JPH05135405A - Ultraviolet curing type resin composition for optical disk - Google Patents
Ultraviolet curing type resin composition for optical diskInfo
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- JPH05135405A JPH05135405A JP3297204A JP29720491A JPH05135405A JP H05135405 A JPH05135405 A JP H05135405A JP 3297204 A JP3297204 A JP 3297204A JP 29720491 A JP29720491 A JP 29720491A JP H05135405 A JPH05135405 A JP H05135405A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光により記録、再生、
消去が可能な光ディスク基板に関し、更に詳しくは、特
定の組成を有する紫外線硬化型樹脂を使用した光ディス
ク用紫外線硬化型樹脂組成物に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to recording / reproducing,
The present invention relates to an erasable optical disc substrate, and more particularly, to an ultraviolet curable resin composition for an optical disc, which uses an ultraviolet curable resin having a specific composition.
【0002】[0002]
【従来の技術】光学的記録媒体の表面にはレーザービー
ムをガイドする目的で案内溝が形成されている。この案
内溝を形成する方法として従来より二つの方法が知られ
ている。2. Description of the Related Art Guide grooves are formed on the surface of an optical recording medium for the purpose of guiding a laser beam. Conventionally, two methods are known as methods for forming the guide groove.
【0003】一つの方法は、ポリカーボネート(PC)
やポリメタクリレート(PMMA)等の熱可塑性樹脂と
案内溝の凹凸が設けられた金型を用いて射出成形し、基
板形成と、案内溝の転写を一度に行なう方法である。One method is polycarbonate (PC)
This is a method of performing injection molding using a thermoplastic resin such as polymethacrylate (PMMA) and a mold provided with unevenness of the guide groove, and forming the substrate and transferring the guide groove at once.
【0004】もう一つの方法は、案内溝の凹凸が設けら
れた金型上に紫外線硬化型樹脂を塗布し、更にその上に
ガラス基板をのせ、樹脂を基板で押し広げ、紫外線を照
射し樹脂を硬化させ、金型から剥離させることにより、
基板上に案内溝を形成する方法、いわゆる2P(Pho
to Polymerization)法である。Another method is to apply a UV-curable resin on a mold having guide groove irregularities, place a glass substrate on it, spread the resin with the substrate, and irradiate the resin with UV rays. By curing and peeling from the mold,
A method of forming a guide groove on a substrate, a so-called 2P (Pho
to Polymerization) method.
【0005】前者の方法は、量産性に優れており、低コ
ストであるという利点がある反面、案内溝形状の転写性
が悪い。また、ポリカーボネート(PC)やポリメタク
リレート(PMMA)等の熱可塑性樹脂を用いているこ
とから、複屈折が大きい。また、熱、水分による変形が
大きく起こる。更には、プラスチック基板は通気性を有
する為に、成形基板に記録膜を形成した場合に、高温高
湿下において水分や酸素等によって記録層が腐食され、
経時的に記録特性の劣化が起こるという欠点もあり、光
ディスク基板として長期高信頼性に欠ける。The former method has the advantages of excellent mass productivity and low cost, but has poor transferability of the guide groove shape. Further, since a thermoplastic resin such as polycarbonate (PC) or polymethacrylate (PMMA) is used, the birefringence is large. In addition, deformation due to heat and moisture occurs greatly. Furthermore, since the plastic substrate has air permeability, when the recording film is formed on the molded substrate, the recording layer is corroded by moisture or oxygen under high temperature and high humidity,
It also has a drawback that the recording characteristics are deteriorated with time, and thus lacks long-term reliability as an optical disk substrate.
【0006】一方、後者の方法は、案内溝形状の転写性
に優れ、ガラスを使用できることから複屈折がなく、
熱、水分等による変形や劣化のない光ディスク基板が製
造できる。On the other hand, the latter method has excellent transferability of the shape of the guide groove, and since glass can be used, there is no birefringence,
It is possible to manufacture an optical disk substrate that is not deformed or deteriorated by heat, moisture, and the like.
【0007】一般的に、2P法に用いる紫外線硬化型樹
脂は、(a)光ラジカル重合可能なプレポリマー、モノ
マー及び光ラジカル重合開始剤を主成分とする光ラジカ
ル重合組成物、(b)光カチオン重合可能なプレポリマ
ー、モノマー及び光カチオン重合開始剤を主成分とする
光カチオン重合組成物、(c)光ラジカル重合組成物、
及び光カチオン重合組成物を混合した組成物等の紫外光
により硬化する組成物等が挙げられる。Generally, the UV curable resin used in the 2P method is (a) a photoradical polymerizable composition containing a photoradical polymerizable prepolymer, a monomer and a photoradical polymerization initiator as main components, and (b) a photoradical. A cationically polymerizable prepolymer, a cationic photopolymerization composition containing a monomer and a cationic photopolymerization initiator as main components, (c) a radical photopolymerization composition,
And a composition that is cured by ultraviolet light, such as a composition obtained by mixing a cationic photopolymerization composition.
【0008】また、光ディスクは長期高信頼性が要求さ
れるため、紫外線硬化型樹脂組成物を案内溝形成の材料
として用いた際に要求される特性として、成形性が良好
であることや、案内溝の転写精度を良くするために、紫
外線硬化後の金型との剥離性が良好であること、また高
温高湿下において経時的に支持体との密着性や透明性が
劣化しないこと、しわやクラックも発生しないことが要
求される。Further, since the optical disk is required to have high reliability for a long time, the moldability is good and the guide characteristics are required when the ultraviolet curable resin composition is used as a material for forming the guide groove. In order to improve the transfer accuracy of the groove, the releasability from the mold after UV curing should be good, and the adhesiveness and transparency to the support should not deteriorate over time under high temperature and high humidity. It is required that neither cracks nor cracks occur.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】従来より2P法に使用
されている紫外線硬化型樹脂組成物として、例えば、特
開昭63−210118公報、特開平2−118930
公報には、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、低分子量の多官能アクリレートの混合物等が用いら
れている。As an ultraviolet curable resin composition conventionally used in the 2P method, for example, JP-A-63-210118 and JP-A-2-118930 are available.
In the publication, a mixture of urethane acrylate, epoxy acrylate, low molecular weight polyfunctional acrylate and the like are used.
【0010】しかしながら、これらの材料は、(1)成
形基板にスパッタ法等で記録膜を成膜する際に、スパッ
タ熱(50〜60℃)によって基板上に形成された紫外
線硬化型樹脂層にしわが発生する、(2)成形基板を成
膜後、高温高湿下(80℃、85%RH)に100時間
放置すると紫外線硬化樹脂層のしわの成長、並びにクラ
ックの発生が顕著に見られる等の問題点を有するため
に、高信頼性を持つ光ディスク用基板を提供できなかっ
た。However, these materials are (1) an ultraviolet curable resin layer formed on a substrate by sputtering heat (50 to 60 ° C.) when a recording film is formed on the molded substrate by a sputtering method or the like. Wrinkles are generated. (2) When the molded substrate is formed and left under high temperature and high humidity (80 ° C., 85% RH) for 100 hours, wrinkle growth of the UV curable resin layer and generation of cracks are noticeable. Due to the above problem, a highly reliable optical disk substrate cannot be provided.
【0011】本発明が解決しようとする課題は、紫外線
硬化型樹脂組成物を2P法に用いた際に要求される特性
で、高温高湿下においてしわ、クラック等外観の異常が
経時的に発生しないことを特徴とする光ディスク基板を
提供することにある。The problem to be solved by the present invention is the characteristics required when the UV curable resin composition is used in the 2P method, and abnormalities in appearance such as wrinkles and cracks occur over time under high temperature and high humidity. It is to provide an optical disk substrate characterized by not doing.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、(1)ウレタンアクリレート、(2)単独
重合時のガラス転移温度(Tg)が150〜180℃の
範囲にある単官能ビニル化合物、(3)多官能(メタ)
アクリレート及び(4)光重合開始剤を含有することを
特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を提供
する。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is directed to (1) urethane acrylate, (2) monofunctional glass transition temperature (Tg) during homopolymerization in the range of 150 to 180 ° C. Vinyl compounds, (3) polyfunctional (meta)
Provided is an ultraviolet-curable resin composition for an optical disk, which contains an acrylate and (4) a photopolymerization initiator.
【0013】本発明で使用するウレタンアクリレート
は、水酸基を有するビニル化合物とイソシアネート化合
物を公知の方法により反応させたものが使用できる。The urethane acrylate used in the present invention may be one obtained by reacting a vinyl compound having a hydroxyl group with an isocyanate compound by a known method.
【0014】水酸基を有するビニル化合物としては、例
えば、ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレ
ート、フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート、ブ
トキシヒドロキシプロピルアクリレート、ペンタエリス
リトールアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒ
ドロキシペンタアクリレート、トリメチロールプロパン
ジアクリレート、ジプロピレングリコールモノアクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールモノアクリレート、グ
リセリンジアクリレート、カプロラクトン変性2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエ
リスリトールジアクリレート、ポリエチレングリコール
モノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアク
リルート、ポリテトラメチレングリコールモノアクリレ
ート、プロピレンオキサイドとエチレンオキサイドの共
重合体のモノアクリルート、テトラヒドロフランとプロ
ピレンオキサイドの共重合体のモノアクリレート、テト
ラヒドロフランとエチレンオキサイドの共重合体のモノ
アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド
付加体のモノアクリレート及びビスフェノールAのプロ
ピレンオキサイド付加体のモノアクリレート等が挙げら
れる。As the vinyl compound having a hydroxyl group, for example, hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, phenoxyhydroxypropyl acrylate, butoxyhydroxypropyl acrylate, pentaerythritol acrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate. , Trimethylolpropane diacrylate, dipropylene glycol monoacrylate, 1,6-hexanediol monoacrylate, glycerin diacrylate, caprolactone modified 2-hydroxyethyl acrylate, stearic acid modified pentaerythritol diacrylate, polyethylene glycol monoacrylate, polypropylene glycol mono Acrylate, Polite Ramethylene glycol monoacrylate, monoacrylate of copolymer of propylene oxide and ethylene oxide, monoacrylate of copolymer of tetrahydrofuran and propylene oxide, monoacrylate of copolymer of tetrahydrofuran and ethylene oxide, ethylene oxide addition of bisphenol A And monoacrylate of propylene oxide adduct of bisphenol A and the like.
【0015】これらの水酸基を有するビニル化合物は、
単独で用いても良いし、二種類以上を組み合わせても良
い。Vinyl compounds having these hydroxyl groups are
They may be used alone or in combination of two or more.
【0016】イソシアネート化合物としては、例えば、
トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシ
アネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレン
ジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシア
ネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、
1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソ
シアネート、p−フェニレンジイソシアネート及びリジ
ンジイソシアネート等が挙げられる。Examples of the isocyanate compound include:
Tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate,
1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, lysine diisocyanate and the like can be mentioned.
【0017】これらのイソシアネート化合物は、単独で
用いても良いし、二種類以上を組み合わせて用いてもよ
い。These isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.
【0018】これらの水酸基を有するビニル化合物とイ
ソシアネート化合物から成るウレタンアクリレートの中
でも、2−ヒドロキシプロピルアクリレート(HPA)
及びヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)から成
るウレタンアクリレートが特に好ましい。Among the urethane acrylates composed of these vinyl compounds having hydroxyl groups and isocyanate compounds, 2-hydroxypropyl acrylate (HPA)
And urethane acrylates consisting of hexamethylene diisocyanate (HDI) are particularly preferred.
【0019】本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組
成物中のウレタンアクリレートの使用割合は、25〜3
5重量%の範囲が好ましい。The proportion of urethane acrylate used in the ultraviolet-curable resin composition for optical disks of the present invention is 25-3.
A range of 5% by weight is preferred.
【0020】本発明で使用する単独重合時のガラス転移
温度(Tg)が150〜180℃の範囲にある単官能ビ
ニル化合物としては、特に制限がなく、例えば、N−ビ
ニル−2−ピロリドン、イソボルニルメタクリレートな
どが挙げられる。The monofunctional vinyl compound used in the present invention having a glass transition temperature (Tg) during homopolymerization in the range of 150 to 180 ° C. is not particularly limited, and examples thereof include N-vinyl-2-pyrrolidone and iso Examples include bornyl methacrylate.
【0021】本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組
成物中の単独重合時のガラス転移温度(Tg)が150
〜180℃の範囲にある単官能ビニル化合物の使用割合
は、15〜40重量%の範囲が好ましい。The glass transition temperature (Tg) during homopolymerization in the ultraviolet-curable resin composition for optical disks of the present invention is 150.
The proportion of the monofunctional vinyl compound used in the range of ˜180 ° C. is preferably in the range of 15 to 40% by weight.
【0022】本発明で使用する多官能(メタ)アクリレ
ートとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチ
レングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、1,3−ブチレングリコール、テトラメ
チレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、トリメチロールプロパン、グリセリ
ン及びペンタエリスリトール等のポリ(メタ)アクリレ
ート;トリメチロールプロパン1モルに、3モル以上の
エチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付
加して得たトリオールのジ又はトリ(メタ)アクリレー
ト;ネオペンチルグリコール1モルに2モル以上のエチ
レンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加し
て得たジオールのジ(メタ)アクリレート;ジペンタエ
リスリトールのポリ(メタ)アクリレート、トリス−
(ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸のポリ(メタ)
アクリレート、ジ−(ヒドロキシエチル)−ジシクロペ
ンタジエンのジ(メタ)アクリレート、ピバリン酸ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、カプロラ
クトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート、直鎖脂肪族ジ(メタ)アク
リレート、ポリオレフィン変性ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。As the polyfunctional (meth) acrylate used in the present invention, for example, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, Poly (meth) acrylates such as trimethylolpropane, glycerin and pentaerythritol; Di- or tri (meth) acrylate of triol obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of trimethylolpropane; neopentyl Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 moles or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mole of glycol; dipentaerythritol (Meth) acrylate, tris -
Poly (meth) of (hydroxyethyl) -isocyanuric acid
Acrylate, di (meth) acrylate of di- (hydroxyethyl) -dicyclopentadiene, neopentyl glycol di (meth) acrylate pivalate, caprolactone-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, linear aliphatic di ( Examples thereof include (meth) acrylate and polyolefin-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate.
【0023】これらの多官能(メタ)アクリレートの中
でも、塗膜強度及び密着性の面から、2官能アクリレー
トが好ましい。3官能以上の(メタ)アクリレートを使
用すると、得られた塗膜が硬くなり、脆くなる傾向にあ
るので好ましくない。Among these polyfunctional (meth) acrylates, bifunctional acrylates are preferable from the viewpoint of coating strength and adhesion. The use of a trifunctional or higher functional (meth) acrylate is not preferable because the coating film obtained tends to become hard and brittle.
【0024】多官能(メタ)アクリレートは、単独で用
いても良いし、二種類以上組合せて用いても良い。The polyfunctional (meth) acrylate may be used alone or in combination of two or more kinds.
【0025】本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組
成物中の多官能アクリレートの使用割合は、25〜60
重量%の範囲が好ましい。The proportion of the polyfunctional acrylate used in the ultraviolet-curable resin composition for optical disks of the present invention is 25-60.
A weight% range is preferred.
【0026】本発明で使用する光重合開始剤としては、
例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
ロパン−1−オン(メルク社製「ダロキュア117
3」)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
(チバ・ガイギー社製「イルガキュア184」)、1−
(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン(メルク社製「ダロキュア1
116」)、ベンジルジメチルケタール(チバ・ガイギ
ー社製「イルガキュア651」)、2−メチル−1−
〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロ
パノン−1(チバ・ガイギー社製「イルガキュア90
7」)、2,4 −ジエチルチオキサントン(日本化薬
社製「カヤキュアDETX」)とp−ジメチルアミノ安
息香酸エチル(日本化薬社製「カヤキュア−EPA」)
との混合物、イソプロピルチオキサントン(ワードプレ
キンソップ社製「カンタキュアITX」)とp−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチルとの混合物等が挙げられる。The photopolymerization initiator used in the present invention includes:
For example, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (“Darocur 117 manufactured by Merck & Co., Inc.
3 "), 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (" Irgacure 184 "manufactured by Ciba-Geigy), 1-
(4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-
Methylpropan-1-one (Merck & Co. "Darocur 1
116 "), benzyl dimethyl ketal (" Irgacure 651 "manufactured by Ciba-Geigy), 2-methyl-1-
[4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (“Irgacure 90 manufactured by Ciba Geigy”)
7 ”), 2,4-diethylthioxanthone (“ Kayacure DETX ”manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and ethyl p-dimethylaminobenzoate (“ Kayacure-EPA ”manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
And a mixture of isopropyl thioxanthone (“CANTACURE ITX” manufactured by Ward Prekinsop Co.) and ethyl p-dimethylaminobenzoate.
【0027】これらの光重合開始剤は単独で用いても良
いし、二種類以上組合せて用いても良い。These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more kinds.
【0028】本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組
成物中の光重合開始剤の使用割合は、1〜5重量%の範
囲が好ましい。The proportion of the photopolymerization initiator used in the ultraviolet-curable resin composition for optical disks of the present invention is preferably in the range of 1 to 5% by weight.
【0029】単独重合におけるガラス転移温度が150
〜180℃の範囲にある単官能ビニル化合物を、ウレタ
ンアクリレートと混合して成る紫外線硬化型樹脂組成物
を案内溝形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として用いた
場合、耐熱性の向上が計られ、単官能アクリレートであ
ることから樹脂が硬すぎず、成形を行なう際にスタンパ
から剥離し易い硬さになり、離形時に無理な力がかから
ないので転写した案内溝の形状欠陥を少なくすることが
できる。また、本発明の紫外線硬化型樹脂組成物を用い
た基板は、高温高湿下に長時間放置してもしわ、クラッ
ク等表面変化が起こらなく、記録膜層を侵すことなく、
高密着性を保持できる。The glass transition temperature in homopolymerization is 150.
When a UV-curable resin composition obtained by mixing a monofunctional vinyl compound in the range of 180 ° C. to 180 ° C. with urethane acrylate is used as the UV-curable resin composition for forming guide grooves, heat resistance is improved. Since it is a monofunctional acrylate, the resin will not be too hard and will be easily peeled off from the stamper during molding, and no unreasonable force will be applied during mold release, so it is possible to reduce the shape defects of the transferred guide groove. it can. Further, the substrate using the ultraviolet curable resin composition of the present invention, wrinkles even when left under high temperature and high humidity for a long time, surface changes such as cracks do not occur, without damaging the recording film layer,
Can maintain high adhesion.
【0030】[0030]
【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples.
【0031】(実施例1) (A)2−ヒドロキシプロピルアクリレート(HPA)及びヘキサメチレンジ イソシアネート(HDI)から成るウレタンアクリレート 30重量部 (B)N−ビニル−2−ピロリドン (東亜合成化学工業社製:商品名「M−150」) 37重量部 ネオペンチルグリコールジアクリレート (日本化薬社製:商品名「NPGDA」) 30重量部 (C)光重合開始剤 (日本チバガイギー社製:商品名「イルガキュア184」)3重量部 上記(A)、(B)及び(C)を混合して紫外線硬化型
樹脂組成物を得た。(Example 1) (A) Urethane acrylate composed of 2-hydroxypropyl acrylate (HPA) and hexamethylene diisocyanate (HDI) 30 parts by weight (B) N-vinyl-2-pyrrolidone (Toa Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.) Made: trade name "M-150") 37 parts by weight neopentyl glycol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name "NPGDA") 30 parts by weight (C) Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba-Geigy Japan: trade name " Irgacure 184 ") 3 parts by weight The above (A), (B) and (C) were mixed to obtain an ultraviolet curable resin composition.
【0032】得られた紫外線硬化型樹脂組成物を、2P
成形機(大日本インキ化学工業社製)を用いてスタンパ
上に塗布し、プライマー処理されたガラス基板で樹脂を
押し広げ、窒素中で紫外線を照射し、硬化させた。その
後、スタンパから案内溝が形成された基板を剥離し、光
ディスク用基板を得た。The obtained UV-curable resin composition was treated with 2P.
It was applied on a stamper using a molding machine (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), the resin was spread by a glass substrate that had been treated with a primer, and the resin was cured by irradiation with ultraviolet rays in nitrogen. After that, the substrate on which the guide groove was formed was peeled from the stamper to obtain an optical disc substrate.
【0033】得られた基板に、スパッタ法によってSi
N膜1,000オングストローム、TbFeCo膜30
0オングストローム、SiN膜300オングストローム
及びAl膜500オングストロームの4層膜から成る記
録膜を成膜し、スパッタ直後の樹脂硬化物層の顕微鏡観
察を行った結果、しわ、クラック等の発生は見られなか
った。また、高温高湿中(80℃、85%RH)に1,
000時間放置した後、顕微鏡観察を行った結果、し
わ、クラック等の発生が見られず、記録膜への影響は見
られなかった。Si is sputtered on the obtained substrate.
N film 1,000 angstrom, TbFeCo film 30
A recording film consisting of a four-layer film of 0 Å, SiN film 300 Å and Al film 500 Å was formed, and as a result of microscopic observation of the cured resin layer immediately after sputtering, no wrinkles, cracks, etc. were found. It was Also, in high temperature and high humidity (80 ° C, 85% RH)
After leaving it to stand for 000 hours, it was observed with a microscope that no wrinkles, cracks or the like were observed and no influence on the recording film was observed.
【0034】(実施例2) (A)2−ヒドロキシプロピルアクリレート(HPA)及びヘキサメチレンジ イソシアネート(HDI)から成るウレタンアクリレート 30重量部 (B)イソボルニルメタクリレート (SARTOMER社製:商品名「SR−423」) 30重量部 ネオペンチルグリコールジアクリレート (日本化薬社製:商品名「NPGDA」) 37重量部 (C)光重合開始剤「イルガキュア184」 3重量部 上記(A)、(B)及び(C)を混合して紫外線硬化型
樹脂組成物を得た。(Example 2) (A) Urethane acrylate composed of 2-hydroxypropyl acrylate (HPA) and hexamethylene diisocyanate (HDI) 30 parts by weight (B) Isobornyl methacrylate (manufactured by SARTOMER: trade name "SR") -423 ") 30 parts by weight neopentyl glycol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name" NPGDA ") 37 parts by weight (C) Photopolymerization initiator" IRGACURE 184 "3 parts by weight Above (A), (B) And (C) were mixed to obtain an ultraviolet curable resin composition.
【0035】得られた紫外線硬化型樹脂組成物を用いた
以外は、実施例1と同様にして光ディスク用基板を製造
し、実施例1と同様にして記録膜を設け、その後、顕微
鏡観察を行った結果、しわ、クラック等の発生は見られ
なかった。また、高温高湿中(80℃、85%RH)に
1,000時間放置した後、顕微鏡観察を行った結果、
しわ、クラック等の発生が見られず、記録膜への影響は
見られなかった。An optical disk substrate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the obtained ultraviolet-curable resin composition was used, a recording film was provided in the same manner as in Example 1, and then microscopic observation was performed. As a result, no wrinkles or cracks were found. Moreover, after leaving it in high temperature and high humidity (80 ° C., 85% RH) for 1,000 hours, the result of microscopic observation showed that
No wrinkles, cracks, etc. were observed, and no influence on the recording film was observed.
【0036】(実施例3) (A)2−ヒドロキシプロピルアクリレート(HPA)及びヘキサメチレンジ イソシアネート(HDI)から成るウレタンアクリレート 29重量部 (B)N−ビニル−2−ピロリドン (東亜合成化学工業社製:商品名「M−150」) 15重量部 ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート (日本化薬社製:商品名「R−604」) 30重量部 ネオペンチルグリコールジアクリレート (日本化薬社製:商品名「NPGDA」) 23重量部 (C)光重合開始剤「イルガキュア184」 3重量部 上記(A)、(B)及び(C)を混合して紫外線硬化型
樹脂組成物を得た。Example 3 (A) 29 parts by weight of urethane acrylate composed of (A) 2-hydroxypropyl acrylate (HPA) and hexamethylene diisocyanate (HDI) (B) N-vinyl-2-pyrrolidone (Toa Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Made: trade name "M-150") 15 parts by weight neopentyl glycol modified trimethylolpropane diacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name "R-604") 30 parts by weight neopentyl glycol diacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) (Product name: “NPGDA”) 23 parts by weight (C) Photopolymerization initiator “Irgacure 184” 3 parts by weight The above (A), (B) and (C) were mixed to obtain an ultraviolet curable resin composition. .
【0037】得られた紫外線硬化型樹脂組成物を用いた
以外は、実施例1と同様にして光ディスク用基板を製造
し、実施例1と同様にして記録膜を設け、その後、顕微
鏡観察を行った結果、しわ、クラック等の発生は見られ
なかった。また、高温高湿中(80℃、85%RH)に
1,000時間放置した後、顕微鏡観察を行った結果、
しわ、クラック等の発生が見られず、記録膜への影響は
見られなかった。An optical disk substrate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the obtained ultraviolet-curable resin composition was used, and a recording film was provided in the same manner as in Example 1, and then microscopic observation was performed. As a result, no wrinkles or cracks were found. Moreover, after leaving it in high temperature and high humidity (80 ° C., 85% RH) for 1,000 hours, the result of microscopic observation showed that
No wrinkles, cracks, etc. were observed, and no influence on the recording film was observed.
【0038】(比較例1) (A)2−ヒドロキシプロピルアクリレート(HPA)及びヘキサメチレンジ イソシアネート(HDI)から成るウレタンアクリレート 35重量部 (B)フェノールEO変性(n=2)アクリレート (東亜合成化学工業社製:商品名「M−101」) 40重量部 ネオペンチルグリコールジアクリレート (日本化薬社製:商品名「NPGDA」) 22重量部 (C)光重合開始剤「イルガキュア184」 3重量部 上記(A)、(B)及び(C)を混合して紫外線硬化型
樹脂組成物を得た。Comparative Example 1 (A) Urethane acrylate consisting of 2-hydroxypropyl acrylate (HPA) and hexamethylene diisocyanate (HDI) 35 parts by weight (B) Phenol EO-modified (n = 2) acrylate (Toagosei Kagaku) Kogyo Co., Ltd .: trade name "M-101") 40 parts by weight neopentyl glycol diacrylate (Nippon Kayaku Co .: trade name "NPGDA") 22 parts by weight (C) Photopolymerization initiator "Irgacure 184" 3 parts by weight The above (A), (B) and (C) were mixed to obtain an ultraviolet curable resin composition.
【0039】得られた紫外線硬化型樹脂組成物を用いた
以外は、実施例1と同様にして光ディスク用基板を製造
し、実施例1と同様にして記録膜を設け、その後、顕微
鏡観察を行った結果、基板上の内周、外周のミラー部に
しわの発生が見られた。また、高温高湿中(80℃、8
5%RH)に400時間放置した後、顕微鏡観察を行っ
た結果、しわの成長、クラックの発生、記録膜の腐食が
見られた。An optical disk substrate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the obtained ultraviolet-curable resin composition was used, and a recording film was provided in the same manner as in Example 1, and then observed under a microscope. As a result, wrinkles were found on the inner and outer mirror portions on the substrate. In high temperature and high humidity (80 ℃, 8
After being left at 5% RH) for 400 hours, microscopic observation revealed that wrinkle growth, cracking, and corrosion of the recording film were observed.
【0040】(比較例2) (A)2−ヒドロキシプロピルアクリレート(HPA)及びヘキサメチレンジ イソシアネート(HDI)から成るウレタンアクリレート 34重量部 (B)ノニルフェノールEO変性(n=1)アクリレート (東亜合成化学工業社製:商品名「M−111」) 37重量部 ネオペンチルグリコールジアクリレート (日本化薬社製:商品名「NPGDA」) 26重量部 (C)光重合開始剤「イルガキュア184」 3重量部 上記(A)、(B)及び(C)を混合して紫外線硬化型
樹脂組成物を得た。Comparative Example 2 (A) Urethane acrylate consisting of 2-hydroxypropyl acrylate (HPA) and hexamethylene diisocyanate (HDI) 34 parts by weight (B) Nonylphenol EO-modified (n = 1) acrylate (Toagosei Kagaku) Kogyo Co., Ltd .: trade name “M-111”) 37 parts by weight neopentyl glycol diacrylate (Nippon Kayaku Co .: trade name “NPGDA”) 26 parts by weight (C) Photopolymerization initiator “Irgacure 184” 3 parts by weight The above (A), (B) and (C) were mixed to obtain an ultraviolet curable resin composition.
【0041】得られた紫外線硬化型樹脂組成物を用いた
以外は、実施例1と同様にして光ディスク用基板を製造
し、実施例1と同様にして記録膜を設け、その後、顕微
鏡観察を行った結果、基板上の内周、外周のミラー部に
しわの発生が見られた。また、高温高湿中(80℃、8
5%RH)に400時間放置した後、顕微鏡観察を行っ
た結果、しわの成長、クラックの発生、記録膜の腐食が
見られた。An optical disk substrate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the obtained ultraviolet-curable resin composition was used, and a recording film was provided in the same manner as in Example 1, and then microscopic observation was performed. As a result, wrinkles were found on the inner and outer mirror portions on the substrate. In high temperature and high humidity (80 ℃, 8
After being left at 5% RH) for 400 hours, microscopic observation revealed that wrinkle growth, cracking, and corrosion of the recording film were observed.
【0042】各実施例及び各比較例で使用した単官能ア
クリレートの単独重合時のガラス転移温度と混合して得
た紫外線硬化型樹脂組成物のガラス転移温度を表1に示
した。Table 1 shows the glass transition temperatures of the UV-curable resin compositions obtained by mixing the monofunctional acrylates used in each example and each comparative example with the glass transition temperature at the time of homopolymerization.
【0043】なお、ガラス転移温度の測定は、動的粘弾
性測定装置にて周波数1Hz、昇温速度4℃/分で行っ
た。The glass transition temperature was measured with a dynamic viscoelasticity measuring device at a frequency of 1 Hz and a heating rate of 4 ° C./min.
【0044】[0044]
【表1】 [Table 1]
【0045】[0045]
【発明の効果】本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂
組成物を用いることによって、従来技術と比較して、高
温高湿試験において(1)しわ、クラックが発生しな
い、(2)白濁、黄変を生じない、(3)記録膜を侵さ
ない、(4)支持体との密着性が良好である光ディスク
用基板を提供することができる。EFFECTS OF THE INVENTION By using the ultraviolet-curable resin composition for optical disks of the present invention, as compared with the prior art, (1) no wrinkles or cracks are generated in the high temperature and high humidity test, (2) white turbidity, yellowing It is possible to provide an optical disk substrate which does not cause (3) does not attack the recording film and (4) has good adhesion to the support.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08F 299/06 MRX 7442−4J ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location C08F 299/06 MRX 7442-4J
Claims (3)
独重合時のガラス転移温度(Tg)が150〜180℃
の範囲にある単官能ビニル化合物、(3)多官能(メ
タ)アクリレート及び(4)光重合開始剤を含有するこ
とを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。1. A glass transition temperature (Tg) during homopolymerization of (1) urethane acrylate and (2) is 150 to 180 ° C.
An ultraviolet-curable resin composition for an optical disc, which contains a monofunctional vinyl compound, (3) a polyfunctional (meth) acrylate, and (4) a photopolymerization initiator in the range of 1.
から成る硬化層を有する光ディスク用基板。2. An optical disk substrate having a cured layer made of the ultraviolet curable resin composition according to claim 1.
溝を有する請求項2記載の光ディスク用基板。3. The optical disk substrate according to claim 2, wherein the hardened layer has a preformat signal and a guide groove.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3297204A JPH05135405A (en) | 1991-11-13 | 1991-11-13 | Ultraviolet curing type resin composition for optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3297204A JPH05135405A (en) | 1991-11-13 | 1991-11-13 | Ultraviolet curing type resin composition for optical disk |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05135405A true JPH05135405A (en) | 1993-06-01 |
Family
ID=17843534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3297204A Pending JPH05135405A (en) | 1991-11-13 | 1991-11-13 | Ultraviolet curing type resin composition for optical disk |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05135405A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0798355A3 (en) * | 1996-03-15 | 1998-09-09 | LINTEC Corporation | Base material for adhesive tape |
US6818681B2 (en) | 2002-02-22 | 2004-11-16 | Nagase Chemtex Corporation | Ultraviolet-curable resin composition for optical discs |
WO2005105871A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Sony Chemical & Information Device Corporation | Composition for optical disk-protecting film |
-
1991
- 1991-11-13 JP JP3297204A patent/JPH05135405A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0798355A3 (en) * | 1996-03-15 | 1998-09-09 | LINTEC Corporation | Base material for adhesive tape |
US6818681B2 (en) | 2002-02-22 | 2004-11-16 | Nagase Chemtex Corporation | Ultraviolet-curable resin composition for optical discs |
WO2005105871A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Sony Chemical & Information Device Corporation | Composition for optical disk-protecting film |
US7727610B2 (en) | 2004-04-30 | 2010-06-01 | Sony Corporation | Compositions for protective films for optical discs |
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