JPH05135875A - Multicolored luminous thin film el element - Google Patents

Multicolored luminous thin film el element

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JPH05135875A
JPH05135875A JP3047243A JP4724391A JPH05135875A JP H05135875 A JPH05135875 A JP H05135875A JP 3047243 A JP3047243 A JP 3047243A JP 4724391 A JP4724391 A JP 4724391A JP H05135875 A JPH05135875 A JP H05135875A
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JP
Japan
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phosphor layer
phosphor
layer
thin film
insulating layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP3047243A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroichi Iida
博一 飯田
Masahiro Furuta
正寛 古田
Kazuto Kawada
和人 河田
Hirochika Nagumo
博規 南雲
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Kenwood KK
Original Assignee
Kenwood KK
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a structure of a multicolored luminous thin film EL element needing no use of photolithography or etching for construction of phosphor layers. CONSTITUTION:On a glass substrate, a transparent electrode 1, a 1st insulating layer 2, a 1st phosphor layer 3, a 2nd insulating layer 5, a rear face electrode 6, a 2nd phosphor layer 4, a 3rd insulating layer 7 and a rear face electrode 8 are laminated successively. Luminous electric field intensities and wavelengthes of EL light of the 1st phosphor layer 3 and the 2nd phosphor layer 4 are different, and when an AC voltage is applied between the transparent electrode 1 and the rear face electrode 8, the 2nd phosphor layer 4 between them only can be made luminous. The exfoliation of phosphor layer film due to hydrolysis cannot be generated and manufacturing processes can be simplified.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は交番電界印加によりE
L発光を呈する薄膜EL素子に係わり、特に、多色発光
薄膜EL素子の構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to E by applying an alternating electric field.
The present invention relates to a thin film EL element that emits L light, and particularly to the structure of a multicolor light emitting thin film EL element.

【0002】[0002]

【従来の技術】電界を印加すると物質が蛍光を発する現
象すなわちエレクトロルミネッセンス(EL)を利用し
たディスプレイに用いられる薄膜EL素子が知られてい
る。このような薄膜EL素子の2色発光のものの構造の
例を図4を参照して説明する。図に示すように、ガラス
基板の上に透明電極1を積層し、その上に第1絶縁層2
を積層し、その上に第1の蛍光体3と第2の蛍光体4と
を所望のパターンに形成し、その上に第2絶縁層5を積
層し、第2絶縁層5の上に背面電極6を第1の蛍光体3
および第2の蛍光体4を発光させるパターンに形成した
構造となっている。 上記第1の蛍光体3と第2の蛍光
体4とを所望のパターンに形成するには、例えば、絶縁
層2の上に第1の蛍光体を蒸着あるいはスパッタ等によ
り成膜し、その上にフォトレジストをコートし、フォト
リソグラフィによりレジストの所望のパターンを有する
マスクを形成する。その状態で第1の蛍光体をエッチン
グした後、第2の蛍光体を形成し、不要部分をレジスト
とともに除去する。
2. Description of the Related Art A thin film EL element used for a display utilizing a phenomenon in which a substance emits fluorescence when an electric field is applied, that is, electroluminescence (EL) is known. An example of the structure of such a thin film EL element that emits two colors will be described with reference to FIG. As shown in the figure, the transparent electrode 1 is laminated on the glass substrate, and the first insulating layer 2 is formed thereon.
, A first phosphor 3 and a second phosphor 4 are formed in a desired pattern thereon, a second insulating layer 5 is laminated thereon, and a back surface is formed on the second insulating layer 5. The electrode 6 is used as the first phosphor 3
The second phosphor 4 has a structure in which it is made to emit light. In order to form the first phosphor 3 and the second phosphor 4 in a desired pattern, for example, the first phosphor is formed on the insulating layer 2 by vapor deposition, sputtering, or the like, and is formed thereon. A photoresist is coated on the substrate and a mask having a desired pattern of the resist is formed by photolithography. In that state, after etching the first phosphor, a second phosphor is formed, and unnecessary portions are removed together with the resist.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする問題点】上記した従来のもの
においては、蛍光体層上でフォトリソグラフィ工程を行
いまた蛍光体のエッチングを行う。薄膜EL素子の蛍光
体としてZnS系、CaS系等の加水分解され易い材料
が使用されており、製造工程中に膜剥離を生じたり、ま
た、蛍光体内に微量の水分が含まれていても発光時の高
電界により蛍光体層が電気分解され、ガスの発生で膜が
剥離して発光停止となる恐れがあった。
In the conventional device described above, the photolithography process is performed on the phosphor layer and the phosphor is etched. ZnS-based, CaS-based and other easily hydrolyzed materials are used as the phosphor of the thin film EL element, and film peeling occurs during the manufacturing process, and the phosphor emits light even if a small amount of water is contained. At this time, the high electric field electrolyzes the phosphor layer, and gas generation may cause the film to peel off and stop the light emission.

【0004】この発明は上記した点に鑑みてなされたも
のであって、その目的とするところは、蛍光体層の形成
にフォトリソグラフィやエッチングを用いることのない
多色発光薄膜EL素子の構造を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide a structure of a multicolor light emitting thin film EL element which does not use photolithography or etching for forming a phosphor layer. To provide.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明の多色発光薄膜
EL素子は、透明電極の上に異なる発光電界強度および
異なる波長のEL発光を呈する蛍光体層を発光電界強度
の高い順に絶縁層を介して順次積層し、上記各蛍光体層
直上の絶縁層の上にその蛍光体層を発光させるパターン
に応じた背面電極を形成し、透明電極と各背面電極との
間に交番電圧を印加したとき、前記背面電極直下の蛍光
体層のみ発光するように構成したものである。
In the multicolor light emitting thin film EL element of the present invention, a phosphor layer exhibiting different light emission electric field strengths and EL light emission of different wavelengths is provided on a transparent electrode, and an insulating layer is formed in the order of high light emission electric field strength. The back electrodes corresponding to the pattern for causing the phosphor layers to emit light were formed on the insulating layer directly above the phosphor layers, and an alternating voltage was applied between the transparent electrode and each back electrode. At this time, only the phosphor layer directly below the back electrode is configured to emit light.

【0006】また、前記多色発光薄膜EL素子におい
て、前記各絶縁層の厚みおよび誘電率を適宜選定するこ
とにより同一電圧で各蛍光体層を発光させるようにした
ものである。
In the multicolor light emitting thin film EL element, each phosphor layer is caused to emit light at the same voltage by appropriately selecting the thickness and the dielectric constant of each insulating layer.

【0007】[0007]

【作用】この発明の多色発光薄膜EL素子によれば、各
色の蛍光体層はパネル全面に積層されており、パターン
形成のためにフォトリソグラフィやエッチングを用いる
必要がない。透明電極と背面電極の間には各色の蛍光体
層が発光電界強度の高い順に絶縁層を介して順次積層さ
れており、背面電極に最も近い蛍光体層が発光し、その
下の蛍光体層が発光しないような電圧を透明電極と背面
電極の間に印加して背面電極に最も近い蛍光体層をその
直上の背面電極と透明電極に挟まれた部分のパターンで
発光させることができる。また、各絶縁層の厚みおよび
誘電率を適宜選定することにより同一電圧で各蛍光体層
を発光させるようにすれば、薄膜EL素子駆動回路の出
力電圧が一定となり回路構成が簡単となる。
According to the multicolor light emitting thin film EL element of the present invention, the phosphor layers of each color are laminated on the entire surface of the panel, and it is not necessary to use photolithography or etching for pattern formation. Phosphor layers of each color are sequentially laminated between the transparent electrode and the back electrode through an insulating layer in the order of high emission electric field strength, and the phosphor layer closest to the back electrode emits light, and the phosphor layer below it. A voltage that does not emit light can be applied between the transparent electrode and the back electrode to cause the phosphor layer closest to the back electrode to emit light in the pattern between the back electrode and the transparent electrode immediately above it. Further, if each phosphor layer is made to emit light at the same voltage by appropriately selecting the thickness and dielectric constant of each insulating layer, the output voltage of the thin film EL element drive circuit becomes constant and the circuit configuration becomes simple.

【0008】[0008]

【実施例】この発明の実施例である多色発光薄膜EL素
子を図面に基づいて説明する。図1はこの発明の第1の
実施例を示す。図1(a)に示すように、ガラス基板の
上に酸化インジウム・錫膜等の透明電極1が積層されて
いる。その上に第1絶縁層2、第1の蛍光体層3、第2
絶縁層5、背面電極6、第2の蛍光体層4、第3絶縁層
7および背面電極8が順次積層されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A multicolor light emitting thin film EL element which is an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1A, a transparent electrode 1 such as an indium oxide / tin film is laminated on a glass substrate. On top of that, the first insulating layer 2, the first phosphor layer 3, and the second
The insulating layer 5, the back electrode 6, the second phosphor layer 4, the third insulating layer 7, and the back electrode 8 are sequentially stacked.

【0009】第1の蛍光体層3は硫化亜鉛中にフッ化サ
マリウムが分散された赤色発光蛍光体(ZnS:SmF
3 )により形成されている。第2の蛍光体層4は硫化亜
鉛中にフッ化テリビウムが分散された緑色発光蛍光体
(ZnS:TbF3 )により形成されている。図3に各
発光体とそれを挾む絶縁層の厚みを同じとした場合の印
加電圧と発光強度の関係を示している。図から明らかな
ように、第1の蛍光体層の発光電界強度の方が第2の蛍
光体層の発光電界強度より大きい。各絶縁層はSi
2 ,SiN4 ,Al2 3 ,Y2 2 等により形成さ
れている。
The first phosphor layer 3 is a red light emitting phosphor (ZnS: SmF) in which samarium fluoride is dispersed in zinc sulfide.
3 ). The second phosphor layer 4 is formed of a green light emitting phosphor (ZnS: TbF 3 ) in which terbium fluoride is dispersed in zinc sulfide. FIG. 3 shows the relationship between the applied voltage and the light emission intensity when the thickness of each light emitting body and the insulating layer sandwiching it are the same. As is clear from the figure, the emission field strength of the first phosphor layer is larger than that of the second phosphor layer. Each insulating layer is Si
It is formed of O 2 , SiN 4 , Al 2 O 3 , Y 2 O 2, or the like.

【0010】第1の蛍光体層3および第2の蛍光体層4
はパネル全面に成膜されているが、透明電極1、背面電
極6および背面電極8は図1(b)に示すパターンに形
成されている。透明電極1と背面電極6との間に交番電
圧を印加すると、これらの電極に挟まれた部分の第1の
蛍光体層3が発光する。透明電極1と背面電極8との間
に交番電圧を印加すると、これらの電極に挟まれた部分
の第2の蛍光体層4が発光する。この部分の第1の蛍光
体層3にも電界が印加されるが、その強度は必要な明る
さの発光に必要な強度に達せず第1の蛍光体層3は実質
的に発光しない。 各絶縁層の膜厚・誘電率を調整する
ことにより同一の電圧で第1の蛍光体層3および第2の
蛍光体層4を発光させることができる。
First phosphor layer 3 and second phosphor layer 4
Is formed on the entire surface of the panel, but the transparent electrode 1, the back electrode 6 and the back electrode 8 are formed in the pattern shown in FIG. 1 (b). When an alternating voltage is applied between the transparent electrode 1 and the back electrode 6, the portion of the first phosphor layer 3 sandwiched between these electrodes emits light. When an alternating voltage is applied between the transparent electrode 1 and the back electrode 8, the portion of the second phosphor layer 4 sandwiched between these electrodes emits light. An electric field is also applied to the first phosphor layer 3 in this portion, but the intensity thereof does not reach the intensity required for light emission of the required brightness, and the first phosphor layer 3 does not substantially emit light. By adjusting the film thickness and the dielectric constant of each insulating layer, the first phosphor layer 3 and the second phosphor layer 4 can emit light at the same voltage.

【0011】図2はこの発明の第2の実施例を示す。図
に示すように、ガラス基板の上に酸化インジウム・錫膜
等の透明電極1が積層されている。その上に第1絶縁層
2、第1の蛍光体層3、第2絶縁層5、背面電極6、第
2の蛍光体層4、第3絶縁層7、背面電極8、第3の蛍
光体層9、第4絶縁層10および背面電極11が順次積
層されている。第1および第2の蛍光体層は第1の実施
例と同様のものが用いられている。第3の蛍光体層7は
硫化亜鉛中にマンガンが分散された黄色発光蛍光体(Z
nS:Mn)により形成されている。図3から明らかな
ように、第2の蛍光体層の発光電界強度の方が第3の蛍
光体層の発光電界強度より大きい。
FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention. As shown in the figure, a transparent electrode 1 such as an indium oxide / tin film is laminated on a glass substrate. On top of that, the first insulating layer 2, the first phosphor layer 3, the second insulating layer 5, the back electrode 6, the second phosphor layer 4, the third insulating layer 7, the back electrode 8 and the third phosphor. The layer 9, the fourth insulating layer 10, and the back electrode 11 are sequentially stacked. The first and second phosphor layers are the same as those used in the first embodiment. The third phosphor layer 7 is a yellow light-emitting phosphor (Z, in which manganese is dispersed in zinc sulfide).
nS: Mn). As is clear from FIG. 3, the emission field strength of the second phosphor layer is larger than that of the third phosphor layer.

【0012】第1の蛍光体層3、第2の蛍光体層4およ
び第3の蛍光体層7はパネル全面に成膜されているが、
透明電極1、背面電極6、背面電極8および背面電極1
1は所望のパターンに形成されている。透明電極1と背
面電極6との間に交番電圧を印加すると、これらの電極
に挟まれた部分の第1の蛍光体層3が発光する。透明電
極1と背面電極8との間に交番電圧を印加すると、これ
らの電極に挟まれた部分の第2の蛍光体層4が発光す
る。この部分の第1の蛍光体層3にも電界が印加される
が、その強度は必要な明るさの発光に必要な強度に達せ
ず第1の蛍光体層3は実質的に発光しない。透明電極1
と背面電極11との間に交番電圧を印加すると、これら
の電極に挟まれた部分の第3の蛍光体層9のみが上記と
同様の理由により発光する。各絶縁層の膜厚・誘電率を
調整することにより同一の電圧で第1の蛍光体層3、第
2の蛍光体層4および第3の蛍光体層9を発光させるこ
とができる。
The first phosphor layer 3, the second phosphor layer 4, and the third phosphor layer 7 are formed on the entire surface of the panel.
Transparent electrode 1, back electrode 6, back electrode 8 and back electrode 1
1 is formed in a desired pattern. When an alternating voltage is applied between the transparent electrode 1 and the back electrode 6, the portion of the first phosphor layer 3 sandwiched between these electrodes emits light. When an alternating voltage is applied between the transparent electrode 1 and the back electrode 8, the portion of the second phosphor layer 4 sandwiched between these electrodes emits light. An electric field is also applied to the first phosphor layer 3 in this portion, but the intensity thereof does not reach the intensity required for light emission with the required brightness, and the first phosphor layer 3 does not substantially emit light. Transparent electrode 1
When an alternating voltage is applied between the back electrode 11 and the back electrode 11, only the portion of the third phosphor layer 9 sandwiched between these electrodes emits light for the same reason as above. By adjusting the film thickness and the dielectric constant of each insulating layer, the first phosphor layer 3, the second phosphor layer 4, and the third phosphor layer 9 can emit light at the same voltage.

【0013】[0013]

【発明の効果】この発明の多色発光薄膜EL素子によれ
ば、発光体層はスパッタリングや蒸着により形成するの
みでその後の加工を施すことなく多色発光の薄膜EL素
子を製造することが可能となる。従って、製造コストが
削減される。
According to the multicolor light emitting thin film EL element of the present invention, it is possible to manufacture a multicolor light emitting thin film EL element only by forming the light emitting layer by sputtering or vapor deposition and without performing subsequent processing. Becomes Therefore, the manufacturing cost is reduced.

【0014】また、蛍光体として硫化物を使用する場合
に、加水分解を生じ易いフォトリソグラフィ工程や洗浄
工程が蛍光体層に行われないので歩留まりよく多色発光
薄膜EL素子を製造でき、また、使用中に膜剥離による
発光停止も生じにくい。
Further, when a sulfide is used as the phosphor, a photolithography process or a washing process that easily causes hydrolysis is not performed on the phosphor layer, so that a multicolor light emitting thin film EL element can be manufactured with good yield, and Light emission is unlikely to stop due to film peeling during use.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1(a)はこの発明の第1の実施例である多
色発光薄膜EL素子の構造を示す断面図、図1(b)は
同多色発光薄膜EL素子の電極部分を示す平面図であ
る。
FIG. 1 (a) is a sectional view showing the structure of a multicolor light emitting thin film EL element according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1 (b) shows an electrode portion of the same multicolor light emitting thin film EL element. It is a top view shown.

【図2】この発明の第2の実施例である多色発光薄膜E
L素子の構造を示す断面図である。
FIG. 2 is a second embodiment of a multicolor light emitting thin film E of the present invention.
It is sectional drawing which shows the structure of L element.

【図3】この発明の実施例に用いた発光体の発光特性を
示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the light emission characteristics of the light emitting bodies used in the examples of the present invention.

【図4】従来の多色発光薄膜EL素子の構造の例を示す
断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the structure of a conventional multicolor light emitting thin film EL element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明電極 2 第1絶縁層 3 第1の蛍光体層 4 第2の蛍光体層 5 第2絶縁層 6 背面電極 7 第3絶縁層 8 背面電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 transparent electrode 2 1st insulating layer 3 1st fluorescent substance layer 4 2nd fluorescent substance layer 5 2nd insulating layer 6 back electrode 7 3rd insulating layer 8 back electrode

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年11月19日[Submission date] November 19, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Name of item to be amended] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】発明の詳細な説明[Name of item to be amended] Detailed explanation of the invention

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は交番電界印加によりE
L発光を呈する薄膜EL素子に係わり、特に、多色発光
薄膜EL素子の構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to E by applying an alternating electric field.
The present invention relates to a thin film EL element that emits L light, and particularly to the structure of a multicolor light emitting thin film EL element.

【0002】[0002]

【従来の技術】電界を印加すると物質が蛍光を発する現
象すなわちエレクトロルミネッセンス(EL)を利用し
たディスプレイに用いられる薄膜EL素子が知られてい
る。このような薄膜EL素子の2色発光のものの構造の
例を図4を参照して説明する。図に示すように、ガラス
基板の上に透明電極1を積層し、その上に第1絶縁層2
を積層し、その上に第1の蛍光体3と第2の蛍光体4と
を所望のパターンに形成し、その上に第2絶縁層5を積
層し、第2絶縁層5の上に背面電極6を第1の蛍光体3
および第2の蛍光体4を発光させるパターンに形成した
構造となっている。 上記第1の蛍光体3と第2の蛍光
体4とを所望のパターンに形成するには、例えば、絶縁
層2の上に第1の蛍光体を蒸着あるいはスパッタ等によ
り成膜し、その上にフォトレジストをコートし、フォト
リソグラフィによりレジストの所望のパターンを有する
マスクを形成する。その状態で第1の蛍光体をエッチン
グした後、第2の蛍光体を形成し、不要部分をレジスト
とともに除去する。
2. Description of the Related Art A thin film EL element used for a display utilizing a phenomenon in which a substance emits fluorescence when an electric field is applied, that is, electroluminescence (EL) is known. An example of the structure of such a thin film EL element that emits two colors will be described with reference to FIG. As shown in the figure, the transparent electrode 1 is laminated on the glass substrate, and the first insulating layer 2 is formed thereon.
, A first phosphor 3 and a second phosphor 4 are formed in a desired pattern thereon, a second insulating layer 5 is laminated thereon, and a back surface is formed on the second insulating layer 5. The electrode 6 is used as the first phosphor 3
The second phosphor 4 has a structure in which it is made to emit light. In order to form the first phosphor 3 and the second phosphor 4 in a desired pattern, for example, the first phosphor is formed on the insulating layer 2 by vapor deposition, sputtering, or the like, and is formed thereon. A photoresist is coated on the substrate and a mask having a desired pattern of the resist is formed by photolithography. In that state, after etching the first phosphor, a second phosphor is formed, and unnecessary portions are removed together with the resist.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする問題点】上記した従来のもの
においては、蛍光体層上でフォトリソグラフィ工程を行
いまた蛍光体のエッチングを行う。薄膜EL素子の蛍光
体としてZnS系、CaS系等の加水分解され易い材料
が使用されており、製造工程中に膜剥離を生じたり、ま
た、蛍光体内に微量の水分が含まれていても発光時の高
電界により蛍光体層が電気分解され、ガスの発生で膜が
剥離して発光停止となる恐れがあった。
In the conventional device described above, the photolithography process is performed on the phosphor layer and the phosphor is etched. ZnS-based, CaS-based and other easily hydrolyzed materials are used as the phosphor of the thin film EL element, and film peeling occurs during the manufacturing process, and the phosphor emits light even if a small amount of water is contained. At this time, the high electric field electrolyzes the phosphor layer, and gas generation may cause the film to peel off and stop the light emission.

【0004】この発明は上記した点に鑑みてなされたも
のであって、その目的とするところは、蛍光体層の形成
にフォトリソグラフィやエッチングを用いることのない
多色発光薄膜EL素子の構造を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide a structure of a multicolor light emitting thin film EL element which does not use photolithography or etching for forming a phosphor layer. To provide.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明の多色発光薄膜
EL素子は、透明電極の上に異なる発光電界強度および
異なる波長のEL発光を呈する蛍光体層を発光電界強度
の高い順に絶縁層を介して順次積層し、上記各蛍光体層
直上の絶縁層の上にその蛍光体層を発光させるパターン
に応じた背面電極を形成し、透明電極と各背面電極との
間に交番電圧を印加したとき、前記背面電極直下の蛍光
体層のみ発光するように構成したものである。
In the multicolor light emitting thin film EL element of the present invention, a phosphor layer exhibiting different light emission electric field strengths and EL light emission of different wavelengths is provided on a transparent electrode, and an insulating layer is formed in the order of high light emission electric field strength. The back electrodes corresponding to the pattern for causing the phosphor layers to emit light were formed on the insulating layer directly above the phosphor layers, and an alternating voltage was applied between the transparent electrode and each back electrode. At this time, only the phosphor layer directly below the back electrode is configured to emit light.

【0006】また、前記多色発光薄膜EL素子におい
て、前記各絶縁層の厚みおよび誘電率を適宜選定するこ
とにより同一電圧で各蛍光体層を発光させるようにした
ものである。
In the multicolor light emitting thin film EL element, each phosphor layer is caused to emit light at the same voltage by appropriately selecting the thickness and the dielectric constant of each insulating layer.

【0007】[0007]

【作用】この発明の多色発光薄膜EL素子によれば、各
色の蛍光体層はパネル全面に積層されており、パターン
形成のためにフォトリソグラフィやエッチングを用いる
必要がない。透明電極と背面電極の間には各色の蛍光体
層が発光電界強度の高い順に絶縁層を介して順次積層さ
れており、背面電極に最も近い蛍光体層が発光し、その
下の蛍光体層が発光しないような電圧を透明電極と背面
電極の間に印加して背面電極に最も近い蛍光体層をその
直上の背面電極と透明電極に挟まれた部分のパターンで
発光させることができる。また、各絶縁層の厚みおよび
誘電率を適宜選定することにより同一電圧で各蛍光体層
を発光させるようにすれば、薄膜EL素子駆動回路の出
力電圧が一定となり回路構成が簡単となる。
According to the multicolor light emitting thin film EL element of the present invention, the phosphor layers of each color are laminated on the entire surface of the panel, and it is not necessary to use photolithography or etching for pattern formation. Phosphor layers of each color are sequentially laminated between the transparent electrode and the back electrode through an insulating layer in the order of high emission electric field strength, and the phosphor layer closest to the back electrode emits light, and the phosphor layer below it. A voltage that does not emit light can be applied between the transparent electrode and the back electrode to cause the phosphor layer closest to the back electrode to emit light in the pattern between the back electrode and the transparent electrode immediately above it. Further, if each phosphor layer is made to emit light at the same voltage by appropriately selecting the thickness and dielectric constant of each insulating layer, the output voltage of the thin film EL element drive circuit becomes constant and the circuit configuration becomes simple.

【0008】[0008]

【実施例】この発明の実施例である多色発光薄膜EL素
子を図面に基づいて説明する。図1はこの発明の第1の
実施例を示す。図1(a)に示すように、ガラス基板の
上に酸化インジウム・錫膜等の透明電極1が積層されて
いる。その上に第1絶縁層2、第1の蛍光体層3、第2
絶縁層5、背面電極6、第2の蛍光体層4、第3絶縁層
7および背面電極8が順次積層されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A multicolor light emitting thin film EL element which is an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1A, a transparent electrode 1 such as an indium oxide / tin film is laminated on a glass substrate. On top of that, the first insulating layer 2, the first phosphor layer 3, and the second
The insulating layer 5, the back electrode 6, the second phosphor layer 4, the third insulating layer 7, and the back electrode 8 are sequentially stacked.

【0009】第1の蛍光体層3は硫化亜鉛中にフッ化サ
マリウムが分散された赤色発光蛍光体(ZnS:SmF
3 )により形成されている。第2の蛍光体層4は硫化亜
鉛中にフッ化テリビウムが分散された緑色発光蛍光体
(ZnS:TbF3 )により形成されている。図3に各
発光体とそれを挾む絶縁層の厚みを同じとした場合の印
加電圧と発光強度の関係を示している。図から明らかな
ように、第1の蛍光体層の発光電界強度の方が第2の蛍
光体層の発光電界強度より大きい。各絶縁層はSi
2 ,SiN4 ,Al2 3 ,Y2 2 等により形成さ
れている。
The first phosphor layer 3 is a red light emitting phosphor (ZnS: SmF) in which samarium fluoride is dispersed in zinc sulfide.
3 ). The second phosphor layer 4 is formed of a green light emitting phosphor (ZnS: TbF 3 ) in which terbium fluoride is dispersed in zinc sulfide. FIG. 3 shows the relationship between the applied voltage and the light emission intensity when the thickness of each light emitting body and the insulating layer sandwiching it are the same. As is clear from the figure, the emission field strength of the first phosphor layer is larger than that of the second phosphor layer. Each insulating layer is Si
It is formed of O 2 , SiN 4 , Al 2 O 3 , Y 2 O 2, or the like.

【0010】第1の蛍光体層3および第2の蛍光体層4
はパネル全面に成膜されているが、透明電極1、背面電
極6および背面電極8は図1(b)に示すパターンに形
成されている。透明電極1と背面電極6との間に交番電
圧を印加すると、これらの電極に挟まれた部分の第1の
蛍光体層3が発光する。透明電極1と背面電極8との間
に交番電圧を印加すると、これらの電極に挟まれた部分
の第2の蛍光体層4が発光する。この部分の第1の蛍光
体層3にも電界が印加されるが、その強度は必要な明る
さの発光に必要な強度に達せず第1の蛍光体層3は実質
的に発光しない。 各絶縁層の膜厚・誘電率を調整する
ことにより同一の電圧で第1の蛍光体層3および第2の
蛍光体層4を発光させることができる。
First phosphor layer 3 and second phosphor layer 4
Is formed on the entire surface of the panel, but the transparent electrode 1, the back electrode 6 and the back electrode 8 are formed in the pattern shown in FIG. 1 (b). When an alternating voltage is applied between the transparent electrode 1 and the back electrode 6, the portion of the first phosphor layer 3 sandwiched between these electrodes emits light. When an alternating voltage is applied between the transparent electrode 1 and the back electrode 8, the portion of the second phosphor layer 4 sandwiched between these electrodes emits light. An electric field is also applied to the first phosphor layer 3 in this portion, but the intensity thereof does not reach the intensity required for light emission of the required brightness, and the first phosphor layer 3 does not substantially emit light. By adjusting the film thickness and the dielectric constant of each insulating layer, the first phosphor layer 3 and the second phosphor layer 4 can emit light at the same voltage.

【0011】図2はこの発明の第2の実施例を示す。図
に示すように、ガラス基板の上に酸化インジウム・錫膜
等の透明電極1が積層されている。その上に第1絶縁層
2、第1の蛍光体層3、第2絶縁層5、背面電極6、第
2の蛍光体層4、第3絶縁層7、背面電極8、第3の蛍
光体層9、第4絶縁層10および背面電極11が順次積
層されている。第1および第2の蛍光体層は第1の実施
例と同様のものが用いられている。第3の蛍光体層7は
硫化亜鉛中にマンガンが分散された黄色発光蛍光体(Z
nS:Mn)により形成されている。図3から明らかな
ように、第2の蛍光体層の発光電界強度の方が第3の蛍
光体層の発光電界強度より大きい。
FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention. As shown in the figure, a transparent electrode 1 such as an indium oxide / tin film is laminated on a glass substrate. On top of that, the first insulating layer 2, the first phosphor layer 3, the second insulating layer 5, the back electrode 6, the second phosphor layer 4, the third insulating layer 7, the back electrode 8 and the third phosphor. The layer 9, the fourth insulating layer 10, and the back electrode 11 are sequentially stacked. The first and second phosphor layers are the same as those used in the first embodiment. The third phosphor layer 7 is a yellow light-emitting phosphor (Z, in which manganese is dispersed in zinc sulfide).
nS: Mn). As is clear from FIG. 3, the emission field strength of the second phosphor layer is larger than that of the third phosphor layer.

【0012】第1の蛍光体層3、第2の蛍光体層4およ
び第3の蛍光体層7はパネル全面に成膜されているが、
透明電極1、背面電極6、背面電極8および背面電極1
1は所望のパターンに形成されている。透明電極1と背
面電極6との間に交番電圧を印加すると、これらの電極
に挟まれた部分の第1の蛍光体層3が発光する。透明電
極1と背面電極8との間に交番電圧を印加すると、これ
らの電極に挟まれた部分の第2の蛍光体層4が発光す
る。この部分の第1の蛍光体層3にも電界が印加される
が、その強度は必要な明るさの発光に必要な強度に達せ
ず第1の蛍光体層3は実質的に発光しない。透明電極1
と背面電極11との間に交番電圧を印加すると、これら
の電極に挟まれた部分の第3の蛍光体層9のみが上記と
同様の理由により発光する。各絶縁層の膜厚・誘電率を
調整することにより同一の電圧で第1の蛍光体層3、第
2の蛍光体層4および第3の蛍光体層9を発光させるこ
とができる。
The first phosphor layer 3, the second phosphor layer 4, and the third phosphor layer 7 are formed on the entire surface of the panel.
Transparent electrode 1, back electrode 6, back electrode 8 and back electrode 1
1 is formed in a desired pattern. When an alternating voltage is applied between the transparent electrode 1 and the back electrode 6, the portion of the first phosphor layer 3 sandwiched between these electrodes emits light. When an alternating voltage is applied between the transparent electrode 1 and the back electrode 8, the portion of the second phosphor layer 4 sandwiched between these electrodes emits light. An electric field is also applied to the first phosphor layer 3 in this portion, but the intensity thereof does not reach the intensity required for light emission with the required brightness, and the first phosphor layer 3 does not substantially emit light. Transparent electrode 1
When an alternating voltage is applied between the back electrode 11 and the back electrode 11, only the portion of the third phosphor layer 9 sandwiched between these electrodes emits light for the same reason as above. By adjusting the film thickness and the dielectric constant of each insulating layer, the first phosphor layer 3, the second phosphor layer 4, and the third phosphor layer 9 can emit light at the same voltage.

【0013】[0013]

【発明の効果】この発明の多色発光薄膜EL素子によれ
ば、発光体層はスパッタリングや蒸着により形成するの
みでその後の加工を施すことなく多色発光の薄膜EL素
子を製造することが可能となる。従って、製造コストが
削減される。
According to the multicolor light emitting thin film EL element of the present invention, it is possible to manufacture a multicolor light emitting thin film EL element only by forming the light emitting layer by sputtering or vapor deposition and without performing subsequent processing. Becomes Therefore, the manufacturing cost is reduced.

【0014】また、蛍光体として硫化物を使用する場合
に、加水分解を生じ易いフォトリソグラフィ工程や洗浄
工程が蛍光体層に行われないので歩留まりよく多色発光
薄膜EL素子を製造でき、また、使用中に膜剥離による
発光停止も生じにくい。
Further, when a sulfide is used as the phosphor, a photolithography process or a washing process that easily causes hydrolysis is not performed on the phosphor layer, so that a multicolor light emitting thin film EL element can be manufactured with good yield, and Light emission is unlikely to stop due to film peeling during use.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 南雲 博規 東京都渋谷区渋谷2丁目17番5号株式会社 ケンウツド内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hironori Nagumo 2-17-5 Shibuya, Shibuya-ku, Tokyo Ken-Uddo Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明電極の上に異なる発光電界強度およ
び異なる波長のEL発光を呈する蛍光体層を発光電界強
度の高い順に絶縁層を介して順次積層し、上記各蛍光体
層直上の絶縁層の上にその蛍光体層を発光させるパター
ンに応じた背面電極を形成し、透明電極と各背面電極と
の間に交番電圧を印加したとき、前記背面電極直下の蛍
光体層のみ発光するように構成した多色発光薄膜EL素
子。
1. Phosphor layers exhibiting different emission field strengths and EL emissions of different wavelengths are sequentially laminated on a transparent electrode through an insulating layer in the order of higher emission field strengths, and the insulating layers directly above each phosphor layer. A back electrode corresponding to the pattern for causing the phosphor layer to emit light is formed on top of the phosphor layer, and when an alternating voltage is applied between the transparent electrode and each back electrode, only the phosphor layer directly below the back electrode emits light. A multicolor light emitting thin film EL device constructed.
【請求項2】 前記各絶縁層の厚みおよび誘電率を適宜
選定することにより同一電圧で各蛍光体層を発光させる
ようにした請求項1の多色発光薄膜EL素子。
2. The multicolor light emitting thin film EL element according to claim 1, wherein each phosphor layer is caused to emit light at the same voltage by appropriately selecting the thickness and dielectric constant of each insulating layer.
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