JPH05140614A - 熱間静水圧加圧装置及びその制御方法 - Google Patents
熱間静水圧加圧装置及びその制御方法Info
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- JPH05140614A JPH05140614A JP32988991A JP32988991A JPH05140614A JP H05140614 A JPH05140614 A JP H05140614A JP 32988991 A JP32988991 A JP 32988991A JP 32988991 A JP32988991 A JP 32988991A JP H05140614 A JPH05140614 A JP H05140614A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B30—PRESSES
- B30B—PRESSES IN GENERAL
- B30B11/00—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
- B30B11/001—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses using a flexible element, e.g. diaphragm, urged by fluid pressure; Isostatic presses
- B30B11/002—Isostatic press chambers; Press stands therefor
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Abstract
(57)【要約】
【目的】加熱・冷却の際に装置構成部品を破損する虞が
なく、しかも従来装置より格段に高い処理物の加熱・冷
却速度が得られる熱間静水圧加圧装置及びその制御方法
を提供する。 【構成】高温高圧ガスを封入する圧力容器内に断熱層を
配置し、該断熱層の内側に加熱装置及び処理物を収設す
るようにしてなる熱間静水圧加圧装置の構成を、前記断
熱層内の上部に画成された高温圧媒ガス滞留空間と、前
記断熱層内の下部に画成された低温圧媒ガス滞留空間
と、これら両空間の間で処理物を上下方向に移動するべ
く設けられた処理物昇降装置とを有するものとする。特
に処理物及び雰囲気の温度を測定し、その値に基づいて
前記処理物昇降装置の昇降速度及び昇降位置を制御する
ものとする。 【効果】処理物のみの加熱・冷却速度や温度範囲を容易
にかつ任意に制御することができる。
なく、しかも従来装置より格段に高い処理物の加熱・冷
却速度が得られる熱間静水圧加圧装置及びその制御方法
を提供する。 【構成】高温高圧ガスを封入する圧力容器内に断熱層を
配置し、該断熱層の内側に加熱装置及び処理物を収設す
るようにしてなる熱間静水圧加圧装置の構成を、前記断
熱層内の上部に画成された高温圧媒ガス滞留空間と、前
記断熱層内の下部に画成された低温圧媒ガス滞留空間
と、これら両空間の間で処理物を上下方向に移動するべ
く設けられた処理物昇降装置とを有するものとする。特
に処理物及び雰囲気の温度を測定し、その値に基づいて
前記処理物昇降装置の昇降速度及び昇降位置を制御する
ものとする。 【効果】処理物のみの加熱・冷却速度や温度範囲を容易
にかつ任意に制御することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属粉末、セラミック
ス等を高圧・高温のガス雰囲気下で焼結・緻密化するた
めの熱間静水圧装置（以下、ＨＩＰ装置と称す）に関
し、特に急速加熱または急速冷却する熱処理効果を処理
物に加えるＨＩＰ処理装置及びその加熱・冷却速度並び
に温度範囲を制御する方法に関するものである。
ス等を高圧・高温のガス雰囲気下で焼結・緻密化するた
めの熱間静水圧装置（以下、ＨＩＰ装置と称す）に関
し、特に急速加熱または急速冷却する熱処理効果を処理
物に加えるＨＩＰ処理装置及びその加熱・冷却速度並び
に温度範囲を制御する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、１０００℃・１００ＭＰａ以上の
高温・高圧下に於て種々の材料の処理を行う要求が高ま
っている。その要求の１つに、急速加熱・急速冷却によ
る材料の熱処理がある。
高温・高圧下に於て種々の材料の処理を行う要求が高ま
っている。その要求の１つに、急速加熱・急速冷却によ
る材料の熱処理がある。
【０００３】さて、従来のＨＩＰ装置にあっては、図３
に示すように、上蓋１１と下蓋１２とで閉じられた圧力
容器１内に設けられた断熱層２及びヒータ３の内側（ま
たはヒータの上方）に処理物６を置き、この状態でヒー
タ３に対する通電を制御することによって処理物６に対
する加熱・冷却を行っている。この方法によると、処理
物６の加熱は、ヒータ３による輻射熱、並びにガスコン
プレッサ１３によってガスボンベ１４から圧力容器１内
に圧入された圧媒ガスを介した対流熱伝達で行われる。
従って、この従来装置の場合、加熱速度を高めるには、
ヒータ３の大容量化が一般的に行われる。
に示すように、上蓋１１と下蓋１２とで閉じられた圧力
容器１内に設けられた断熱層２及びヒータ３の内側（ま
たはヒータの上方）に処理物６を置き、この状態でヒー
タ３に対する通電を制御することによって処理物６に対
する加熱・冷却を行っている。この方法によると、処理
物６の加熱は、ヒータ３による輻射熱、並びにガスコン
プレッサ１３によってガスボンベ１４から圧力容器１内
に圧入された圧媒ガスを介した対流熱伝達で行われる。
従って、この従来装置の場合、加熱速度を高めるには、
ヒータ３の大容量化が一般的に行われる。
【０００４】一方、冷却は、高圧容器１の水冷による自
然放熱が一般的であるが、冷却速度を高める方法として
は、特開平１−２３０４８２号公報や、特開昭６１−２
９５２６号公報（図２参照）に開示されたものが知られ
ている。これに於ては、ノズル１５からの圧媒ガスの流
れを利用するインジェクタ１６によって圧媒ガスの混合
・対流を促進させ、これによって冷却の際にヒータシス
テム全体としての冷却時間の短縮を図る、といった手法
が採られている。
然放熱が一般的であるが、冷却速度を高める方法として
は、特開平１−２３０４８２号公報や、特開昭６１−２
９５２６号公報（図２参照）に開示されたものが知られ
ている。これに於ては、ノズル１５からの圧媒ガスの流
れを利用するインジェクタ１６によって圧媒ガスの混合
・対流を促進させ、これによって冷却の際にヒータシス
テム全体としての冷却時間の短縮を図る、といった手法
が採られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のＨ
ＩＰ装置で処理物の急速加熱を行うには、ヒータシステ
ム全体を急激に昇温せねばならず、そのためには、ヒー
タ出力を極端に大容量化する必要がある。しかるに、こ
の方法では、電源設備、ヒータシステムが大型化するば
かりでなく、特にアルミナ等の絶縁材が取り付けられた
ヒータの場合には、急速加熱による熱衝撃によって絶縁
材が破損することがあり、ヒータがショートする虞があ
った。
ＩＰ装置で処理物の急速加熱を行うには、ヒータシステ
ム全体を急激に昇温せねばならず、そのためには、ヒー
タ出力を極端に大容量化する必要がある。しかるに、こ
の方法では、電源設備、ヒータシステムが大型化するば
かりでなく、特にアルミナ等の絶縁材が取り付けられた
ヒータの場合には、急速加熱による熱衝撃によって絶縁
材が破損することがあり、ヒータがショートする虞があ
った。
【０００６】一方、圧力容器内の圧媒ガスの混合・対流
を促進させる従来の冷却方法は、処理物だけでなくヒー
タシステム全体としての冷却速度を上げるものであり、
現状の大型ＨＩＰ装置での処理物平均冷却速度は２００
℃／ｍｉｎ．程度しか得られない。しかるに、熱処理の
冷却速度は１０００℃／ｍｉｎ．程度が要求されるた
め、従来装置の冷却速度では不十分である。そこで、更
に圧媒ガスの混合・対流を促進して冷却速度を上げよう
とすると、高圧容器内面の高圧ガスシール部などの低温
に保つべき部位の温度が許容値以上に上がってしまう虞
があった。
を促進させる従来の冷却方法は、処理物だけでなくヒー
タシステム全体としての冷却速度を上げるものであり、
現状の大型ＨＩＰ装置での処理物平均冷却速度は２００
℃／ｍｉｎ．程度しか得られない。しかるに、熱処理の
冷却速度は１０００℃／ｍｉｎ．程度が要求されるた
め、従来装置の冷却速度では不十分である。そこで、更
に圧媒ガスの混合・対流を促進して冷却速度を上げよう
とすると、高圧容器内面の高圧ガスシール部などの低温
に保つべき部位の温度が許容値以上に上がってしまう虞
があった。
【０００７】本発明は、このような従来技術の不都合を
改善すべく案出されたものであり、その主な目的は、従
来のＨＩＰ装置と同等の加熱・冷却が行え、かつ上記の
問題点を解消して処理物の急速加熱または急速冷却を任
意に行うことのできる熱間静水圧加圧装置及びその制御
方法を提供することにある。
改善すべく案出されたものであり、その主な目的は、従
来のＨＩＰ装置と同等の加熱・冷却が行え、かつ上記の
問題点を解消して処理物の急速加熱または急速冷却を任
意に行うことのできる熱間静水圧加圧装置及びその制御
方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このような目的は、本発
明によれば、高温高圧ガスを封入する圧力容器内に断熱
層を配置し、該断熱層の内側に加熱装置及び処理物を収
設するようにしてなる熱間静水圧加圧装置の構成を、前
記断熱層内の上部に画成された高温圧媒ガス滞留空間
と、前記断熱層内の下部に画成された低温圧媒ガス滞留
空間と、これら両空間の間で処理物を上下方向に移動す
るべく設けられた処理物昇降装置とを有するものとする
ことによって達成される。特に処理物及び雰囲気の温度
を測定し、その値に基づいて前記処理物昇降装置の昇降
速度及び昇降位置を制御するものとすると良い。
明によれば、高温高圧ガスを封入する圧力容器内に断熱
層を配置し、該断熱層の内側に加熱装置及び処理物を収
設するようにしてなる熱間静水圧加圧装置の構成を、前
記断熱層内の上部に画成された高温圧媒ガス滞留空間
と、前記断熱層内の下部に画成された低温圧媒ガス滞留
空間と、これら両空間の間で処理物を上下方向に移動す
るべく設けられた処理物昇降装置とを有するものとする
ことによって達成される。特に処理物及び雰囲気の温度
を測定し、その値に基づいて前記処理物昇降装置の昇降
速度及び昇降位置を制御するものとすると良い。
【０００９】
【作用】このような構成によれば、圧力容器内に高温領
域と低温領域とが形成される。そしてこれら各領域間で
処理物を移動することにより、処理物に任意の温度変化
を与えることができる。
域と低温領域とが形成される。そしてこれら各領域間で
処理物を移動することにより、処理物に任意の温度変化
を与えることができる。
【００１０】
【実施例】以下、添付の図面を参照して本発明の好適実
施例について詳細に説明する。
施例について詳細に説明する。
【００１１】図１は、本発明に基づき構成された熱間静
水圧加圧装置を模式的に示している。圧力容器１の内側
には断熱層２が設けられ、断熱層２の内側の上部にはヒ
ータ３が配設されている。ここでガスコンプレッサ１３
によってガスボンベ１４から圧力容器１内に圧媒ガスを
圧入すると共にヒータ３に通電すると、断熱層２内の上
部に高温圧媒ガス滞留空間４が、また下部に低温圧媒ガ
ス滞留空間５が生じる。
水圧加圧装置を模式的に示している。圧力容器１の内側
には断熱層２が設けられ、断熱層２の内側の上部にはヒ
ータ３が配設されている。ここでガスコンプレッサ１３
によってガスボンベ１４から圧力容器１内に圧媒ガスを
圧入すると共にヒータ３に通電すると、断熱層２内の上
部に高温圧媒ガス滞留空間４が、また下部に低温圧媒ガ
ス滞留空間５が生じる。
【００１２】さて、従来のＨＩＰ装置に於ては、高温圧
媒ガス滞留空間内に処理物を置いたままで加熱・冷却を
行っていた。これに対して本発明に於ては、低温圧媒ガ
ス滞留空間５内に処理物６を収容できる空間を確保する
と共に、高温圧媒ガス滞留空間４と低温圧媒ガス滞留空
間５との間で処理物６を自由に昇降移動させることがで
きるように、例えば伸縮式シリンダ装置などからなる処
理物昇降装置７を下蓋１２の上面に設置している。
媒ガス滞留空間内に処理物を置いたままで加熱・冷却を
行っていた。これに対して本発明に於ては、低温圧媒ガ
ス滞留空間５内に処理物６を収容できる空間を確保する
と共に、高温圧媒ガス滞留空間４と低温圧媒ガス滞留空
間５との間で処理物６を自由に昇降移動させることがで
きるように、例えば伸縮式シリンダ装置などからなる処
理物昇降装置７を下蓋１２の上面に設置している。
【００１３】最も一般的な２０００℃、２０００ｋｇｆ
／ｃｍ2仕様のＨＩＰ装置の場合、ヒータ３に通電して
高温圧媒ガス滞留空間４を最大２０００℃に保つと共
に、低温圧媒ガス滞留空間５を常温に保つことが可能で
ある。このように高温圧媒ガス滞留空間４と低温圧媒ガ
ス滞留空間５との間に十分な温度差がある状態で、処理
物昇降装置７を用いて低温圧媒ガス滞留空間５から高温
圧媒ガス滞留空間４に処理物６を上昇移動させることに
より、急速加熱が行われる。この逆に高温圧媒ガス滞留
空間４から低温圧媒ガス滞留空間５に処理物６を下降移
動させることにより、急速冷却が行われる。もちろん処
理物６を高温圧媒ガス滞留空間４中に設置したままの状
態で加熱・冷却を行うことも可能である。
／ｃｍ2仕様のＨＩＰ装置の場合、ヒータ３に通電して
高温圧媒ガス滞留空間４を最大２０００℃に保つと共
に、低温圧媒ガス滞留空間５を常温に保つことが可能で
ある。このように高温圧媒ガス滞留空間４と低温圧媒ガ
ス滞留空間５との間に十分な温度差がある状態で、処理
物昇降装置７を用いて低温圧媒ガス滞留空間５から高温
圧媒ガス滞留空間４に処理物６を上昇移動させることに
より、急速加熱が行われる。この逆に高温圧媒ガス滞留
空間４から低温圧媒ガス滞留空間５に処理物６を下降移
動させることにより、急速冷却が行われる。もちろん処
理物６を高温圧媒ガス滞留空間４中に設置したままの状
態で加熱・冷却を行うことも可能である。
【００１４】一方、高温・高圧の圧媒ガスは、断熱層２
内の上方へ行くほど高温となるように層状に滞留する。
つまり、高温圧媒ガス滞留空間４を２０００℃に、また
低温圧媒ガス滞留空間５を常温に保った場合には、両空
間の間で常温から２０００℃の範囲で上に行くほど高温
になるように空間温度が変化することとなる。従って、
処理物６または処理物６の周辺に熱電対８を取り付け、
処理物温度または処理物周辺雰囲気温度を測定してその
温度変化に応じて処理物昇降装置７の昇降速度及び位置
を制御するものとすれば、処理物６の加熱・冷却速度、
或いは加熱・冷却温度範囲を任意に制御することができ
る。例えば、２０００℃から８００℃までを２秒間で急
冷した後、８００℃以下を−１０℃／ｍｉｎ程度の温度
勾配で徐冷するといった処理も極めて容易に実施するこ
とが可能となる。
内の上方へ行くほど高温となるように層状に滞留する。
つまり、高温圧媒ガス滞留空間４を２０００℃に、また
低温圧媒ガス滞留空間５を常温に保った場合には、両空
間の間で常温から２０００℃の範囲で上に行くほど高温
になるように空間温度が変化することとなる。従って、
処理物６または処理物６の周辺に熱電対８を取り付け、
処理物温度または処理物周辺雰囲気温度を測定してその
温度変化に応じて処理物昇降装置７の昇降速度及び位置
を制御するものとすれば、処理物６の加熱・冷却速度、
或いは加熱・冷却温度範囲を任意に制御することができ
る。例えば、２０００℃から８００℃までを２秒間で急
冷した後、８００℃以下を−１０℃／ｍｉｎ程度の温度
勾配で徐冷するといった処理も極めて容易に実施するこ
とが可能となる。
【００１５】更に、本発明の特徴をより一層効果的にす
る構成として、以下のものが上げられる。 （１）高温圧媒ガス滞留空間４と低温圧媒ガス滞留空間
５との間に断熱材９を任意に配置できるようにする。こ
れによって高温圧媒ガス滞留空間４と低温圧媒ガス滞留
空間５との間の中間部分に於ける温度勾配を変え、ひい
ては低温圧媒ガス滞留空間５の温度を変えることができ
る。 （２）低温圧媒ガス滞留空間５に熱交換器１０を配置す
る。これによって該空間５内の温度を安定的に低く保つ
ことができる。
る構成として、以下のものが上げられる。 （１）高温圧媒ガス滞留空間４と低温圧媒ガス滞留空間
５との間に断熱材９を任意に配置できるようにする。こ
れによって高温圧媒ガス滞留空間４と低温圧媒ガス滞留
空間５との間の中間部分に於ける温度勾配を変え、ひい
ては低温圧媒ガス滞留空間５の温度を変えることができ
る。 （２）低温圧媒ガス滞留空間５に熱交換器１０を配置す
る。これによって該空間５内の温度を安定的に低く保つ
ことができる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明の装置及び方
法によれば、ヒータシステム全体の急速加熱・急速冷却
が必要でなくなり、専ら処理物のみを任意に加熱・冷却
することが可能となる。これにより、ヒータシステムや
高圧シール部等が破損する恐れを解消できる上、従来の
ＨＩＰ処理に比して処理物の加熱・冷却速度を格段に上
げることができ、かつ熱処理に十分な温度変化を与える
ことができる。また、処理物の急速加熱・急速冷却速度
や温度範囲の制御が極めて容易に行えるようになる。
法によれば、ヒータシステム全体の急速加熱・急速冷却
が必要でなくなり、専ら処理物のみを任意に加熱・冷却
することが可能となる。これにより、ヒータシステムや
高圧シール部等が破損する恐れを解消できる上、従来の
ＨＩＰ処理に比して処理物の加熱・冷却速度を格段に上
げることができ、かつ熱処理に十分な温度変化を与える
ことができる。また、処理物の急速加熱・急速冷却速度
や温度範囲の制御が極めて容易に行えるようになる。
【図１】本発明装置の一実施例を示す縦断面図である。
【図２】従来装置の冷却方法を示す縦断面図である。
【図３】従来の一般的なＨＩＰ装置の縦断面図である。
１ 圧力容器 ２ 断熱層 ３ ヒータ ４ 高温圧媒ガス滞留空間 ５ 低温圧媒ガス滞留空間 ６ 処理物 ７ 処理物昇降装置 ８ 熱電対 ９ 断熱材 １０ 熱交換器 １１ 上蓋 １２ 下蓋 １３ ガスコンプレッサ １４ ガスボンベ １５ ノズル １６ インジェクタ
Claims (2)
- 【請求項１】高温高圧ガスを封入する圧力容器内に断熱
層を配置し、該断熱層の内側に加熱装置及び処理物を収
設するようにしてなる熱間静水圧加圧装置であって、 前記断熱層内の上部に画成された高温圧媒ガス滞留空間
と、 前記断熱層内の下部に画成された低温圧媒ガス滞留空間
と、 これら両空間の間で処理物を上下方向に移動するべく設
けられた処理物昇降装置とを有することを特徴とする熱
間静水圧加圧装置。 - 【請求項２】請求項１に記載の装置にて処理物に所要の
熱処理を行うための制御方法であって、 処理物及び雰囲気の温度を測定し、その値に基づいて前
記処理物昇降装置の昇降速度及び昇降位置を制御するこ
とを特徴とする熱間静水圧加圧装置の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32988991A JPH05140614A (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 熱間静水圧加圧装置及びその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32988991A JPH05140614A (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 熱間静水圧加圧装置及びその制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05140614A true JPH05140614A (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=18226390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32988991A Withdrawn JPH05140614A (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 熱間静水圧加圧装置及びその制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05140614A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109690694A (zh) * | 2016-07-08 | 2019-04-26 | 萨尔瓦托雷·莫里卡 | 主动加热炉隔离腔室 |
| US20220106673A1 (en) * | 2018-03-15 | 2022-04-07 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing aluminum alloy member |
-
1991
- 1991-11-19 JP JP32988991A patent/JPH05140614A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109690694A (zh) * | 2016-07-08 | 2019-04-26 | 萨尔瓦托雷·莫里卡 | 主动加热炉隔离腔室 |
| CN109690694B (zh) * | 2016-07-08 | 2023-11-17 | 萨尔瓦托雷·莫里卡 | 主动加热炉隔离腔室 |
| US20220106673A1 (en) * | 2018-03-15 | 2022-04-07 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing aluminum alloy member |
| US11761070B2 (en) * | 2018-03-15 | 2023-09-19 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing aluminum alloy member |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990204 |