JPH05148275A - ジシロキサン化合物およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 １分子中に少なくとも１個の２−メチルフェ
ネチル基を有する新規なジシロキサン化合物およびその
製造方法を提供する。 【構成】 一般式： 【化１】 （式中、Ｒはメチル基，ビニル基および２−メチルフェ
ネチル基からなる群から選択される基である。但し、Ｒ
の内少なくとも１個は２−メチルフェネチル基であ
る。）で示されるジシロキサン化合物およびその製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ジシロキサン化合物お
よびその製造方法に関し、詳しくは、１分子中に少なく
とも１個の２−メチルフェネチル基を有する新規なジシ
ロキサン化合物およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来技術】従来、種々のジシロキサン化合物が知られ
ており、例えば、オルガノポリシロキサン重合時の分子
鎖末端封止剤や高粘度オルガノポリシロキサンの低粘度
希釈溶媒として、ヘキサメチルジシロキサン，テトラヘ
キサメチルジシロキサン，テトラメチルジビニルジシロ
キサン等のジシロキサン化合物、有機樹脂の変性用とし
て、ビス（ｐ−アミノフェニルチオブチル）テトラメチ
ルジシロキサン、ビス（ｐ−アミノフェノキシブチル）
テトラメチルジシロキサン、ビス（ｍ−アミノフェノキ
シプロピル）テトラメチルジシロキサン等のジシロキサ
ン化合物（特開昭５５−１２９２９３号公報または特開
昭５７−１２３２２３号公報参照）、または１−［γ−
（２’，３’−ジヒドロキシプロポキシ）プロピル］−
１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン（特開
昭６２−１９５３８９号公報参照）が知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、１分子中に少
なくとも１個の２−メチルフェネチル基を有するジシロ
キサン化合物は知られていなかった。

【０００４】本発明者は、上記問題について鋭意研究し
た結果本発明に到達した。

【０００５】すなわち、本発明の目的は、１分子中に少
なくとも１個の２−メチルフェネチル基を有するジシロ
キサン化合物およびその製造方法を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段およびその作用】本発明
は、一般式：

【化３】 （式中、Ｒはメチル基，ビニル基および２−メチルフェ
ネチル基からなる群から選択される基である。但し、Ｒ
の内少なくとも１個は２−メチルフェネチル基であ
る。）で示されるジシロキサン化合物、および２−メチ
ルフェネチルジメチルハロシランと、トリメチルハロシ
ラン，ビニルジメチルハロシランおよび２−メチルフェ
ネチルジメチルハロシランからなる群から選択されるハ
ロシランとを共加水分解することによる、一般式：

【化４】 （式中、Ｒはメチル基，ビニル基および２−メチルフェ
ネチル基からなる群から選択される基である。但し、Ｒ
の内少なくとも１個は２−メチルフェネチルである。）
で示されるジシロキサン化合物の製造方法、および１，
３−ジ−（２−メチルフェネチル）−テトラメルジシロ
キサンと、ヘキサメチルジシロキサンまたは１，３−ジ
ビニル−テトラメチルジシロキサンとを再平衡化反応す
ることによる、一般式：

【化５】 （式中、一方のＲ’は２−メチルフェネチル基であり、
他方のＲ’はメチル基またはビニル基である。）で示さ
れるジシロキサン化合物の製造方法に関する。

【０００７】本発明のジシロキサン化合物について詳細
に説明する。

【０００８】本発明のジシロキサン化合物は、一般式：

【化６】 で示される、１分子中に少なくとも１個の２−メチルフ
ェネチル基を有するジシロキサン化合物である。上式
中、Ｒはメチル基，ビニル基および２−メチルフェネチ
ル基からなる群から選択される基であり、但し、Ｒの内
少なくとも１個は２−メチルフェネチル基である。本発
明のジシロキサン化合物は、１分子中に１個または２個
の２−メチルフェネチル基を有するので、高屈折率であ
り、またＲの内１個がメチル基またはビニル基に置換さ
れることにより、本発明のジシロキサンの屈接率の調整
をすることができる。

【０００９】このような、１分子中に少なくとも１個の
２−メチルフェネチル基を有するジシロキサン化合物
は、２−メチルフェネチルジメチルハロシランと、トリ
メチルハロシラン，ビニルジメチルハロシランおよび２
−メチルフェネチルジメチルハロシランからなる群から
選択されるハロシランとを共加水分解することにより製
造できる。

【００１０】本発明の製造方法で使用されるトリメチル
ハロシランおよびビニルジメチルハロシランは工業的に
入手可能であり、トリメチルハロシランとしては、トリ
メチルクロロシラン，トリメチルブロロシランが例示さ
れ、ビニルジメチルハロシランとしては、ビニルジメチ
ルクロロシラン，ビニルジメチルブロロシランが例示さ
れる。また、本発明の製造方法で使用される２−メチル
フェネチルジメチルハロシランはジメチルハロシランに
α−メチルスチレンを付加反応することにより製造でき
る。このような２−メチルフェネチルジメチルハロシラ
ンとしては、２−メチルフェネチルジメチルクロロシラ
ン，２−メチルフェネチルジメチルブロロシランが例示
される。本発明の製造方法において、２−メチルフェネ
チルジメチルハロシランと、トリメチルハロシランまた
はビニルジメチルハロシランの添加量は特に限定はな
く、好ましくは２−メチルフェネチルジメチルハロシラ
ン１モルに対して、トリメチルハロシランまたはビニル
ジメチルハロシランのモル数が０．１〜１０の範囲であ
り、さらに好ましくは０．５〜５の範囲である。本発明
の製造方法において、反応温度は特に限定されず、例え
ば、室温から各々のハロシランの沸点または使用する有
機溶媒の沸点の範囲において反応させることができる。
本発明の製造方法において、有機溶媒を使用することも
できる。使用できる有機溶媒としては、具体的には、ト
ルエン，キシレン等の芳香族系溶媒；ヘキサン，ヘプタ
ン，オクタン等の脂肪族系溶媒；メチルエチルエーテ
ル，テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；酢酸メチ
ル，酢酸エチル等のエステル系溶媒等が例示される。

【００１１】本発明の製造方法では、ハロシランの共加
水分解を行うため、副成する塩化水素を、炭酸ナトリウ
ム，炭酸カリウム，炭酸カルシウム，炭酸水素ナトリウ
ム等の塩基性塩またはトリメチルアミン，トリエチルア
ミン等のアミン化合物を添加することにより捕捉するこ
とが好ましい。

【００１２】また、特に、本発明のジシロキサン化合物
の内、一般式：

【化７】 （式中、一方のＲ’は２−メチルフェネチル基であり、
他方のＲ’はメチル基またはビニル基である。）で示さ
れるジシロキサン化合物は、１，３−ジ−（２−メチル
フェネチル）−テトラメルジシロキサンと、ヘキサメチ
ルジシロキサンまたは１，３−ジビニル−テトラメチル
ジシロキサンを再平衡化反応することにより製造でき
る。

【００１３】上記の製造方法で使用する１，３−ジ−
（２−メチルフェネチル）−テトラメルジシロキサン
は、２−メチルフェネチルジメチルハロシランを加水分
解することにより製造されるか、または１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサンとα−メチルスチレンとを
白金系触媒の存在下で付加反応させることにより製造さ
れる。この際使用できる白金系触媒としては、塩化白金
酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金とオレフィンの
錯体、白金とビニルシロキサンの錯体、白金担持の無機
粉末が例示される。また、上記の製造方法で使用される
ヘキサメチルジシロキサンまたは１，３−ジビニル−テ
トラメチルジシロキサンは工業的に入手可能である。上
記の製造方法において、再平衡化を行うための触媒とし
ては、酸性触媒または塩基性触媒が使用できる。使用で
きる酸性触媒としては、具体的には、塩酸，硫酸，硝酸
等の鉱酸；活性白土，フィルトロール等の固体酸触媒が
例示され、また塩基性触媒としては、具体的には、水酸
化リチウム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，水酸
化セシウム，水酸化テトラメチルアンモニウム，リチウ
ムシラノレート，カリウムシラノレート，フェニルリチ
ウム，メチルリチウム，ブチルリチウム等が例示され
る。上記の製造方法において、１，３−ジ−（２−メチ
ルフェネチル）−テトラメルジシロキサンと、ヘキサメ
チルジシロキサンまたは１，３−ジビニル−テトラメチ
ルジシロキサンの添加量は特に限定されないが、好まし
くは１，３−ジ−（２−メチルフェネチル）−テトラメ
ルジシロキサン１モルに対するヘキサメチルジシロキサ
ンまたは１，３−ジビニル−テトラメチルジシロキサン
のモル数が０．１〜１０の範囲である。また、上記製造
方法において、製造条件は特に限定されないが、好まし
くは反応温度が５０〜２００℃の範囲である。

【００１４】本発明のジシロキサン化合物は、１分子中
に少なくとも１個の２−メチルフェネチル基を有するジ
シロキサン化合物であるので、高屈折率であり、かつ低
粘度であるので光学用シリコーンオイルとして有用であ
り、また分子鎖末端に２−メチルフェネチル基を有する
オルガノポリシロキサンを製造する際の分子鎖末端停止
剤として使用できる。

【００１５】

【実施例】本発明を実施例により説明する。なお、有機
ケイ素化合物の屈折率、粘度の値は２５℃で測定した値
であり、屈折率はナトリウムＤ線により測定した値であ
る。また、ジシロキサン化合物の同定は、¹Ｈ−核磁気
共鳴分析および赤外線分光分析により行った。

【００１６】

【実施例１】攪拌機、温度計、滴下ロート付き１ｌ丸底
フラスコに、α−メチルスチレン３７５ｇ（３．１５モ
ル）と塩化白金酸の１％イソプロピルアルコール溶液
０．６ｍｌを投入し７０℃に加熱した。滴下ロートより
ジメチルクロロシラン２８５ｇ（３．０モル）を１時間
で滴下した。１時間８０℃で保持した後冷却した。得ら
れた２−メチルフェネチルジメチルクロロシラン２１２
（１．０モル）ｇとジメチルビニルクロロシラン２１７
ｇ（１．８モル）とを水３００ｇとイソプロピルアルコ
ール１００ｇの混合溶液中に滴下した。得られた反応混
合物を水で３回洗浄し下層の水を除き、上層の反応混合
物を減圧下に加熱して、１−（２−メチルフェネチル）
−３−ビニル−テトラメチルジシロキサン１８０ｇ（理
論収率６５％）を得た。この１−（２−メチルフェネチ
ル）−３−ビニル−テトラメチルジシロキサンの屈折率
は１．４７１であり、粘度は２．２センチストークスで
あり、沸点は１２１℃／５ｍｍＨｇであった。

【００１７】

【実施例２】攪拌機、温度計、滴下ロート付き１ｌ丸底
フラスコに、α−メチルスチレン３７５ｇ（３．１５モ
ル）と塩化白金酸の１％イソプロピルアルコール溶液
０．６ｍｌを投入し７０℃に加熱した。滴下ロートより
ジメチルクロロシラン２８５ｇ（３．０モル）を１時間
で滴下した。１時間８０℃で保持した後冷却した。得ら
れた２−メチルフェネチルジメチルクロロシラン２１２
（１．０モル）ｇとトリメチルクロロシラン１９６ｇ
（１．８モル）とを水３００ｇとイソプロピルアルコー
ル１００ｇの混合溶液中に滴下した。得られた反応混合
物を水で３回洗浄し下層の水を除き、上層の反応混合物
を減圧下に加熱して、２−メチルフェネチルペンタメチ
ルジシロキサン１９０ｇ（理論収率７１％）を得た。こ
の２−メチルフェネチルペンタメチルジシロキサンの屈
折率は１．４６３であり、粘度は２．１センチストーク
スであり、沸点は１２０℃／１０ｍｍＨｇであった。

【００１８】

【実施例３】攪拌機、温度計、滴下ロート付き１ｌ丸底
フラスコに、α−メチルスチレン３７５ｇ（３．１５モ
ル）と塩化白金酸の１％イソプロピルアルコール溶液
０．６ｍｌを投入し７０℃に加熱した。滴下ロートより
ジメチルクロロシラン２８５ｇ（３．０モル）を１時間
で滴下した。１時間８０℃で保持した後冷却した。得ら
れた２−メチルフェネチルジメチルクロロシラン４２４
（２モル）を水３００ｇとイソプロピルアルコール１０
０ｇの混合溶液中に滴下した。得られた反応混合物を水
で３回洗浄し下層の水を除き、上層の反応混合物を減圧
下に加熱して、１，３−ジ−（２−メチルフェネチル）
−３−テトラメチルジシロキサン３５０ｇ（理論収率９
５％）を得た。得られた１，３−ジ−（２−メチルフェ
ネチル）−３−テトラメチルジシロキサンの屈折率は
１．５０５であり、粘度は９．３センチストークスであ
り、沸点は１６０℃／０．５ｍｍＨｇであった。

【００１９】

【実施例４】攪拌機、温度計付き１ｌ丸底フラスコに、
実施例３で得られた１，３−ジ−（２−メチルフェネチ
ル）−３−テトラメチルジシロキサン２００ｇ、ヘキサ
メチルジシロキサン６００ｇおよび十分に脱水処理した
活性白土５ｇを投入した。次いで、８０〜８５℃に加熱
して、２時間攪拌した。その後、反応混合物を濾過し、
濾液を減圧下に加熱して２−メチルフェネチルペンタメ
チルジシロキサン１７０ｇを得た。

【００２０】

【実施例５】攪拌機、温度計付き１ｌ丸底フラスコに、
実施例３で得られた１，３−ジ−（２−メチルフェネチ
ル）−３−テトラメチルジシロキサン２００ｇ、１，３
−ジビニル−テトラメチルジシロキサン６００ｇおよび
十分に脱水処理した活性白土５ｇを投入した。次いで、
８０〜８５℃に加熱して、２時間攪拌した。その後、反
応混合物を濾過し、濾液を減圧下に加熱して１−（２−
メチルフェネチル）−３−ビニル−テトラメチルジシロ
キサン１６０ｇを得た。

【００２１】

【発明の効果】本発明のジシロキサン化合物は、１分子
中に少なくとも１個の２−メチルフェネチル基を有する
新規なジシロキサン化合物であり、また本発明の製造方
法は、このような新規なジシロキサン化合物を収率よく
製造できるという特徴を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で合成した１−（２−メチリルフェネ
チル）−３−ビニル−テトラメチルジシロキサンの赤外
線吸収スペクトルチャートである。

【図２】実施例１で合成した１−（２−メチルフェネチ
ル）−３−ビニル−テトラメチルジシロキサンの¹Ｈ−
核磁気共鳴スペクトルチャートである。

【図３】実施例２で合成した２−メチルフェネチルペン
タメチルジシロキサンの赤外線吸収スペクトルチャート
である。

【図４】実施例２で合成した２−メチルフェネチルペン
タメチルジシロキサンの¹Ｈ−核磁気共鳴スペクトルチ
ャートである。

【図５】実施例３で合成した１，３−ジ−（２−メチル
フェネチル）−テトラメチルジシロキサンの赤外線吸収
スペクトルチャートである。

【図６】実施例３で合成した１，３−ジ−（２−メチル
フェネチル）−テトラメチルジシロキサンの¹Ｈ−核磁
気共鳴スペクトルチャートである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式： 【化１】 （式中、Ｒはメチル基，ビニル基および２−メチルフェ
   ネチル基からなる群から選択される基である。但し、Ｒ
   の内少なくとも１個は２−メチルフェネチル基であ
   る。）で示されるジシロキサン化合物。
2. 【請求項２】 ２−メチルフェネチルジメチルハロシラ
   ンと、トリメチルハロシラン，ビニルジメチルハロシラ
   ンまたは２−メチルフェネチルジメチルハロシランとを
   共加水分解することによる、請求項１記載のジシロキサ
   ン化合物の製造方法。
3. 【請求項３】 １，３−ジ−（２−メチルフェネチル）
   −テトラメルジシロキサンと、ヘキサメチルジシロキサ
   ンまたは１，３−ジビニル−テトラメチルジシロキサン
   とを再平衡化反応することによる、一般式： 【化２】 （式中、一方のＲ’は２−メチルフェネチル基であり、
   他方のＲ’はメチル基またはビニル基である。）で示さ
   れるジシロキサン化合物の製造方法。