JPH05140115A - スルホンアミド系化合物及びゴム組成物 - Google Patents
スルホンアミド系化合物及びゴム組成物Info
- Publication number
- JPH05140115A JPH05140115A JP3353550A JP35355091A JPH05140115A JP H05140115 A JPH05140115 A JP H05140115A JP 3353550 A JP3353550 A JP 3353550A JP 35355091 A JP35355091 A JP 35355091A JP H05140115 A JPH05140115 A JP H05140115A
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- JP
- Japan
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- sulfonamide
- bis
- group
- iminomethylene
- rubber
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】下記式で表わされるスルホンアミド系化合物。
及びこのスルホンアミド系化合物を、ジエン系ゴム１０
０重量部に０．１〜１０重量部配合してなるゴム組成
物。 ［ただし、Ｒ１はアルキル基，置換あるいは非置換フェ
ニル基を、Ｘは硫黄原子，酸素原子，置換あるいは非置
換イミノ基を表わす。］ 【効果】このスルホンアミド系化合物は、ジエン系ゴム
中でゴムの発熱抑制剤として作用する。
及びこのスルホンアミド系化合物を、ジエン系ゴム１０
０重量部に０．１〜１０重量部配合してなるゴム組成
物。 ［ただし、Ｒ１はアルキル基，置換あるいは非置換フェ
ニル基を、Ｘは硫黄原子，酸素原子，置換あるいは非置
換イミノ基を表わす。］ 【効果】このスルホンアミド系化合物は、ジエン系ゴム
中でゴムの発熱抑制剤として作用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スルホンアミド系化合
物及びゴム組成物に関する。さらに詳しくは、新規スル
ホンアミド系化合物及びそれを使用してなる低発熱性ゴ
ム組成物に関するものである。
物及びゴム組成物に関する。さらに詳しくは、新規スル
ホンアミド系化合物及びそれを使用してなる低発熱性ゴ
ム組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】省資源、省エネルギーの社会的要求に対
応するため、ゴム業界、特にタイヤ業界において、ここ
数年来、低燃費タイヤの開発が盛んに行われるようにな
ってきた。このような低燃費タイヤの開発には低発熱ゴ
ム組成物が不可欠であり、例えば、特に乗用車用タイヤ
を目的として、特開昭５７−５１５０３号公報，特開昭
５７−５１５０４号公報，特開昭５８−３６７０５号公
報に記載されているように、結合スチレンとビニル結合
の含有率をコントロールしたスチレン−ブタジエンゴム
を使用する方法がある。しかし、これらの方法はスチレ
ン−ブタジエンゴム以外のゴム、特に重量車両用タイヤ
に最も広く使用されている天然ゴムには適用できない。
応するため、ゴム業界、特にタイヤ業界において、ここ
数年来、低燃費タイヤの開発が盛んに行われるようにな
ってきた。このような低燃費タイヤの開発には低発熱ゴ
ム組成物が不可欠であり、例えば、特に乗用車用タイヤ
を目的として、特開昭５７−５１５０３号公報，特開昭
５７−５１５０４号公報，特開昭５８−３６７０５号公
報に記載されているように、結合スチレンとビニル結合
の含有率をコントロールしたスチレン−ブタジエンゴム
を使用する方法がある。しかし、これらの方法はスチレ
ン−ブタジエンゴム以外のゴム、特に重量車両用タイヤ
に最も広く使用されている天然ゴムには適用できない。
【０００３】一方、特公昭５０−３８１３１号公報，特
開昭６１−２５２２５０号公報，英国特許第１，１８
５，８９６号明細書，米国特許第２，３１５，８５５号
明細書及び米国特許第２，３１５，８５６号明細書，米
国特許第２，８８０，２４０号明細書，米国特許第３，
１５１，１６１号明細書，米国特許第３，２２５，１０
０号明細書等によれば、ニトロソキノリン類、ニトロソ
アニリン類、例えば５−ニトロソ−８−ヒドロキシキノ
リン，５−ニトロソ−８−ヒドロキシメチルキノリン，
ｐ−ニトロソアニリン，ｐ−ニトロソジフェニルアミ
ン，Ｎ，４−ジニトロソ−Ｎ−メチルアニリン，Ｎ−
（２−メチル−２−ニトロプロピル）−４−ニトロソア
ニリン等を添加することにより、ゴムの発熱性が改善さ
せることが記載されている。
開昭６１−２５２２５０号公報，英国特許第１，１８
５，８９６号明細書，米国特許第２，３１５，８５５号
明細書及び米国特許第２，３１５，８５６号明細書，米
国特許第２，８８０，２４０号明細書，米国特許第３，
１５１，１６１号明細書，米国特許第３，２２５，１０
０号明細書等によれば、ニトロソキノリン類、ニトロソ
アニリン類、例えば５−ニトロソ−８−ヒドロキシキノ
リン，５−ニトロソ−８−ヒドロキシメチルキノリン，
ｐ−ニトロソアニリン，ｐ−ニトロソジフェニルアミ
ン，Ｎ，４−ジニトロソ−Ｎ−メチルアニリン，Ｎ−
（２−メチル−２−ニトロプロピル）−４−ニトロソア
ニリン等を添加することにより、ゴムの発熱性が改善さ
せることが記載されている。
【０００４】しかしながら、このようなニトロソ化合物
は、確かに発熱性を改善するが、特にポリイソプレンゴ
ムに敵得した場合、ポリマーのしゃっ解作用が大きく、
ゴム組成物の耐摩耗性を著しく低下させるといった欠点
を有している。また、スチレン−ブタジエン共重合ゴム
やポリブタジエンゴム等にニトロソ化合物を適用した場
合には、発熱性改良効果は余り期待できない。また、近
年ニトソロアミンの衛生性が社会的に問題になったこと
により、これらの化合物はいずれも使用が困難な状況に
ある。
は、確かに発熱性を改善するが、特にポリイソプレンゴ
ムに敵得した場合、ポリマーのしゃっ解作用が大きく、
ゴム組成物の耐摩耗性を著しく低下させるといった欠点
を有している。また、スチレン−ブタジエン共重合ゴム
やポリブタジエンゴム等にニトロソ化合物を適用した場
合には、発熱性改良効果は余り期待できない。また、近
年ニトソロアミンの衛生性が社会的に問題になったこと
により、これらの化合物はいずれも使用が困難な状況に
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする問題点】前記のように、従来
の発熱改良剤によれば、天然ゴムに応用ができないこ
と、ポリイソプレンゴムに適用した場合、しゃっ解作用
が大きいこと、更にはスチレン−ブタジエン共重合ゴム
やポリブタジエンゴムに適用した場合、発熱改良効果が
弱いという問題があった。
の発熱改良剤によれば、天然ゴムに応用ができないこ
と、ポリイソプレンゴムに適用した場合、しゃっ解作用
が大きいこと、更にはスチレン−ブタジエン共重合ゴム
やポリブタジエンゴムに適用した場合、発熱改良効果が
弱いという問題があった。
【０００６】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、上記の欠
点を改善することを目的として、ニトロソ化合物以外の
発熱改良剤について鋭意研究した結果、本発明に到達し
たものである。即ち、本発明は、化２で示される新規ス
ルホンアミド系化合物を提供し、かつ、化２で示される
新規スルホンアミド系化合物を配合してなるゴム組成物
を提供するものである。
点を改善することを目的として、ニトロソ化合物以外の
発熱改良剤について鋭意研究した結果、本発明に到達し
たものである。即ち、本発明は、化２で示される新規ス
ルホンアミド系化合物を提供し、かつ、化２で示される
新規スルホンアミド系化合物を配合してなるゴム組成物
を提供するものである。
【０００７】
【化２】 ［式中、Ｒ１はアルキル基、ハロゲン基、アルコキシ
基、アセトアミド基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシ
ル基から選ばれた１種以上の基を表わし、ｎは０〜４の
整数を表わし、Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、
フェニル基、または低級アルキル基で置換されたフェニ
ル基を表わし、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して水素原
子、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トルエ
ンスルホニル基のいずれかを表わし、Ｒ５は水素原子、
アルキル基、ニトロ基のいずれかを表わし、Ｘは硫黄原
子、酸素原子、置換または無置換のイミノ基を表わ
す。］
基、アセトアミド基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシ
ル基から選ばれた１種以上の基を表わし、ｎは０〜４の
整数を表わし、Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、
フェニル基、または低級アルキル基で置換されたフェニ
ル基を表わし、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して水素原
子、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トルエ
ンスルホニル基のいずれかを表わし、Ｒ５は水素原子、
アルキル基、ニトロ基のいずれかを表わし、Ｘは硫黄原
子、酸素原子、置換または無置換のイミノ基を表わ
す。］
【０００８】本発明のスルホンアミド系化合物を適用で
きるゴムとしては、天然ゴム，ポリイソプレンゴム，ス
チレン−ブタジエン共重合ゴム，ポリブタジエンゴム，
アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム，エチレン−
プロプレン−ジエン共重合ゴム，イソブチレン−イソプ
レン共重合ゴム等の単独もしくは、これらの二種または
それ以上を混合したゴムが挙げられる。
きるゴムとしては、天然ゴム，ポリイソプレンゴム，ス
チレン−ブタジエン共重合ゴム，ポリブタジエンゴム，
アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム，エチレン−
プロプレン−ジエン共重合ゴム，イソブチレン−イソプ
レン共重合ゴム等の単独もしくは、これらの二種または
それ以上を混合したゴムが挙げられる。
【０００９】本発明に係る化２で示されるスルホンアミ
ド系化合物は、Ｎ−置換−ベンゾアゾール−２−スルホ
ンアミド系化合物とフェニレンジアミン系化合物をメタ
ノール中で混合しておき、これに６０〜６５℃でホルム
アルデヒドを反応させることによって容易に得られる。
例えば、Ｎ−置換−ベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド系化合物としてＮ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド、フェニレンジアミン系化合物
としてｐ−フェニレンジアミンを使用したとき、下記の
ような反応が認められる。
ド系化合物は、Ｎ−置換−ベンゾアゾール−２−スルホ
ンアミド系化合物とフェニレンジアミン系化合物をメタ
ノール中で混合しておき、これに６０〜６５℃でホルム
アルデヒドを反応させることによって容易に得られる。
例えば、Ｎ−置換−ベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド系化合物としてＮ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド、フェニレンジアミン系化合物
としてｐ−フェニレンジアミンを使用したとき、下記の
ような反応が認められる。
【００１０】
【化３】
【００１１】また、本発明において用いられるフェニレ
ンジアミン系化合物としては、ｏ−フェニレンジアミ
ン，ｍ−フェニレンジアミン，ｐ−フェニレンジアミ
ン，４−アミノジフェニルアミン，Ｎ−シクロヘキシル
−ｐ−フェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ
−フェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ジ−β−ナフチル−
ｐ−フェニレンジアミン，２，３−ジアミノトルエン，
２，４−ジアミノトルエン，２，６−ジメチル−ｐ−フ
ェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ
−フェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘ
プチル）−ｐ−フェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ビス
（１，３−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミ
ン，Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン，Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェ
ニル−ｐ−フェニレンジアミン，Ｎ−オクチル−Ｎ’−
フェニル−ｐ−フェニレンジアミン，Ｎ−（１，３−ジ
メチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン等が挙げられる。
ンジアミン系化合物としては、ｏ−フェニレンジアミ
ン，ｍ−フェニレンジアミン，ｐ−フェニレンジアミ
ン，４−アミノジフェニルアミン，Ｎ−シクロヘキシル
−ｐ−フェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ
−フェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ジ−β−ナフチル−
ｐ−フェニレンジアミン，２，３−ジアミノトルエン，
２，４−ジアミノトルエン，２，６−ジメチル−ｐ−フ
ェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ
−フェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘ
プチル）−ｐ−フェニレンジアミン，Ｎ，Ｎ’−ビス
（１，３−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミ
ン，Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン，Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェ
ニル−ｐ−フェニレンジアミン，Ｎ−オクチル−Ｎ’−
フェニル−ｐ−フェニレンジアミン，Ｎ−（１，３−ジ
メチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン等が挙げられる。
【００１２】本発明に係るスルホンアミド系化合物とし
ては、Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２
−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス
（イミノメチレン）］ビス（４−メチル−Ｎ−シクロヘ
キシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，
Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス
（５−メチル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−
２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビ
ス（イミノメチレン）］ビス（６−メチル−Ｎ−シクロ
ヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），
Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（７−メチル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレ
ンビス（イミノメチレン）］ビス（４，５−ジメチル−
Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチ
レン）］ビス（４，６−ジメチル−Ｎ−シクロヘキシル
ベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−
［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（４−
エチル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−ス
ルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イ
ミノメチレン）］ビス（５−イソプロピル−Ｎ−シクロ
ヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），
Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（６−イソプロピル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチ
アゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フ
ェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（５−ブチル−
Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチ
レン）］ビス（４−メトキシ−Ｎ−シクロヘキシルベン
ゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ
−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（５−メト
キシ−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド，Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（６−メトキシ−Ｎ−シクロヘキシル
ベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−
［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（４−
エトキシ−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−
スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス
（イミノメチレン）］ビス（５−エトキシ−Ｎ−シクロ
ヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），
Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレ
ンビス（イミノメチレン）］ビス（６−クロル−Ｎ−シ
クロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミ
ド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（５−ニトロ−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチ
アゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フ
ェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（６−ニトロ−
Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチ
レン）］ビス（４−アミノ−Ｎ−シクロヘキシルベンゾ
チアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｏ−
フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロ
ヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），
Ｎ，Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｏ−トルイレンビス（イミ
ノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾ
ール−２−スルホンアミド，Ｎ，Ｎ’−（ｍ−トルイレ
ンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシル
ベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−
［ｏ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（５−
クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−ス
ルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イ
ミノメチレン）］ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシ
ルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’
−［ｏ−トルイレンビス（イミノメチレン）］ビス（５
−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−
スルホンアミド），［ｍ−トルイレンビス（イミノメチ
レン）］ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾ
チアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−
フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−エチル
ベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−
［ｏ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−
エチルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，
Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス
（Ｎ−エチルベンゾチアゾール−２−スルホンアミ
ド），Ｎ，Ｎ’−［ｏ−トルイレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（Ｎ−エチルベンゾチアゾール−２−スルホ
ンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｍ−トルイレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（Ｎ−エチルベンゾチアゾール−２−
スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス
（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−フェニルベンゾチアゾ
ール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｏ−フェニ
レンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−フェニルベン
ゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｍ
−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−フェ
ニルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，
Ｎ’−［ｏ−トルイレンビス（イミノメチレン）］ビス
（Ｎ−フェニルベンゾチアゾール−２−スルホンアミ
ド），Ｎ，Ｎ’−［ｍ−トルイレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（Ｎ−フェニルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミ
ノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾオキサ
ゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェ
ニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキ
シルベンズイミダゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，
Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス
（Ｎ−エチルベンズイミダゾール−２−スルホンアミ
ド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−ス
ルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イ
ミノメチレン）］ビス（５−メチル−Ｎ−シクロヘキシ
ルベンズイミダゾール−２−スルホンアミド）等が挙げ
られる。
ては、Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２
−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス
（イミノメチレン）］ビス（４−メチル−Ｎ−シクロヘ
キシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，
Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス
（５−メチル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−
２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビ
ス（イミノメチレン）］ビス（６−メチル−Ｎ−シクロ
ヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），
Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（７−メチル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレ
ンビス（イミノメチレン）］ビス（４，５−ジメチル−
Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチ
レン）］ビス（４，６−ジメチル−Ｎ−シクロヘキシル
ベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−
［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（４−
エチル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−ス
ルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イ
ミノメチレン）］ビス（５−イソプロピル−Ｎ−シクロ
ヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），
Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（６−イソプロピル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチ
アゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フ
ェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（５−ブチル−
Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチ
レン）］ビス（４−メトキシ−Ｎ−シクロヘキシルベン
ゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ
−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（５−メト
キシ−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド，Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（６−メトキシ−Ｎ−シクロヘキシル
ベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−
［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（４−
エトキシ−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−
スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス
（イミノメチレン）］ビス（５−エトキシ−Ｎ−シクロ
ヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），
Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレ
ンビス（イミノメチレン）］ビス（６−クロル−Ｎ−シ
クロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミ
ド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（５−ニトロ−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチ
アゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フ
ェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（６−ニトロ−
Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチ
レン）］ビス（４−アミノ−Ｎ−シクロヘキシルベンゾ
チアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｏ−
フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロ
ヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），
Ｎ，Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｏ−トルイレンビス（イミ
ノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾ
ール−２−スルホンアミド，Ｎ，Ｎ’−（ｍ−トルイレ
ンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシル
ベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−
［ｏ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（５−
クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−ス
ルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イ
ミノメチレン）］ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシ
ルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’
−［ｏ−トルイレンビス（イミノメチレン）］ビス（５
−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−
スルホンアミド），［ｍ−トルイレンビス（イミノメチ
レン）］ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾ
チアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−
フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−エチル
ベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−
［ｏ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−
エチルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，
Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス
（Ｎ−エチルベンゾチアゾール−２−スルホンアミ
ド），Ｎ，Ｎ’−［ｏ−トルイレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（Ｎ−エチルベンゾチアゾール−２−スルホ
ンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｍ−トルイレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（Ｎ−エチルベンゾチアゾール−２−
スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス
（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−フェニルベンゾチアゾ
ール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｏ−フェニ
レンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−フェニルベン
ゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｍ
−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−フェ
ニルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，
Ｎ’−［ｏ−トルイレンビス（イミノメチレン）］ビス
（Ｎ−フェニルベンゾチアゾール−２−スルホンアミ
ド），Ｎ，Ｎ’−［ｍ−トルイレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（Ｎ−フェニルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミ
ノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾオキサ
ゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェ
ニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキ
シルベンズイミダゾール−２−スルホンアミド），Ｎ，
Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］ビス
（Ｎ−エチルベンズイミダゾール−２−スルホンアミ
ド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレ
ン）］ビス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−ス
ルホンアミド），Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イ
ミノメチレン）］ビス（５−メチル−Ｎ−シクロヘキシ
ルベンズイミダゾール−２−スルホンアミド）等が挙げ
られる。
【００１３】
【作用】本発明に係る化２で示されるスルホンアミド系
化合物のゴムへの配合にあたっては、単独であっても二
種以上併用してもよい。このスルホンアミド系化合物の
配合量は、ゴム１００重量部に対して０．１〜１０重量
部である。０．１重量部未満ではゴム組成物の発熱改良
効果がほとんど期待できず、１０重量部以上多量に添加
すると、ゴム組成物の機能的性質が低下するため好まし
くない。本発明において補強性充填剤（カーボンブラッ
ク等）の配合量は、２０〜１５０重量部であり、２０重
量部未満ではゴム組成物の補強性が劣り、１５０重量部
をこえると発熱性改良効果が小さく、また、耐摩耗性等
の物性が著しく劣るなど好ましくない。
化合物のゴムへの配合にあたっては、単独であっても二
種以上併用してもよい。このスルホンアミド系化合物の
配合量は、ゴム１００重量部に対して０．１〜１０重量
部である。０．１重量部未満ではゴム組成物の発熱改良
効果がほとんど期待できず、１０重量部以上多量に添加
すると、ゴム組成物の機能的性質が低下するため好まし
くない。本発明において補強性充填剤（カーボンブラッ
ク等）の配合量は、２０〜１５０重量部であり、２０重
量部未満ではゴム組成物の補強性が劣り、１５０重量部
をこえると発熱性改良効果が小さく、また、耐摩耗性等
の物性が著しく劣るなど好ましくない。
【００１４】本発明には対象となるゴム成分に、上記の
補強性充填剤と発熱性改良剤以外に、必要に応じて亜鉛
華等の金属酸化物，パラフィン系，ナフテン系または芳
香族系の加工油等の軟化剤，ステアリン酸等の各種高級
脂肪酸，着色剤及び顔料，老化防止剤，紫外線吸収剤，
加硫促進剤，加硫促進助剤，加硫剤等の各種配合剤を配
合することができる。また、従来から利用されているゴ
ム練り用のオープンロール，バンバリーミキサーまたは
加圧ニーダー等で混合することができる。本発明のゴム
組成物は、タイヤ，コンベヤーベルト，ホース，防振ゴ
ム等のあらゆるゴム製品に適用できる。
補強性充填剤と発熱性改良剤以外に、必要に応じて亜鉛
華等の金属酸化物，パラフィン系，ナフテン系または芳
香族系の加工油等の軟化剤，ステアリン酸等の各種高級
脂肪酸，着色剤及び顔料，老化防止剤，紫外線吸収剤，
加硫促進剤，加硫促進助剤，加硫剤等の各種配合剤を配
合することができる。また、従来から利用されているゴ
ム練り用のオープンロール，バンバリーミキサーまたは
加圧ニーダー等で混合することができる。本発明のゴム
組成物は、タイヤ，コンベヤーベルト，ホース，防振ゴ
ム等のあらゆるゴム製品に適用できる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を合成例，ゴム試験例及び比較
例により詳細に説明するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。 合成例１ Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド）の合成 Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド７．１１ｇ（２４ミリモル）、フェニレンジアミン
１．３０ｇ（１２ミリモル）、メタノール３００ｍｌを
４ッ口コルベンに採り、撹拌機，温度計，コンデンサー
及び滴下ロートを付けて温浴上にて６０〜６３℃にて撹
拌溶解した。同温度で撹拌しながら３７％ホルムアルデ
ヒド溶液１．３５ｇ（２４ミリモル）を３０分間で加
え、更に１時間撹拌後、沈殿物は瀘過し、少量のメタノ
ールで洗浄後乾燥した。生成物 Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェ
ニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキ
シルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド）は６７．
９ｇ（収率７７．２％）を得た。この化合物は淡褐色粉
末であり、融点は１４１．５〜１４６．５℃であった。
例により詳細に説明するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。 合成例１ Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド）の合成 Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルホンア
ミド７．１１ｇ（２４ミリモル）、フェニレンジアミン
１．３０ｇ（１２ミリモル）、メタノール３００ｍｌを
４ッ口コルベンに採り、撹拌機，温度計，コンデンサー
及び滴下ロートを付けて温浴上にて６０〜６３℃にて撹
拌溶解した。同温度で撹拌しながら３７％ホルムアルデ
ヒド溶液１．３５ｇ（２４ミリモル）を３０分間で加
え、更に１時間撹拌後、沈殿物は瀘過し、少量のメタノ
ールで洗浄後乾燥した。生成物 Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェ
ニレンビス（イミノメチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキ
シルベンゾチアゾール−２−スルホンアミド）は６７．
９ｇ（収率７７．２％）を得た。この化合物は淡褐色粉
末であり、融点は１４１．５〜１４６．５℃であった。
【００１６】 元素分析 分析値 Ｃ：５５．６０％ Ｈ：５．４７％ Ｎ：１１．６２％ 計算値 （Ｃ３４Ｈ４０Ｎ６Ｏ４Ｓ４として） Ｃ：５６．３３％ Ｈ：５．５６％ Ｎ：１１．５９％ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１ ３４４８，３１０３，２９３２，１４７４，１４５２，
１３５３，１１６４，７７０，６２９
１３５３，１１６４，７７０，６２９
【００１７】合成例２ Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド）の合成 ５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２
−スルホンアミド７．９４ｇ（２４ミリモル）、ｐ−フ
ェニレンジアミン１．３０ｇ（１２ミリモル）、メタノ
ール５００ｍｌ及び３７％ホルムアルデヒド１．９５ｇ
（２４ミリモル）を用いて合成例１に準拠して合成し
た。生成物Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメ
チレン）］ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベン
ゾチアゾール−２−スルホンアミド）は６．９３ｇ（収
率７２．０％）を得た。この化合物は褐色粉末であり、
融点は１５５．０〜１６０．０℃であった。
ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド）の合成 ５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２
−スルホンアミド７．９４ｇ（２４ミリモル）、ｐ−フ
ェニレンジアミン１．３０ｇ（１２ミリモル）、メタノ
ール５００ｍｌ及び３７％ホルムアルデヒド１．９５ｇ
（２４ミリモル）を用いて合成例１に準拠して合成し
た。生成物Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメ
チレン）］ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベン
ゾチアゾール−２−スルホンアミド）は６．９３ｇ（収
率７２．０％）を得た。この化合物は褐色粉末であり、
融点は１５５．０〜１６０．０℃であった。
【００１８】 元素分析 分析値 Ｃ：５０．９７％ Ｈ：４．７６％ Ｎ：１０．６３％ 計算値 （Ｃ３４Ｈ３８Ｃｌ２Ｎ６Ｏ４Ｓ４として） Ｃ：５１．４４％ Ｈ：４．８２％ Ｎ：１０．５９％ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１ ２９３９，１６７７，１４６７，１４３０，１３４４，
１１６６，１０７２，５８６
１１６６，１０７２，５８６
【００１９】合成例３ Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンズイミダゾール−２−ス
ルホンアミド）の合成 Ｎ−シクロヘキシルベンズイミダゾール−２−スルホン
アミド５．５９ｇ（２０ミリモル）、ｐ−フェニレンジ
アミン１．０８ｇ（１０ミリモル）、メタノール５００
ｍｌ及び３７％ホルムアルデヒド１．６２ｇ（２０ミリ
モル）を用いて合成例１に準拠して合成した。生成物
Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンズイミダゾール−２−ス
ルホンアミド）は５．６５ｇ（収率８０．８％）を得
た。この化合物は微褐色粉末であり、融点は２００．０
〜２０５．０℃であった。
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンズイミダゾール−２−ス
ルホンアミド）の合成 Ｎ−シクロヘキシルベンズイミダゾール−２−スルホン
アミド５．５９ｇ（２０ミリモル）、ｐ−フェニレンジ
アミン１．０８ｇ（１０ミリモル）、メタノール５００
ｍｌ及び３７％ホルムアルデヒド１．６２ｇ（２０ミリ
モル）を用いて合成例１に準拠して合成した。生成物
Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンズイミダゾール−２−ス
ルホンアミド）は５．６５ｇ（収率８０．８％）を得
た。この化合物は微褐色粉末であり、融点は２００．０
〜２０５．０℃であった。
【００２０】 元素分析 分析値 Ｃ：５８．６０％ Ｈ：５．９６％ Ｎ：１６．５５％ 計算値 （Ｃ３４Ｈ４２Ｎ８Ｏ４Ｓ２として） Ｃ：５９．１１％ Ｈ：６．１３％ Ｎ：１６．２２％ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１ ３３２２，２９３４，２８５９，１４４６，１３５９，
１１５７，７４４，６４０
１１５７，７４４，６４０
【００２１】合成例４ Ｎ，Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミドの合成 合成例１のｐ−フェニレンジアミンに代えてｍ−フェニ
レンジアミン１．３０ｇ（１２ミリモル）を用いて合成
した。生成物Ｎ，Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド）は６．４９ｇで収率は７３．
８％であった。
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミドの合成 合成例１のｐ−フェニレンジアミンに代えてｍ−フェニ
レンジアミン１．３０ｇ（１２ミリモル）を用いて合成
した。生成物Ｎ，Ｎ’−［ｍ−フェニレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド）は６．４９ｇで収率は７３．
８％であった。
【００２２】 元素分析 分析値 Ｃ：５６．７０％ Ｈ： ５．３９％ Ｎ：１１．５２％ 計算値 （Ｃ３４Ｈ４０Ｎ６Ｏ４Ｓ４として） Ｃ：５６．３３％ Ｈ：５．５６％ Ｎ：１１．５９％
【００２３】合成例５ Ｎ，Ｎ’−［ｍ−トルイレンビス（イミノメチレン）］
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド）の合成 合成例１のｐ−フェニレンジアミンに代えてｍ−トルイ
レンジアミン１．４７ｇ（１２ミリモル）を用いて合成
した。生成物Ｎ，Ｎ’−［ｍ−トルイレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミドは６．５８ｇで収率は７４．２
％であった。
ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スル
ホンアミド）の合成 合成例１のｐ−フェニレンジアミンに代えてｍ−トルイ
レンジアミン１．４７ｇ（１２ミリモル）を用いて合成
した。生成物Ｎ，Ｎ’−［ｍ−トルイレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミドは６．５８ｇで収率は７４．２
％であった。
【００２４】 元素分析 分析値 Ｃ：５６．０２％ Ｈ：５．８３％ Ｎ：１１．５２％ 計算値（Ｃ３５Ｈ４２Ｎ６Ｏ４Ｓ４として） Ｃ：５６．８８％ Ｈ：５．７３％ Ｎ：１１．３７％
【００２５】ゴム試験例 表１及び表３に示した配合処方（但し、亜鉛華，硫黄，
加硫促進剤を除く）に従って常法により混練り後、ゴム
組成物を得た。この表中、サンセラーＮＳ−は三新化学
工業株式会社製Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチア
ジルスルフェンアミドの商品名、ＭＮＮＡはＮ−（２−
メチル−２−ニトロプロピル）−４−ニトロソアニリ
ン、ＮＨＱは５−ニトロソ−８−ヒドロキノリン、ＮＤ
ＭＡはｐ−ニトロソ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、サン
セラーＤＭは三新化学工業株式会社製ジベンゾチアジル
ジスルフィドの商品名、サンセラーＤは三新化学工業株
式会社製１，３−ジフェニルグアニジンの商品名を表わ
す。
加硫促進剤を除く）に従って常法により混練り後、ゴム
組成物を得た。この表中、サンセラーＮＳ−は三新化学
工業株式会社製Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチア
ジルスルフェンアミドの商品名、ＭＮＮＡはＮ−（２−
メチル−２−ニトロプロピル）−４−ニトロソアニリ
ン、ＮＨＱは５−ニトロソ−８−ヒドロキノリン、ＮＤ
ＭＡはｐ−ニトロソ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、サン
セラーＤＭは三新化学工業株式会社製ジベンゾチアジル
ジスルフィドの商品名、サンセラーＤは三新化学工業株
式会社製１，３−ジフェニルグアニジンの商品名を表わ
す。
【００２６】このゴム組成物を１６０℃で１０分間熱処
理し、次に上記ゴム組成物に亜鉛華，硫黄，加硫促進剤
を配合した。このゴム組成物を１４５℃で３０分間プレ
ス加硫後、得られた加硫試料についてＪＩＳ Ｋ ６３
０１（加硫ゴム物理試験方法）に準拠して反発弾性試験
を行った。更に、ＡＳＴＭ−Ｄ−６２３−５８に準拠し
て耐発熱性試験をグッドリッチ式の発熱試験機を用いて
行い、荷重３５１ｂ、ストローク６．３５ｍｍ、振動数
１８００ｒ．ｐ．ｍ．、槽内温度４０℃の条件で、４０
分後の発熱温度（４０分後のゴム温度と初期ゴム温度の
差で表示）を測定した。それらの結果を表２及び表４に
示した。
理し、次に上記ゴム組成物に亜鉛華，硫黄，加硫促進剤
を配合した。このゴム組成物を１４５℃で３０分間プレ
ス加硫後、得られた加硫試料についてＪＩＳ Ｋ ６３
０１（加硫ゴム物理試験方法）に準拠して反発弾性試験
を行った。更に、ＡＳＴＭ−Ｄ−６２３−５８に準拠し
て耐発熱性試験をグッドリッチ式の発熱試験機を用いて
行い、荷重３５１ｂ、ストローク６．３５ｍｍ、振動数
１８００ｒ．ｐ．ｍ．、槽内温度４０℃の条件で、４０
分後の発熱温度（４０分後のゴム温度と初期ゴム温度の
差で表示）を測定した。それらの結果を表２及び表４に
示した。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【表２】
【００２９】
【表３】
【００３０】
【表４】
【００３１】
【発明の効果】以上のことから明らかなように、本発明
に係る新規スルホンアミド系化合物は、ゴムの発熱改良
剤として有用であり、これを配合してなるゴム組成物
は、発熱改良効果が著しいことがわかる。
に係る新規スルホンアミド系化合物は、ゴムの発熱改良
剤として有用であり、これを配合してなるゴム組成物
は、発熱改良効果が著しいことがわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/47 ＫＤＳ 7167−4Ｊ Ｃ０８Ｌ 21/00
Claims (8)
- 【請求項１】化１で示されるスルホンアミド系化合物。 【化１】 ［式中、Ｒ１はアルキル基、ハロゲン基、アルコキシ
基、アセトアミド基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシ
ル基から選ばれた１種以上の基を表わし、ｎは０〜４の
整数を表わし，Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、
フェニル基、または低級アルキル基で置換されたフェニ
ル基を表わし、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して水素原
子、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トルエ
ンスルホニル基のいずれかを表わし、Ｒ５は水素原子、
アルキル基、ニトロ基のいずれかを表わし、Ｘは硫黄原
子、酸素原子、置換または無置換のイミノ基を表わ
す。］ - 【請求項２】Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアゾー
ル−２−スルホンアミド）。 - 【請求項３】Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（５−クロル−Ｎ−シクロヘキシルベ
ンゾチアゾール−２−スルホンアミド）。 - 【請求項４】Ｎ，Ｎ’−［ｐ−フェニレンビス（イミノ
メチレン）］ビス（Ｎ−シクロヘキシルベンズイミダゾ
ール−２−スルホンアミド）。 - 【請求項５】請求項１記載の化１で示されるスルホンア
ミド系化合物を配合してなるゴム組成物。 - 【請求項６】請求項１記載の化１で示されるスルホンア
ミド系化合物をゴムの発熱改良剤として配合してなるゴ
ム組成物。 - 【請求項７】請求項１記載の化１で示されるスルホンア
ミド系化合物の１種または２種以上を天然ゴム及び／ま
たはジエン系合成ゴムからなるゴム１００重量部に、
０．１〜１０重量部を配合してなる請求項５または請求
項６記載のゴム組成物。 - 【請求項８】天然ゴム及び／またはジエン系合成ゴム１
００重量部に対して、請求項１記載の化１で示されるス
ルホンアミド系化合物を０．１〜１０重量部、カーボン
ブラックを２０〜１５０重量部配合してなるゴム組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3353550A JPH05140115A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | スルホンアミド系化合物及びゴム組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3353550A JPH05140115A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | スルホンアミド系化合物及びゴム組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05140115A true JPH05140115A (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=18431603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3353550A Pending JPH05140115A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | スルホンアミド系化合物及びゴム組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05140115A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100385569B1 (ko) * | 2000-08-24 | 2003-05-27 | 금호산업주식회사 | 접착 고무조성물 |
| KR20030084444A (ko) * | 2002-04-26 | 2003-11-01 | 주식회사 파나진 | Ｐｎａ 올리고머를 합성하기 위한 신규한 단량체 및 그의제조방법 |
| JP2019533753A (ja) * | 2017-05-17 | 2019-11-21 | 浙江吉利控股集団有限公司Ｚｈｅｊｉａｎｇ Ｇｅｅｌｙ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | ゴム混合物およびこれによって作られたタイヤ |
-
1991
- 1991-11-14 JP JP3353550A patent/JPH05140115A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100385569B1 (ko) * | 2000-08-24 | 2003-05-27 | 금호산업주식회사 | 접착 고무조성물 |
| KR20030084444A (ko) * | 2002-04-26 | 2003-11-01 | 주식회사 파나진 | Ｐｎａ 올리고머를 합성하기 위한 신규한 단량체 및 그의제조방법 |
| JP2019533753A (ja) * | 2017-05-17 | 2019-11-21 | 浙江吉利控股集団有限公司Ｚｈｅｊｉａｎｇ Ｇｅｅｌｙ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | ゴム混合物およびこれによって作られたタイヤ |
| US11299604B2 (en) | 2017-05-17 | 2022-04-12 | Zhejiang Geely Holding Group Co., Ltd. | Rubber mixture and tire made by the same |
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