JPH0513324A - ステージ位置の測定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】アッシングにとって重要なガス流路の厚さを誤
差なく測定し、また測定によるアッシング装置の金属汚
染を防止する。 【構成】測定子８をアッシングによる中間生成物の付着
がない位置（ウェハが置かれる位置）に設置して測定
し、測定子８の全体または一部を非金属とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置、例え
ば、光アッシャ，オゾンアッシャのように間隙が重要な
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の方式では、ステージ上の定められ
た位置で測定しているが、処理時の中間反応生成物がス
テージ上に付着している場合があり、測定時の誤差にな
ったり、この付着物を取り除く手間がかかっていた。

【０００３】また、測定子の先端は金属であり、ステー
ジの汚染の恐れがあった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記誤差や、手間を取
り除くことが必要であり、また、金属汚染を防止するこ
とも必要である。

【０００５】

【課題を解決するための手段】ステージ上のうち、実際
に被処理基板が置かれる位置でこの間隙を測定する。測
定子の先端を非金属とする。

【０００６】

【作用】ステージ上の付着物は被処理基板が置かれる範
囲外に付着するため、被処理基板が置かれる範囲内で間
隙を測定する限り付着物の影響を受けずに測定すること
ができる。

【０００７】測定子の先端を非金属とすることにより金
属の汚染を防止できる。

【０００８】

【実施例】以下に一実施例を示す。図１は紫外線とオゾ
ンを使用してウェハ上のレジストを除去するアッシング
装置の処理室内部を表している。ステージ１の上に石英
板６が乗っており、その上にシリコンウェハ２が真空吸
着されている。ウェハの上方には、石英製の円板（プレ
ート）３が一定の距離を置いて設置されており、この円
板にはオゾンガスを導入するためのノズル４が貫いてい
る。なお、円板３の上方には紫外線を放射するランプが
設置されているが図には省略している。このような構成
でアッシングするとウェハが置かれていない外側のステ
ージ上にレジストの中間反応生成物が付着する場合があ
る。

【０００９】このようなアッシング方式で円板３と石英
板６の乗ったステージ１との間の間隙を一定に管理する
ことが重要で、アッシング特性に影響を与える。

【００１０】このため、間隙を測定する必要があるが、
従来はステージの周辺付近で測定していたため、付着物
の影響を受けて、測定値に誤差を生じる場合があった。
また、このような付着物を除去してから測定する必要が
あった。

【００１１】本発明では、図２に示すように、測定子８
をウェハが乗せられる部分に置き、測定器７で測定する
こととした。また、測定子またはその一部をダイヤモン
ドのような非金属物とし、石英板の金属汚染を防ぐこと
とした。

【００１２】

【発明の効果】本発明によれば、付着物のない位置で測
定するため、間隙の測定値に誤差は発生しない。また、
測定子を非金属としているため、石英板を汚染すること
もない。

【図面の簡単な説明】

【図１】アッシング装置の処理室内構造説明図。

【図２】本発明による間隙測定方法の説明図。

【符号の説明】

１…ステージ、２…基板、３…円板、４…ノズル、５…
付着物、６…石英板、７…測定器、８…測定子。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ステージ上に基板を置き、その上方にプレ
   ートを設置し、前記基板と前記プレートとの間隙にガス
   を流して処理をする装置において、前記プレートと前記
   ステージとの間隙を測定するとき、その測定位置を前記
   ステージ上の前記基板が載置される範囲に限定したこと
   を特徴とするステージ位置の測定方法。
2. 【請求項２】請求項１において、前記間隙の測定の際、
   前記ステージに接触する測定子の材質を非金属とするス
   テージ位置の測定方法。