JPH07121904A - Optical disk - Google Patents

Optical disk

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Publication number
JPH07121904A
JPH07121904A JP5264780A JP26478093A JPH07121904A JP H07121904 A JPH07121904 A JP H07121904A JP 5264780 A JP5264780 A JP 5264780A JP 26478093 A JP26478093 A JP 26478093A JP H07121904 A JPH07121904 A JP H07121904A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hard coat
underlayer
layer
laser light
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP5264780A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shiro Miyata
志郎 宮田
Hideki Matsuoka
秀樹 松岡
Tomoaki Hara
智章 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd, Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP5264780A priority Critical patent/JPH07121904A/en
Publication of JPH07121904A publication Critical patent/JPH07121904A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain a very excellent antistatic effect keeping sufficient resistance to scratching in a laser light incident surface. CONSTITUTION:In an optical disk having a recording layer 4 on a resin transparent substrate 2, a ground layer 8 with a surface resistance below 1X10<10>OMEGA/squ. in the environment of 25 deg.C and RH of 50% is provided on the surface of a substrate on the incoming side of a laser light of the optical disk. Moreover, at least an area 7 into which a laser light is incident of the ground layer 8 is covered with a hard coated layer 6 comprising a hardened film of an active light beam hardening type resin while the whole or a part of the area into which no laser light is incident of the ground layer 8 is exposed to a hard coat layer 6 not being covered.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光などの光ビ
ームにより情報の記録、再生及び/又は消去を行なう光
ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disc for recording, reproducing and / or erasing information with a light beam such as a laser beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、レーザー光などの光ビームを用い
て、高密度の情報の記録、再生及び/又は消去を行なう
光ディスクが注目されている。
2. Description of the Related Art In recent years, an optical disk for recording, reproducing and / or erasing high density information by using a light beam such as a laser beam has attracted attention.

【0003】光ディスクは、記録方式及び記録層の相違
からROMディスク、追記型ディスク、相変化型ディス
ク、有機フォトクロミック材料を記録層としたディス
ク、磁気光学効果を利用した光磁気ディスク等に分類す
ることができる。このうち光磁気ディスクは、情報の書
き換えが自在にでき、応用範囲が広く、実用化に最も近
いディスクと云われ、光ディスクの中でも特に注目を集
めている。既に一部実用化もされている。
Optical discs are classified into ROM discs, write-once discs, phase-change discs, discs having an organic photochromic material as a recording layer, magneto-optical discs utilizing the magneto-optical effect, etc., depending on the recording system and recording layer. You can Among them, the magneto-optical disk is said to be the disk that can rewrite information freely, has a wide range of applications, and is closest to practical use, and has attracted particular attention among optical disks. Some have already been put to practical use.

【0004】3.5インチの一般的な光磁気ディスクを
例として説明すると、図1に示したように、中心から半
径23mm〜41mm程度の領域にグルーブと称される溝が
形成され、グルーブを覆うように中心から半径21mm〜
42mm程度の領域に記録層が形成されている。記録層
は、通常、遷移金属と希土類金属との合金であって、膜
面と垂直方向に磁化容易軸を有する非晶質磁性合金膜及
び誘電体膜、反射膜等からなる。記録層は、空気中の酸
素や水分により腐食され易いため、記録層は保護コート
と称される樹脂被膜により被覆されている。
A general 3.5-inch magneto-optical disk will be described as an example. As shown in FIG. 1, a groove called a groove is formed in a region having a radius of 23 mm to 41 mm from the center. 21mm radius from the center to cover
A recording layer is formed in an area of about 42 mm. The recording layer is usually an alloy of a transition metal and a rare earth metal, and is composed of an amorphous magnetic alloy film having an easy axis of magnetization in the direction perpendicular to the film surface, a dielectric film, a reflective film, and the like. Since the recording layer is easily corroded by oxygen and moisture in the air, the recording layer is covered with a resin film called a protective coat.

【0005】また、一般に光磁気ディスクに用いられる
円盤状透明基板は、ポリカーボネート、ポリメチルメタ
クリレート、アモルファスポリオレフィン等の傷の付き
易い樹脂よりなるため、基板表面の傷付き防止のため、
保護コートがなされた面とは逆の基板面にはハードコー
トがなされている。上記構成は、3.5インチの一般的
な光磁気ディスクを例としているが、他のタイプの光デ
ィスクも通常上記と同様の構成をとっている。
Further, since the disk-shaped transparent substrate generally used for the magneto-optical disk is made of a resin which is easily scratched such as polycarbonate, polymethylmethacrylate, and amorphous polyolefin, in order to prevent scratches on the substrate surface,
A hard coat is formed on the substrate surface opposite to the surface on which the protective coat is formed. Although the above-mentioned configuration takes a general 3.5-inch magneto-optical disc as an example, other types of optical discs usually have the same configuration as the above.

【0006】光ディスクでは、ハードコートのなされた
面からレーザー光などの光ビームを照射することにより
情報の記録、再生及び/又は消去を行なっている。この
ため、ハードコートは平滑で透明であることが要求さ
れ、更に傷が付いたり空気中の塵埃等の異物が付着して
光ビームの進路が妨げられることのないように、耐擦傷
性と塵埃付着防止性が要求される。従って、光ディスク
のハードコートは、これらの要求特性をバランス良く満
たす必要がある。
In an optical disc, information is recorded, reproduced and / or erased by irradiating a light beam such as a laser beam from a hard-coated surface. For this reason, the hard coat is required to be smooth and transparent, and scratch resistance and dust are required to prevent scratches and foreign matter such as dust in the air from adhering to the path of the light beam. Anti-adhesion property is required. Therefore, the hard coat of the optical disk needs to satisfy these required characteristics in a well-balanced manner.

【0007】これらの特性のなかでも、ハードコート面
への塵埃の付着は、ハードコート面が帯電して空気中の
塵埃が静電気的に吸着されることにより発生することが
多い。このようなハードコート面の帯電による塵埃の吸
着といった不都合を防止するために、ハードコートに帯
電防止効果を付与することが提案されている。
Among these characteristics, the adhesion of dust to the hard coat surface often occurs when the hard coat surface is electrified and the dust in the air is electrostatically adsorbed. In order to prevent such an inconvenience that dust is attracted due to electrification of the hard coat surface, it has been proposed to impart an antistatic effect to the hard coat.

【0008】ハードコートに帯電防止効果を付与する手
段としては、例えば、特開昭61一222042号公報
に開示されているように、スパッタリング法や蒸着法等
の方法により製膜したITO等の無機透明導電性膜をハ
ードコートとする方法、あるいは特開平1−11993
4号公報に開示されているように、基板面を紫外線、電
子線等の活性光線により硬化する樹脂の硬化被膜により
被覆し、更にその上に無機透明導電性膜を形成する方法
が知られている。しかし、この方法の無機透明導電性膜
は、その製法上、非常に薄い膜しか得ることができず、
しかも得られた膜は堅くて脆く、容易に欠損してしまう
ため、ハードコートとして必要な耐擦傷性が劣るという
欠点がある。
As means for imparting an antistatic effect to the hard coat, for example, as disclosed in JP-A-61-222042, an inorganic material such as ITO formed by a method such as a sputtering method or a vapor deposition method is used. A method in which a transparent conductive film is used as a hard coat, or JP-A-1-1993
As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4 (1994), there is known a method in which a substrate surface is coated with a cured film of a resin which is cured by an actinic ray such as an ultraviolet ray or an electron beam, and an inorganic transparent conductive film is formed on the cured film. There is. However, the inorganic transparent conductive film of this method, due to its manufacturing method, can only obtain a very thin film,
Moreover, the obtained film is hard and brittle, and is easily broken, so that the scratch resistance required as a hard coat is inferior.

【0009】また、例えば、特開平2−123534公
報に開示されているように、In、Sn、Zn等の金属
酸化物の微粒子を含有した活性光線硬化型樹脂などによ
り基板面を被覆する方法が知られている。この方法で
は、スピンコート法等の量産性に優れた簡便な手段によ
りハードコート層を形成することができるが、十分な帯
電防止効果を付与するためには、酸化物微粒子の含有率
を高める必要があり、この場合、ハードコート層の表面
の平滑性あるいはハードコート層の光学的な均一性を保
つことが著しく困難となり、光ディスクとしての記録再
生特性が低下するという欠点がある。
Further, for example, as disclosed in JP-A-2-123534, there is a method of coating the substrate surface with an actinic ray curable resin containing fine particles of a metal oxide such as In, Sn and Zn. Are known. In this method, the hard coat layer can be formed by a simple method such as a spin coat method which is excellent in mass productivity, but in order to impart a sufficient antistatic effect, it is necessary to increase the content ratio of oxide fine particles. However, in this case, it becomes extremely difficult to maintain the smoothness of the surface of the hard coat layer or the optical uniformity of the hard coat layer, and there is a drawback that the recording / reproducing characteristics of the optical disc deteriorate.

【0010】一方、ハードコートに帯電防止性を付与す
る方法としては、界面活性剤等の有機系帯電防止剤を含
有した活性光線硬化型樹脂をハードコートとして用いる
方法も知られている。この場合、量産性に優れたスピン
コート法が適用でき、かつ、コート剤は基本的に均一系
であるので、ハードコート表面の平滑性やハードコート
層の光学的均一性を損なうことがないという利点があ
る。しかし、この方法では、ハードコート表面の帯電防
止剤成分の極性基に水分が吸着されることにより帯電防
止効果が発現されるため、帯電防止効果の湿度依存性が
大きいと云う欠点がある。湿度の低い冬季において十分
な帯電防止効果を発現させるためには多量の帯電防止剤
成分を用いる必要があり、この場合、湿度の高い夏季に
おいては表面に大量の水分が吸着されてハードコート表
面が粘着性となり、かえって塵埃を吸着し易くなるとい
う欠点がある。また帯電防止剤成分の割合が増加すると
ハードコートの耐擦傷性が損なわれるという問題も発生
する。
On the other hand, as a method of imparting antistatic property to the hard coat, a method of using an actinic ray curable resin containing an organic antistatic agent such as a surfactant as the hard coat is also known. In this case, the spin coating method, which is excellent in mass productivity, can be applied, and since the coating agent is basically a homogeneous system, the smoothness of the hard coat surface and the optical uniformity of the hard coat layer are not impaired. There are advantages. However, this method has a drawback in that the antistatic effect is highly dependent on humidity because the antistatic effect is exhibited by the adsorption of water to the polar groups of the antistatic agent component on the hard coat surface. It is necessary to use a large amount of antistatic agent components in order to develop a sufficient antistatic effect in winter with low humidity.In this case, in summer with high humidity, a large amount of water is adsorbed on the surface of the hard coat surface. It has a drawback that it becomes sticky and, on the contrary, it becomes easier to adsorb dust. Further, when the proportion of the antistatic agent component increases, the scratch resistance of the hard coat may be impaired.

【0011】上記のように、光ディスクのハードコート
に関しては、帯電防止性と耐擦傷性や平滑性を両立させ
るのは極めて困難であるのが実状である。
As described above, in the hard coat of an optical disk, it is actually very difficult to achieve both antistatic property and scratch resistance and smoothness.

【0012】そこで、上記の各種帯電防止層の表面を、
紫外線等の活性光線により硬化可能であって、耐擦傷性
に優れた樹脂の硬化被膜で被覆するという方法が提案さ
れている。例えば、特開平4−64932号公報には、
まず基板面上にITO等の無機透明導電性膜をスパッタ
リング等の真空製膜法で形成し、その膜を活性光線硬化
型樹脂の硬化被膜により被覆してなる光ディスクが開示
されている。
Therefore, the surfaces of the above various antistatic layers are
There has been proposed a method of coating with a cured film of a resin that is curable by an actinic ray such as ultraviolet rays and has excellent scratch resistance. For example, in Japanese Patent Laid-Open No. 4-64932,
First, an optical disk is disclosed in which an inorganic transparent conductive film such as ITO is formed on a substrate surface by a vacuum film forming method such as sputtering, and the film is covered with a cured film of an actinic ray curable resin.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかるに、帯電防止層
の表面を活性光線硬化樹脂の硬化被膜により被覆したハ
ードコートは、表面抵抗測定時に電流が下地の帯電防止
層を経由して流れるため、見かけの表面抵抗値は低くな
るが、最表層が絶縁性の高い活性光線硬化樹脂の硬化被
膜であることには変わりはないので、例えば、表面の摩
擦やコロナ放電等を行なうと、容易に高電圧まで帯電し
てしまい、かつ、その電位がなかなか減衰しないという
欠点がある。従って、見かけの表面抵抗値が低くても真
の意味での帯電防止性が達成できているとは言えない。
However, in a hard coat in which the surface of the antistatic layer is coated with a cured film of an actinic ray curable resin, an electric current flows through the underlying antistatic layer at the time of measuring the surface resistance, and therefore, it is apparent. Although the surface resistance value of is low, the outermost layer is still a cured coating of actinic ray curable resin with high insulation properties.For example, if the surface is rubbed or corona discharge is applied, high voltage can be easily generated. It has the drawback that it is charged up to the maximum and that the potential does not decay easily. Therefore, it cannot be said that the true antistatic property can be achieved even if the apparent surface resistance value is low.

【0014】本発明が解決しようとする課題は、真の意
味での帯電防止性に優れ、十分な塵埃吸着防止性能を発
現し、かつ十分な耐擦傷性を保持したハードコート層を
有する光ディスクを提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is to provide an optical disk having a hard coat layer which is excellent in antistatic property in the true sense, exhibits sufficient dust adsorption preventing performance, and has sufficient scratch resistance. To provide.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、樹脂製透明基板上に記録層を有する光ディ
スクであって、レーザー光入射側の基板表面に、25
℃、50%RHの環境における表面抵抗が1×1010Ω
/□以下である下地層が設けられ、更に、前記下地層の
少なくともレーザー光が入射する領域が活性光線硬化型
樹脂の硬化被膜よりなるハードコート層により被覆さ
れ、かつ前記下地層のレーザー光が入射しない領域の全
体又は一部が、前記ハードコート層に被覆されずに露出
していることを特徴とする光ディスクを提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is an optical disc having a recording layer on a resin transparent substrate, wherein the substrate surface on the laser light incident side is 25
Surface resistance of 1 × 10 10 Ω in the environment of ℃ and 50% RH
/ □ or less is provided, and further, at least the region of the underlayer on which the laser light is incident is covered with a hard coat layer made of a cured film of an actinic radiation curable resin, and the laser light of the underlayer is There is provided an optical disc in which the whole or a part of the non-incident region is exposed without being covered with the hard coat layer.

【0016】以下、本発明を図を用いて詳細に説明す
る。本発明の光ディスクの構成を3.5インチの光磁気
ディスクを例として図2に示した。本発明の光ディスク
は、レーザー光入射面、即ち、記録層の形成された面と
は逆の基板表面に25℃、50%RHの環境における表
面抵抗値が1×10 10Ω/□以下である下地層が設けら
れている。この下地層は、レーザー光入射面において、
レーザー光が入射する領域以外の領域にも形成されてい
る。ここでレーザー光が入射する領域とは、本発明の光
ディスクのレーザー光入射面において、記録、再生及び
/又は消去を行なうレーザー光が入射する可能性のある
すべての領域を意味し、通常、レーザー光入射面とは反
対側の面にグルーブが形成されている領域が該当する。
The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
It The configuration of the optical disk of the present invention is a 3.5-inch magneto-optical
A disk is shown as an example in FIG. Optical disc of the present invention
Is the laser light incident surface, that is, the surface on which the recording layer is formed.
Is the reverse surface of the substrate in the environment of 25 ℃, 50% RH
Sheet resistance is 1 × 10 TenΩ / □ or less underlayer provided
Has been. This underlayer, on the laser light incident surface,
It is also formed in areas other than the area where the laser light is incident.
It Here, the region where the laser light enters is the light of the present invention.
Recording, reproduction, and
Laser light for erasing may be incident
It means the entire area and is usually opposite to the laser light incident surface.
The region where the groove is formed on the opposite surface corresponds to this.

【0017】更に、この下地層の表面の、少なくともレ
ーザー光が入射する領域は活性光線硬化型樹脂の硬化被
膜によりなるハードコート層により被覆されており、か
つ、レーザー光が入射しない領域の全体又は一部におい
て前記下地層が露出している。
Further, on the surface of this underlayer, at least the region where the laser light is incident is covered with a hard coat layer made of a cured film of an actinic radiation curable resin, and the entire region where the laser light is not incident or The base layer is partially exposed.

【0018】本発明において下地層が露出している領域
は、通常、図2に示したように、レーザー光入射領域の
内側の、同心円の帯状領域である。この場合、帯状領域
の半径方向の幅は、好ましくは3mm以上、更に好ましく
は5mm以上である。これら以下の幅では静電気の漏洩性
が劣るので好ましくない。なお、下地層の露出している
領域の形状は図2に例示した形状に限定されず、十分な
静電気の漏洩性が発現されるならば、いかなる形状でも
構わない。
In the present invention, the region where the underlayer is exposed is usually a concentric band-shaped region inside the laser light incident region, as shown in FIG. In this case, the width of the strip-shaped region in the radial direction is preferably 3 mm or more, more preferably 5 mm or more. If the width is less than the above range, the static electricity leakage property is deteriorated, which is not preferable. The shape of the exposed region of the underlayer is not limited to the shape illustrated in FIG. 2 and may be any shape as long as sufficient static electricity leakage is exhibited.

【0019】25℃、50%RHの環境における表面抵
抗値が1×1010Ω/□以下である下地層は、レーザー
光に対する透明性が、記録再生に支障のない程度に高い
もので有ればよい。かかる下地層の例としては、(1)
金属の酸化物よりなる無機透明導電性膜、(2)金属の
酸化物の微粒子を含有する活性光線硬化型樹脂の透明導
電性硬化被膜、(3)有機系帯電防止剤を含有する有機
化合物層、(4)シリコン系帯電防止剤を含有する層よ
りなる被膜等を挙げることができる。
The underlayer having a surface resistance value of 1 × 10 10 Ω / □ or less in an environment of 25 ° C. and 50% RH should have high transparency to laser light to such an extent that recording / reproduction is not hindered. Good. Examples of such an underlayer include (1)
Inorganic transparent conductive film made of metal oxide, (2) transparent conductive cured film of actinic ray curable resin containing fine particles of metal oxide, (3) organic compound layer containing organic antistatic agent And (4) a film comprising a layer containing a silicon-based antistatic agent.

【0020】金属の酸化物よりなる無機透明導電性膜と
しては、例えば、In、Sn、Znのうちの少なくとも
1種を含む金属の酸化物よりなる無機導電性膜が透明性
が高いので好ましく、その中でもIn及びSnの酸化物
よりなる膜(ITO)は、透明性が高く、電気抵抗値が
低い膜を得ることができるので、特に好ましい。これら
の無機透明導電性膜は、真空蒸着法やスパッタリング法
により形成することができる。この無機透明導電性膜
は、記録再生に用いるレーザー光の波長において85%
以上の透過率を有することが好ましい。前記透過率を達
成するため、無機透明導電性膜の膜厚は通常100〜4
000オングストロームの範囲より選択される。
As the inorganic transparent conductive film made of a metal oxide, for example, an inorganic conductive film made of a metal oxide containing at least one of In, Sn and Zn is preferable because of its high transparency. Among them, a film made of an oxide of In and Sn (ITO) is particularly preferable because it has high transparency and a film having a low electric resistance value can be obtained. These inorganic transparent conductive films can be formed by a vacuum vapor deposition method or a sputtering method. This inorganic transparent conductive film is 85% at the wavelength of laser light used for recording and reproduction.
It is preferable to have the above transmittance. In order to achieve the above transmittance, the thickness of the inorganic transparent conductive film is usually 100 to 4
000 Angstrom range.

【0021】金属酸化物の微粒子を含有する活性光線硬
化型樹脂を下地層として用いる金属酸化物の微粒子の例
としては、例えば、In、Sn、Zn、Sbのうちの少
なくとも1種を含む金属の酸化物の微粒子を挙げること
ができる。これらの中でも酸化スズ、酸化インジウムが
透明度や電気抵抗値の観点から好ましく用いられる。こ
れらの酸化物にリン原子などをドープしても良い。金属
の酸化物の微粒子を均一に分散させた活性光線硬化型樹
脂の硬化被膜は、該樹脂をスピンコート法などの方法に
より基板上に塗布し、紫外線などの活性光線を照射して
硬化せしめることにより形成することができる。微粒子
の平均粒径は0.01〜1μmの範囲が好ましく、硬化
被膜の膜厚は0.5〜5μmの範囲が好ましい。なお、
本発明においては、金属の酸化物微粒子を含有する活性
光線硬化型樹脂の硬化被膜よりなる下地層のレーザー光
入射表面を、別の活性光線硬化型樹脂よりなるハードコ
ート層により被覆するため、下地層には耐擦傷性は要求
されない。従って、下地層を極めて薄くすることも可能
であり、樹脂中の金属酸化物微粒子の含有率を通常より
高めて、電気抵抗値を低下せしめても透明度が損なわれ
ない。また下地層表面が、微粒子の浮き出しによる乱反
射のために、透明度が低下しても、その上からハードコ
ートすることにより乱反射が抑えられ透明度が回復す
る。従って、特開平2−123534公報の様に、金属
酸化物微粒子を含有する活性光線硬化型樹脂の硬化被膜
を単独でハードコートとした場合の欠点は、本発明にお
いて解決される。
Examples of the metal oxide fine particles using the actinic radiation curable resin containing the metal oxide fine particles as the underlayer include, for example, a metal containing at least one of In, Sn, Zn and Sb. The oxide fine particles may be mentioned. Among these, tin oxide and indium oxide are preferably used from the viewpoint of transparency and electric resistance value. You may dope these oxides with a phosphorus atom etc. A cured film of an actinic ray curable resin in which fine particles of metal oxide are uniformly dispersed is applied on a substrate by a method such as a spin coat method, and is cured by irradiating with actinic rays such as ultraviolet rays. Can be formed by. The average particle size of the fine particles is preferably in the range of 0.01 to 1 μm, and the film thickness of the cured film is preferably in the range of 0.5 to 5 μm. In addition,
In the present invention, the laser light incident surface of the underlayer made of a cured coating of an actinic ray curable resin containing metal oxide fine particles is covered with a hard coat layer made of another actinic ray curable resin. The formation is not required to have scratch resistance. Therefore, it is possible to make the underlayer extremely thin, and transparency is not impaired even if the content of the metal oxide fine particles in the resin is made higher than usual to lower the electric resistance value. Further, even if the transparency of the surface of the underlayer is reduced due to the irregular reflection due to the protrusion of fine particles, the irregular reflection is suppressed and the transparency is restored by hard coating on the surface. Therefore, the present invention solves the drawbacks in the case where the hardened coating of the actinic radiation curable resin containing the metal oxide fine particles is solely used as the hard coat as in JP-A-2-123534.

【0022】有機系帯電防止剤を含有する有機化合物層
を下地層とした場合、これらは(1)有機系帯電防止剤
を揮発性溶剤に溶解し、これをスピンコート法などの方
法により基板表面に塗布し乾燥する、又は(2)有機系
帯電防止剤を含有する活性光線硬化型樹脂をスピンコー
ト法などの方法により基板表面に塗布し、活性光線照射
により硬化せしめる、等の方法により形成することがで
きる。(1)の方法では乾燥に時間がかかり生産性に劣
るため、(2)の方法の方が好ましい。
When an organic compound layer containing an organic antistatic agent is used as an underlayer, these are (1) an organic antistatic agent dissolved in a volatile solvent, which is then applied to the substrate surface by a method such as spin coating. And then dried, or (2) an actinic ray curable resin containing an organic antistatic agent is applied to the surface of the substrate by a method such as a spin coating method and is cured by irradiation with an actinic ray. be able to. Since the method (1) takes time to dry and is inferior in productivity, the method (2) is preferable.

【0023】本発明において、有機系帯電防止剤とは、
その分子中に親水性部分と、主として有機化合物よりな
る疎水性部分を共に有するような化合物であり、親水性
部分がカチオン性、アニオン性、非イオン性のいずれの
場合でも用いることができる。カチオン性帯電防止剤の
親水性部分としては第1級アミン、第2級アミン、第3
級アミン、ピリジン誘導体及びこれらの塩、更に第4級
アンモニウム塩などを例示することができ、アニオン性
帯電防止剤の親水性部分としては、スルホン酸、カルボ
ン酸、リン酸、及びこれらの金属塩等を例示することが
でき、非イオン性帯電防止剤の親水性部分としてはアル
コール、アミド、エステル、及びこれらのエチレンオキ
シド付加物、あるいはプロピレンオキシド付加物等を例
示することができる。また通常両性界面活性剤と称され
る帯電防止剤も使用可能である。
In the present invention, the organic antistatic agent means
It is a compound having both a hydrophilic portion and a hydrophobic portion mainly composed of an organic compound in its molecule, and can be used regardless of whether the hydrophilic portion is cationic, anionic or nonionic. The hydrophilic portion of the cationic antistatic agent includes primary amine, secondary amine, and tertiary amine.
Examples thereof include secondary amines, pyridine derivatives and salts thereof, and quaternary ammonium salts. Examples of the hydrophilic portion of the anionic antistatic agent include sulfonic acid, carboxylic acid, phosphoric acid, and metal salts thereof. And the like, and examples of the hydrophilic portion of the nonionic antistatic agent include alcohols, amides, esters, and ethylene oxide adducts or propylene oxide adducts thereof. Further, an antistatic agent usually called an amphoteric surfactant can also be used.

【0024】また、これら有機系帯電防止剤の疎水性部
分としては特に制限はないが、アクリロイル基及び/又
はメタクリロイル基等の、適当な光重合開始剤の存在下
で紫外線等の活性光線照射をすることにより硬化可能な
官能基を有している帯電防止剤であれば、活性光線照射
により容易に被膜を形成することができ帯電防止効果の
持続性にも優れるので好ましい。
The hydrophobic portion of these organic antistatic agents is not particularly limited, but is irradiated with an actinic ray such as an ultraviolet ray in the presence of a suitable photopolymerization initiator such as an acryloyl group and / or a methacryloyl group. Accordingly, an antistatic agent having a curable functional group is preferable, because a coating film can be easily formed by irradiation with an actinic ray and the antistatic effect is excellent in sustainability.

【0025】本発明において、シリコン系帯電防止剤と
しては、ポリシロキサン等のシロキサン結合を有するも
のが好ましく用いられる。これらシリコン系帯電防止剤
は、通常溶剤により希釈された形で提供されるが、スピ
ンコート法などの方法により基板上に均一に塗布した
後、加熱や室温放置等の方法により被膜を形成して本発
明の下地層とすることができる。
In the present invention, as the silicon-based antistatic agent, those having a siloxane bond such as polysiloxane are preferably used. These silicon-based antistatic agents are usually provided in a form diluted with a solvent, but after being uniformly applied on a substrate by a method such as a spin coating method, a film is formed by a method such as heating or leaving at room temperature. It can be the underlayer of the present invention.

【0026】本発明において図2に示されるハードコー
ト層としては、光ディスクのハードコート剤として一般
に用いられるアクリル系の活性光線硬化型樹脂等の硬化
被膜を用いることができる。このような活性光線硬化型
樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキ
シアクリレート、ポリエステルアクリレート等の活性光
線硬化性オリゴマー;プロピレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ヘキサメチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、グリセリン及びペンタエリスリトール等のポリ(メ
タ)アクリレート等の活性光線硬化性多官能モノマー;
エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、
ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレー
ト、イソボルニル(メタ)アクリレート等の活性光線硬
化性単官能モノマー;更に必要に応じて光重合開始剤、
重合禁止剤、レベリング剤、潤滑剤等の樹脂添加剤等を
適宜混合して構成した組成物が用いられる。
In the present invention, the hard coat layer shown in FIG. 2 may be a cured coating of an acrylic actinic ray curable resin or the like which is generally used as a hard coat agent for optical disks. Examples of such actinic ray curable resins include actinic ray curable oligomers such as urethane acrylate, epoxy acrylate and polyester acrylate; propylene glycol di (meth).
Acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, hexamethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tri Actinic radiation curable polyfunctional monomers such as poly (meth) acrylates such as methylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin and pentaerythritol;
Ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate,
Actinic ray curable monofunctional monomers such as hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; and a photopolymerization initiator, if necessary,
A composition is used in which a polymerization inhibitor, a leveling agent, a resin additive such as a lubricant, and the like are appropriately mixed.

【0027】尚、このハードコート用組成物に耐擦傷性
を損なわない範囲で界面活性剤及び/又は導電性無機微
粒子等の帯電防止成分を含有せしめることも可能であ
り、かかる成分を含有させハードコート層の膜厚方向の
電気抵抗を若干低下させることで、本発明の効果は著し
く向上する。この帯電防止成分が含まれたハードコート
の表面抵抗は25℃、50%RHにおいて好ましくは1
15Ω/□以下、更に好ましくは1014Ω/□以下であ
れば十分である。通常この程度の表面抵抗のハードコー
ト剤を単独で用いた場合には、帯電防止効果が不十分で
あるが、本発明の方法によれば下地層との相乗効果によ
り著しく良好な帯電防止効果を発現する。図2に示した
ハードコート層は、上記の樹脂組成物を下地層の表面に
スピンコート法により塗布し、活性光線を照射すること
により形成することができる。この際のハードコート層
の膜厚は1〜10μmの範囲であることが好ましい。膜
厚が1μm未満であるとハードコートとしての耐擦傷性
が劣り、また、膜厚が10μmより厚くするとハードコ
ート表面の帯電防止効果が劣る傾向にあるので、好まし
くない。また、ハードコート層を構成する活性光線硬化
型樹脂の硬化被膜は、耐擦傷性の面から鉛筆硬度が2H
以上であることが好ましい。
It is also possible to add an antistatic component such as a surfactant and / or conductive inorganic fine particles to the composition for hard coating within the range where the scratch resistance is not impaired. By slightly reducing the electric resistance in the film thickness direction of the coat layer, the effect of the present invention is remarkably improved. The surface resistance of the hard coat containing the antistatic component is preferably 1 at 25 ° C. and 50% RH.
It is sufficient if it is 0 15 Ω / □ or less, more preferably 10 14 Ω / □ or less. Usually, when a hard coating agent having such a surface resistance is used alone, the antistatic effect is insufficient, but according to the method of the present invention, a remarkably good antistatic effect is obtained due to the synergistic effect with the underlayer. Express. The hard coat layer shown in FIG. 2 can be formed by applying the above resin composition to the surface of the underlayer by a spin coating method and irradiating it with an actinic ray. The thickness of the hard coat layer at this time is preferably in the range of 1 to 10 μm. When the film thickness is less than 1 μm, the scratch resistance as a hard coat is poor, and when the film thickness is more than 10 μm, the antistatic effect on the hard coat surface tends to be poor, which is not preferable. In addition, the cured film of the actinic ray curable resin that constitutes the hard coat layer has a pencil hardness of 2H from the viewpoint of scratch resistance.
The above is preferable.

【0028】光ディスクは、通常、案内溝を有する基板
上に、干渉膜、記録膜、反射膜を構成単位とし、それら
の組み合わせにより形成される記録層を有する。
An optical disk usually has a recording layer formed by a combination of an interference film, a recording film and a reflective film as a constituent unit on a substrate having a guide groove.

【0029】案内溝を有する基板としては、例えば、基
板面に対応する位置に案内溝を形成した金型に、ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレート、アモルファス
ポリオレフィンの如き成形性に優れた樹脂を用いて射出
成形したもの、或いは、フォトポリマー法により、樹脂
の平板上に案内溝を形成したものが挙げられる。
As the substrate having the guide groove, for example, a mold having a guide groove formed at a position corresponding to the substrate surface is injection-molded by using a resin having excellent moldability such as polycarbonate, polymethylmethacrylate, and amorphous polyolefin. Or a guide groove formed on a resin flat plate by a photopolymer method.

【0030】干渉膜には透明性、屈折率の高い無機誘電
体膜が用いられる。材質としては、例えば、SiNx
SiOx、AlSiON、AlSiN、AlN、AlT
iN、Ta25、ZnS等が挙げられる。これら干渉膜
の屈折率は、1.8〜2.8の範囲が好ましく、吸収係
数は0〜0.1の範囲が好ましい。
An inorganic dielectric film having a high transparency and a high refractive index is used for the interference film. As the material, for example, SiN x ,
SiO x , AlSiON, AlSiN, AlN, AlT
iN, Ta 2 O 5, ZnS, and the like. The refractive index of these interference films is preferably in the range of 1.8 to 2.8, and the absorption coefficient is preferably in the range of 0 to 0.1.

【0031】記録膜を構成する材質としては、例えば、
追記型光ディスクでは、Te、SnSe等のカルコゲナ
イト系合金、或いはシアニン系等の有機色素、光磁気デ
ィスクでは、TbFeCo、NdDyFeCo等の遷移
金属と希土類金属の合金、相変化型光ディスクでは、T
eOx、 InSe、SnSb等のカルコゲナイト系合金
等が挙げられる。
The material for the recording film is, for example,
In a write-once optical disc, a chalcogenite alloy such as Te or SnSe, or an organic dye such as cyanine, in a magneto-optical disc, an alloy of a transition metal and a rare earth metal such as TbFeCo or NdDyFeCo, in a phase-change optical disc, T
Examples include chalcogenite alloys such as eO x , InSe, and SnSb.

【0032】反射膜には反射率の高い金属膜或いは合金
膜を使用する。材質は、例えば、金属膜としては、A
l、Au、Ag、Cu等、合金膜としてはAl−Ti、
Al−Cr等が挙げられる。
A metal film or an alloy film having a high reflectance is used for the reflection film. The material is, for example, A as a metal film.
l, Au, Ag, Cu, etc., Al-Ti as an alloy film,
Al-Cr etc. are mentioned.

【0033】干渉膜、金属系記録膜、反射膜は、スパッ
タリング、イオンプレーディング等の物理蒸着法(PV
D)、プラズマCVD等の化学蒸着法(CVD)等によ
って形成し、有機色素系記録膜は溶液をスピンコート
法、ロールコート法等により塗布した後、溶媒を除去し
て形成する。
The interference film, the metal-based recording film, and the reflective film are formed by physical vapor deposition (PV, such as sputtering or ion plating).
D), a chemical vapor deposition method (CVD) such as plasma CVD, or the like, and the organic dye-based recording film is formed by applying a solution by a spin coating method, a roll coating method, or the like, and then removing the solvent.

【0034】更に、反射膜の上に保護コート層を設ける
こともできる。
Further, a protective coat layer may be provided on the reflective film.

【0035】保護コート層の材料には有機系、無機系の
双方が用いられている。有機系の保護コート層を形成す
る場合には、ディッピング法、スピンコート法、ロール
コーター法、蒸着法等の手法が用いられている。一方、
無機系の保護コート層を形成する場合には、スパッタリ
ング法や蒸着法、含浸法等の手法が用いられる。
Both organic and inorganic materials are used for the material of the protective coat layer. When forming an organic protective coat layer, methods such as a dipping method, a spin coat method, a roll coater method, and a vapor deposition method are used. on the other hand,
When forming the inorganic protective coat layer, a method such as a sputtering method, a vapor deposition method, an impregnation method or the like is used.

【0036】これらの保護コート層の形成方法のうち、
紫外線硬化樹脂を用いたスピンコート法は簡便で迅速な
方法であるので好ましい。この方法は、ディスペンサー
を用いて基板上に紫外線硬化樹脂を吐出し、光磁気記録
媒体を高速回転して遠心力により樹脂を広げて塗布を行
なう。塗布された樹脂は、その後、紫外線照射によって
硬化させる。また、スピンコート法は、紫外線硬化樹脂
以外の樹脂に対しても好適に用いることができる。いず
れの場合においても、保護コート層に用いる樹脂は、硬
化後に鉛筆硬度でH以上の硬度を有するものが好まし
い。
Among the methods for forming these protective coat layers,
The spin coating method using an ultraviolet curable resin is preferable because it is a simple and quick method. In this method, an ultraviolet curable resin is discharged onto a substrate using a dispenser, the magneto-optical recording medium is rotated at a high speed, and the resin is spread by centrifugal force for application. The applied resin is then cured by UV irradiation. The spin coating method can also be suitably used for resins other than the ultraviolet curable resin. In any case, the resin used for the protective coat layer preferably has a pencil hardness of H or higher after curing.

【0037】[0037]

【作用】一般に最表層の表面抵抗値が1010Ω/□以下
であれば、静電気は容易に空気中に漏洩し、帯電するこ
とはないが、本発明においては、1010Ω/□以下の低
い表面抵抗を有する下地層が一部露出しているため、活
性光線硬化型樹脂被膜よりなるハードコート層に帯電し
た静電気は一旦下地層に移行した後、露出した部分から
速やかに漏洩していくことができる。従って、本発明の
光ディスクは、静電気の漏洩性に優れる。また、この効
果はハードコート層に微量の帯電防止成分を含有させ、
ハードコート層の垂直方向の電気抵抗を若干低下せしめ
ることで更に向上する。
In general, if the surface resistance of the outermost layer is 10 10 Ω / □ or less, static electricity easily leaks into the air and is not charged, but in the present invention, it is 10 10 Ω / □ or less. Since the underlayer having a low surface resistance is partially exposed, the static electricity charged in the hard coat layer made of the actinic radiation-curable resin film once moves to the underlayer and then leaks quickly from the exposed part. be able to. Therefore, the optical disk of the present invention has excellent static electricity leakage. In addition, this effect is to contain a small amount of antistatic component in the hard coat layer,
It is further improved by slightly lowering the electric resistance of the hard coat layer in the vertical direction.

【0038】また、レーザー光が入射し、耐擦傷性が要
求される領域には、最表層に耐擦傷性に優れた活性光線
硬化型樹脂被膜が形成されているので、本発明の光ディ
スクはレーザー光入射領域での耐擦傷性にも優れる。
Further, since the actinic ray curable resin film having excellent scratch resistance is formed on the outermost layer in the region where the laser light is incident and scratch resistance is required, the optical disk of the present invention is a laser. Excellent scratch resistance in the light incident area.

【0039】[0039]

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。なお、実施例中、「部」は『重量部』を表わ
す。表面抵抗値は三菱油化(株)製のHiresta I
Pを用いて測定した。また、帯電圧の減衰性は、シシド
静電気(株)製のスタチックオネストメーターにより測定
した。耐擦傷性はJIS−K5400に定められたテー
バー摩耗試験(摩耗輪CS−10F、荷重250g、回
転回数100回、回転速度70rpm)の前後のヘーズ
値の差である摩耗ヘーズ値により評価した。摩耗ヘーズ
値は記録層を作製する前の段階で測定した。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples. In the examples, "part" means "part by weight". Surface resistance value is Hiresta I manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd.
It was measured using P. In addition, the attenuation of the charged voltage was measured by a static Honest meter manufactured by Shishido Electrostatic Co., Ltd. The scratch resistance was evaluated by the wear haze value which is the difference between the haze values before and after the Taber wear test (wear wheel CS-10F, load 250 g, rotation number 100 times, rotation speed 70 rpm) defined in JIS-K5400. The wear haze value was measured before the recording layer was formed.

【0040】(実施例1)直径86mmのポリカーボネー
ト基板のレーザー光入射面に、金属酸化物膜をスパッタ
リング法により形成した。即ち、該基板を真空チャンバ
ー内にセットし、3×10-7Torrまで排気し、その
後、アルゴンと酸素の混合ガス(流量比=37:3)を
5×10-3Torrまで導入し、In23・SnO
2(SnO2:5%)ターゲットを用いてマグネトロンス
パッタにより基板の半径位置15〜41mmまでの領域に
約500オングストロームのITO膜を製膜した。
Example 1 A metal oxide film was formed on a laser light incident surface of a polycarbonate substrate having a diameter of 86 mm by a sputtering method. That is, the substrate was set in a vacuum chamber and evacuated to 3 × 10 −7 Torr, and then a mixed gas of argon and oxygen (flow ratio = 37: 3) was introduced to 5 × 10 −3 Torr, and In 2 O 3 · SnO
An ITO film of about 500 angstrom was formed on the region of the substrate at a radial position of 15 to 41 mm by magnetron sputtering using a 2 (SnO 2 : 5%) target.

【0041】次に、基板の中心からの半径23mmの位置
より外側の部分であって該金属酸化物膜表面に、活性光
線硬化型樹脂の硬化被膜よりなるハードコート層をスピ
ンコート法により形成した。即ち、アクリル系紫外線硬
化樹脂(大日本インキ化学工業(株)製「ダイキュアクリ
アEX−704」)を約3μmの膜厚となるようにスピ
ンコータにより塗布し、紫外線を照射して硬化させた。
この樹脂は、ガラス板上での硬化被膜の鉛筆硬度が5H
であり、耐擦傷性に優れた樹脂であった。
Next, a hard coat layer made of a cured film of an actinic ray curable resin was formed on the surface of the metal oxide film outside the position of a radius of 23 mm from the center of the substrate by spin coating. . That is, an acrylic UV curable resin (“DICURE CLEAR EX-704” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was applied by a spin coater to a film thickness of about 3 μm, and was irradiated with UV rays to be cured.
This resin has a pencil hardness of 5H on the glass plate.
The resin was excellent in scratch resistance.

【0042】更に、この基板のハードコート層とは反対
の面に、SiNから成る膜厚100nmの誘電体層、Tb
FeCoから成る膜厚25nmの記録膜層、AlTiから
成る膜厚150nmの反射膜層を順次スパッタ法により製
膜した。
Further, on the surface of the substrate opposite to the hard coat layer, a dielectric layer made of SiN and having a film thickness of 100 nm, Tb.
A recording film layer made of FeCo and having a thickness of 25 nm and a reflective film layer made of AlTi and having a thickness of 150 nm were sequentially formed by sputtering.

【0043】更に、反射膜層を上にしてスピンコーター
にセットし、ディスクを60rpmの速度で回転させな
がら、大日本インキ化学工業(株)製の保護コート剤「ダ
イキュアクリアEX−911」をディスク中心から20
mmの位置に同心円状に塗布した。このディスクを2,0
00rpmの回転速度で3秒間回転せしめることによ
り、保護コート剤を基板全面に広げ、更に基板周囲を窒
素雰囲気として紫外線を照射することにより保護コート
剤を硬化せしめて保護コート層を形成した。
Furthermore, the reflective coating layer was placed on a spin coater, and the disc was rotated at a speed of 60 rpm while a protective coating agent "Dicure Clear EX-911" manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. was used. 20 from the center of the disc
It was applied concentrically at the position of mm. This disk is 2,0
The protective coating agent was spread over the entire surface of the substrate by rotating it at a rotation speed of 00 rpm for 3 seconds, and the peripheral portion of the substrate was irradiated with ultraviolet rays to cure the protective coating agent to form a protective coating layer.

【0044】この光ディスクのハードコート表面の25
℃、50%RHの環境における表面抵抗値は8×1010
Ω/□であった。また、スタチックオネストメーターに
よりハードコート表面に10kVのコロナ放電を行な
い、ハードコート表面の電荷を測定した。ハードコート
表面の飽和電圧は0.5kVで、この電荷は速やかに漏
洩した。また本実施例において記録層を製膜する前の段
階で摩耗ヘーズ値を測定したところ、4.0であり、レ
ーザー光入射面で十分な耐擦傷性を示した。
25 of the hard coat surface of this optical disk
Surface resistance value in the environment of ℃, 50% RH is 8 × 10 10.
It was Ω / □. Further, a corona discharge of 10 kV was performed on the hard coat surface with a static Honest meter to measure the charge on the hard coat surface. The saturation voltage of the hard coat surface was 0.5 kV, and this charge leaked quickly. Further, in this example, the abrasion haze value was measured at a stage before forming the recording layer, and it was 4.0, showing sufficient scratch resistance on the laser light incident surface.

【0045】(比較例1)実施例1において、ITO膜
を基板の中心からの半径24〜40mmの位置に形成し、
該ITO膜をハードコート層で完全に被覆した以外は実
施例1と同様にして光ディスクを得た。
(Comparative Example 1) In Example 1, an ITO film was formed at a position having a radius of 24 to 40 mm from the center of the substrate,
An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ITO film was completely covered with the hard coat layer.

【0046】この光ディスクのハードコート表面の25
℃、50%RHの環境における表面抵抗値は3×1011
Ω/□であった。また、スタチックオネストメーターに
よりハードコート表面に10kVのコロナ放電を行な
い、ハードコート表面の電荷を測定した。ハードコート
表面の飽和電圧は1.5kVで、コロナ放電終了後、1
50秒後の電圧は1.2kVで殆ど電荷が減衰しなかっ
た。このように下地層を完全にハードコート層で被覆し
てしまうと、見かけの表面抵抗は低くなるが、電荷の漏
洩性に劣っていた。
25 of the hard coat surface of this optical disk
Surface resistance is 3 × 10 11 in the environment of ℃ and 50% RH.
It was Ω / □. Further, a corona discharge of 10 kV was performed on the hard coat surface with a static Honest meter to measure the charge on the hard coat surface. The saturation voltage of the hard coat surface is 1.5 kV, and after the corona discharge is completed, 1
The voltage after 50 seconds was 1.2 kV, and the charge was hardly attenuated. Thus, if the undercoat layer is completely covered with the hard coat layer, the apparent surface resistance is lowered, but the charge leakage property is poor.

【0047】(比較例2)実施例1において、ITO膜
を形成した後にハードコート層を形成しなかった以外は
実施例1と同様にして光ディスクを得た。
Comparative Example 2 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was not formed after the ITO film was formed.

【0048】この光ディスクのハードコート表面の25
℃、50%RHの環境における表面抵抗値は3×105
Ω/□であった。また、スタチックオネストメーターに
よりITO層の表面に10kVのコロナ放電を行ない、
表面の電荷を測定した。表面の飽和電圧は0.1kV以
下で全く帯電しなかった。しかしながら、記録層を製膜
する前の段階での摩耗ヘーズ値は40で、基板のポリカ
ーボネートと同等で、耐擦傷性の機能はなかった。
25 of the hard coat surface of this optical disk
Surface resistance is 3 × 10 5 in the environment of ℃ and 50% RH.
It was Ω / □. In addition, the static Honest meter is used to perform corona discharge of 10 kV on the surface of the ITO layer,
The surface charge was measured. The saturation voltage on the surface was 0.1 kV or less, and the surface was not charged at all. However, the abrasion haze value before forming the recording layer was 40, which was equivalent to that of the polycarbonate of the substrate and did not have a scratch resistance function.

【0049】(実施例2)実施例1において、「ダイキ
ュアクリアEX−704」に帯電防止剤ノプコスタット
092(サンノプコ(株)製)を1重量%添加して樹脂組
成物Aを作製した。この樹脂は、ガラス板上での硬化被
膜の鉛筆硬度が4Hであり、耐擦傷性に優れた樹脂であ
った。
Example 2 A resin composition A was prepared by adding 1% by weight of an antistatic agent Nopcostat 092 (manufactured by San Nopco Ltd.) to "Dicure Clear EX-704" in Example 1. This resin was a resin having a pencil hardness of 4H on the glass plate and excellent scratch resistance.

【0050】実施例1において、「ダイキュアクリアE
X−704」の代わりに、この樹脂組成物Aを用いた以
外は、実施例1と同様にして光ディスクを得た。
In the first embodiment, "Dicure clear E
An optical disc was obtained in the same manner as in Example 1 except that this resin composition A was used instead of "X-704".

【0051】この光ディスクのハードコート表面の25
℃、50%RHの環境における表面抵抗値は8×108
Ω/□であった。 また、スタチックオネストメーター
によりハードコート表面に10kVのコロナ放電を行な
い、ハードコート表面の電荷を測定した。ハードコート
表面の飽和電圧は0.1kV以下で、全く帯電せず、極
めて良好な帯電防止効果を示した。また、本実施例にお
いて記録層を製膜する前の段階で摩耗ヘーズ値を測定し
たところ、4.4であり、レーザー光入射面で十分な耐
擦傷性を示した。
25 of the hard coat surface of this optical disk
Surface resistance value in environment of ℃, 50% RH is 8 × 10 8
It was Ω / □. Further, a corona discharge of 10 kV was performed on the hard coat surface with a static Honest meter to measure the charge on the hard coat surface. The saturation voltage on the surface of the hard coat was 0.1 kV or less, it was not charged at all, and showed a very good antistatic effect. Further, the abrasion haze value was measured in the stage before forming the recording layer in this example, and it was 4.4, showing sufficient scratch resistance on the laser light incident surface.

【0052】(比較例3)実施例2において、記録膜層
を有する面と反対側の基板面に、下地層を設けずに、直
接樹脂組成物Aから成るハードコートを設けた以外は、
実施例2と同様にして光ディスクを作製した。
(Comparative Example 3) In Example 2, except that a hard coat made of the resin composition A was directly provided on the surface of the substrate opposite to the surface having the recording film layer without providing an underlayer.
An optical disc was produced in the same manner as in Example 2.

【0053】この光ディスクのハードコート表面の25
℃、50%RHの環境における表面抵抗値は9×1013
Ω/□であった。また、スタチックオネストメーターに
よりハードコート表面に10kVのコロナ放電を行な
い、ハードコート表面の電荷を測定した。ハードコート
表面の飽和電圧は2.5kVで、コロナ放電終了後、1
50秒後の電圧は2.1kVであった。即ち、樹脂組成
物Aのみでは帯電防止効果はなかった。
25 of the hard coat surface of this optical disk
Surface resistance value in the environment of ℃, 50% RH is 9 × 10 13
It was Ω / □. Further, a corona discharge of 10 kV was performed on the hard coat surface with a static Honest meter to measure the charge on the hard coat surface. The saturation voltage of the hard coat surface is 2.5 kV, and after the completion of corona discharge, 1
The voltage after 50 seconds was 2.1 kV. That is, the resin composition A alone had no antistatic effect.

【0054】(実施例3)直径86mmのポリカーボネー
ト基板のレーザー光入射面に、金属の酸化物の微粒子を
含有する活性光線硬化型樹脂の硬化被膜をスピンコート
法により形成した。即ち、金属酸化物を含有する紫外線
硬化型樹脂(シントーケミトロン(株)製「シントロン
(Shintron)C−4456」)を基板の中心か
らの半径20mmの位置より外側の領域に0.5μmの膜
厚になるように塗布、硬化せしめた。
Example 3 A cured coating of an actinic ray curable resin containing fine particles of a metal oxide was formed on the laser light incident surface of a polycarbonate substrate having a diameter of 86 mm by spin coating. That is, an ultraviolet curable resin containing a metal oxide (“Shintron C-4456” manufactured by Shinto Chemitron Co., Ltd.) was used to form a 0.5 μm film in a region outside a radius of 20 mm from the center of the substrate. It was applied and cured so as to be thick.

【0055】次に、該硬化層の半径位置23mmより外の
部分に、実施例2における樹脂組成物Aの硬化被膜より
成る層厚5μmのハードコート層をスピンコート法によ
り形成した。
Next, a hard coat layer having a layer thickness of 5 μm and formed of the cured coating of the resin composition A of Example 2 was formed on the portion outside the radial position of 23 mm of the cured layer by spin coating.

【0056】更に、この基板のハードコート層とは反対
の面に、実施例1と同様にして、誘電体層、記録膜層、
反射膜層を順次スパッタ法により製膜し、更に保護コー
トを行ない本発明の光ディスクを得た。
Further, on the surface opposite to the hard coat layer of this substrate, in the same manner as in Example 1, a dielectric layer, a recording film layer,
A reflective film layer was sequentially formed by a sputtering method, and a protective coat was further applied to obtain an optical disk of the present invention.

【0057】この光ディスクのハードコート表面の25
℃、50%RHの環境における表面抵抗値は1×1010
Ω/□であった。また、スタチックオネストメーターに
よりハードコート表面に10kVのコロナ放電を行な
い、ハードコート表面の電荷を測定した。ハードコート
表面の飽和電圧は、0.2kVでほとんど帯電しなかっ
た。また、記録層を製膜する前の段階での、ディスクそ
のもののヘーズ値は3.0でディスクの透明性も問題な
かった。摩耗ヘーズ値は実施例2と同じであった。
25 of the hard coat surface of this optical disk
Surface resistance is 1 × 10 10 in the environment of ℃ and 50% RH.
It was Ω / □. Further, a corona discharge of 10 kV was performed on the hard coat surface with a static Honest meter to measure the charge on the hard coat surface. The saturation voltage of the hard coat surface was 0.2 kV, and the surface was hardly charged. In addition, the haze value of the disc itself was 3.0 before the recording layer was formed, and the transparency of the disc was not a problem. The wear haze value was the same as in Example 2.

【0058】(比較例4)実施例3において、金属酸化
物含有活性光線硬化樹脂層を基板からの半径24〜40
mmの位置に形成し、該樹脂層をハードコート層で完全に
被覆した以外は、実施例3と同様にして光ディスクを得
た。
(Comparative Example 4) In Example 3, the metal oxide-containing actinic radiation curable resin layer was provided with a radius of 24 to 40 from the substrate.
An optical disk was obtained in the same manner as in Example 3 except that the resin layer was formed at the position of mm and the resin layer was completely covered with the hard coat layer.

【0059】この光ディスクのハードコート表面の25
℃、50%RHの環境における表面抵抗値は3×1010
Ω/□であった。また、スタチックオネストメーターに
よりハードコート表面に10kVのコロナ放電を行な
い、ハードコート表面の電荷を測定した。ハードコート
表面の飽和電圧は1.6kVで、150秒後の電圧は
1.3kVで殆ど減衰しなかった。即ち樹脂組成物Aと
抵抗値の低い下地層との組み合わせでも、下地が露出し
ていないと、電荷の漏洩性が劣っていた。
25 of the hard coat surface of this optical disk
Surface resistance is 3 × 10 10 in the environment of ℃ and 50% RH.
It was Ω / □. Further, a corona discharge of 10 kV was performed on the hard coat surface with a static Honest meter to measure the charge on the hard coat surface. The saturation voltage on the surface of the hard coat was 1.6 kV, and the voltage after 150 seconds was 1.3 kV, which was hardly attenuated. That is, even in the combination of the resin composition A and the underlayer having a low resistance value, the charge leakage was inferior unless the underlayer was exposed.

【0060】(比較例5)実施例3において、金属酸化
物を含有する樹脂層を形成した後に、ハードコート層を
形成しなかった以外は、実施例3と同様にして光ディス
クを得た。
Comparative Example 5 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 3, except that the hard coat layer was not formed after the resin layer containing the metal oxide was formed.

【0061】この光ディスクの下地層表面の25℃、5
0%RHの環境における表面抵抗値は1×108Ω/□
で抵抗値が低かった。 スタチックオネストメーターに
よりハードコート表面に10kVのコロナ放電を行な
い、表面の電荷の減衰を測定したが、ほとんど帯電しな
かった。しかしながら、記録層を製膜する前の段階での
ディスク自体のヘーズ値は22.2であり、下地層とし
ての透明性が著しく劣っていた。また摩耗ヘーズ値も3
3で耐擦傷性の機能はなかった。
The surface of the underlayer of this optical disk is at 25 ° C., 5
The surface resistance value in the environment of 0% RH is 1 × 10 8 Ω / □
The resistance was low. A corona discharge of 10 kV was performed on the surface of the hard coat with a static Honest meter to measure the decay of the charge on the surface, but it was hardly charged. However, the haze value of the disc itself before the formation of the recording layer was 22.2, and the transparency as the underlayer was remarkably inferior. The wear haze value is also 3
There was no scratch resistance function in No. 3.

【0062】(実施例4)実施例3において、金属酸化
物微粒子を含有する紫外線硬化型樹脂から成る下地層に
代えて、有機系帯電防止剤である「SAT−5」(日本
純薬(株)製)の乾燥被膜を用いた以外は、実施例3と同
様にして光ディスクを作製し、評価した。
Example 4 In Example 3, the organic antistatic agent “SAT-5” (Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) was used in place of the underlayer made of the ultraviolet curable resin containing the metal oxide fine particles. An optical disc was prepared and evaluated in the same manner as in Example 3 except that the dry coating of (1) was used.

【0063】「SAT−5」自体の表面抵抗は2×10
9Ω/□で、 ハードコート後は1×1011Ω/□であっ
た。スタチックオネストメーターによる飽和帯電圧は
0.3kVで殆ど帯電しなかった。
The surface resistance of "SAT-5" itself is 2 × 10.
It was 9 Ω / □ and 1 × 10 11 Ω / □ after hard coating. The saturated electrification voltage measured by the static Honest meter was 0.3 kV, and there was almost no charging.

【0064】(実施例5)実施例3において、金属酸化
物微粒子を含有する紫外線硬化型樹脂から成る下地層に
代えて、シリコン系帯電防止剤である「SiコートT
2」(大八化学工業所製)の乾燥被膜を用いた以外は、
実施例3と同様にして光ディスクを作製し、評価した。
(Example 5) In Example 3, the silicon-based antistatic agent "Si Coat T" was used in place of the underlayer made of the ultraviolet curable resin containing the metal oxide fine particles.
2 "(manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.)
An optical disc was prepared and evaluated in the same manner as in Example 3.

【0065】「SiコートT2」自体の表面抵抗は1×
109Ω/□で、 ハードコート後は3×1011Ω/□で
あった。スタチックオネストメーターによる飽和帯電圧
は0.2kVで殆ど帯電しなかった。
The surface resistance of "Si coat T2" itself is 1 ×.
It was 10 9 Ω / □ and 3 × 10 11 Ω / □ after hard coating. The saturated electrification voltage measured by the static Honest meter was 0.2 kV, and there was almost no charging.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の光ディスク
は、電気抵抗が低い下地層と耐擦傷性に優れたハードコ
ートの2層構造であって、耐擦傷性が要求されない部位
において電気抵抗が低い下地層が露出しているので、非
常に優れた帯電防止効果を示し、かつレーザー光が入射
する部位においては優れた耐擦傷性を示す。従って、本
発明の光ディスクは、レーザー光入射面の傷付きや塵埃
の付着による記録再生エラーが起こりにくい、信頼性に
優れたものである。
As described above, the optical disk of the present invention has a two-layer structure of an underlayer having a low electric resistance and a hard coat having an excellent scratch resistance, and has an electric resistance at a portion where the scratch resistance is not required. Since the underlayer having a low heat resistance is exposed, a very excellent antistatic effect is exhibited, and excellent abrasion resistance is exhibited at the site where the laser light is incident. Therefore, the optical disk of the present invention is excellent in reliability, in which a recording / reproducing error due to scratches on the laser light incident surface or adhesion of dust hardly occurs.

【0067】更に、本発明の光ディスクは、ハードコー
ト層の電気抵抗を若干低下させることにより、下地層と
の相乗効果により帯電防止効果が顕著に向上したもので
ある。
Further, in the optical disk of the present invention, the electric resistance of the hard coat layer is slightly lowered, and the antistatic effect is remarkably improved by the synergistic effect with the underlayer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の光ディスクの一般的な構成を示す模式断
面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a general configuration of a conventional optical disc.

【図2】本発明の光ディスクの構成を示す模式断面図で
ある。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical disc of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ディスク中心線 2 円盤状透明基板 3 グルーブ 4 記録層 5 保護コート 6 ハードコート 7 レーザー光入射領域 8 下地層 1 disk center line 2 disk-shaped transparent substrate 3 groove 4 recording layer 5 protective coat 6 hard coat 7 laser light incident area 8 base layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原 智章 千葉県佐倉市六崎台1−28−A−208 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tomoaki Hara 1-28-A-208 Rokuzakidai, Sakura City, Chiba Prefecture

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂製透明基板上に記録層を有する光デ
ィスクであって、この光ディスクのレーザー光入射側の
基板表面に、25℃、50%RHの環境における表面抵
抗が1×1010Ω/□以下である下地層が設けられ、更
に、前記下地層の少なくともレーザー光が入射する領域
が活性光線硬化型樹脂の硬化被膜よりなるハードコート
層により被覆され、かつ前記下地層のレーザー光が入射
しない領域の全体又は一部が、前記ハードコート層に被
覆されずに露出していることを特徴とする光ディスク。
1. An optical disc having a recording layer on a transparent resin substrate, wherein the substrate surface on the laser light incident side of the optical disc has a surface resistance of 1 × 10 10 Ω / 25 ° C. and 50% RH. □ The following underlayer is provided, and at least the region of the underlayer on which the laser light is incident is covered with a hard coat layer made of a cured coating of actinic radiation curable resin, and the laser light of the underlayer is incident. An optical disc, wherein the whole or a part of the area not exposed is exposed without being covered with the hard coat layer.
【請求項2】 前記下地層が、金属の酸化物よりなる無
機透明導電性膜である請求項1記載の光ディスク。
2. The optical disc according to claim 1, wherein the underlayer is an inorganic transparent conductive film made of a metal oxide.
【請求項3】 前記下地層が、金属酸化物の微粒子を含
有する活性光線硬化型樹脂からなる透明導電性硬化被膜
である請求項1記載の光ディスク。
3. The optical disk according to claim 1, wherein the underlayer is a transparent conductive cured film made of an actinic ray curable resin containing fine particles of metal oxide.
【請求項4】 前記下地層が、有機系帯電防止剤を含有
する有機化合物層である請求項1記載の光ディスク。
4. The optical disk according to claim 1, wherein the underlayer is an organic compound layer containing an organic antistatic agent.
【請求項5】 前記下地層が、シリコン系帯電防止剤を
含有する層である請求項1記載の光ディスク。
5. The optical disc according to claim 1, wherein the underlayer is a layer containing a silicon-based antistatic agent.
【請求項6】 請求項1におけるハードコート層を構成
する活性光線硬化型樹脂に、帯電防止成分が含有されて
いる請求項1、2、3、4又は5の光ディスク。
6. The optical disc according to claim 1, wherein the actinic radiation curable resin constituting the hard coat layer in claim 1 contains an antistatic component.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007317347A (en) * 2006-04-25 2007-12-06 Victor Co Of Japan Ltd Optical storage medium

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