JPH05128590A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

Info

Publication number
JPH05128590A
JPH05128590A JP3284588A JP28458891A JPH05128590A JP H05128590 A JPH05128590 A JP H05128590A JP 3284588 A JP3284588 A JP 3284588A JP 28458891 A JP28458891 A JP 28458891A JP H05128590 A JPH05128590 A JP H05128590A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording medium
protective layer
optical recording
optical
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3284588A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Kamiyama
健一 上山
Shinsuke Okuda
真介 奥田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP3284588A priority Critical patent/JPH05128590A/en
Publication of JPH05128590A publication Critical patent/JPH05128590A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To prevent adherence of dusts by imparting low surface energy and charge preventive characteristics to a protective layer to be formed on the side to be avoided from dusts of an optical recording medium such as an optical disk or an optomagnetic disk. CONSTITUTION:An optical recording medium having an optically transparent board 1 has a protective layer 4 provided at least on one of an optical pickup surface and a recording layer surface and having H or more of pencil lead hardness, a low energy surface of 80 degrees or more of a contact angle to water and less than 1X10<4>OMEGA/square of surface resistance value. Thus, the medium having excellent dust adherence prevention mainly even in a high humidity environment can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク等の光記録
媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium such as an optical disc.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録媒体の1例として、光ディスクを
挙げて説明する。光ディスクは、図1にその構造を示す
ように、光学的に透明なガラスやプラスチック等よりな
る基板1の一方の面に記録層2を設け、その外側に記録
層2の保護のために樹脂材料よりなるオーバーコート3
を施している。また、基板1の他方の面(光ピックアッ
プ面)には、基板を保護するために樹脂材料よりなるハ
ードコート(保護層)4が施されている。ゴミの付着を
極力回避すべき保護層4に本発明を適用するのが最も効
果的であるが、オーバーコート3に適用してもよい。以
下、本発明を保護層4に適用した場合について説明す
る。
2. Description of the Related Art An optical disc will be described as an example of an optical recording medium. As shown in FIG. 1, the structure of an optical disc is such that a recording layer 2 is provided on one surface of a substrate 1 made of optically transparent glass or plastic, and a resin material is provided outside the recording layer 2 to protect the recording layer 2. Made of overcoat 3
Has been given. A hard coat (protective layer) 4 made of a resin material is applied to the other surface (optical pickup surface) of the substrate 1 to protect the substrate. It is most effective to apply the present invention to the protective layer 4 which should avoid the attachment of dust as much as possible, but it may be applied to the overcoat 3. The case where the present invention is applied to the protective layer 4 will be described below.

【0003】このような光ディスクを駆動装置に設置
し、長期間作動させると、空気中の塵埃(ゴミ)が光デ
ィスクの表面に付着し、光透過率が低下するので、保護
層に塵埃対策を施すことが考えられている。具体的に
は、帯電による集塵を回避するために、表面抵抗値を下
げる技術(例えば、特開平2−304773号公報参
照)があるが、これは、紫外線硬化型アクリル系樹脂中
に、界面活性剤型帯電防止剤あるいは導電フィラー等を
添加する方法であるが、保護層の透明性、耐スクラッチ
性、コーティング性等の要求特性を考慮すると、界面活
性剤型帯電防止剤を添加する方法が好ましい。
When such an optical disk is installed in a drive and operated for a long period of time, dust in the air adheres to the surface of the optical disk and the light transmittance is reduced, so that the protective layer is provided with measures against dust. Is considered. Specifically, there is a technique of lowering the surface resistance value in order to avoid dust collection due to charging (see, for example, JP-A-2-304773). Although it is a method of adding an activator type antistatic agent or a conductive filler, considering the required properties such as transparency of the protective layer, scratch resistance and coating property, the method of adding a surfactant type antistatic agent is preferable.

【0004】ところで、界面活性剤型帯電防止剤は、帯
電防止剤中の極性基に水分子を吸着させ、水による導電
層を形成させて、導電性を発現させるものであるので、
その導電性は、外部環境、特に、温度や湿度に大きく影
響されるといった不都合を有している。また、極性基の
導入により、帯電によるゴミ付着は抑えられるものの、
表面エネルギーが高くなるので、一旦、表面に付着した
ゴミは除去し難くなるという不都合がある。
By the way, the surfactant-type antistatic agent is one which adsorbs water molecules to the polar groups in the antistatic agent to form a conductive layer of water, thereby exhibiting conductivity.
Its conductivity has the disadvantage that it is greatly affected by the external environment, especially temperature and humidity. In addition, the introduction of polar groups suppresses dust adhesion due to charging,
Since the surface energy becomes high, there is a disadvantage that it is difficult to remove dust once attached to the surface.

【0005】更に、高湿環境になると、表面に水分子を
過剰に吸着させ、この水分子がゴミの濃度を高めるの
で、ゴミの吸着力が極端に大きくなるという不都合もあ
る。ここで、表面エネルギーとディスク上のゴミ付着数
との関係を、図2を参照して説明する。横軸に、表面エ
ネルギーを示すものとして水に対する接触角(24℃、80
%RH)を示し、縦軸に、ある面積のダートチャンバー
試験時のゴミ(粒径10μm)付着数を示す。尚、実験に
用いたハードコートはコロナ放電により除電したものを
使用した。
Further, in a high-humidity environment, water molecules are excessively adsorbed on the surface, and the water molecules increase the concentration of dust, so that there is also a disadvantage that the adsorption power of dust becomes extremely large. Here, the relationship between the surface energy and the number of dust deposits on the disk will be described with reference to FIG. The horizontal axis indicates the surface energy, and the contact angle to water (24 ℃, 80
% RH), and the vertical axis shows the number of dust particles (particle size 10 μm) attached in a certain area during the dirt chamber test. The hard coat used in the experiment was destaticized by corona discharge.

【0006】これによると、接触角50〜60度の範囲で急
激にゴミ付着性が変化しているのが分かる。極性基を導
入すると、その処理表面は、接触角が60度より小さくな
ってしまい、このことは、ゴミ付着が大きくなることを
示しているが、通常のオフィスで光ディスクを使用する
場合は、環境が比較的穏やかで安定しているので、大き
な問題は発生しないと考えられる。
According to this, it can be seen that the dust adhering property drastically changes in the contact angle range of 50 to 60 degrees. When a polar group is introduced, the treated surface has a contact angle of less than 60 degrees, which shows that dust adhesion increases, but when using an optical disk in a normal office, Is relatively calm and stable, so no major problems are expected.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、今後、
光ディスクが汎用化し、種々の環境、特に高湿環境で使
用される場合をも想定すると、現状のゴミ対策(帯電防
止処理)だけでは、不十分であるし、単に、表面エネル
ギーを低下させるだけの対応では、ゴミによるトラブル
を回避することはできないと思われる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the future,
Assuming that optical discs are used in general and used in various environments, especially in high-humidity environments, the current countermeasures against dust (antistatic treatment) are not sufficient, and simply reduce the surface energy. It seems that it is not possible to avoid troubles caused by garbage by taking measures.

【0008】本発明は、表面エネルギーが小さく、且つ
帯電防止性を有する保護層を設けて、高湿度環境にても
ゴミ付着防止性に優れた光ディスク等の光記録媒体を提
供することを目的とする。また、磁界変調型オーバーラ
イト可能な光磁気ディスクにおいては、記録層側にゴミ
が付着するとヘッドクラッシュの原因となり、本発明が
対象とする保護層は、このような記録層側の保護層をも
含む。
It is an object of the present invention to provide an optical recording medium such as an optical disk which is provided with a protective layer having a small surface energy and an antistatic property and which has an excellent dust adhesion preventing property even in a high humidity environment. To do. Further, in a magnetic field modulation type overwritable magneto-optical disk, if dust adheres to the recording layer side, it causes a head crash, and the protective layer targeted by the present invention includes such a protective layer on the recording layer side. Including.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明では、光学的に透明な基板を有する光記録媒
体において、光ピックアップ面及び記録層面のうち少な
くとも一方の面に、鉛筆硬度H以上であり、水に対する
接触角が80度以上の低エネルギー表面であり、且つ表面
抵抗値が1×1014Ω/□未満である保護層を設ける構成
とする。
In order to achieve the above object, in the present invention, an optical recording medium having an optically transparent substrate has a pencil hardness on at least one of an optical pickup surface and a recording layer surface. The protective layer is H or more, a low energy surface having a contact angle with water of 80 degrees or more, and a surface resistance value of less than 1 × 10 14 Ω / □.

【0010】また、上記保護層のベース材料がアクリル
系あるいはメタクリル系の放射線硬化型樹脂であり、表
面エネルギーを低下させるためにポリシロキサン化合
物、表面抵抗値を1×1014Ω/□未満にするために反応
型帯電防止剤が含有されていると好ましい。また、上記
ポリシロキサン化合物が、下記の一般式で示される化合
物であると好ましい。
The base material of the protective layer is an acrylic or methacrylic radiation-curable resin, and the polysiloxane compound has a surface resistance of less than 1 × 10 14 Ω / □ to reduce the surface energy. Therefore, it is preferable to contain a reactive antistatic agent. Further, the polysiloxane compound is preferably a compound represented by the following general formula.

【0011】[0011]

【化3】 [Chemical 3]

【0012】(式中、R1 はアルキル基、アクリル基、
メタクリル基、エポキシ基であり、R 2 はH、CH3
あり、1≦s≦40、10≦p+q+r≦500 である。)更
に、上記反応型帯電防止剤が、下記の一般式で示される
化合物であると好ましい。
(Where R is1Is an alkyl group, an acrylic group,
Methacrylic group, epoxy group, R 2Is H, CH3so
Yes, 1 ≦ s ≦ 40 and 10 ≦ p + q + r ≦ 500. )
In addition, the reactive antistatic agent is represented by the following general formula:
It is preferably a compound.

【0013】[0013]

【化4】 [Chemical 4]

【0014】(式中、A- はアニオンであり、R3 はC
n 2n+1n は1〜16である。)ここで、保護層の成膜
法は、生産性を考慮して、紫外線硬化型あるいは電子線
硬化型が望ましく、上記ベース材料は、(メタ)アクリ
ル系の紫外線硬化型樹脂あるいは電子線硬化型樹脂が望
ましい。加えて、保護層の重要な特性である耐擦傷性を
向上させるために、表面保護に効果がある成分を含むこ
とが望ましく、以下にその具体例を示す。
(Wherein A is an anion and R 3 is C
n H 2n + 1 and n is 1 to 16. Here, in consideration of productivity, the film forming method of the protective layer is preferably an ultraviolet curable type or an electron beam curable type, and the base material is a (meth) acrylic ultraviolet curable resin or an electron beam curable type. Resin is preferred. In addition, in order to improve scratch resistance, which is an important characteristic of the protective layer, it is desirable to include a component effective in surface protection, and specific examples thereof will be shown below.

【0015】即ち、多官能(メタ)アクリレート、例え
ば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレートといった反応性基を
3つ以上有する(メタ)アクリレートを1種または2種
以上含み、更に加えて、基板との密着性、コーティング
性を考慮して、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ヘキサンジオールジアクリレートといった反応性基を2
つ有する(メタ)アクリレート、あるいは2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレートといった反応性基を1つ有する
(メタ)アクリレートを1種あるいは2種以上組み合わ
せてベース材料を設計するとよい。
That is, polyfunctional (meth) acrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta. One or more (meth) acrylates having three or more reactive groups such as (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are included, and in addition, in consideration of adhesion to a substrate and coating property. , Diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate,
2 reactive groups such as hexanediol diacrylate
(Meth) acrylate having one or two (meth) acrylates having one reactive group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are used to design the base material. Good.

【0016】また、表面エネルギーを低下させるために
は、シリコン系、フッ素系材料を添加することが考えら
れるが、上記のベース材料との相溶性を考慮した場合、
アルキル及びポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン
化合物が望ましく、例えば、上記化3の一般式にて示し
た化合物が好適であり、この場合、より望ましくは、p
+q+r=50〜100 で、また、ベース材料との相溶性を
考慮すると、(q+r)/p≧0.2 で、帯電防止性を考
慮すると、sは4以上が望ましく、相溶性を考えると15
以下である。
In order to reduce the surface energy, it is possible to add a silicon-based material or a fluorine-based material. In consideration of the compatibility with the above-mentioned base material,
Alkyl- and polyoxyalkylene-modified polysiloxane compounds are desirable, for example, the compounds represented by the general formula of Chemical formula 3 above are preferable, and in this case, more desirably p
+ Q + r = 50 to 100, (q + r) /p≧0.2 in consideration of compatibility with the base material, and s is preferably 4 or more in consideration of antistatic property. Considering compatibility, 15
It is below.

【0017】また、帯電防止性を発現させるためには、
保護層の硬度、透明性、コーティング性を考慮すると、
界面活性剤を混合させる方法が望ましく、公知に属する
任意の界面活性剤から任意に選択することができるが、
長期使用、溶剤拭き取り等によっても特性が劣化しない
ことを考慮すると、ベース材料と共重合により固定でき
るものが良く、例えば、分子中に(メタ)アクリル基、
アクリルアミド基等を有する反応性界面活性剤が良い。
Further, in order to develop the antistatic property,
Considering the hardness, transparency and coating of the protective layer,
A method of mixing a surfactant is desirable, and can be arbitrarily selected from any of the known surfactants.
Considering that the characteristics do not deteriorate even after long-term use, solvent wiping, etc., those that can be fixed by copolymerization with the base material are preferable, such as (meth) acrylic group in the molecule,
A reactive surfactant having an acrylamide group or the like is preferable.

【0018】具体的には、下記に化5,化6,化7の一
般式で示した化合物が挙げられるが、化7のアクリルア
ミド型の第4級アンモニウム塩が、反応性基の加水分解
安定性に最も優れており、望ましい。
Specific examples include the compounds represented by the general formulas of Chemical Formula 5, Chemical Formula 6, and Chemical Formula 7. The acrylamide-type quaternary ammonium salt of Chemical Formula 7 is a hydrolytically stable reactive group. It is the most excellent and desirable.

【0019】[0019]

【化5】 [Chemical 5]

【0020】[0020]

【化6】 [Chemical 6]

【0021】[0021]

【化7】 [Chemical 7]

【0022】(式中、A- はアニオン、R4 ,R5,R
6 ,R7 はH、CH3 である。)尚、表面抵抗値は、よ
り望ましくは、1×1013Ω/□以下である。
(Wherein A is an anion, R 4 , R 5 and R
6 , R 7 are H and CH 3 . The surface resistance is more preferably 1 × 10 13 Ω / □ or less.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

実施例1 N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド(株式
会社興人製)5重量部を2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート70重量部で完全に溶解させ、更に、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート(日本化薬株式会社製PET−
30)100 重量部に完全に溶解させる。
Example 1 5 parts by weight of N, N-dimethylaminopropyl acrylamide (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was completely dissolved in 70 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, and further pentaerythritol triacrylate (PET manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used. −
30) Dissolve completely in 100 parts by weight.

【0024】その後、ポリエーテル変性シリコーンXF
−42−812 (東芝シリコーン株式会社製)を3重量部、
光開始剤Irg.500 (チバガイギー株式会社製)を5重量
部添加して約40℃に加熱して完全に溶解して、保護層用
の樹脂を得た。次に、ポリカーボネート基板にこの樹脂
をスピンコート法により約5μm(硬化膜厚)塗布し、
紫外線(Fusion社製Hランプ)により1600 mJ/cm2 照射
して硬化し、保護層を形成した。 実施例2 N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド(株式
会社興人製)5重量部を2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート70重量部で完全に溶解させ、更に、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート(日本化薬株式会社製PET−
30)100 重量部に完全に溶解させる。
Then, polyether modified silicone XF
-42-812 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) 3 parts by weight,
5 parts by weight of a photoinitiator Irg.500 (manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) was added, and the mixture was heated to about 40 ° C. and completely dissolved to obtain a resin for a protective layer. Next, this resin is applied to a polycarbonate substrate by spin coating to a thickness of about 5 μm (cured film thickness),
It was irradiated with 1600 mJ / cm 2 of ultraviolet rays (H lamp manufactured by Fusion) and cured to form a protective layer. Example 2 5 parts by weight of N, N-dimethylaminopropyl acrylamide (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was completely dissolved in 70 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, and further pentaerythritol triacrylate (PET manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used. −
30) Dissolve completely in 100 parts by weight.

【0025】その後、ポリエーテル変性シリコーンXF
−42−812 (東芝シリコーン株式会社製)を5重量部、
光開始剤Irg.500 (チバガイギー株式会社製)を5重量
部添加して約40℃に加熱して完全に溶解して、保護層用
の樹脂を得た。次に、ポリカーボネート基板にこの樹脂
をスピンコート法により約5μm(硬化膜厚)塗布し、
紫外線(Fusion社製Hランプ)により1600 mJ/cm2 照射
して硬化し、保護層を形成した。 比較例1 N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド(株式
会社興人製)5重量部を2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート70重量部で完全に溶解させ、更に、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート(日本化薬株式会社製PET−
30)100 重量部に完全に溶解させる。
Then, polyether modified silicone XF
5 parts by weight of -42-812 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.),
5 parts by weight of a photoinitiator Irg.500 (manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) was added, and the mixture was heated to about 40 ° C. and completely dissolved to obtain a resin for a protective layer. Next, this resin is applied to a polycarbonate substrate by spin coating to a thickness of about 5 μm (cured film thickness),
It was irradiated with 1600 mJ / cm 2 of ultraviolet rays (H lamp manufactured by Fusion) and cured to form a protective layer. Comparative Example 1 5 parts by weight of N, N-dimethylaminopropyl acrylamide (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was completely dissolved in 70 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, and further pentaerythritol triacrylate (PET manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used. −
30) Dissolve completely in 100 parts by weight.

【0026】その後、光開始剤Irg.500 (チバガイギー
株式会社製)を5重量部添加して約40℃に加熱して完全
に溶解して、保護層用の樹脂を得た。次に、ポリカーボ
ネート基板にこの樹脂をスピンコート法により約5μm
(硬化膜厚)塗布し、紫外線(Fusion社製 Hランプ)
により1600 mJ/cm2 照射して硬化し、保護層を形成し
た。 比較例2 2−ヒドロキシエチルアクリレート70重量部をペンタエ
リスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製P
ET−30)100 重量部に完全に溶解させる。
Then, 5 parts by weight of a photoinitiator Irg.500 (manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) was added and heated to about 40 ° C. to completely dissolve it to obtain a resin for a protective layer. Next, this resin is applied to a polycarbonate substrate by spin coating to a thickness of approximately 5 μm.
(Cured film thickness) Apply and UV rays (H lamp made by Fusion)
Was irradiated with 1600 mJ / cm 2 for curing to form a protective layer. Comparative Example 2 70 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate was mixed with pentaerythritol triacrylate (P manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
ET-30) Dissolve completely in 100 parts by weight.

【0027】その後、ポリエーテル変性シリコーンXF
−42−812 (東芝シリコーン株式会社製)を3重量部、
光開始剤Irg.500 (チバガイギー株式会社製)を5重量
部添加して約40℃に加熱して完全に溶解して、保護層用
の樹脂を得た。次に、ポリカーボネート基板にこの樹脂
をスピンコート法により約5μm(硬化膜厚)塗布し、
紫外線(Fusion社製Hランプ)により1600 mJ/cm2 照射
して硬化し、保護層を形成した。
Then, polyether modified silicone XF
-42-812 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) 3 parts by weight,
5 parts by weight of a photoinitiator Irg.500 (manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) was added, and the mixture was heated to about 40 ° C. and completely dissolved to obtain a resin for a protective layer. Next, this resin is applied to a polycarbonate substrate by spin coating to a thickness of about 5 μm (cured film thickness),
It was irradiated with 1600 mJ / cm 2 of ultraviolet rays (H lamp manufactured by Fusion) and cured to form a protective layer.

【0028】上記保護層(実施例1及び2、比較例1及
び2)のそれぞれについての評価結果を下表に示す。
The following table shows the evaluation results of each of the above protective layers (Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2).

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】尚、硬度は、ポリカーボネート基板上で評
価したものである。また、表面抵抗値は23℃,70%RH
での値であり、測定法はJIS k−6911に準拠してい
る。印加電圧 500Vで、印加90秒後に測定した。また、
摩擦テストは23℃,70%RHでBEMCOTM-3(旭化成株式
会社製)で10回保護層表面を強く摩擦し、ダートチャン
バー(ASTM D2741-68 )法によりゴミ(10μmトナー)
を付着させ、全くゴミ付着が見られない場合をA、やや
ゴミ付着が見られた場合をB、全面にゴミ付着が見られ
た場合をCとして評価した。
The hardness is evaluated on a polycarbonate substrate. Also, the surface resistance value is 23 ℃, 70% RH.
And the measurement method complies with JIS k-6911. The applied voltage was 500 V and the measurement was performed 90 seconds after the application. Also,
The rubbing test was conducted at 23 ° C and 70% RH with BEMCOTM-3 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) 10 times to rub the surface of the protective layer strongly, and dust (10 μm toner) was applied by the dirt chamber (ASTM D2741-68) method.
Was evaluated as A, when no dust adhesion was observed, B when a slight dust adhesion was observed, and C when a dust adhesion was observed on the entire surface.

【0031】また、接触角は水に対する値である。ま
た、高湿テストは、サンプルをコロナ放電により完全に
除電した状態で、摩擦テストと同様の方法、条件で評価
した。上記表に示したこれらの各物性値は、エタノール
を染み込ませたBEMCOT M-3で表面を約100 回拭き取り試
験した後も、そして80℃,85%RH,1000hr耐久試験後
も変化しなかった。
The contact angle is a value for water. In the high humidity test, the sample was completely discharged by corona discharge, and the evaluation was performed under the same method and conditions as the friction test. The physical properties shown in the above table did not change after the surface was wiped with ethanol-soaked BEMCOT M-3 for about 100 times and after the durability test at 80 ° C, 85% RH, and 1000 hours. ..

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
光ディスクあるいは光磁気ディスク等の光記録媒体の、
塵埃を回避すべき側に形成される保護層に、表面エネル
ギーが低く、且つ帯電防止性を発現する特性を付与し、
主として高湿度環境下においてもゴミ付着防止性に優れ
た光記録媒体を具現化できる。
As described above, according to the present invention,
Of optical recording media such as optical disks or magneto-optical disks,
The protective layer formed on the side where dust should be avoided has a low surface energy and has the property of exhibiting antistatic properties,
It is possible to embody an optical recording medium which is excellent in dust adhesion prevention property even in a high humidity environment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 光ディスクの構造を示す部分断面図FIG. 1 is a partial sectional view showing the structure of an optical disc.

【図2】 従来のディスク上の保護層における接触角と
ゴミ付着数の関係を示す図
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the contact angle and the number of dust deposits on a conventional protective layer on a disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 4 保護層 1 substrate 4 protective layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光学的に透明な基板を有する光記録媒体に
おいて、光ピックアップ面及び記録層面のうち少なくと
も一方の面に、鉛筆硬度H以上であり、水に対する接触
角が80度以上の低エネルギー表面であり、且つ表面抵抗
値が1×1014Ω/□未満である保護層を設けたことを特
徴とする光記録媒体。
1. An optical recording medium having an optically transparent substrate, at least one of an optical pickup surface and a recording layer surface, having a pencil hardness of H or more and a low energy of 80 ° or more in contact angle with water. An optical recording medium comprising a protective layer which is a surface and has a surface resistance value of less than 1 × 10 14 Ω / □.
【請求項2】上記保護層のベース材料がアクリル系ある
いはメタクリル系の放射線硬化型樹脂であり、表面エネ
ルギーを低下させるためにポリシロキサン化合物、表面
抵抗値を1×1014Ω/□未満にするために反応型帯電防
止剤が含有されていることを特徴とする請求項1記載の
光記録媒体。
2. The base material of the protective layer is an acrylic or methacrylic radiation-curable resin, and a polysiloxane compound is used to reduce the surface energy, and the surface resistance value is set to less than 1 × 10 14 Ω / □. The optical recording medium according to claim 1, further comprising a reactive antistatic agent.
【請求項3】請求項2記載のポリシロキサン化合物が、
下記の一般式で示されることを特徴とする光記録媒体。 【化1】 (式中、R1 はアルキル基、アクリル基、メタクリル
基、エポキシ基であり、R 2 はH、CH3 であり、1≦
s≦40、10≦p+q+r≦500 である。)
3. The polysiloxane compound according to claim 2,
An optical recording medium represented by the following general formula. [Chemical 1](In the formula, R1Is an alkyl group, acrylic group, methacrylic group
Group, an epoxy group, R 2Is H, CH3And 1 ≦
s ≦ 40 and 10 ≦ p + q + r ≦ 500. )
【請求項4】請求項2記載の反応型帯電防止剤が、下記
の一般式で示されることを特徴とする光記録媒体。 【化2】 (式中、A- はアニオンであり、R3 はCn 2n+1n
は1〜16である。)
4. An optical recording medium, wherein the reactive antistatic agent according to claim 2 is represented by the following general formula. [Chemical 2] (In the formula, A is an anion, R 3 is C n H 2n + 1 and n is
Is 1 to 16. )
JP3284588A 1991-10-30 1991-10-30 Optical recording medium Pending JPH05128590A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3284588A JPH05128590A (en) 1991-10-30 1991-10-30 Optical recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3284588A JPH05128590A (en) 1991-10-30 1991-10-30 Optical recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05128590A true JPH05128590A (en) 1993-05-25

Family

ID=17680403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3284588A Pending JPH05128590A (en) 1991-10-30 1991-10-30 Optical recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05128590A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7597195B2 (en) 2000-12-27 2009-10-06 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method for packaging a photosensitive film roll, resin case therefor, method for recovering and reusing the case, and photosensitive film roll package and method for conveying the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7597195B2 (en) 2000-12-27 2009-10-06 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method for packaging a photosensitive film roll, resin case therefor, method for recovering and reusing the case, and photosensitive film roll package and method for conveying the same
US7677014B2 (en) 2000-12-27 2010-03-16 Hitachi Chemical Company, Ltd. Method for packaging a photosensitive film roll, resin case therefor, method for recovering and reusing the case, and photosensitive film roll package and method for conveying the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5518788A (en) Antistatic hard coat incorporating a polymer comprising pendant fluorinated groups
JPH10110118A (en) Antifouling hard coat agent and optical recording media
JPH11293159A (en) Hard coating agent for optical recording medium and optical recording medium
JPH04149837A (en) Optical disk
JP2009035680A (en) Active energy ray-curable resin composition and its laminate
JP2009096927A (en) Active energy ray-curable resin composition and laminated body thereof
WO2003049099A1 (en) Optical disk having hard coat layer exhibiting effective lubricity
JP2000293895A (en) Plastic film treated with acrylic silica
JP2008156454A (en) Photocurable and thermosetting coating agent composition and article with cured film thereof
JPH05128590A (en) Optical recording medium
JP3552060B2 (en) Antistatic material and recording medium coated with this antistatic material
JPH10231444A (en) Ultraviolet-curing antistatic hard-coating resin composition
JP3541152B2 (en) Hard coating agent and optical disk
JPH06158019A (en) Protective coating agent
JPH04306266A (en) Material for optical disk and cured material
US5284884A (en) Antistatic resin-forming composition and protective layer of optical recording medium
JPH0673306A (en) Protective coating agent
JPH0753948A (en) Antistatic material and optical recording medium containing the same
JPH06223406A (en) Base body subjected to surface treatment and optical recording medium formed by using the same
JPH07254169A (en) Surface-treated substrate
JP3552065B2 (en) Antistatic material and recording medium coated with the same
JPH0474688A (en) Optical recording medium
JPH04212734A (en) Optical disk and coating composition for optical disk
JPH07169098A (en) Product to which antistatic processing is applied
JPH04366432A (en) Optical recording medium protective layer