JPH05122892A

JPH05122892A - 直線動磁気支持装置

Info

Publication number: JPH05122892A
Application number: JP3280059A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Takahara; 憲一高原
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1991-10-25
Filing date: 1991-10-25
Publication date: 1993-05-18
Anticipated expiration: 2016-08-13
Also published as: JP3197031B2

Abstract

(57)【要約】【目的】可動体を磁気力で非接触に支持するものであっ
て、外乱による軸回り振動を簡単な構成で減衰させ得る
直線動磁気支持装置を提供する。【構成】可動体４は、可動体４の外周面に形成された凸
状磁極１３ａ〜１３ｄと、これに対向するように配置さ
れた継鉄１１ａ〜１１ｄおよびこれらに巻装されたコイ
ル１２ａ〜１２ｄからなる電磁石とによって非接触に支
持される。可動体４の各凸状磁極１３ａ〜１３ｄ間位置
には位置検出に供される平坦面１４ａ〜１４ｄが設けて
あり、これに対向する位置には容積変化検出形の位置検
出器１５ａ〜１５ｄが設けられている。位置検出器１５
ａ〜１５ｄの出力は、一方においては可動体４の半径方
向位置制御信号に供され、他方においては回転方向の振
動を減衰させる制御信号の生成に供される。生成された
制御信号によって各電磁石が共通に制御される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、可動体を磁気力で一定
位置に非接触に浮上させる直線動磁気支持装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、光干渉計の走査鏡や精密
直進テーブルを支持する支持装置には、これらを高精度
に位置決めする機能が要求される。このような要求に対
処するために通常は、ガイド機構に案内されて滑らかに
直線動する可動体を設け、この可動体を精密ボールネジ
送り機構で移動させる構造が採用されている。

【０００３】しかし、このような機械式の位置決め方式
を採用した支持装置では構成部品を極めて高い精度で加
工しなければならない問題があった。また、たとえ部品
を高精度に加工したとしてもボールネジのバックラッシ
ュなどの影響を完全に回避することができないので、位
置決め精度には限界がある。さらに、過酷な温度環境や
高真空下のような特殊環境においては、ガイド機構やボ
ールネジの潤滑などの問題で長期間使用することが困難
であった。そこで、このような問題を解消するために、
可動体を磁気力で、つまり磁気軸受で完全非接触に浮上
させる方式が考えられる。

【０００４】しかしながら、このように磁気軸受を用い
た、いわゆる直線動磁気支持装置にあっては次のような
問題があった。すなわち、磁気軸受を用いた場合、静止
体側の磁極と可動体側の磁極とを凸状構成にしておけ
ば、可動体に軸回りの外乱が加わったときに両磁極間に
生じる磁気的吸引力で軸回り振動を受動的に減衰させる
ことができる。しかし、軸回り振動を受動的に減衰させ
る方式では、減衰効果が小さいため、振動が持続しやす
く、これが原因して磁気軸受の制御系が不安定となる問
題がある。また、可動体を高精度に位置決めしなければ
ならないときには上記振動によって精度を維持できなく
なる問題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このように磁気軸受を
用いていわゆる直線動磁気支持装置を構成してようとし
ても可動体の軸回りの回転抑制が受動的なものであるた
め、外乱などによる軸回り振動の減衰効果が小さく、高
精度な位置決めを実現することが困難であった。

【０００６】そこで本発明は、磁気軸受を構成する電磁
石や位置検出器の数を増やすことなく、軸回りの回転変
位の検出と効果的な軸回り振動の抑制制御とが行える直
線動磁気支持装置を提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る直線動磁気支持装置は、静止体と、こ
の静止体の近傍に配置された可動体と、前記静止体の前
記可動体を囲む位置にそれぞれの磁極面を上記可動体に
向けて周方向に固定された複数の継鉄と、これら継鉄に
装着されたコイルと、前記可動体の外周面に前記各継鉄
の磁極面に対向させて複数突設された凸状磁極と、前記
可動体の外周面に設けられた平坦状の位置検出面と、上
記各位置検出面との間の距離を非接触で検出する複数の
位置検出器と、これら位置検出器の出力に対応させて前
記各コイルの電流を制御して前記可動体を一定位置に磁
気力で非接触に浮上させる浮上制御系と、前記各位置検
出器の出力のうちの少なくとも２つの出力の和の信号に
対応させて前記各コイルの電流を制御して前記可動体の
軸回り振動を減衰させる振動減衰制御系とを備えてい
る。

【０００８】

【作用】可動体の外周面に平坦状の位置検出面を複数設
けるとともに、これら位置検出面に対向させて、静止体
側に複数の位置検出器を設けているので、各位置検出器
として渦電流式位置検出器などの容積変化検出形のもの
を用いれば、これら位置検出器の出力から可動体の半径
方向変位信号ばかりか、後述する手法で可動体の回転方
向変位信号も得ることができる。浮上制御系は半径方向
変位信号に基づいてコイル電流を制御し、振動減衰制御
系は回転方向変位信号に基づいてコイル電流を共通に制
御している。したがって、電磁石や位置検出器の個数を
増やすことなしに従来できなかった回転振動減衰制御が
可能となる。回転方向変位信号の絶対値が大きいときに
はコイルへ流す電流を同様に増やすことによって軸回り
振動を良好に減衰させることができる。可動体が空隙の
ほぼ中央に位置する場合、軸回り振動を減衰させるため
にコイルに電流を重畳しても半径方向の吸引力がバラン
スし、可動体の軸回りの振動が減衰するだけで、可動体
の半径方向位置は目標位置に保持される。

【０００９】

【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。図１には本発明の一実施例に係る直線動磁気支持装
置、ここにはガス分布状態測定用光干渉計の走査鏡を支
持するための直線動磁気支持装置が示されている。

【００１０】同図において、１は静止体を示している。
この静止体１は、ベース２と、このベース２に固定され
た非磁性材製の筒体３とで構成されている。そして、筒
体３内には、ほぼ円柱状に形成された可動体４が筒体３
の軸心線方向に移動自在に配置されている。

【００１１】可動体４は、磁性材で形成されており、図
中ほぼ右半分が中空に形成されている。また、可動体４
の図中ほぼ左半分は中心棒状部５と、円筒状空洞部６
と、外側筒状部７とを同心的に配列した構造に形成され
ている。可動体４の図中右端部にはミラー支持体８が装
着されており、このミラー支持体８には走査鏡９が固定
されている。

【００１２】可動体４と筒体３とには、筒体３で可動体
４を非接触に支持するための磁気軸受装置１０の主要素
１０ａ，１０ｂが軸方向の２箇所、つまり図中矢印Ａ，
Ｂで示す位置にそれぞれ設けられている。

【００１３】磁気軸受装置１０は吸引支持型のもので、
その主要素１０ａ，１０ｂのうち、矢印Ａで示す位置に
設けられている主要素１０ａを代表して示すと、図２に
示すように構成されている。すなわち、この主要素１０
ａは筒体３の内周面に周方向へ９０度の間隔をあけ、か
つ磁極面を可動体４の軸心線に向けて固定された継鉄１
１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄと、これら継鉄に装着さ
れたコイル１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄと、可動体
４の外周面に周方向へ９０度の間隔をあけ、かつ可動体
４のほぼ全長に亘って延びる関係に形成された凸状磁極
１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄと、これら凸状磁極間
に可動体４のほぼ全長に亘って延びる関係に固定された
非磁性体、例えばステンレス鋼の薄板によって形成され
て半径方向の変位検出に供される平坦面１４ａ，１４
ｂ，１４ｃ，１４ｄと、各継鉄間に位置する関係に筒体
３にそれぞれ固定されて各平坦面との間の距離を検出す
る、たとえば渦電流式検出器等の容積変化検出形の検出
器で構成された位置検出器１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１
５ｄとで構成されている。

【００１４】各継鉄１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ
は、図１に継鉄１１ｃを代表して示すように、２つの磁
極面１６ａ，１６ｂを備え、これら２つの磁極面１６
ａ，１６ｂが軸方向に配列されるように筒体３の内面に
固定されている。各継鉄１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１
ｄに装着されたコイル１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ
は、それぞれバイアスコイル１７と制御コイル１８とで
構成されている。可動体４を境にして対向する継鉄に装
着されたバイアスコイル１７は互いに逆向きの磁束を発
生するように直列に接続され、また同継鉄に装着された
制御コイル１８は互いに同じ向きの磁束を発生するよう
に直列に接続されている。

【００１５】なお、各継鉄１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１
１ｄの２つの磁極面１６ａ，１６ｂと可動体４に設けら
れた４つの凸状磁極１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄの
磁極面とは両者が回転によって接触しないように、可動
体４の軸心線を中心とした円筒曲面状に形成されてい
る。主要素１０ｂについても主要素１０ａと同様に構成
されている。

【００１６】可動体４の図１中左側で、この可動体４と
筒体３とには、可動体４に対して軸方向の移動力を非接
触で選択的に与える電磁力発生機構２０が設けられてい
る。この電磁力発生機構２０は、公知のボイスコイルモ
ータと同様に、外側筒状部７の開放端側内周面に固定さ
れ、半径方向に着磁された環状の永久磁石２１と、全体
が筒状に形成されて円筒状空洞部６に非接触に嵌入装着
された筒状コイル２２とで構成されている。なお、筒状
コイル２２の基端は、筒体３に固定されている。

【００１７】また、主要素１０ａと１０ｂの間および静
止体１の図１中左側にはタッチダウン軸受２３ａ，２３
ｂ，２３ｃが設けられており、可動体４を磁気浮上させ
ていないときに各継鉄１１ａ〜１１ｄと凸状磁極１３ａ
〜１３ｄとが衝突しないようになっている。

【００１８】一方、ミラー支持体８の外周面には、可動
体４の軸心線に沿って延びる関係に配置された補助板２
４の一端側が固定されている。この補助板２４の図１中
下面は、図３に示すように可動体４の軸心線に対して傾
斜した傾斜面２５に形成されている。静止体１には、傾
斜面２５との間の距離から可動体４の軸方向の位置を非
接触に検出する軸方向位置検出器２６が固定されてい
る。そして、軸方向位置検出器２６、筒状コイル２２、
前述した磁気軸受装置１０の主要素１０ａ，１０ｂを構
成しているバイアスコイル、制御コイルおよび位置検出
器は、図４に示す制御装置３１に接続されている。

【００１９】制御装置３１は、磁気軸受制御部３２と、
軸方向位置制御部３３とで構成されている。なお、この
図４には主要素１０ａのコイル１２ａ〜１２ｄを付勢制
御する磁気軸受制御部３２が示されており、主要素１０
ｂの各コイルを付勢制御する制御部は省略されている。

【００２０】磁気軸受制御部３２は、４つの半径方向位
置検出器１５ａ〜１５ｄの出力をそれぞれ処理回路３４
に導入し、半径方向の変位量に変換している。すなわ
ち、可動体４に対して図６の矢印に示すような位置に位
置検出器１５ａ〜１５ｄが設けられている。今、それぞ
れの出力をＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４とする。同様に矢印
Ｂで示す位置に設けられた位置検出器１５ａ〜１５ｄの
出力をＳ５，Ｓ６，Ｓ７，Ｓ８とする。可動体４の矢印
Ａ，Ｂ上でのＸ軸、Ｙ軸方向の変位量をそれぞれＸ１，
Ｙ１，Ｘ２，Ｙ２とすると、

【００２１】

【数１】となる。処理回路３４は、変位量Ｘ１，Ｙ１（Ｘ２，Ｙ
２）を求めている。

【００２２】そして、これら変位量を制御回路３５に導
入して基準位置との差から操作量を決定し、これら操作
量を電流増幅器３６で電流に変換し、この電流をコイル
１２ａ〜１２ｄの制御コイル１８に与えるようにしてい
る。なお、電流増幅器３６の入力端は電源３７に接続さ
れている。

【００２３】また、位置検出器１５ａ〜１５ｄの出力を
振動減衰制御部３８の処理回路３９に導入している。こ
の処理回路３９で位置検出器１５ａ〜１５ｄの出力から
回転変位量を求め、その出力を制御回路４０に導入して
いる。制御回路４０では導入された回転変位量信号に基
づいてバイアスコイル１７に流す制御電流の大きさおよ
びタイミングを決定し、この信号を電流増幅器４１に導
入する。この電流増幅器４１からの出力がバイアスコイ
ル１７に印加される。

【００２４】図５には制御回路４０の構成が示されてい
る。この図には処理回路３９の出力が２チャンネルの例
が示されている。この制御回路４０は、比較回路５４、
回転制御電流設定回路５５、バイアス設定回路５６、切
替回路５７、加算回路５８とから構成されている。比較
回路５４は処理回路３９の出力である回転変位信号とあ
るしきい値とを比較し、回転変位信号がしきい値を越え
ているとき、この回転変位信号を回転制御電流設定回路
５５に与える。回転制御電流設定回路５５は回転変位信
号のレベルおよび変化に応じた値およびタイミングにバ
イアスコイル１７に重畳する回転制御電流を設定する。
バイアス設定回路５６はバイアスコイル１７に定常的に
流す電流値を設定するものである。切替回路５７はバイ
アス設定回路５６と回転制御電流設定回路５５の出力を
ＯＮ／ＯＦＦするもので、必要に応じてＯＮ／ＯＦＦさ
れる。加算回路５８はバイアス設定回路５６から出力さ
れたバイアス電流信号と回転制御電流設定回路５５から
出力された制御電流信号とを重畳し、この信号を電流増
幅器５４へ与える。そして、電流増幅器５４の出力で各
バイアスコイル１７の通電電流が制御される。

【００２５】一方、軸方向位置制御部３３は、軸方向位
置検出器２６の出力と位置検出器１５ａ〜１５ｄの出力
とを処理回路５９に導入し、この処理回路５９で可動体
４の半径方向位置によって軸方向位置検出器２６の出力
に現われる誤差分を除去した真の軸方向位置信号を得て
いる。そして、得られた軸方向位置信号と目標位置信号
Ｈとの偏差を制御回路６０で求め、この偏差を電流増幅
器６１で電流に変換し、この電流を筒状コイル２２に流
すようにしている。この制御によって、可動体４を目標
位置まで移動させ、この目標位置で停止させるようにし
ている。

【００２６】このような構成であると、磁気軸受装置１
０を動作させると、各バイアスコイル１７が付勢される
とともに各制御コイル１８が可動体４の半径方向におけ
る変位量に応じたレベルで、かつ変位方向に応じた極性
の電流で付勢される。すなわち、継鉄１１ａ〜１１ｄの
磁極面と凸状磁極１３ａ〜１３ｄの磁極面との間の磁気
ギャップ長が位置検出器１５ａ〜１５ｄの出力に基いて
求められる。そして、磁気ギャップ長が広くなった部分
については、その磁気ギャップを通る磁束を増加させる
ように制御コイル１８が付勢される。また磁気ギャップ
長が狭くなった部分については、その磁気ギャップを通
る磁束を減少させるように制御コイル１８が付勢され
る。このため、可動体４は静止体１に対して磁気軸受装
置１０で完全に非接触に支持される。なお、この例では
制御回路３５にオフセット信号Ｆを与えることによっ
て、可動体４の半径方向安定位置を可変できるようにし
ている。

【００２７】また、目標位置信号Ｈを与えると、電磁力
発生機構２０が動作し、公知のボイスコイルモータと全
く同じ原理で、可動体４に対して非接触に軸方向への移
動力を与え、可動体４を目標位置で停止させる。この場
合、位置制御に必要な軸方向の位置検出は、補助板２４
に設けられた傾斜面２５を検出対象とした軸方向位置検
出器２６によって非接触に検出される。したがって、軸
方向の駆動及び位置決めも完全非接触で行なわれる。

【００２８】ところで、運転中に可動体４に軸回り方向
の外力が加わり、この外力によって可動体４が軸回り振
動しようとしたときには、次のような制御が行われる。
すなわち、可動体４に軸回りに回転力が加わったとき、
位置検出器１５ａ〜１５ｄの出力が振動減衰制御部３８
の処理回路３９において回転変位量に変換される。図７
に示すように、可動体４に回転力が加わり、可動体４が
軸回りにθ度回転した場合、位置検出器１５ａ〜１５ｄ
の出力は変化する。

【００２９】すなわち、回転していないときの位置検出
器１５ａの出力をｄ０とすると、θ度の回転によって可
動体４の平坦面１４ａが傾き、位置検出器１５ａの検出
エリアにおいて平坦面１４ａの左端が右端よりも大きく
位置検出器１５ａに近づくので、位置検出器１５ａの出
力は小さくなる。この変化をδｄとすると、位置検出器
１５ａの出力ｄ１は、ｄ１＝ｄ０−δｄとなり、同様に、位置検出器１５ａとは１８０度異なる
位置に設けられた位置検出器１５ｃの出力ｄ３は、ｄ３＝ｄ０−δｄとなる。それぞれの出力の和をｄ１３とすると、ｄ１３＝２ｄ０−２δｄとなる。

【００３０】ところで、回転変位θが零のときの位置検
出器１５ａ，１５ｃの出力をｄ０としたが、図示した可
動体４の位置は通常可動体４が磁気浮上するときのノミ
ナルな位置であるから、このｄ０は零に調整される。し
たがって、ｄ１３＝−２δｄとなり、回転によって生じた値のみが出力されることに
なる。したがって、４個の位置検出器１５ａ〜１５ｄの
出力の和ｄθ１は、ｄθ１＝−４δｄとなる。同様に矢印Ｂ（図１参照）における位置検出器
１５ａ〜１５ｄの出力の和ｄθ２は、ｄθ２＝−４δｄとなる。これらの和をとっても回転によって生じた値の
みが検出される。この和をｄθとすると、ｄθ＝−８δｄとなる。

【００３１】ｄ１３，ｄθ１，ｄθ２，ｄθのいずれも
が回転によって生じた値のみを示している。通常δｄは
小さい値なので、回転によって生じた値として採用する
にはＳ／Ｎ比の大きいｄθが好ましい。この実施例で
は、処理回路３９において、ｄθに基づいて回転変位量
を求めている。

【００３２】求められた回転変位信号は、制御回路４０
における比較回路５４に導入される。比較回路５４にお
いてしきい値を越えたときにのみ回転制御電流設定回路
５５において回転制御電流が設定される。設定された回
転制御電流信号は切替回路５７を介して加算回路５８に
与えられる。

【００３３】ここで、可動体４の回転変位量は図８に示
されるような値を示す。本実施例の場合、比較回路５４
を通った回転変位信号の絶対値が増大する期間、つまり
図８中太線で示す期間だけ回転制御電流設定回路５５の
出力が切替回路５７を介して加算回路５８に与えられる
ようになっている。加算回路５８においてバイアス電流
信号に重畳された回転制御電流信号は電流増幅器４１で
電流に変換され、この電流がバイアスコイル１７に与え
られる。したがって、可動体４の回転変位量が増大する
ときにのみ各バイアスコイル１７に流れる電流が増加す
る。この結果、上記期間においては、図９に示すよう
に、各継鉄１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄの磁極面と
凸状磁極１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄとの間の磁気
的吸引力が増大し、可動体４には元の位置に戻される力
が働く。この力によって外部から加えられた回転エネル
ギが吸収され、可動体４の振動が急速に減衰する。

【００３４】このように軸回り振動の制振を回転変位量
の大きさと時間変化に基づいて制御電流を各バイアスコ
イル１７に共通に重畳することにより行っているので、
効果的に制振することができる。

【００３５】また、振動減衰制御部３８を構成している
処理回路３９、比較回路５４、回転制御電流設定回路５
５、バイアス設定回路５６、切替回路５７、加算回路５
８は複雑なものではなく、アナログ回路で構成する場合
でも数個のオペアンプならびに幾つかの抵抗とコンデン
サで構成できる。デジタル回路で構成する場合でもＡ／
Ｄ変換器、Ｄ／Ａ変換器、インターフェイスなどの他に
数十ステップのプログラム（言語によって異なる）があ
れば良い。したがって、新たに回転変位検出器やアクチ
ュエータを備えた振動減衰制御装置を設ける場合より
も、装置全体の軽量化が実現でき、信頼性を向上させる
ことができる。図１０には制御回路４０ａの変形例が示
されている。

【００３６】この例では図５に示されている比較回路５
４および回転制御電流設定回路５５の代わりに別の回路
が設けられている。すなわち、処理回路３９から出力さ
れた信号を位相補償回路７０に導入し、その出力を制御
ゲイン設定回路７１に導入し、その出力を整流回路７２
に導入するように構成されている。そして、整流回路７
２の出力を電流増幅器４１に与えている。

【００３７】この制御回路４０ａでは処理回路３９の出
力である回転変位信号をしきい値と比較することなく、
位相補償回路７０で直接ＰＩＤ制御を行ない、制御ゲイ
ン設定回路７１で制御電流を設定し、整流回路７２で整
流を行ない、バイアスコイル１７に電流を印加する。こ
のように構成しても図４に示される実施例と同様な効果
が得られる。なお、この制御回路４０ａにおいて処理回
路３９の出力が常に正の場合には整流回路７２は不必要
である。また、このような構成の制御回路４０ａにおい
ても電気回路としては簡単なものであるため、装置全体
の軽量化、信頼性の向上に貢献できる。

【００３８】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、新
たに回転制御用の電磁石や位置検出器を設けることなく
効果的に軸回り振動を制振できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した一実施例に係る直線動磁気支
持装置を図２におけるＳ−Ｓ線に沿って切断し矢印方向
に見た断面図。

【図２】同装置を図１におけるＲ−Ｒ線に沿って切断し
矢印方向に見た断面図。

【図３】同装置における可動体を取り出して示す斜視
図。

【図４】同装置における制御装置のブロック構成図。

【図５】同制御装置における振動減衰制御部のブロック
構成図。

【図６】半径方向変位検出の原理を説明するための図。

【図７】回転方向変位が生じたときの可動体と位置検出
器との相互関係を示す図。

【図８】回転変位量の時間変化を示すグラフ。

【図９】同直線動磁気支持装置において軸回り振動減衰
制御が行われているときの状態を説明するための図。

【図１０】振動減衰制御部における制御回路の変形例を
示す図。

【符号の説明】

１…静止体、４…可動体、１０
…磁気軸受装置、１１ａ〜１１ｄ…継鉄、１２ａ
〜１２ｄ…コイル、１３ａ〜１３ｄ…凸状磁
極、１４ａ〜１４ｄ…平坦面、１５ａ〜１５
ｄ…半径方向の位置検出器、１７…バイアスコイル、
１８…制御コイル、２０…電磁力発生機構、
２１…永久磁石、２２…筒状コイル、
２５…傾斜面、２６…軸方向位置検出器、
３１…制御装置、３２…磁気軸受制御部、
３３…軸方向位置制御部、３８…振動減衰制御
部。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】静止体と、この静止体の近傍に配置された
可動体と、前記静止体の前記可動体を囲む位置にそれぞ
れの磁極面を上記可動体に向けて周方向に固定された複
数の継鉄と、これら継鉄に装着されたコイルと、前記可
動体の外周面に前記各継鉄の磁極面に対向させて複数突
設された凸状磁極と、前記可動体の外周面に設けられた
平坦状の位置検出面と、上記各位置検出面との間の距離
を非接触で検出する複数の位置検出器と、これら位置検
出器の出力に対応させて前記各コイルの電流を制御して
前記可動体を一定位置に磁気力で非接触に浮上させる浮
上制御系と、前記各位置検出器の出力のうちの少なくと
も２つの出力の和の信号に対応させて前記各コイルの電
流を制御して前記可動体の軸回り振動を減衰させる振動
減衰制御系とを具備してなることを特徴とする直線動磁
気支持装置。
【請求項２】前記各コイルはバイアスコイルと前記浮上
制御系によって通電電流が制御される制御コイルとで構
成されており、前記振動減衰制御系は上記各バイアスコ
イルに制御電流を共通に重畳させるものであることを特
徴とする請求項１に記載の直線動磁気支持装置。
【請求項３】前記振動減衰制御系は、前記可動体の回転
変位量が増大している期間のみ前記各バイアスコイルに
制御電流を重畳させるものであることを特徴とする請求
項２に記載の直線動磁気支持装置。
【請求項４】前記各位置検出器は、容積変化検出形のも
ので構成されていることを特徴とする請求項１に記載の
直線動磁気支持装置。