JPH07254169A - Surface-treated substrate - Google Patents

Surface-treated substrate

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JPH07254169A
JPH07254169A JP6043608A JP4360894A JPH07254169A JP H07254169 A JPH07254169 A JP H07254169A JP 6043608 A JP6043608 A JP 6043608A JP 4360894 A JP4360894 A JP 4360894A JP H07254169 A JPH07254169 A JP H07254169A
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JP
Japan
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group
substrate
meth
treated substrate
conductive
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JP6043608A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Kamiyama
健一 上山
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Publication of JPH07254169A publication Critical patent/JPH07254169A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a surface-treated substrate in which the treatment for imparting electric conductivity and reducing surface energy, is effectively attained so as to be capable of preventing not only contamination due to electrification but also contamination due to the sticking of water-soluble sticky matter, oily sticky matter or dust particles from in a highly humid environment and to obtain an optical recording medium using the surface-treated substrate. CONSTITUTION:A coating layer is formed on the surface of a substrate or the surface of an org. protective film formed on the substrate by coating the surface with a compd. having a reactive group and a functional group having at least one of water repellency and oil repellency in each molecule and then irradiating the compd. with reactive active energy beams.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光学材料用の表面処理
基体に関するものであり、より詳しくは、表面の撥水、
撥油、或いは撥水−撥油の処理、及び導電処理をしてな
る表面処理基体、及びそれを用いた光記録媒体に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface-treated substrate for an optical material, and more specifically, a surface water repellent,
The present invention relates to a surface-treated substrate that has been subjected to oil-repellent or water-repellent-oil-repellent treatment and conductive treatment, and an optical recording medium using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】現在、
光ディスク基板、レンズ等の光学材料としてはその成形
性、透明性の両面の優秀さからポリカーボネイト、アク
リル系の材料が頻用されるが、かかる材料は表面の耐擦
傷性が不十分で高い絶縁性を示すため、帯電してゴミ付
着を起こし易く傷を受け易いといった問題がある。この
ため実用に際し、表面に透明で耐擦傷性と帯電防止性と
を兼ね備えたハードコートをする検討が行われている。
2. Description of the Related Art Currently,
As optical materials such as optical disk substrates and lenses, polycarbonate and acrylic materials are often used because of their excellent moldability and transparency, but these materials have insufficient surface scratch resistance and high insulation. Therefore, there is a problem in that it is easily charged and dust is likely to be attached, and is easily scratched. Therefore, in practical use, a hard coat having a transparent surface, which has both scratch resistance and antistatic property, has been studied.

【0003】ところで、基板表面の汚れは帯電に起因す
るものだけではない。例えば、帯電以外の汚れとして水
溶性粘着物、油性粘着物、或いは高湿環境での液架橋力
からの塵埃粒子の付着による汚れ等が考えられる。低湿
環境では主として帯電防止が重要なファクターである
が、光ディスクが民生用として広がるにつれて、高湿環
境の液架橋力による汚れ、空気中のオイルミスト等の油
性の汚れを防ぐことが重要となっている。かかる新たな
汚染防止、或いは汚れを簡単に除去するためには、表面
を導電化、及び低表面エネルギー化する処理が必要があ
る。
By the way, the stains on the substrate surface are not limited to those caused by charging. For example, stains other than electrification may be water-soluble sticky substances, oily sticky substances, or stains caused by the attachment of dust particles due to the liquid crosslinking force in a high humidity environment. Antistatic is an important factor in low-humidity environments, but with the spread of optical discs for consumer use, it becomes important to prevent dirt due to liquid crosslinking in high-humidity environments and oil-based dirt such as oil mist in the air. There is. In order to prevent such new contamination or to easily remove stains, it is necessary to make the surface conductive and reduce the surface energy.

【0004】またこのような導電化、及び低表面エネル
ギー化する処理は、光ディスクのレーザービームのピッ
クアップサイドに有効である他、記録膜サイドにも重要
である。磁界変調型の光磁気ディスクを想定した場合、
光磁気ディスクの記録膜側、具体的には記録層の上にコ
ートされた有機保護膜を磁界ヘッドが走行することにな
り、光変調方式で使用しているようなオーバーコートで
はヘッドの吸着、クラッシュが生じるおそれがある。こ
のため、保護膜表面を低表面エネルギー化することが要
求される。また導電処理はヘッドと表面が摩擦すること
により発生する静電気を速やかに消滅させるのに有効で
ある。従って、導電かつ低表面エネルギー処理はピック
アップサイドのみならず、記録膜サイドにも重要な問題
となってくる。
Further, such a treatment for making the surface conductive and lowering the surface energy is effective not only on the pickup side of the laser beam of the optical disk but also on the recording film side. Assuming a magnetic field modulation type magneto-optical disk,
The magnetic field head runs on the recording film side of the magneto-optical disk, specifically, the organic protective film coated on the recording layer. Crash may occur. Therefore, it is required to reduce the surface energy of the surface of the protective film. Further, the conductive treatment is effective in promptly eliminating static electricity generated by friction between the head and the surface. Therefore, the conductive and low surface energy treatment becomes an important problem not only on the pickup side but also on the recording film side.

【0005】従って、本発明の目的は、導電化、及び低
表面エネルギー化する処理が有効になされ、帯電に起因
する汚れだけでなく、水溶性粘着物、油性粘着物、或い
は高湿環境での液架橋力からの塵埃粒子の付着による汚
れ等を防止することのできる表面処理基体及びそれを用
いた光記録媒体を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to effectively carry out a treatment for reducing electric conductivity and lowering surface energy, and not only stains caused by electrification but also water-soluble adhesives, oily adhesives, or high humidity environments can be used. It is an object of the present invention to provide a surface-treated substrate capable of preventing dirt and the like due to adhesion of dust particles due to liquid crosslinking force, and an optical recording medium using the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究し
た結果、撥水、撥油、撥水−撥油性を有する機能基及び
反応基を有する化合物(C)で基材(S)の表面を被覆
すると、基材(S)と強い結合(化学結合)を持ち、そ
の表面が極めて有効に低表面エネルギー化処理され、ま
た下地に導電層を一層形成することにより有効に導電が
なされ、基材(S)の表面が低湿及び高湿におても耐汚
染性に優れることより上記目的を達成することを知見し
た。
Means for Solving the Problems As a result of diligent research, the present inventors have found that a compound (C) having a functional group having water repellency, oil repellency, water repellency and oil repellency, and a reactive group is used to form a base material (S). When the surface is covered, it has a strong bond (chemical bond) with the base material (S), and the surface is extremely effectively subjected to the surface energy reduction treatment, and by forming a conductive layer on the underlayer, the conductive is effectively conducted. It has been found that the surface of the base material (S) achieves the above object by being excellent in stain resistance even in low humidity and high humidity.

【0007】即ち、本発明は、上記知見に基づいてなさ
れたもので、基材(S)の表面或いは基材上に形成され
た有機保護膜(A)の表面に、該表面を撥水性及び撥油
性の少なくとも一方の機能を有する機能基(H)及び反
応基(R)を分子中に含む化合物で被覆して反応活性エ
ネルギー線の照射により得られた被覆層(C)が形成さ
れていることを特徴とする光学材料用の表面処理基体を
提供するものである。
That is, the present invention has been made on the basis of the above findings, and the surface of the base material (S) or the surface of the organic protective film (A) formed on the base material is provided with water repellency and A coating layer (C) obtained by coating a functional group (H) having at least one function of oil repellency and a reactive group (R) in a molecule and irradiating with a reaction active energy ray is formed. The present invention provides a surface-treated substrate for an optical material characterized by the above.

【0008】以下、本発明に係る表面処理基体及びそれ
を用いた光記録媒体について詳述する。本発明に係る表
面処理基体に用いられる基材(S)は、硝子等の無機基
材或いは樹脂等の有機基材であり特に制限はなく、例え
ば樹脂としては汎用性、透明性の有るポリカーボネート
等を用いることができる。従って、基材(S)表面は、
光記録媒体としてのピックアップサイド、記録層上、も
しくは記録層上にコートされたオーバーコート又はハー
ドコート面であってもよい。
The surface-treated substrate according to the present invention and the optical recording medium using the same will be described in detail below. The substrate (S) used for the surface-treated substrate according to the present invention is an inorganic substrate such as glass or an organic substrate such as a resin and is not particularly limited. For example, a resin having versatility and transparency such as polycarbonate Can be used. Therefore, the surface of the substrate (S) is
It may be a pickup side as an optical recording medium, a recording layer, or an overcoat or a hard coat surface coated on the recording layer.

【0009】基材(S)表面に被覆層を形成する場合、
基材(S)表面(記録層表面等を含む。)に直接被覆層
を形成してもよいが、有機保護膜(A)を介在してから
設けることが望ましい場合がある。有機保護膜(A)の
樹脂は、従来から用いられる保護樹脂であれば別に制限
はなく、一般に用いられる保護コート樹脂であってもよ
いが、本発明においては特に鉛筆硬度がH以上の高硬度
の成膜となる以下に述べる保護樹脂が望ましい。また、
有機保護膜(A)の成膜方法は工程の簡略化を考慮し
て、表面にコートした後、紫外線、電子線硬化等により
成膜することが望ましい。
When a coating layer is formed on the surface of the substrate (S),
The coating layer may be formed directly on the surface of the base material (S) (including the surface of the recording layer, etc.), but it may be desirable to provide it after interposing the organic protective film (A). The resin of the organic protective film (A) is not particularly limited as long as it is a conventionally used protective resin, and may be a commonly used protective coat resin. However, in the present invention, the pencil hardness is particularly H or higher. The protective resin described below, which forms the film, is desirable. Also,
As for the method of forming the organic protective film (A), it is desirable that the surface is coated and then the film is formed by ultraviolet rays, electron beam curing or the like in consideration of simplification of the process.

【0010】有機保護膜(A)は、層表面の耐擦傷性、
基材(S)の表面保護効果を発現させるものとして、1
分子中に2個以上の架橋性官能基を含有するのが望まし
く、以下に示す(メタ)アクリレートの1種あるいは2
種以上適宜選んで用いることができる。
The organic protective film (A) has a scratch resistance of the layer surface,
As a material for exhibiting the surface protection effect of the base material (S), 1
It is desirable to contain two or more crosslinkable functional groups in the molecule, and one or two of the following (meth) acrylates may be included.
It is possible to appropriately select and use one or more species.

【0011】架橋性のある多官能アクリル酸エステルの
例としては、3官能以上としては、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン
トリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパン
テトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レートおよびそのエチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド変性物等が挙げられる。
Examples of the cross-linkable polyfunctional acrylic acid ester include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, as trifunctional or higher functional. Glycerin tri (meta)
Examples thereof include acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and ethylene oxide and propylene oxide modified products thereof.

【0012】2官能のものとしては、1,3−ブタンジ
オールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレ
ート、シクロペンタジエニルアルコールジ(メタ)アク
リレート等が挙げられる。
The bifunctional compounds include 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and diethylene glycol di (meth) acrylate. ) Acrylate, polyethylene glycol di (meth)
Examples thereof include acrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, cyclopentadienyl alcohol di (meth) acrylate and the like.

【0013】上記多官能エステル以外の(メタ)アクリ
レートとしては、ポリエステルポリ(メタ)アクリレー
ト、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタンポリ(メ
タ)アクリレート、ポリシロキサンポリ(メタ)アクリ
レート、ポリアミドポリ(メタ)アクリレート等が挙げ
られる。
Examples of the (meth) acrylate other than the polyfunctional ester include polyester poly (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane poly (meth) acrylate, polysiloxane poly (meth) acrylate, polyamide poly (meth) acrylate. Etc.

【0014】また、有機保護膜(A)を実際にコーティ
ング形成する前に、帯電防止性共重合物の溶解性促進、
粘度張設、基材との密着性向上等の理由で単官能アクリ
レートを添加してもよい。かかる単官能アクリレートと
しては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒ
ドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシ
ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシペンチル
(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシペンチル(メ
タ)アクリレートや2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、N−ヒ
ドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシ
メチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。これら
単官能アクリレートの使用量としては、0〜40重量
%、耐擦傷性等を考慮すると0〜30重量%である。
Further, before actually forming the organic protective film (A) by coating, it promotes the solubility of the antistatic copolymer,
A monofunctional acrylate may be added for the purpose of increasing the viscosity and improving the adhesion to the substrate. As such a monofunctional acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate,
2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxypentyl (meth) acrylate, 4-hydroxypentyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth ) Acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide and the like. The amount of these monofunctional acrylates used is 0 to 40% by weight, and 0 to 30% by weight in consideration of scratch resistance and the like.

【0015】有機保護膜(A)を電子線、γ線等で硬化
する場合は不必要であるが、実用性を考えて紫外線硬化
型で行う場合は、光重合開始剤を添加して行う。光重合
開始剤としては、4−フェキシジクロロアセトフェノ
ン、4−t−ブチルジクロロアセトフェノン、ジエトキ
シアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−フェ
ニルピロパン−1−オンなどのアセトフェノン系光重合
開始剤、ペンゾインメチルエーテル、ペンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベン
ゾイン系光重合開始剤、チオキサンソン等のチオキサン
ソン系光重合開始剤が挙げられ、上記光重合開始剤は1
種であっても2種以上であっても差し支えなく、その使
用量は上記保護樹脂100重量部に対して10重量部以
下が望ましい。また、所望の膜厚を得るためにコーティ
ング時にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール等の溶媒で希釈し、コーティングを行う場合もあ
る。
It is not necessary to cure the organic protective film (A) with an electron beam, γ-ray or the like, but when it is carried out by an ultraviolet curable type in consideration of practicality, it is carried out by adding a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, acetophenone-based photopolymerization initiators such as 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyldichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, and 2-hydroxy-2-methyl-phenylpyropan-1-one. Examples thereof include benzoin-based photopolymerization initiators such as penzoin methyl ether, penzoin isopropyl ether, and benzyl dimethyl ketal, and thioxanthone photopolymerization initiators such as thioxanthone. The photopolymerization initiator is 1
It may be one kind or two or more kinds, and the amount thereof is preferably 10 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the protective resin. Further, in order to obtain a desired film thickness, the coating may be performed by diluting with a solvent such as methanol, ethanol or isopropyl alcohol at the time of coating.

【0016】本発明に係る表面処理基体の被覆層(C)
は、基材(S)表面或いは有機保護膜(A)の表面に形
成され、撥水性及び撥油性の少なくとも一方の機能を有
する機能基(H)及び基材(S)表面と化学結合するた
めの反応基(R)を有する化合物からなる。反応基
(R)としては、(メタ)アクリロイル基(アクリルア
ミド基含む)、ビニル基、エポキシ基、アリル基、シラ
ン基等が挙げられる。また、撥水性、撥油性、或いは撥
水−撥油性の機能を有する機能基(H)としては、フッ
化炭素鎖、炭化水素鎖、ジメチルシロキサン鎖等が挙げ
られる。そして、機能基(H)及び反応基(R)を有す
る化合物には具体的に以下の化1〜化3の群のものが挙
げられる。
Coating layer (C) of the surface-treated substrate according to the present invention
Is formed on the surface of the base material (S) or the surface of the organic protective film (A) and chemically bonds to the functional group (H) having at least one of the water-repellent and oil-repellent functions and the surface of the base material (S). And a compound having a reactive group (R). Examples of the reactive group (R) include (meth) acryloyl group (including acrylamide group), vinyl group, epoxy group, allyl group and silane group. Examples of the functional group (H) having a water-repellent property, an oil-repellent property, or a water-oil-repellent function include a fluorocarbon chain, a hydrocarbon chain, a dimethylsiloxane chain and the like. Then, as the compound having the functional group (H) and the reactive group (R), the compounds of the following chemical formulas 1 to 3 are specifically mentioned.

【0017】[0017]

【化1】 [Chemical 1]

【0018】[0018]

【化2】 [Chemical 2]

【0019】[0019]

【化3】 [Chemical 3]

【0020】これらの反応基(R)に対応した反応処理
方法としては、反応活性エネルギー線処理、熱処理等が
考えられるが、工程の簡便さ、基材(S)へのダメージ
等を考慮すると反応基(R)として(メタ)アクリロイ
ル基、ビニル基を有する化合物を、反応活性エネルギー
線(紫外線、電子線、γ線、X線、プラズマ性等)、特
に限定しないが、工程の簡便さを考慮すると紫外線、電
子線を用いて処理するのが望ましい。
As a reaction treatment method corresponding to these reactive groups (R), reaction activation energy ray treatment, heat treatment and the like are conceivable. However, considering the simplicity of the process, damage to the substrate (S), etc., the reaction The compound having a (meth) acryloyl group or a vinyl group as the group (R) is not particularly limited to reaction activation energy rays (ultraviolet rays, electron rays, γ rays, X rays, plasma properties, etc.), but considering the simplicity of the process. Then, it is desirable to treat with ultraviolet rays or electron beams.

【0021】具体的には、上記化合物であるモノマーを
溶剤に溶かして処理溶液とし、かかる処理溶液を基材
(S)表面等にスピンコート、ディップコート等でコー
ティングし、続いて反応活性エネルギー線、具体的には
紫外線、電子線、放射線、X線、プラズマ線等を照射
し、その後基材(S)表面と化学結合を形成していない
モノマー、オリゴマー成分を洗浄除去する。紫外線照射
においては通常雰囲気で問題ないが、反応効率をあげる
ために窒素気流下で照射することが望ましい。
Specifically, the monomer as the above compound is dissolved in a solvent to prepare a treatment solution, and the treatment solution is coated on the surface of the substrate (S) by spin coating, dip coating, or the like, and then the reaction activation energy ray is applied. Specifically, it is irradiated with ultraviolet rays, electron beams, radiation, X-rays, plasma rays, etc., and thereafter, the monomer and oligomer components that have not formed a chemical bond with the surface of the substrate (S) are removed by washing. In the UV irradiation, there is no problem in the usual atmosphere, but it is desirable to irradiate under a nitrogen stream in order to improve the reaction efficiency.

【0022】また溶液中に光重合開始剤を上記モノマー
に対して0.1〜20wt%、望ましくは1〜5wt%が望
ましく、光開始剤の種類としては4−フェキシジクロロ
アセトフェノン、4−t−ブチルジクロロアセトフェノ
ン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−
メチル−フェニルプロパン−1−オンなどのアセトフェ
ノン系重合開始剤、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール
などのベンゾイン系光重合開始剤、チオキサンソン、2
−クロルチオキサンソン、2,4−ジメチルチオキサン
ソン、2,4−ジエチルチオキサンソン等のチオキサン
ソン系光重合開始剤が挙げられ、上記光重合開始剤は1
種であっても2種以上であっても差し支えない。
Further, the photopolymerization initiator in the solution is preferably 0.1 to 20% by weight, preferably 1 to 5% by weight, based on the above-mentioned monomers, and the kind of the photoinitiator is 4-foxydichloroacetophenone or 4-t. -Butyldichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-
Acetophenone polymerization initiators such as methyl-phenylpropan-1-one, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin photopolymerization initiators such as benzyl dimethyl ketal, thioxanthone, 2
Examples of the thioxanthone-based photopolymerization initiator include chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, and 2,4-diethylthioxanthone.
It does not matter if there are two or more species.

【0023】上記処理溶液をコートする前に、基材
(S)表面を活性エネルギー線処理(紫外線、電子線、
プラズマ等)しておくと、アニオン(カチオン)処理が
一層容易になる。また、活性エネルギー線照射時に所望
のパターンのマスクを用いれば、必要な部分のみ処理が
可能となる。
Before coating the above treatment solution, the surface of the substrate (S) is treated with active energy rays (ultraviolet, electron beam,
If plasma is used, the anion (cation) treatment becomes easier. Further, if a mask having a desired pattern is used at the time of activating the active energy ray, only a necessary portion can be processed.

【0024】本発明に係る表面処理基体にあっては、上
記基材(S)或いは上記有機保護膜(A)表面と上記被
覆層(C)との間に導電層(B)が形成されていること
が望ましい。このような導電層(B)は、上記被覆層
(C)が形成されている場合でも表面処理基体の表面の
静電気の除去に有効に働く。即ち、導電層(B)は、撥
水、撥油層の下地として、表面に発生した静電気を逃が
す働きをする。
In the surface-treated substrate according to the present invention, the conductive layer (B) is formed between the surface of the substrate (S) or the organic protective film (A) and the coating layer (C). Is desirable. Such a conductive layer (B) effectively works to remove static electricity on the surface of the surface-treated substrate even when the coating layer (C) is formed. That is, the conductive layer (B) functions as a ground for the water-repellent and oil-repellent layer to release static electricity generated on the surface.

【0025】導電層(B)は表面抵抗値が1013Ω/□
オーダー以下、望ましくは1012Ω/□オーダー以下の
ものであれば特に限定しないが、光学的に透明であるも
のが望ましい。導電層(B)の代表的なものとしては、
無機系透明導電膜を蒸着法やスパッタリング法などの薄
膜形成手段または塗布法により形成でき、その材料とし
て酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウムスズ(I
TO)、酸化カドミウムスズ、酸化カドミウムなどの透
明導電性酸化物が選ばれる。これらの酸化物は透明導電
性であるばかりでなく、高い表面硬度特性を有している
点で、また、樹脂基材との密着性点でも優れている。膜
厚(又は層厚)は10〜100Å、望ましくは20〜5
0Åの範囲内に設定するのがよい。
The conductive layer (B) has a surface resistance value of 10 13 Ω / □.
It is not particularly limited as long as it is less than or equal to the order, preferably less than or equal to the order of 10 12 Ω / □, but optically transparent is desirable. Typical examples of the conductive layer (B) include:
The inorganic transparent conductive film can be formed by a thin film forming means such as a vapor deposition method or a sputtering method or a coating method, and its material is indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (I
(TO), cadmium tin oxide, cadmium oxide, and other transparent conductive oxides are selected. These oxides are not only transparent conductive, but also have high surface hardness characteristics, and are also excellent in adhesiveness with a resin substrate. The film thickness (or layer thickness) is 10-100Å, preferably 20-5
It is recommended to set it within the range of 0Å.

【0026】また導電層(B)に適用する他の材料とし
て有機系帯電防止剤、例えば、π共役系導電性、または
電荷移動型錯体をコートする方法が挙げられる。先ず、
π共役系導電性材料の代表的なものとしては、ポリビロ
ール、ポリチオフェン、ポリ−p−フェニレン、ポリア
ニリン、ポリパラフェニレン、ポリピレン、ポリアズレ
ン、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリピペラジン、
あるいはこれらの誘導体が挙げられる。また、基材とも
密着性を考慮すると構造中にアニオン(カチオン)基を
もったポリイオンが望ましい。具体的には以下の化4の
群のものが挙げられる。
As another material applied to the conductive layer (B), a method of coating an organic antistatic agent, for example, π-conjugated conductive or charge transfer type complex can be mentioned. First,
Typical examples of the π-conjugated conductive material include polyvirol, polythiophene, poly-p-phenylene, polyaniline, polyparaphenylene, polypyrene, polyazulene, polyfuran, polyselenophene, polypiperazine,
Alternatively, these derivatives may be mentioned. Further, in consideration of adhesion to the base material as well, a polyion having an anion (cation) group in the structure is desirable. Specific examples include those of the following chemical formula 4.

【0027】[0027]

【化4】 [Chemical 4]

【0028】上記導電ポリアニオンを積層する場合は、
ポリカチオン(ポリアリルアミン等)と交互に、また導
電ポリカチオンを積層する場合は、ポリアニオン(ポリ
スチレンスルホン酸等)と交互に積層する必要がある。
処理方法は溶媒に可溶性のもの(ポリアニリン、アルキ
ル置換ポリピロール、アルキル置換ポリチオフェン誘導
体等)は溶剤希釈後コーティング処理することが考えら
れるが、非可溶性のものは基材(S)表面に直接重合処
理する手法が望ましい。この場合、重合性、導電性の面
でポリピロール系化合物が望ましい。
When the conductive polyanion is laminated,
When a conductive polycation is laminated alternately with a polycation (polyallylamine etc.), it is necessary to be laminated alternately with a polyanion (polystyrene sulfonic acid etc.).
As for the treatment method, it is considered that a solvent-soluble substance (polyaniline, alkyl-substituted polypyrrole, alkyl-substituted polythiophene derivative, etc.) is subjected to a coating treatment after being diluted with a solvent, but an insoluble substance is directly subjected to a polymerization treatment on the surface of the substrate (S). Method is preferable. In this case, a polypyrrole compound is preferable in terms of polymerizability and conductivity.

【0029】重合時の酸化剤としては、第二鉄塩、ペル
オクソ二硫酸アンモニウム、塩化第二銅等特に限定しな
いが、第二鉄塩が望ましく、更に耐久性を考慮するとア
ルキルベンゼンスルホン酸第二鉄塩が望ましい。また酸
化剤には第2鉄塩等を用いて、パラトルエンスルホン
酸、アントラキノンスルホン酸等を重合時に添加しても
良い。重合処理方法は、ピロールモノマーと酸化剤を溶
媒中に溶かして、その溶液中にアニオン性基を導入した
基体を浸漬して表面にポリマーを重合させる手法、ある
いは、まず、酸化剤を溶解した溶液中に基材(S)を浸
漬させ、表面に酸化剤を吸着させた後、モノマー溶解さ
せた溶液中に浸漬させる、あるいは蒸気にさらして表面
にポリマーを重合させる方法、あるいは先にモノマーを
基材(S)表面等に含浸させた後、酸化剤に接触させる
手法等が考えられる。
The oxidizing agent during the polymerization is not particularly limited, such as ferric salt, ammonium peroxodisulfate, cupric chloride, etc., but a ferric salt is desirable, and considering durability, ferric alkylbenzene sulfonate Is desirable. A ferric salt or the like may be used as the oxidizing agent, and paratoluenesulfonic acid, anthraquinonesulfonic acid, or the like may be added at the time of polymerization. The polymerization treatment method is a method in which a pyrrole monomer and an oxidizing agent are dissolved in a solvent, and a substrate having an anionic group introduced therein is immersed in the solution to polymerize a polymer on the surface, or, first, a solution in which an oxidizing agent is dissolved. The base material (S) is immersed in the solution, the surface is adsorbed with an oxidizing agent, and then the solution is immersed in a solution in which a monomer is dissolved, or the surface is exposed to steam to polymerize the polymer on the surface. After impregnating the surface of the material (S) or the like, a method of contacting with an oxidant can be considered.

【0030】成膜方法は溶剤に可溶なものは溶媒に溶か
してコーティングするか、或いは可溶でないものは、π
共役系ポリマーをつくるためのモノマーと適当な酸化剤
を溶液中に分散させ、その分散液中に基材(S)を浸漬
させて基材(S)表面にπ共役ポリマーをコートする手
法、あるいは基材(S)に酸化剤を塗布しておき、その
基材(S)をモノマー蒸気中に晒し、導電性膜をコート
する手法等が挙げられる。また、ポリマーにより導電処
理する前に、吸着力を向上させるために基材(S)表面
にアニオン(カチオン)基を導入して表面電荷を制御す
るのが望ましい。
The film-forming method is such that a solvent-soluble one is dissolved in a solvent for coating, or a non-soluble one is π.
A method of dispersing a monomer for producing a conjugated polymer and an appropriate oxidizing agent in a solution, immersing the substrate (S) in the dispersion, and coating the surface of the substrate (S) with the π-conjugated polymer, or Examples include a method of coating the base material (S) with an oxidizing agent, exposing the base material (S) to a monomer vapor, and coating the conductive film. Further, it is desirable to introduce an anion (cation) group on the surface of the base material (S) to control the surface charge in order to improve the adsorptive power before conducting the conductive treatment with the polymer.

【0031】次に、電荷移動錯体系の材料としては、非
イオン性の電子供与性化合物(D)と非イオン性の電子
受容性化合物(Ac)よりなる錯体であり、化合物
(D)の代表例としては、テトラチアフルバレン、テト
ラメチルテトラセレナフルバレン、ビス(エチレンジチ
オ)テトラチアフルバレン、化合物(Ac)の代表例と
しては、テトラジアノキノジメタン(TCNQ)、テト
ラシアノエチレン、およびそれらの誘導体等があり、特
にTCNQ錯体が一般的に用いられる。具体的な錯体の
例としては、TCNQ・キノリン誘導体、TCNQ・イ
ソキノリン誘導体、TCNQ・ピリジン誘導体等が挙げ
られ、成膜方法はこれらの錯体と適当なバインダーを加
えて溶剤で希釈し、塗布コーティングする。
Next, the charge transfer complex type material is a complex composed of a nonionic electron-donating compound (D) and a nonionic electron-accepting compound (Ac), and is a representative of the compound (D). Examples thereof include tetrathiafulvalene, tetramethyltetraselenafulvalene, bis (ethylenedithio) tetrathiafulvalene, and typical examples of the compound (Ac) include tetrazianoquinodimethane (TCNQ), tetracyanoethylene, and a compound thereof. There are derivatives and the like, and especially TCNQ complex is generally used. Specific examples of the complex include a TCNQ / quinoline derivative, a TCNQ / isoquinoline derivative, a TCNQ / pyridine derivative, and the film-forming method is to add these complexes and an appropriate binder, dilute with a solvent, and apply coating. .

【0032】更に、導電層(B)は上述の有機保護膜
(A)に導電性フィラー及び有機系帯電防止剤の少なく
とも一方を添加した導電層としてもよい。具体的には有
機保護膜(A)に先に述べた導電性酸化物、例えばIT
O(インジウムスズオキサイド)、酸化スズ等を微粒子
にした導電性フィラー(粒径5〜1000A)を添加し
たもの、或いは上記π共役系高分子、電荷移動錯体、更
には界面活性剤系の帯電防止剤等の有機系帯電防止剤を
添加することである。添加される界面活性剤系の帯電防
止剤は、望ましくは4級アンモニウム塩系、更に望まし
くは分子構造中に炭素数4以上の炭化水素基、4級アン
モニウム基、エチレンオキサイド基をもつものが望まし
い。主な例は以下の化5の群に示される。
Further, the conductive layer (B) may be a conductive layer obtained by adding at least one of a conductive filler and an organic antistatic agent to the above organic protective film (A). Specifically, for the organic protective film (A), the above-mentioned conductive oxide such as IT
O (indium tin oxide), tin oxide, or other conductive fillers (particle size 5 to 1000 A) added to the particles, or the above π-conjugated polymer, charge transfer complex, and surfactant-based antistatic Is to add an organic antistatic agent such as an agent. The surfactant-based antistatic agent to be added is preferably a quaternary ammonium salt-based antistatic agent, more preferably one having a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, a quaternary ammonium group, or an ethylene oxide group in the molecular structure. . The main examples are shown in the group of formula 5 below.

【0033】[0033]

【化5】 [Chemical 5]

【0034】尚、R1 、R2 、R3 は炭素数4以上の炭
化水素基、R4 はCH3 、Hであり、R5 は炭素数1〜
20のアルキル基である。またnは1〜20、p、q、
及びrは1以上、Lは4以上である。A- :アニオンと
しては、Cl- 、Br- 、CH3 SO4 - 、C2 5
4 - 等である。このような有機系帯電防止剤を含む導
電層(B)或いは有機保護膜(A)の成膜厚は0.1〜
50μm、望ましくは0.3〜10μm程度がよい。ま
た、π共役系高分子、電荷移動錯体の添加量は、全体量
に対して1〜40重量%の範囲で用いることが望まし
く、界面活性剤系の帯電防止剤の添加量は0.1〜10
重量%、望ましくは0.5〜5重量%の範囲が望まし
い。
R 1 , R 2 and R 3 are hydrocarbon groups having 4 or more carbon atoms, R 4 is CH 3 and H, and R 5 is 1 to 1 carbon atoms.
20 alkyl groups. N is 1 to 20, p, q,
And r are 1 or more, and L is 4 or more. A : As the anion, Cl , Br , CH 3 SO 4 , C 2 H 5 S
O 4 -, and the like. The conductive layer (B) or the organic protective film (A) containing such an organic antistatic agent has a film thickness of 0.1 to 10.
50 μm, preferably about 0.3 to 10 μm. Further, the addition amount of the π-conjugated polymer and the charge transfer complex is preferably in the range of 1 to 40% by weight with respect to the total amount, and the addition amount of the surfactant-based antistatic agent is 0.1 to 0.1%. 10
%, Preferably 0.5 to 5% by weight.

【0035】本発明に係る表面処理基体は上述したよう
に光記録媒体の一部又は全体に用いることができる。例
えば、光ディスクの処理を行う場合は、ガラスあるいは
ポリカーボネイト等の樹脂基盤にハードコートを成膜
し、記録層を成膜後に記録面側によりオーバーコート処
理を行い、その後本処理を行う。処理面は主としてピッ
クアップサイド(ハードコート上)、あるいはオーバー
コート上であるが、全面処理しても差し支えない。ま
た、カートリッジ等に挿入して使用する場合はカートリ
ッジに本処理を行ってもよい。
The surface-treated substrate according to the present invention can be used for a part or the whole of an optical recording medium as described above. For example, when processing an optical disc, a hard coat is formed on a resin substrate such as glass or polycarbonate, a recording layer is formed, overcoating is performed on the recording surface side, and then this processing is performed. The surface to be treated is mainly on the pickup side (on the hard coat) or on the overcoat, but the entire surface may be treated. Further, when the cartridge is used by inserting it into a cartridge or the like, the main processing may be performed on the cartridge.

【0036】[0036]

【実施例】以下、本発明に係る表面処理基体及び光記録
媒体の好ましい実施例を説明する。本発明は以下の実施
例に限るものではない。 (実施例1)下記の基体1に処理A〜Fに基づく被覆層
を形成して各実施サンプルを作製し、表面の接触角試験
及び灰付着テストの評価を行った。尚、対照は未処理の
基体1である。その結果を表1に示した。
EXAMPLES Preferred examples of the surface-treated substrate and the optical recording medium according to the present invention will be described below. The present invention is not limited to the following examples. (Example 1) A coating layer based on the treatments A to F was formed on the following substrate 1 to prepare samples of each example, and the surface contact angle test and the ash adhesion test were evaluated. The control is the untreated substrate 1. The results are shown in Table 1.

【0037】〔基体〕 基体1:ペンタエリスリトールトリアクリレート100
重量部、ヒドロキシアクリレート50重量部、光重合開
始剤Irg.500(日本チバガイギー社製)9重量部の混
合物(樹脂1)をポリカーボネイト基板(10cm×10
cm×1mmt)上に硬化膜厚約5μmになるようにコート
し、紫外線照射(高圧水銀タイプ;650mW/cm2 ;1
800mJ/cm2 )により硬化させ、有機保護膜を形成し
た(基体1)。
[Substrate] Substrate 1: Pentaerythritol triacrylate 100
A mixture (resin 1) of 10 parts by weight, 50 parts by weight of hydroxy acrylate, and 9 parts by weight of a photopolymerization initiator Irg.500 (manufactured by Ciba-Geigy) is used as a polycarbonate substrate (10 cm × 10).
cm x 1 mmt) to a cured film thickness of about 5 μm, and then irradiate with ultraviolet rays (high pressure mercury type; 650 mW / cm 2 ; 1
It was cured by 800 mJ / cm 2 ) to form an organic protective film (substrate 1).

【0038】〔処理〕 処理A:基体に2−(perfluorooctyl)ethyl acrylate
(2−パーフロロオクチルエチル アセテート:ダイキ
ンファインケミカル製R−1820)の5wt%溶液(溶
媒:3M製PF5080)(溶液A)をコートし、窒素気流下で
紫外線照射(高圧水銀タイプ;650mW/cm2 ;180
0mJ/cm2 )し、その後、フッ素溶媒(PF5080)、エタ
ノール、水で洗浄し、乾燥させた。
[Treatment] Treatment A: 2- (perfluorooctyl) ethyl acrylate on the substrate
(2-perfluorooctylethyl acetate: R-1820 manufactured by Daikin Fine Chemical Co., Ltd.) was coated with a 5 wt% solution (solvent: PF5080 manufactured by 3M) (solution A), and was irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen stream (high pressure mercury type; 650 mW / cm 2). 180
0 mJ / cm 2 ) and then washed with a fluorine solvent (PF5080), ethanol and water, and dried.

【0039】処理B:処理Aの2−(perfluorooctyl)et
hyl acrylateの代わりに、(perfluorooctyl)ethylene
(パーフロロオクチルエチレン:ダイキンファインケミ
カル製R−1820)の8wt%溶液(溶媒:3M製PF508
0)(溶液B)をコートし、窒素気流下で紫外線照射
(高圧水銀タイプ;650mW/cm2 ;1800mJ/c
m2 )し、その後、フッ素溶媒(PF5080)、エタノー
ル、水で洗浄し、乾燥させた。
Treatment B: 2- (perfluorooctyl) et of Treatment A
(perfluorooctyl) ethylene instead of hyl acrylate
(Perfluorooctylethylene: R-1820 manufactured by Daikin Fine Chemicals) 8 wt% solution (solvent: PF508 manufactured by 3M)
0) (Solution B) and UV irradiation under nitrogen stream (high pressure mercury type; 650 mW / cm 2 ; 1800 mJ / c)
m 2 ) and then washed with a fluorine solvent (PF5080), ethanol and water, and dried.

【0040】処理C:基体に3−perfluorooctyl−1,
2−epoxypropane(3−パーフロロオクチル−1,2−
エポキシプロパン:ダイキンファインケミカル製E−1
830)8wt%溶液(溶媒:3M製PF5080)(溶液C)を
コートし、80℃のオーブン中で1時間加熱し、その
後、フッ素溶媒(PF5080)、エタノール、水で洗浄し、
乾燥させた。
Treatment C: 3-perfluorooctyl-1, on the substrate
2-epoxypropane (3-perfluorooctyl-1,2-
Epoxy propane: E-1 manufactured by Daikin Fine Chemical
830) 8 wt% solution (solvent: PF5080 manufactured by 3M) (solution C) is coated and heated in an oven at 80 ° C. for 1 hour, and then washed with a fluorine solvent (PF5080), ethanol and water,
Dried.

【0041】処理D:基体上に片末端にメタアクリロイ
ル基を持った反応性シリコーンオイル(信越化学工業
(株)製X−2−174D)の5wt%エタノール溶液
(溶液D)をコートし、窒素気流下で紫外線照射(高圧
水銀タイプ;650mW/cm2 ;1800mJ/cm2 )し、
その後、エタノール、水で洗浄し、乾燥させた。
Treatment D: A substrate was coated with a 5 wt% ethanol solution (solution D) of a reactive silicone oil having a methacryloyl group at one end (X-2-174D manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and nitrogen was applied. UV irradiation (high pressure mercury type; 650 mW / cm 2 ; 1800 mJ / cm 2 ) under air flow,
Then, it was washed with ethanol and water and dried.

【0042】処理E:基体に両末端にビニル基を持った
反応性シリコーンオイル(東芝シリコーン(株)製TS
L9686)の5wt%エタノール溶液(溶液E)をコー
トし、窒素気流下で紫外線照射(高圧水銀タイプ;65
0mW/cm2 ;1800mJ/cm 2 )し、その後、エタノー
ル、水で洗浄し、乾燥させた。
Treatment E: The substrate had vinyl groups at both ends
Reactive silicone oil (TS manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.)
L9686) 5 wt% ethanol solution (solution E)
UV irradiation under a nitrogen stream (high pressure mercury type; 65
0 mW / cm21800mJ / cm 2) And then Ethan
Washed with water and dried.

【0043】処理F:基体に片末端にエポキシ基を持っ
た反応性シリコーンオイル(信越化学工業(株)製X−
22−173D)の8wt%エタノール溶液(溶液F)を
コートし、80℃のオーブン中で1時間加熱し、その
後、フッ素溶媒(PF5080)、エタノール、水で洗浄し、
乾燥させた。
Treatment F: Reactive silicone oil having epoxy group at one end on the substrate (X-manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
22-173D) 8 wt% ethanol solution (solution F), heated in an oven at 80 ° C. for 1 hour, and then washed with a fluorine solvent (PF5080), ethanol and water,
Dried.

【0044】〔評価法〕 接触角(水);24℃、50%RH恒温、恒湿中に24
時間以上放置後、基材に0.1μlイオン交換水を滴下
し、測定。 汚れ試験;オレンジジュースに基板を浸漬させ、引き上
げ後80℃で7日放置し、その後、水洗、エタノールで
洗い流した。 ○:汚れ跡が全く残らず △:汚れ跡が残った ×:はっきりとわかる汚れ跡が残った
[Evaluation Method] Contact angle (water): 24 ° C., 50% RH, constant temperature, constant humidity 24
After standing for more than an hour, 0.1 μl of ion-exchanged water was dropped on the substrate and measured. Dirt test: The substrate was immersed in orange juice, pulled up, left at 80 ° C. for 7 days, then washed with water and rinsed with ethanol. ◯: No stain marks left at all Δ: Stain marks remained ×: Stain marks clearly visible

【0045】タバコ灰付着テスト(帯電防止性評価);
23℃、30%RHの環境下で、表面を布で研磨後タバ
コの灰に近づけた。 ○:全く灰が付着せず △:少し灰が付着 ×:顕著な灰付着
Tobacco ash adhesion test (evaluation of antistatic property);
In the environment of 23 ° C. and 30% RH, the surface was polished with a cloth and brought close to tobacco ash. ○: No ash adhered at all △: A little ash adhered ×: Remarkable ash adhered

【0046】[0046]

【表1】 尚、これらの結果は繰り返し評価を行っても、同様の結
果が得られた。
[Table 1] In addition, even when these results were repeatedly evaluated, similar results were obtained.

【0047】(実施例2)下記の基体2〜6に実施例1
と同様の処理Aに基づく被覆層を形成して各実施サンプ
ルを作製し、実施例1と同様の表面の接触角試験及び灰
付着テストの評価を行った。尚、対照は未処理の基体1
である。その結果を表2に示した。
(Example 2) Example 1 was applied to the following substrates 2 to 6.
A coating layer based on the same treatment A as in 1 above was formed to prepare each practical sample, and the surface contact angle test and the ash adhesion test were evaluated in the same manner as in Example 1. The control is untreated substrate 1
Is. The results are shown in Table 2.

【0048】〔基体〕 基体2:ペンタエリスリトールトリアクリレート100
重量部、ヒドロキシアクリレート50重量部、光重合開
始剤Irg.500(日本チバガイギー社製)9重量部の混
合物(樹脂1)をポリカーボネイト基板上に硬化膜厚約
5μmになるようにコートし、紫外線照射(高圧水銀タ
イプ;650mW/cm2 ;1800mJ/cm 2 )により硬化
させ、その有機保護層上にIn2O3 Sn2 のモル比率ガ9:
1であるターゲットを用いて、スパッタリング法により
ITO膜を膜厚50Aで成膜した(基体2)。
[Substrate] Substrate 2: Pentaerythritol triacrylate 100
Parts by weight, 50 parts by weight of hydroxy acrylate, photopolymerization opening
Initiator Irg.500 (manufactured by Nippon Ciba Geigy) 9 parts by weight
Compound (resin 1) cured on polycarbonate substrate
It is coated to a thickness of 5 μm and exposed to ultraviolet light (high pressure mercury
IP; 650mW / cm21800mJ / cm 2) Cured by
On the organic protective layer2O3Sn2Molar ratio of 9:
Using the target of No. 1, by the sputtering method
An ITO film was formed with a film thickness of 50 A (base 2).

【0049】基体3:(樹脂1)中に導電フィラー(酸
化スズ)25重量%、エタノール20重量%を添加した
(樹脂2)を、ポリカーボネイト基板上にスピンコート
法により硬化膜厚約5μmになるようにコートし、紫外
線照射(高圧水銀タイプ;650mW/cm2 ;1800mJ
/cm2 )により硬化させた(基体3)。
Substrate 3: 25% by weight of a conductive filler (tin oxide) and 20% by weight of ethanol was added to (resin 1) (resin 2), and a cured film thickness of about 5 μm was formed on a polycarbonate substrate by spin coating. Coating, UV irradiation (high pressure mercury type; 650 mW / cm 2 ; 1800 mJ
/ Cm 2 ) (substrate 3).

【0050】基体4:実施例1に用いた基体1の有機保
護膜上に、日本カーリット(株)製ポリアニリン溶液を
スピンコート(4000rpm 、20秒)し、その後80
℃、30分加熱した(基体4)。
Substrate 4: A polyaniline solution manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. was spin-coated (4000 rpm, 20 seconds) on the organic protective film of the substrate 1 used in Example 1, and then 80
It was heated at 0 ° C. for 30 minutes (base 4).

【0051】基体5:実施例1に用いた基体1をデシケ
ータ内でSO3HClガスに約5分さらし、続いてピロール
(Py)0.02M、FeCl3 0.03M、パラトルエンス
ルホン酸(PTS)0.01M水溶液に室温で5分間浸漬さ
せ、続いて水洗、エタノール洗浄、乾燥(60℃、10
分)して導電基体(基体5)を得た。
Substrate 5: Substrate 1 used in Example 1 was exposed to SO 3 HCl gas for about 5 minutes in a desiccator, followed by pyrrole (Py) 0.02M, FeCl 3 0.03M, paratoluenesulfonic acid (PTS). ) Immersion in a 0.01 M aqueous solution at room temperature for 5 minutes, followed by washing with water, washing with ethanol, and drying (60 ° C, 10
Then, a conductive base (base 5) was obtained.

【0052】基体6:トリメチロールプロパントリアク
リレート100重量部、ポリエチレングリコールジアク
リレート(新中村化学工業(株)製A−600)50重
量部、4級塩型帯電防止剤Q−D308ESN(花王
(株)製)1.5重量部、Irg.500を9重量部からな
る混合物3をポリカーボネイト基板上に硬化膜厚約5μ
mになるようにコートし、紫外線照射(高圧水銀タイ
プ;650mW/cm2 ;1800mJ/cm2 )により硬化さ
せた(基体6)。
Substrate 6: 100 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate, 50 parts by weight of polyethylene glycol diacrylate (A-600 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), quaternary salt type antistatic agent Q-D308ESN (Kao Corporation) )) 1.5 parts by weight of mixture 3 of 9 parts by weight of Irg.500 is cured on a polycarbonate substrate to a film thickness of about 5 μm.
It was coated to a thickness of m and was cured by irradiation with ultraviolet rays (high pressure mercury type; 650 mW / cm 2 ; 1800 mJ / cm 2 ) (substrate 6).

【0053】[0053]

【表2】 また、これらの結果は繰り返し評価を行っても、同様の
結果が得られた。
[Table 2] Moreover, even when these results were repeatedly evaluated, similar results were obtained.

【0054】(実施例3) 光磁気ディスクへの応用(1) 出光石油化学(株)製3.5インチ光磁気ディスク用ポ
リカーボネイト上に記録層(4層)成膜後、大日本イン
キ化学工業(株)製SD301をオーバーコートして約
8μm成膜し、次に、ピックアップサイドにペンタエリ
スリトールトリアクリレート100重量部、ヒドロキシ
アクリレート50重量部、光重合開始剤Irg.500(日
本チバガイギー社製)9重量部の混合物(樹脂1)を硬
化膜厚約5μmになるようにコートし、紫外線照射(高
圧水銀タイプ;650mW/cm2 ;1800mJ/cm2 )に
より硬化させ、有機保護層を形成した(ディスク比較
例)。
(Example 3) Application to magneto-optical disk (1) After forming a recording layer (4 layers) on a polycarbonate for 3.5 inch magneto-optical disk manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., Dainippon Ink and Chemicals SD301 manufactured by Co., Ltd. was overcoated to form a film having a thickness of about 8 μm, and then 100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 50 parts by weight of hydroxy acrylate, and a photopolymerization initiator Irg.500 (manufactured by Ciba-Geigy Japan) on the pickup side 9 Part by weight of the mixture (resin 1) was coated to a cured film thickness of about 5 μm, and cured by ultraviolet irradiation (high pressure mercury type; 650 mW / cm 2 ; 1800 mJ / cm 2 ) to form an organic protective layer (disk. Comparative example).

【0055】次に、SO3HClガスに約1分さらし、続い
て、ピロール(Py)0.02M、FeCl 3 0.03M、パ
ラトルエンスルホン酸(PTS)0.01M水溶液に室温で
3分間浸漬させ、続いて水洗、エタノール洗浄、乾燥
(60℃、10分)した。続いて、ディスクに2−(per
fluorooctyl)ethyl acrylate(ダイキンファインケミカ
ル製R−1820)の5wt%溶液(溶媒:3M製PF5080)
(溶液A)をコートし、窒素気流下で紫外線照射(高圧
水銀タイプ;650mW/cm2 ;1800mJ/cm2 )し、
その後、フッ素溶媒(PF5080)、エタノール、水で洗浄
し、乾燥させた(ディスク実施例)。
Next, SO3Expose to HCl gas for about 1 minute, then
Pyrrole (Py) 0.02M, FeCl 30.03M
Ratoluenesulfonic acid (PTS) 0.01M aqueous solution at room temperature
Soak for 3 minutes, then wash with water, ethanol, and dry
(60 ° C., 10 minutes). Then, 2- (per
fluorooctyl) ethyl acrylate (Daikin Fine Chemica
5% by weight solution of R-1820 manufactured by Le (solvent: PF5080 manufactured by 3M)
(Solution A) is coated and UV irradiation (high pressure
Mercury type; 650mW / cm21800mJ / cm2),
After that, wash with fluorine solvent (PF5080), ethanol, water
And dried (disk example).

【0056】ディスク実施例及びディスク比較例におい
て、本処理を行った前後で、C/N、感度等の諸特性に
問題となる変化はみられなかった。またディスク実施
例、及びディスク比較例を23℃15%RH、23℃8
0%RH中でダートチャンバー試験(ASTM D2741-68;ダ
スト トナー10μm)を行い、エラーレートを測定し
た。また、両ディスクを汚れテストとして、オレンジジ
ュースに浸漬後、80℃で7日間放置し、その後水洗、
エタノール洗浄を行い、エラーレートを測定した。その
結果を表3に示した。
In the disc example and the disc comparative example, no significant change was observed in various characteristics such as C / N and sensitivity before and after this treatment. In addition, a disk example and a disk comparative example were 23 ° C. 15% RH and 23 ° C.
A dirt chamber test (ASTM D2741-68; dust toner 10 μm) was performed in 0% RH to measure the error rate. Also, as a dirt test for both discs, after soaking in orange juice, leave them at 80 ° C for 7 days, then wash with water,
It was washed with ethanol and the error rate was measured. The results are shown in Table 3.

【0057】[0057]

【表3】 [Table 3]

【0058】(実施例4) 光磁気ディスクへの応用(2) 出光石油化学(株)製3.5インチ光磁気ディスク用ポ
リカーボネイト上に記録層(4層)成膜後、大日本イン
キ化学工業(株)製SD301をオーバーコートして約
8μm成膜し、次に、ピックアップサイドに硬化膜厚約
5μmになるように実施例 基体3の処理に用いた樹脂
2を5μmコートし、紫外線照射(高圧水銀タイプ;6
50mW/cm2 ;1800mJ/cm2 )により硬化させ、有
機保護層を形成した。
(Example 4) Application to magneto-optical disk (2) After forming a recording layer (4 layers) on a polycarbonate for 3.5-inch magneto-optical disk manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., Dainippon Ink and Chemicals SD301 manufactured by Co., Ltd. was overcoated to form a film having a thickness of about 8 μm. Then, the pickup 2 was coated with 5 μm of the resin 2 used in the treatment of the substrate 3 so that the cured film had a thickness of about 5 μm, and was irradiated with ultraviolet rays ( High pressure mercury type; 6
50 mW / cm 2 ; 1800 mJ / cm 2 ) for curing to form an organic protective layer.

【0059】次に、処理Dの処理に用いた溶液Dに本デ
ィスクを30秒間浸漬し、引き上げ後即座に両面に紫外
線照射(高圧水銀タイプ;650mW/cm2 ;1800mJ
/cm 2 )し、水、エタノールで洗浄して実施例4ディス
クを得た。実施例4ディスクは、表面の汚れ防止硬化に
加えて、記録層面側の潤滑性能もあわせてもっており、
ソニー製MD用磁気ヘッドを用いて摩擦係数を測定した
ところ、長期にわたって0.2〜0.3の値を示した。
Next, the solution D used for the treatment D was treated with the main sample.
Immerse the disc for 30 seconds and immediately pull it up on both sides with UV
Ray irradiation (high pressure mercury type; 650 mW / cm)21800mJ
/cm 2), Washed with water and ethanol, and washed with Example 4
Got it. Example 4 The disc is used for curing the surface to prevent stains.
In addition, the lubrication performance of the recording layer side is also included,
The friction coefficient was measured using a Sony MD magnetic head.
However, it showed a value of 0.2 to 0.3 over a long period of time.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明に係る表面処理基体では、導電
化、及び低表面エネルギー化する処理が有効になされ、
帯電に起因する汚れだけでなく、水溶性粘着物、油性粘
着物、或いは高湿環境での液架橋力からの塵埃粒子の付
着による汚れ等を防止することのできる。
With the surface-treated substrate according to the present invention, the treatment for making the surface conductive and lowering the surface energy is effectively performed.
It is possible to prevent not only stains caused by electrification but also water-soluble adhesive substances, oily adhesive substances, or stains caused by adhesion of dust particles due to liquid crosslinking force in a high humidity environment.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材(S)の表面或いは基材上に形成さ
れた有機保護膜(A)の表面に、該表面を撥水性及び撥
油性の少なくとも一方の機能を有する機能基(H)及び
反応基(R)を分子中に含む化合物で被覆して反応活性
エネルギー線の照射により得られた被覆層(C)が形成
されていることを特徴とする光学材料用の表面処理基
体。
1. A functional group (H) having at least one of water-repellent and oil-repellent functions on the surface of a substrate (S) or the surface of an organic protective film (A) formed on the substrate. And a surface-treated substrate for an optical material, which is coated with a compound containing a reactive group (R) in the molecule to form a coating layer (C) obtained by irradiation with a reactive energy ray.
【請求項2】 上記反応基(R)が(メタ)アクリロイ
ル基、ビニル基、エポキシ基で、上記機能基(H)がフ
ルオロカーボン鎖であることを特徴とする請求項1記載
の表面処理基体。
2. The surface-treated substrate according to claim 1, wherein the reactive group (R) is a (meth) acryloyl group, a vinyl group or an epoxy group, and the functional group (H) is a fluorocarbon chain.
【請求項3】 上記反応基(R)が(メタ)アクリロイ
ル基、ビニル基で、上記機能基(H)がシリコーン鎖で
あることを特徴とする請求項1記載の表面処理基体。
3. The surface-treated substrate according to claim 1, wherein the reactive group (R) is a (meth) acryloyl group or a vinyl group, and the functional group (H) is a silicone chain.
【請求項4】 上記基材(S)或いは上記有機保護膜
(A)表面と上記被覆層(C)との間に導電層(B)が
形成されていることを特徴とする請求項1記載の表面処
理基体。
4. The conductive layer (B) is formed between the surface of the substrate (S) or the surface of the organic protective film (A) and the coating layer (C). Surface-treated substrate.
【請求項5】 上記導電層(B)が導電性フィラー及び
有機系帯電防止剤の少なくとも一方を含む、膜厚0.1
〜50μmの透明導電膜であることを特徴とする請求項
4記載の表面処理基体。
5. The film thickness of 0.1, wherein the conductive layer (B) contains at least one of a conductive filler and an organic antistatic agent.
The surface-treated substrate according to claim 4, which is a transparent conductive film having a thickness of ˜50 μm.
【請求項6】 上記導電層(B)がπ共役系導電性材料
からなることを特徴とする請求項4又は5記載の表面処
理基体。
6. The surface-treated substrate according to claim 4, wherein the conductive layer (B) is made of a π-conjugated conductive material.
【請求項7】 上記導電層(B)が無機系導電性膜であ
ることを特徴とする請求項4記載の表面処理基体。
7. The surface-treated substrate according to claim 4, wherein the conductive layer (B) is an inorganic conductive film.
【請求項8】 上記有機保護膜(A)は(メタ)アクリ
ロイル基を2個以上有する(メタ)アクリレート群、及
び親水基を有する(メタ)アクリレート群から選ばれた
少なくとも1以上の重合体でコーティングされて鉛筆硬
度がH以上であることを特徴とする請求項1又は4記載
の表面処理基体。
8. The organic protective film (A) is at least one polymer selected from a (meth) acrylate group having two or more (meth) acryloyl groups and a (meth) acrylate group having a hydrophilic group. The surface-treated substrate according to claim 1, which is coated and has a pencil hardness of H or more.
【請求項9】 基板上に記録層および保護層が順次形成
されてなり、光学的に再生、記録/再生を行う光記録媒
体において、請求項1〜8のいずれかに記載の表面処理
基体の構造を全体或いは一部に有している、表面を低表
面エネルギー化したことを特徴とする光記録媒体。
9. An optical recording medium, comprising a substrate on which a recording layer and a protective layer are sequentially formed, for optical reproduction and recording / reproduction, and the surface-treated substrate according to claim 1. An optical recording medium having a structure as a whole or a part thereof and having a surface having a low surface energy.
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