めた一つの光学素子と
してとらえれば、この回折格子の奥行き即ち厚さ方向の
距離、或いは基板の有する光学的特性を利用することに
よって、回折格子に対して実効的に位相シフト作用を付
与することが可能となる。従って、本発明による位相シ
フト回折格子は、回折格子面上の少なくとも１箇所の領
域において、該回折格子の厚さ方向の光路長を所定量変
化させ、この領域に位相シフト作用を付与して成ること
を特徴としている。
る場合、回折格子は一定の厚さを有する基板上に作製さ
れる。この回折格子を、基板も含めた一つの光学素子と
してとらえれば、この回折格子の奥行き即ち厚さ方向の
距離、或いは基板の有する光学的特性を利用することに
よって、回折格子に対して実効的に位相シフト作用を付
与することが可能となる。従って、本発明による位相シ
フト回折格子は、回折格子面上の少なくとも１箇所の領
域において、該回折格子の厚さ方向の光路長を所定量変
化させ、この領域に位相シフト作用を付与して成ること
を特徴としている。
【０００６】又、本発明による位相シフト回折格子の製
造方法は、等間隔に配列された多数の格子を備えた回折
格子の一部の領域の厚さを、エッチングにより減少さ
せ、若しくは適当な物質を堆積させて増加させることに
より、又は等間隔に配列された多数の格子を備えた回折
格子の一部の領域にイオンを打ち込んで該領域の屈折率
を他の領域の屈折率と異ならしめるこよにより、他の領
域との光路長を変化させることを特徴としている。
造方法は、等間隔に配列された多数の格子を備えた回折
格子の一部の領域の厚さを、エッチングにより減少さ
せ、若しくは適当な物質を堆積させて増加させることに
より、又は等間隔に配列された多数の格子を備えた回折
格子の一部の領域にイオンを打ち込んで該領域の屈折率
を他の領域の屈折率と異ならしめるこよにより、他の領
域との光路長を変化させることを特徴としている。
【０００７】
【作用】図２は、位相シフト回折格子の作用を示した図
であり、等間隔回折格子において入射した波長λの光束
が１次回折する様子を示している。図２において、
（ａ）は格子間隔Ｐを調整して形成された従来の製造方
法により形成される回折格子の断面図、（ｂ）は本発明
の製造方法により形成される回折格子の断面図であり、
図中、１は回折格子パターンが形成された面、２は入射
光束、２′は１次回折光である。
であり、等間隔回折格子において入射した波長λの光束
が１次回折する様子を示している。図２において、
（ａ）は格子間隔Ｐを調整して形成された従来の製造方
法により形成される回折格子の断面図、（ｂ）は本発明
の製造方法により形成される回折格子の断面図であり、
図中、１は回折格子パターンが形成された面、２は入射
光束、２′は１次回折光である。
【０００８】図２（ａ）において、この回折格子の格子
間隔Ｐは１次回折角をθとしたとき、回折の条件から、 Ｐ＝λ／ｓｉｎθ となる。又、位相シフト量δφa は、位相をシフトさせ
る境界における格子間隔Ｐ′から、 δφa ＝２π×（Ｐ′／Ｐ） で与えられる。
間隔Ｐは１次回折角をθとしたとき、回折の条件から、 Ｐ＝λ／ｓｉｎθ となる。又、位相シフト量δφa は、位相をシフトさせ
る境界における格子間隔Ｐ′から、 δφa ＝２π×（Ｐ′／Ｐ） で与えられる。
【０００９】これに対し、本発明による位相シフト回折
格子は、図２（ｂ）に示すように、格子間隔Ｐは等間隔
のまま、位相をシフトせしめるに必要な位相差に相当す
る光路長の変化に対応させて、回折格子の厚さ方向の光
路長を領域Ａと領域Ｂとで実効的に変化させて成る。こ
のとき、領域Ａにおける回折格子の厚さ方向の光路長を
α、領域Ｂにおける回折格子の厚さ方向の光路長をβと
すれば、位相シフト量δφb は、 δφb ＝２π×（α−β）／λ となる。従って、本発明の位相シフト回折格子では、回
折格子と、これが形成されている基板とで構成される光
学素子全体が位相シフト作用を有することになり、実効
的な位相シフト作用が回折格子に付与され得る。
格子は、図２（ｂ）に示すように、格子間隔Ｐは等間隔
のまま、位相をシフトせしめるに必要な位相差に相当す
る光路長の変化に対応させて、回折格子の厚さ方向の光
路長を領域Ａと領域Ｂとで実効的に変化させて成る。こ
のとき、領域Ａにおける回折格子の厚さ方向の光路長を
α、領域Ｂにおける回折格子の厚さ方向の光路長をβと
すれば、位相シフト量δφb は、 δφb ＝２π×（α−β）／λ となる。従って、本発明の位相シフト回折格子では、回
折格子と、これが形成されている基板とで構成される光
学素子全体が位相シフト作用を有することになり、実効
的な位相シフト作用が回折格子に付与され得る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１に基づいて説明
する。尚、実施例においては、回折格子パターンと、そ
の回折格子パターンが形成されている基板とを、まとめ
て回折格子と呼ぶこととする。
する。尚、実施例においては、回折格子パターンと、そ
の回折格子パターンが形成されている基板とを、まとめ
て回折格子と呼ぶこととする。
【００１１】図１（ａ）は、本実施例による位相シフト
回折格子を作製する際に基本となる回折格子の断面図で
あって、回折格子パターンは屈折率ｎの基板上に形成さ
れ、ブレーズ形状の断面形状を有している。図１（ａ）
において、ｄは１次回折効率が１００％となるように決
定された回折格子パターンの厚さで、この回折格子に使
用する光束の波長をλとすれば、厚さｄは次式（１）で
与えられる。 ｄ＝λ／（ｎ−１） ───式（１） このとき、回折格子全体の厚さをＤとして該格子の光路
長を変化量δＤだけ変化させ、これにより入射光束が位
相シフトせしめられる位相変化量δφは、次式（２）で
与えられる。 δφ＝２π×δＤ／ｄ ───式（２） 本発明の如く、回折格子の厚さを変化させることにより
該格子の厚さ方向の光路長を変化せしめ、これにより位
相シフト領域を回折格子に形成する場合は、この式
（２）が該領域を形成するための条件式となる。
回折格子を作製する際に基本となる回折格子の断面図で
あって、回折格子パターンは屈折率ｎの基板上に形成さ
れ、ブレーズ形状の断面形状を有している。図１（ａ）
において、ｄは１次回折効率が１００％となるように決
定された回折格子パターンの厚さで、この回折格子に使
用する光束の波長をλとすれば、厚さｄは次式（１）で
与えられる。 ｄ＝λ／（ｎ−１） ───式（１） このとき、回折格子全体の厚さをＤとして該格子の光路
長を変化量δＤだけ変化させ、これにより入射光束が位
相シフトせしめられる位相変化量δφは、次式（２）で
与えられる。 δφ＝２π×δＤ／ｄ ───式（２） 本発明の如く、回折格子の厚さを変化させることにより
該格子の厚さ方向の光路長を変化せしめ、これにより位
相シフト領域を回折格子に形成する場合は、この式
（２）が該領域を形成するための条件式となる。
【００１２】図１（ｂ）は、本実施例による透過型の位
相シフト回折格子の断面図である。これは、図示した領
域Ｉと領域IIとの位相差をδφとするため、同図（ａ）
に示した回折格子の領域IIにおける回折格子パターンが
形成された面にエッチングを施し、該領域の回折格子全
体の厚さＤを上記条件式（２）で決定される位相変化量
δφに相当する変化量δＤだけ減少させたものである。
これは、反射型回折格子に位相シフト作用を与える場合
にも適用することができる。
相シフト回折格子の断面図である。これは、図示した領
域Ｉと領域IIとの位相差をδφとするため、同図（ａ）
に示した回折格子の領域IIにおける回折格子パターンが
形成された面にエッチングを施し、該領域の回折格子全
体の厚さＤを上記条件式（２）で決定される位相変化量
δφに相当する変化量δＤだけ減少させたものである。
これは、反射型回折格子に位相シフト作用を与える場合
にも適用することができる。
【００１３】図１（ｃ）は、同図（ａ）に示した回折格
子の領域IIにおける回折格子パターンが形成されていな
い面にエッチングを施すことにより、該領域の回折格子
全体の厚さＤを上記条件式（２）で決定される変化量δ
Ｄだけ減少させて作製した場合の透過型の位相シフト回
折格子の断面図である。この場合も、同図（ｂ）に示し
た回折格子と同様の位相シフト作用を得ることができ
る。尚、エッチング工程は、半導体製造プロセスで利用
されるフォトリソグラフィーの手法を用いれば、所望の
格子形状が極めて容易に実現できる。
子の領域IIにおける回折格子パターンが形成されていな
い面にエッチングを施すことにより、該領域の回折格子
全体の厚さＤを上記条件式（２）で決定される変化量δ
Ｄだけ減少させて作製した場合の透過型の位相シフト回
折格子の断面図である。この場合も、同図（ｂ）に示し
た回折格子と同様の位相シフト作用を得ることができ
る。尚、エッチング工程は、半導体製造プロセスで利用
されるフォトリソグラフィーの手法を用いれば、所望の
格子形状が極めて容易に実現できる。
【００１４】このように、本発明による位相シフト回折
格子の製造方法は、図１（ａ）に示した位相シフト領域
がない回折格子に、追加工を施すことによって所望の位
相シフト作用を有する回折格子を得ることができるとい
う特徴を有している。又、本発明において、位相のシフ
ト量は回折格子の厚さ方向の光路長の変化量で決定され
ることから、位相シフト領域を形成するための工程にお
いて、回折格子面上のエッチング領域の位置決め精度は
位相シフト量の精度に何ら関与しない。
格子の製造方法は、図１（ａ）に示した位相シフト領域
がない回折格子に、追加工を施すことによって所望の位
相シフト作用を有する回折格子を得ることができるとい
う特徴を有している。又、本発明において、位相のシフ
ト量は回折格子の厚さ方向の光路長の変化量で決定され
ることから、位相シフト領域を形成するための工程にお
いて、回折格子面上のエッチング領域の位置決め精度は
位相シフト量の精度に何ら関与しない。
【００１５】上記実施例において、回折格子の表面レリ
ーフ構造は、ブレーズ構造である必要はなく、どのよう
な構造であっても構わない。又、回折格子の厚さを変化
させる方法は、エッチング工程に限らず、基板と同じ光
学的特性を有する材料を回折格子面上に堆積し、該回折
格子の厚さを増加せしめる方法であっても良い。
ーフ構造は、ブレーズ構造である必要はなく、どのよう
な構造であっても構わない。又、回折格子の厚さを変化
させる方法は、エッチング工程に限らず、基板と同じ光
学的特性を有する材料を回折格子面上に堆積し、該回折
格子の厚さを増加せしめる方法であっても良い。
【００１６】更に、上記実施例では、回折格子の厚さ方
向の光路長を所定量変化させるために幾何学的な光路長
即ち回折格子の厚さを変化させる方法を用いたが、透過
型の回折格子の場合は、例えば基板の適当な領域に適当
なイオンを打ち込むことによりこの領域の屈折率を変化
させ、他の領域との光路長を実効的に変化せしめる方法
を用いても良い。
向の光路長を所定量変化させるために幾何学的な光路長
即ち回折格子の厚さを変化させる方法を用いたが、透過
型の回折格子の場合は、例えば基板の適当な領域に適当
なイオンを打ち込むことによりこの領域の屈折率を変化
させ、他の領域との光路長を実効的に変化せしめる方法
を用いても良い。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明の位相シフト
回折格子によれば、その製造工程において、位相シフト
領域がない回折格子パターンを形成する工程と、回折格
子に位相シフト領域を形成する工程とを独立に扱うこと
ができる。これにより、特定の回折格子に対して２種類
以上の位相シフト領域を形成する場合でも、先ず位相シ
フト領域がない回折格子パターンを形成し、その後の工
程で該格子に位相シフト領域を形成すればよく、従来の
如き異なる回折格子パターンを設計する必要はなくな
り、所望の位相シフト作用を有する回折格子を容易に製
造することができ得る。
回折格子によれば、その製造工程において、位相シフト
領域がない回折格子パターンを形成する工程と、回折格
子に位相シフト領域を形成する工程とを独立に扱うこと
ができる。これにより、特定の回折格子に対して２種類
以上の位相シフト領域を形成する場合でも、先ず位相シ
フト領域がない回折格子パターンを形成し、その後の工
程で該格子に位相シフト領域を形成すればよく、従来の
如き異なる回折格子パターンを設計する必要はなくな
り、所望の位相シフト作用を有する回折格子を容易に製
造することができ得る。
【００１８】又、本発明の製造方法によれば、位相シフ
ト量の精度は回折格子の厚さ方向の光路長を所定量変化
させる工程の精度で決定され、従来の如き格子間隔を調
整する際の回折格子面上における精密な寸法精度は要求
されない。従って、本発明の製造方法において、位相シ
フト領域を形成する工程の精度，即ち回折格子の厚さ方
向の光路長を所定量変化させる工程の精度が、回折格子
面上の精度，即ち回折格子面方向の格子間隔の寸法精度
を上回れば、より高性能な位相シフト回折格子の提供が
可能となる。
ト量の精度は回折格子の厚さ方向の光路長を所定量変化
させる工程の精度で決定され、従来の如き格子間隔を調
整する際の回折格子面上における精密な寸法精度は要求
されない。従って、本発明の製造方法において、位相シ
フト領域を形成する工程の精度，即ち回折格子の厚さ方
向の光路長を所定量変化させる工程の精度が、回折格子
面上の精度，即ち回折格子面方向の格子間隔の寸法精度
を上回れば、より高性能な位相シフト回折格子の提供が
可能となる。
【図１】本発明による位相シフト回折格子の実施例を説
明するための図である。（ａ）は位相シフト回折格子を
作製する際に基本となる回折格子の断面図である。
（ｂ）は回折格子パターン面にエッチングを施すことに
より形成した、本実施例による透過型の位相シフト回折
格子の断面図である。（ｃ）は回折格子パターンが形成
されていない面にエッチングを施すことにより形成し
た、本実施例による透過型の位相シフト回折格子の断面
図である。
明するための図である。（ａ）は位相シフト回折格子を
作製する際に基本となる回折格子の断面図である。
（ｂ）は回折格子パターン面にエッチングを施すことに
より形成した、本実施例による透過型の位相シフト回折
格子の断面図である。（ｃ）は回折格子パターンが形成
されていない面にエッチングを施すことにより形成し
た、本実施例による透過型の位相シフト回折格子の断面
図である。
【図２】位相シフト回折格子の位相シフト作用を説明す
るための図である。（ａ）は従来の製造方法により形成
される回折格子の断面図である。（ｂ）は本発明の製造
方法により形成される回折格子の断面図である。
るための図である。（ａ）は従来の製造方法により形成
される回折格子の断面図である。（ｂ）は本発明の製造
方法により形成される回折格子の断面図である。
１ 基板 ２ 入射光束 ２′ １次回折光
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年３月２７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】又、本発明による位相シフト回折格子の製
造方法は、多数の格子を備えた回折格子の一部の領域の
厚さを、エッチングにより減少させ、若しくは適当な物
質を堆積させて増加させることにより、又は等間隔に配
列された多数の格子を備えた回折格子の一部の領域にイ
オンを打ち込んで該領域の屈折率を他の領域の屈折率と
異ならしめるこよにより、他の領域との光路長を変化さ
せることを特徴としている。
造方法は、多数の格子を備えた回折格子の一部の領域の
厚さを、エッチングにより減少させ、若しくは適当な物
質を堆積させて増加させることにより、又は等間隔に配
列された多数の格子を備えた回折格子の一部の領域にイ
オンを打ち込んで該領域の屈折率を他の領域の屈折率と
異ならしめるこよにより、他の領域との光路長を変化さ
せることを特徴としている。
Claims (3)
- 【請求項１】 回折格子面上の少なくとも１箇所の領域
において、該回折格子の厚さ方向の光路長を所定量変化
させたことを特徴とする位相シフト回折格子。 - 【請求項２】 等間隔に配列された多数の格子を備えた
回折格子の一部の領域の厚さを、エッチングにより減少
させ、又は適当な物質を堆積させて増加させることによ
り、他の領域との光路長を変化させることを特徴とする
位相シフト回折格子の製造方法。 - 【請求項３】 等間隔に配列された多数の格子を備えた
回折格子の一部の領域にイオンを打ち込んで、該領域の
屈折率を他の領域の屈折率と異ならしめることにより、
他の領域との光路長を変化させることを特徴とする位相
シフト回折格子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31655891A JPH05150108A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 位相シフト回折格子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31655891A JPH05150108A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 位相シフト回折格子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05150108A true JPH05150108A (ja) | 1993-06-18 |
Family
ID=18078439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31655891A Withdrawn JPH05150108A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 位相シフト回折格子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05150108A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5623473A (en) * | 1994-06-30 | 1997-04-22 | Nikon Corporation | Method and apparatus for manufacturing a diffraction grating zone plate |
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-
1991
- 1991-11-29 JP JP31655891A patent/JPH05150108A/ja not_active Withdrawn
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