JPH0514181A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH0514181A
JPH0514181A JP3158899A JP15889991A JPH0514181A JP H0514181 A JPH0514181 A JP H0514181A JP 3158899 A JP3158899 A JP 3158899A JP 15889991 A JP15889991 A JP 15889991A JP H0514181 A JPH0514181 A JP H0514181A
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JP
Japan
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voltage
transistor
power supply
semiconductor integrated
integrated circuit
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JP3158899A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshinobu Iwasaki
吉信 岩崎
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JFE Steel Corp
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Kawasaki Steel Corp
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Abstract

PURPOSE:To make an output voltage range of a basic circuit narrow. CONSTITUTION:Gates of a couple of MOS transistors(TRs), that is, a p-channel TR 10 and an n-channel TR 12 are connected and an input terminal is provided to the connection. Moreover, a drain of the TR 10 and a drain of the TR 12 are connected and an output terminal is provided to the connection point. A TR 16 of diode connection as a voltage drop element is provided between the TR 10 and a power supply line 14 and similarly a TR 20 of diode connection is provided between the TR 14 and an earth line 18. Then the range of the output voltage is reduced by the voltage drop of the TRs 16, 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路に関する
もので、特に複数のMOS型トランジスタで構成される
基本回路を有する集積回路の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to improvement of an integrated circuit having a basic circuit composed of a plurality of MOS type transistors.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5(A)に従来の半導体集積回路の一
例としてインバータ回路を示す。この例ではCMOS
構成となっており、電源ライン(電源電圧VDD=5V)
にpチャネルトランジスタ(増幅素子)1のソース端子
を接続すると共に、その負荷素子1のドレイン端子をn
チャネルトランジスタ(増幅素子)2のドレイン端子と
接続する。そして両素子1,2のゲート端子同士を接続
することにより入力端子を設け、また、増幅素子1のド
レイン端子と増幅素子2のドレイン端子との接続部から
出力端子を設けている。
2. Description of the Related Art FIG. 5A shows an inverter circuit as an example of a conventional semiconductor integrated circuit. CMOS in this example
Power supply line (power supply voltage V DD = 5V)
Is connected to the source terminal of the p-channel transistor (amplifying element) 1 and the drain terminal of the load element 1 is connected to n.
It is connected to the drain terminal of the channel transistor (amplifying element) 2. An input terminal is provided by connecting the gate terminals of both elements 1 and 2, and an output terminal is provided from the connecting portion between the drain terminal of the amplification element 1 and the drain terminal of the amplification element 2.

【0003】かかる構成のインバーター回路では、入力
電圧Vinが高いと増幅素子1がオフで増幅素子2がオン
となり、その出力端子は増幅素子2を介してアースに接
続されるので、出力電圧Vout はLow(零)となる。
一方、Vinが低くなると各素子1,2の状態が逆になる
ため、出力端子は電源ラインと導通状態となり、Vout
はHigh (VDD=5V)となる。そして、このときの入
力電圧Vinに対する出力電圧Vout の特性を同図(B)
に示す。
In the inverter circuit having such a configuration, when the input voltage Vin is high, the amplifying element 1 is turned off and the amplifying element 2 is turned on, and its output terminal is connected to the ground via the amplifying element 2, so that the output voltage Vout is It becomes Low (zero).
On the other hand, when Vin decreases, the states of the elements 1 and 2 are reversed, so that the output terminal becomes conductive with the power supply line and Vout
Becomes High (V DD = 5V). The characteristic of the output voltage Vout with respect to the input voltage Vin at this time is shown in FIG.
Shown in.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
のインバーター回路では、上述のようにその出力電圧は
アースに落ちる0Vと電源電圧VDDがそのまま出力され
る5Vの間で変化するに過ぎず(実質的には0Vと、5
Vの2種類)、その出力電圧範囲を変えることができ
ず、低消費電力化が図れない。
However, in the above-mentioned conventional inverter circuit, the output voltage thereof changes only between 0V which drops to the ground and 5V where the power supply voltage V DD is output as it is, as described above. (Substantially 0V and 5
V)) and its output voltage range cannot be changed, and low power consumption cannot be achieved.

【0005】また、半導体集積回路の集積化にともない
各素子の微細化が進むと、各トランジスタ等の耐圧(電
圧に対する)が下がる。すると、従来の電源電圧をその
まま印加すると、電源電圧の変動や素子の特性(耐圧)
のばらつき等の理由により瞬時的にトランジスタに耐圧
以上の電圧が印加されて破壊されるおそれもある。ま
た、同様の理由から長期使用による耐久性の問題も生じ
る。
Further, as the miniaturization of each element progresses with the integration of semiconductor integrated circuits, the breakdown voltage (with respect to voltage) of each transistor and the like decreases. Then, if the conventional power supply voltage is applied as it is, fluctuations in the power supply voltage and element characteristics (breakdown voltage)
There is a possibility that a voltage higher than the withstand voltage may be instantaneously applied to the transistor due to the reasons such as the dispersion of the above, and the transistor may be destroyed. Further, due to the same reason, there arises a problem of durability due to long-term use.

【0006】さらには、使用環境下における温度が高く
なると、トランジスタの特性を示すものの一つであるβ
が低下し、ゲート遅延が大きくなるといった温度特性に
おける安定度の問題も有している。
Furthermore, β is one of the characteristics of a transistor when the temperature in the operating environment rises.
It also has a problem of stability in temperature characteristics such as a decrease in temperature and an increase in gate delay.

【0007】本発明はこのような背景に鑑みてなされて
もので、その目的とするところは出力電圧を変動するこ
と、より具体的には出力電圧の変動幅を狭くすることに
より低消費電力化を図ることを主目的とし、さらに、耐
圧に対する信頼性の向上並びに温度特性の安定性を図る
ことのできる半導体集積回路を提供することにある。
The present invention has been made in view of such a background, and its object is to reduce the power consumption by changing the output voltage, more specifically, by narrowing the fluctuation range of the output voltage. Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit whose main purpose is to further improve reliability against breakdown voltage and stability of temperature characteristics.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明に係る半導体集積回路は、複数のMOS
型トランジスタからなる基本回路と、このMOS型トラ
ンジスタ駆動用の電源ラインと、この電源ラインと一方
のMOS型トランジスタとの間に挿入配置される電圧降
下素子とを備えている。
In order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises a plurality of MOSs.
Type MOS transistor, a power source line for driving the MOS type transistor, and a voltage drop element inserted between the power source line and one of the MOS type transistors.

【0009】また、電圧降下素子を、さらに別途設けら
れたMOS型トランジスタをダイオード接続することに
より構成することが望ましい。
Further, it is desirable that the voltage drop element is constructed by diode-connecting a separately provided MOS type transistor.

【0010】[0010]

【作用】電源ラインとMOS型トランジスタとの接続部
の間に電圧降下素子が挿入されているため、電源ライン
に接続されたトランジスタには、電源電圧から電圧降下
素子の端子間電圧分だけ降下された電圧が印加されるこ
とになる。その結果、出力端子に生じるHighレベル
の出力電圧Vout は、かかる降下された電圧(電源電圧
より低い)となる。従って、出力電圧の変動範囲が狭く
なる。また、このように降下された電圧が印加されるた
めトランジスタの耐圧が小さなものでも安定して使用す
ることができる。
Since the voltage drop element is inserted between the connection between the power supply line and the MOS transistor, the transistor connected to the power supply line is dropped from the power supply voltage by the voltage between the terminals of the voltage drop element. Voltage will be applied. As a result, the high-level output voltage Vout generated at the output terminal becomes the lowered voltage (lower than the power supply voltage). Therefore, the variation range of the output voltage becomes narrow. Further, since the voltage thus lowered is applied, even a transistor having a small withstand voltage can be used stably.

【0011】また、電圧降下素子としてダイオード接続
したトランジスタを用いた場合には、使用環境下で温度
上昇したとすると、電源電圧からの電圧降下分に相当す
るスレッシュホールド(threshold)電圧が下
がり、出力電圧範囲が広くなろうとする。その結果、温
度上昇にともないトランジスターのβが低下してゲート
遅延を生じたとしても、上記出力電圧範囲の拡大作用と
相殺されて温度補償がなされ、安定化すなわち温度依存
性が少なくなる。
Further, when a diode-connected transistor is used as the voltage drop element, if the temperature rises under the environment of use, the threshold voltage corresponding to the voltage drop from the power supply voltage drops, and the output The voltage range is about to widen. As a result, even if β of the transistor is lowered due to the temperature rise and a gate delay is caused, the effect of widening the output voltage range is offset and the temperature compensation is performed, so that the stabilization, that is, the temperature dependence is reduced.

【0012】[0012]

【実施例】以下本発明に係る半導体集積回路の好適な実
施例を添付図面を参照にして詳述する。図1はインバー
タ回路を例に本発明の第1実施例を示している。同図に
示すように基本的なインバーター回路の構成は従来の回
路と同様である。すなわち、一対のMOS型トランジス
タ、すなわちpチャネルトランジスタ(素子)10と、
nチャネルトランジスタ(増幅素子)12のゲート端子
同士を接続すると共に、その接続部位に入力端子を設け
る。また、素子10のドレイン端子と増幅素子12のド
レイン端子とを接続するとともに、その接続部位に出力
端子を設ける。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a semiconductor integrated circuit according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention using an inverter circuit as an example. As shown in the figure, the basic configuration of the inverter circuit is the same as the conventional circuit. That is, a pair of MOS type transistors, that is, p-channel transistors (elements) 10,
The gate terminals of the n-channel transistor (amplifying element) 12 are connected to each other, and an input terminal is provided at the connecting portion. Further, the drain terminal of the element 10 and the drain terminal of the amplifying element 12 are connected, and an output terminal is provided at the connecting portion.

【0013】ここで本発明では、素子10のソース端子
と電源ライン14との間に、電圧降下素子であるトラン
ジスタ16を設けている。このトランジスタ16は、p
チャネルMOS型トランジスタであり、そのゲート端子
とドレイン端子とを接続、すなわちダイオード接続する
ことにより構成されている。
In the present invention, the transistor 16 which is a voltage drop element is provided between the source terminal of the element 10 and the power supply line 14. This transistor 16 has p
It is a channel MOS transistor, and is configured by connecting the gate terminal and the drain terminal thereof, that is, the diode connection.

【0014】また本例では、増幅素子12のソース端子
とアースライン18との間にも、上記と同様にダイオー
ド接続されたトランジスタ20を配置している。但し、
このトランジスタ20はnチャネル素子からなってい
る。
Further, in this example, the diode-connected transistor 20 is arranged between the source terminal of the amplifying element 12 and the ground line 18 in the same manner as described above. However,
This transistor 20 is composed of an n-channel element.

【0015】次に、この回路の動作について説明する。
まず、入力電圧Vinが高いと素子10がオフで増幅素子
12がオンとなるため、電流は増幅素子12からトラン
ジスタ20を介してアースライン18に流れ込む。する
と、ダイオード接続されたトランジスタ20の端子間で
は、そのスレッシュホールド電圧(VTN)に相当する電
圧が現れる。従って、インバーター回路の出力端子に生
じる出力電圧Vout は、係る電圧VTNとなる。
Next, the operation of this circuit will be described.
First, when the input voltage Vin is high, the element 10 is turned off and the amplification element 12 is turned on, so that the current flows from the amplification element 12 through the transistor 20 to the ground line 18. Then, a voltage corresponding to the threshold voltage (V TN ) appears between the terminals of the diode-connected transistor 20. Therefore, the output voltage Vout generated at the output terminal of the inverter circuit becomes the voltage VTN .

【0016】一方、Vinが低くなると各素子10,12
の状態が逆になるため、出力端子は電源ライン14と導
通状態となるが、トランジスタ16の端子間にはそのス
レッシュホールド電圧(VTP)に相当する電圧が現れる
ため、結局素子10には、電源電圧VDDから係る電圧
(VTP)だけ降下した電圧が印加されることになる。そ
の結果、入力電圧が低い時に出力端子に生じる出力電圧
Vout は、VDD−VTPとなる。
On the other hand, when Vin decreases, each element 10, 12
However, since the output terminal becomes conductive with the power supply line 14, the voltage corresponding to the threshold voltage (V TP ) appears between the terminals of the transistor 16, so that the element 10 eventually becomes A voltage lowered by the voltage (V TP ) from the power supply voltage V DD is applied. As a result, the output voltage Vout generated at the output terminal when the input voltage is low becomes V DD -V TP .

【0017】よって、入出力電圧特性は、同図(B)に
示すようになり、その出力電圧の範囲は、(VDD
TP)からVTNの間となり、従来の範囲であるVDDから
零のものに比し狭くなる。その結果、消費電力も低下さ
せることができる。また、このようにVDDを分圧した状
態で各トランジスタに電圧が印加されるため、各トラン
ジスタに印加される電圧も小さくなる。また、出力端子
に接続される各種素子へ印加される電圧も小さくなるた
め、係る素子の耐圧が小さくても破壊等されることはな
い。 さらに、本実施例では、インバーター回路を構成
する素子と、電圧降下素子とが同一種の素子であるた
め、半導体集積回路をいわゆるマスタスライス法で製造
する場合には、配線を調整するだけで本実施例の回路が
製造できるので、製造工程が簡略化されるという利点も
有する。
Therefore, the input / output voltage characteristics are as shown in FIG. 7B, and the output voltage range is (V DD
It is between V TP ) and V TN , which is narrower than the conventional range from V DD to zero. As a result, power consumption can be reduced. Further, since the voltage is applied to each transistor in the state where V DD is divided as described above, the voltage applied to each transistor is also reduced. Further, since the voltage applied to various elements connected to the output terminal is also small, even if the withstand voltage of the element is small, it is not destroyed. Further, in this embodiment, since the elements forming the inverter circuit and the voltage drop element are the same type of element, when the semiconductor integrated circuit is manufactured by the so-called master slice method, the wiring is simply adjusted. Since the circuit of the embodiment can be manufactured, there is also an advantage that the manufacturing process is simplified.

【0018】次に、温度変化に対する本回路の影響を考
えると、温度上昇にともないトランジスタのβは減少
し、ゲート遅延を生じようとする。また、電圧降下素子
となる各トランジスタ16,20のスレッシュホールド
電圧VTP,VTNは、図2に示すように温度上昇にともな
い減少するため、図1(B)に二点鎖線で示すように、
出力電圧範囲が広くなる方向に作用する。その結果、た
とえ温度上昇したとしても、トランジスタのβの低下に
ともなうゲート遅延の増加と、上記出力電圧範囲の拡大
作用によるゲート遅延の減少とが相殺されて温度補償が
なされ、ゲート遅廷が安定化する。
Next, considering the influence of the present circuit on the temperature change, β of the transistor decreases with an increase in temperature, and it tends to cause a gate delay. In addition, since the threshold voltages V TP and V TN of the transistors 16 and 20 serving as voltage drop elements decrease as the temperature rises as shown in FIG. 2, as indicated by the chain double-dashed line in FIG. ,
It works in the direction of widening the output voltage range. As a result, even if the temperature rises, the increase of the gate delay due to the decrease of β of the transistor and the decrease of the gate delay due to the expansion effect of the output voltage range are offset, and the temperature compensation is performed, so that the gate delay is stable. Turn into.

【0019】図3は本発明の第2実施例を示している。
本実施例では、上記した第1実施例と相違して、電圧降
下素子としてダイオード22,24を用いている。尚、
基本的な回路構成は上記第1実施例と同様であるため、
同一符合を付すことによりその詳細な説明は省略する。
また、動作原理並びに作用効果についても上記実施例と
同一である。但し、本実施例の場合には、上記した第1
実施例の有する温度補償効果は有しない。尚、図示省略
するが、このダイオードに変えて抵抗を配置するように
しても良い。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention.
In the present embodiment, unlike the above-described first embodiment, the diodes 22 and 24 are used as voltage drop elements. still,
Since the basic circuit configuration is the same as that of the first embodiment,
By giving the same reference numerals, detailed description thereof will be omitted.
Further, the principle of operation and the action and effect are the same as those in the above embodiment. However, in the case of this embodiment, the first
It does not have the temperature compensation effect of the embodiment. Although not shown, a resistor may be arranged instead of this diode.

【0020】図4は本発明の第3実施例を示している。
本実施例では、上記した各実施例と相違して、電源ライ
ン30並びにアースライン32にそれぞれ接続される一
組のダイオード34,36に対し、複数の基本回路38
a,38b,38c……を並列接続している。なお、基
本回路38aは2入力NAND回路、基本回路38bは
インバータ、基本回路38cは2入力NOR回路であ
る。かかる構成にすることより、使用する素子数の低減
を図ることができ、最終的に製品化された寸法形状を小
さくすることができる。尚、その他の構成,作用並びに
効果は上記した各実施例と同様である。また、電圧降下
素子としてダイオードに限らず、上記した各実施例のよ
うにトランジスタや抵抗を用いても良いのはもちろんで
ある。また、電圧降下素子を複数個挿入配置してもよ
い。
FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention.
In this embodiment, unlike the above-described embodiments, a plurality of basic circuits 38 are provided for a pair of diodes 34 and 36 connected to the power supply line 30 and the ground line 32, respectively.
a, 38b, 38c ... Are connected in parallel. The basic circuit 38a is a 2-input NAND circuit, the basic circuit 38b is an inverter, and the basic circuit 38c is a 2-input NOR circuit. With such a configuration, the number of elements to be used can be reduced, and the size and shape of the final product can be reduced. The other configurations, operations, and effects are the same as those in the above-described embodiments. Further, the voltage drop element is not limited to the diode, and it goes without saying that a transistor or a resistor may be used as in the above-described embodiments. Further, a plurality of voltage drop elements may be inserted and arranged.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上のように本発明に係る半導体集積回
路では、電源ラインとその電源ラインに接続される基本
回路を構成する一方のMOS型トランジスタとの間に電
圧降下素子を挿入配置したため、電源ラインに接続され
たトランジスタには、電源電圧から電圧降下素子の端子
間電圧分だけ降下された電圧が印加されることになる。
その結果、インバーター回路の出力電圧は、かかる降下
された電圧となるため、電源電圧より低くなり、変動範
囲を狭くすることができる。したがって、低消費電力化
を達成することができる。
As described above, in the semiconductor integrated circuit according to the present invention, the voltage drop element is inserted and arranged between the power supply line and one of the MOS type transistors constituting the basic circuit connected to the power supply line. To the transistor connected to the power supply line, a voltage dropped from the power supply voltage by the voltage between the terminals of the voltage drop element is applied.
As a result, the output voltage of the inverter circuit becomes such a lowered voltage, which is lower than the power supply voltage, and the fluctuation range can be narrowed. Therefore, low power consumption can be achieved.

【0022】また、たとえ微細化による各素子(トラン
ジスタ)の耐圧が低くなったとしても、上記のように電
源電圧が直接印加されることはないため、素子の破壊等
を生じるおそれがなく、耐圧に対する信頼性が向上す
る。
Further, even if the breakdown voltage of each element (transistor) is reduced due to miniaturization, the power supply voltage is not directly applied as described above, so that there is no fear of destruction of the element and the breakdown voltage. Reliability is improved.

【0023】さらには、電圧降下素子としてダイオード
接続をしたトランジスタを用いた場合には、温度上昇に
伴うβの減少と電圧降下分に相当するスレッシュホール
ド電圧の低下による出力電圧範囲の拡大との相殺によ
り、温度特性の安定性を図ることができる。
Furthermore, when a diode-connected transistor is used as the voltage drop element, the decrease of β due to the temperature rise and the expansion of the output voltage range due to the decrease of the threshold voltage corresponding to the voltage drop are offset. Thereby, the stability of the temperature characteristics can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)は本発明に係る半導体集積回路の第1実
施例を示す回路図である。(B)はその入出力電圧特性
を示すグラフである。
FIG. 1A is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. (B) is a graph showing the input / output voltage characteristics.

【図2】トランジスタのスレッシュホールド電圧の温度
特性を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing temperature characteristics of a threshold voltage of a transistor.

【図3】本発明に係る半導体集積回路の第2実施例を示
す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図4】本発明に係る半導体集積回路の第3実施例を示
す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a third embodiment of the semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図5】(A)は従来の半導体集積回路の一例を示す回
路図である。(B)はその入出力電圧特性を示すグラフ
である。
FIG. 5A is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor integrated circuit. (B) is a graph showing the input / output voltage characteristics.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…トランジスタ(一方のトランジスタ) 12…トランジスタ(他方のトランジスタ) 14…電源ライン 16…トランジスタ(電圧降下素子) 10 ... Transistor (one transistor) 12 ... Transistor (other transistor) 14 ... Power line 16 ... Transistor (voltage drop element)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のMOS型トランジスタからなる基
本回路と、 この基本回路に駆動電流を供給する電源ラインと、 この電源ラインと前記基本回路との間に挿入配置される
電圧降下素子とを有することを特徴とする半導体集積回
路。
1. A basic circuit composed of a plurality of MOS transistors, a power supply line for supplying a driving current to the basic circuit, and a voltage drop element inserted between the power supply line and the basic circuit. A semiconductor integrated circuit characterized by the above.
【請求項2】 前記電圧降下素子が、別途設けられたM
OS型トランジスタをダイオード接続することにより構
成されてなることを特徴とする請求項1に記載の半導体
集積回路。
2. The M provided with the voltage drop element separately.
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is configured by diode-connecting an OS transistor.
JP3158899A 1991-06-28 1991-06-28 Semiconductor integrated circuit Pending JPH0514181A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005050624A1 (en) * 2005-10-21 2007-05-03 Infineon Technologies Ag Complementary metal oxide semiconductor buffer circuit e.g. inverter, for e.g. signal processing unit, has sections with conductivity types of transistors and connected to potential and control connections and transistors, respectively

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005050624A1 (en) * 2005-10-21 2007-05-03 Infineon Technologies Ag Complementary metal oxide semiconductor buffer circuit e.g. inverter, for e.g. signal processing unit, has sections with conductivity types of transistors and connected to potential and control connections and transistors, respectively
DE102005050624B4 (en) * 2005-10-21 2007-06-28 Infineon Technologies Ag CMOS buffer circuit and use thereof

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