JPH0512281Y2 - - Google Patents
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- JPH0512281Y2 JPH0512281Y2 JP2178886U JP2178886U JPH0512281Y2 JP H0512281 Y2 JPH0512281 Y2 JP H0512281Y2 JP 2178886 U JP2178886 U JP 2178886U JP 2178886 U JP2178886 U JP 2178886U JP H0512281 Y2 JPH0512281 Y2 JP H0512281Y2
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- pressure
- vacuum chamber
- limiter
- automatic valve
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Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案はCVD装置などに用いる真空チヤンバ
の圧力制御装置に関する。[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field The present invention relates to a pressure control device for a vacuum chamber used in a CVD device or the like.
従来の技術
例えば、CVD装置では、真空チヤンバを排気
して真空にしたのち、その真空チヤンバに正圧の
ガスを吸入させると共に、そのときの圧力をフイ
ードバツクして圧力コントローラにより排気真空
ラインの自動弁を調整し、チヤンバ内圧力を設定
圧に保持する制御が行われている。Conventional technology For example, in a CVD device, after a vacuum chamber is evacuated to create a vacuum, positive pressure gas is sucked into the vacuum chamber, the pressure at that time is fed back, and a pressure controller is used to control an automatic valve in the exhaust vacuum line. Control is performed to maintain the chamber internal pressure at a set pressure.
考案が解決しようとする問題点
自動弁が圧力変化に比例して開き、真空チヤン
バ内の圧力が単純に立ち上がつて設定圧を大きく
越えるため、それを戻すのに時間がかかるという
問題があつた。Problems that the invention aims to solve: Automatic valves open in proportion to pressure changes, and the pressure inside the vacuum chamber simply rises and greatly exceeds the set pressure, so there is a problem that it takes time to return to normal. Ta.
したがつて、本考案は、速やかに設定圧に到す
る立ち上がり特性を備えた真空チヤンバの圧力制
御装置を提供することを目的としている。 Therefore, an object of the present invention is to provide a pressure control device for a vacuum chamber that has a rise characteristic that quickly reaches a set pressure.
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するため、本考案は、圧力コン
トローラの入・出力にリミツタを接続した。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention connects a limiter to the input and output of the pressure controller.
作 用
リミツタにより排気真空ラインの自動弁を予め
最終コントロール状態の開度に開けておき、設定
圧に近づいてから圧力コントローラにより自動弁
を制御する。Function The automatic valve in the exhaust vacuum line is opened in advance to the final control state opening using the limiter, and the automatic valve is controlled by the pressure controller when the pressure approaches the set pressure.
実施例
第１図は本考案の一実施例に係る真空チヤンバ
の圧力制御装置を示す。Embodiment FIG. 1 shows a vacuum chamber pressure control device according to an embodiment of the present invention.
この図において、真空チヤンバ１には吸気ライ
ン２および排気真空ライン３が接続されている。
吸気ラインは吸気弁４を、また排気真空ライン３
は開閉弁５および自動弁６をそれぞれ備えてい
る。真空チヤンバ１から延びたフイードバツクラ
イン７には、圧力電気変換器８、第１リミツタ
９、圧力コントローラ１０および第２リミツタ１
１が配置されている。圧力電気変換器８の電気信
号を入力する第１リミツタ９は第１信号発生器１
２のSV値（圧力設定値）に対して±のリミツト
範囲（例えば電流値では12mAの前後というよう
な範囲）を設定し、リミツト外では圧力コントロ
ーラ１０への出力が一定値となるように構成され
ている。圧力コントローラ１０はSV値と第１リ
ミツタ９の出力を入力し、前記±のリミツト範囲
で第２リミツタ１１に出力するようになつてい
る。第２リミツタ１１は第２信号発生器１３の値
に対して±のリミツト範囲を設定し、リミツト外
では第２信号発生器１３の±のリミツト値を出力
し、リミツト内では圧力コントローラ１０の出力
を入力する。第２リミツタ１１に対する第２信号
発生器１３のリミツト設定信号は、圧力コントロ
ーラ１０のコントローラ状態の出力が真空チヤン
バ１へのガスの流量、設定圧力等から判るので、
この圧力コントローラ１０の出力から前もつて設
定しておく。第２リミツタ１１の出力は電空ポジ
シヨナ１４に、電空ポジシヨナ１４の出力は自動
弁６のアクチユエータ１５にそれぞれ接続されて
いる。電空ポジシヨナ１４は、第２リミツタ１１
の±リミツト外では自動弁６を一定開度に保持す
るようにその自動弁６のアクチユエータ１５に出
力し、また±リミツト以内では、圧力コントロー
ラ１０の出力を入力してアクチユエータ１５を制
御すなわち自動弁６の開度を制御するようになつ
ている。第３リミツタ１６はSV値と圧力電気変
換器８の信号とを入力してSV値ののマイナス側
のリミツトを設定し、リミツト外では“０”をリ
ミツト以上では、“１”をそれぞれ出力するよう
になつている。第３リミツタ１６の出力はアンプ
１７を介して開閉弁５のアクチユエータ１８に接
続されている。 In this figure, a vacuum chamber 1 is connected to an intake line 2 and an exhaust vacuum line 3.
The intake line connects the intake valve 4, and the exhaust vacuum line 3
are each equipped with an on-off valve 5 and an automatic valve 6. A feedback line 7 extending from the vacuum chamber 1 includes a pressure electric transducer 8, a first limiter 9, a pressure controller 10, and a second limiter 1.
1 is placed. The first limiter 9 that inputs the electrical signal of the pressure-electric transducer 8 is connected to the first signal generator 1.
A limit range of ± (for example, a range of around 12 mA for current value) is set for the SV value (pressure setting value) of 2, and the output to the pressure controller 10 is configured to be a constant value outside the limit. has been done. The pressure controller 10 inputs the SV value and the output of the first limiter 9, and outputs it to the second limiter 11 within the ± limit range. The second limiter 11 sets a ± limit range for the value of the second signal generator 13, and outputs the ± limit value of the second signal generator 13 outside the limit, and outputs the ± limit value of the pressure controller 10 within the limit. Enter. The limit setting signal of the second signal generator 13 for the second limiter 11 is determined by the output of the controller state of the pressure controller 10 from the flow rate of gas to the vacuum chamber 1, the set pressure, etc.
The settings are made in advance from the output of this pressure controller 10. The output of the second limiter 11 is connected to an electropneumatic positioner 14, and the output of the electropneumatic positioner 14 is connected to an actuator 15 of the automatic valve 6. The electropneumatic positioner 14 is connected to the second limiter 11
Outside the ± limit, an output is sent to the actuator 15 of the automatic valve 6 to maintain the automatic valve 6 at a constant opening, and within the ± limit, the output of the pressure controller 10 is input to control the actuator 15, that is, the automatic valve It is designed to control the opening degree of 6. The third limiter 16 inputs the SV value and the signal from the pressure-electric transducer 8 to set a limit on the negative side of the SV value, and outputs "0" when it is outside the limit and "1" when it is above the limit. It's becoming like that. The output of the third limiter 16 is connected to the actuator 18 of the on-off valve 5 via an amplifier 17.
次に上記構成の動作を第２図を参照しながら述
べる。 Next, the operation of the above configuration will be described with reference to FIG.
吸気弁４が閉められ、排気真空ライン２により
真空チヤンバ１内を排気し真空としたのち、吸気
弁４を開け真空チヤンバ１内に正圧のガスを吸入
させる際、開閉弁５は第３リミツタ１６からの
“０”出力により全閉状態を保持する。これより
ガスの吸入が始まると、真空チヤンバ１内の圧力
は第２図のように斜めに立ち上がつて行く。ま
た、そのとき第２リミツタ１１が±リミツト外に
あるので、自動弁６は第２図のようにあらかじめ
判明している最終コントロール状態の開度に開け
られ、その状態が保持される。そして、真空チヤ
ンバ１内の圧力が設定圧P1の近くの一点P2まで
上昇したとき、そのP2で第３リミツタ１６から
の“１”出力により第２図のように開閉弁５が全
開して真空チヤンバ１内の圧力の立ち上がりが弱
くなり（従来では破線１９で示すように大きく上
がる）、そのまま設定圧の近傍に達すると共に、
この時点で圧力電気変換器８から第１リミツタ９
への電気信号レベルがリミツタ範囲内に入ること
により、圧力コントローラ１０が従来同様に普通
のコントローラ状態に切り換わり、圧力コントロ
ーラ１０から第２リミツタ１１への出力、第２リ
ミツタ１１から電空ポジシヨナ１４への出力そし
て電空ポジシヨナ１４からアクチユエータ１５へ
の出力により自動弁６の開度が制御され、真空チ
ヤンバ１内の圧力が設定圧に保持される。 When the intake valve 4 is closed and the inside of the vacuum chamber 1 is evacuated and made into a vacuum by the exhaust vacuum line 2, when the intake valve 4 is opened to inhale positive pressure gas into the vacuum chamber 1, the opening/closing valve 5 is operated by the third limiter. The fully closed state is maintained by the "0" output from 16. When gas suction begins, the pressure inside the vacuum chamber 1 rises obliquely as shown in FIG. Also, at this time, since the second limiter 11 is outside the ±limit, the automatic valve 6 is opened to the opening degree of the final control state known in advance as shown in FIG. 2, and this state is maintained. Then, when the pressure inside the vacuum chamber 1 rises to a point P2 near the set pressure P1 , the "1" output from the third limiter 16 at P2 causes the on-off valve 5 to be fully opened as shown in FIG. As a result, the rise of the pressure inside the vacuum chamber 1 becomes weaker (in the past, it rises significantly as shown by the broken line 19), and as it continues to reach the vicinity of the set pressure,
At this point, from the pressure electric transducer 8 to the first limiter 9
When the electric signal level to falls within the limiter range, the pressure controller 10 switches to the normal controller state as in the past, and the output from the pressure controller 10 to the second limiter 11 and from the second limiter 11 to the electropneumatic positioner 14. The opening degree of the automatic valve 6 is controlled by the output from the electropneumatic positioner 14 to the actuator 15, and the pressure within the vacuum chamber 1 is maintained at the set pressure.
考案の効果
本考案によれば、圧力コントローラの入・出力
にリミツタを設定して、排気真空ラインの自動弁
を予め最終コントロール状態の開度に開けてお
き、設定圧に近づいてから圧力コントローラによ
り前記自動弁を制御するようにしたので、速やか
に設定圧に達する立ち上がり特性を備えた真空チ
ヤンバの圧力制御装置を提供することができる。Effects of the invention According to the invention, limiters are set on the input and output of the pressure controller, the automatic valve of the exhaust vacuum line is opened in advance to the opening of the final control state, and the pressure controller is opened when the pressure approaches the set pressure. Since the automatic valve is controlled, it is possible to provide a pressure control device for a vacuum chamber that has a rising characteristic that quickly reaches the set pressure.
第１図は本考案の一実施例にかかる真空チヤン
バの圧力制御装置の概略構成図、第２図は圧力制
御方法を述べるための線図である。
１……真空チヤンバ、２……吸気ライン、３…
…排気真空ライン、６……自動弁、９……第１リ
ミツタ、１０……圧力コントローラ、１１……第
２リミツタ。
FIG. 1 is a schematic diagram of a pressure control device for a vacuum chamber according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram for explaining a pressure control method. 1... Vacuum chamber, 2... Intake line, 3...
...Exhaust vacuum line, 6...Automatic valve, 9...First limiter, 10...Pressure controller, 11...Second limiter.
Claims (1)
真空チヤンバに正圧のガスを吸入させ圧力コント
ローラにより設定圧に保持する圧力制御装置にお
いて、上記圧力コントローラの入・出力に接続さ
れたリミツタと、排気真空ラインに介在され前記
圧力コントローラにてその開度が制御される自動
弁とを設け、この自動弁を最終コントロール状態
の開度に開き設定圧に近づいてから圧力コントロ
ーラにより前記自動弁を制御するようにしたこと
を特徴とする真空チヤンバの圧力制御装置。 In a pressure control device that evacuates a vacuum chamber to create a vacuum, then inhales positive pressure gas into the vacuum chamber and maintains it at a set pressure using a pressure controller, a limiter connected to the input/output of the pressure controller and an exhaust An automatic valve is provided in the vacuum line and whose opening degree is controlled by the pressure controller, and the automatic valve is opened to the final control state opening degree and the pressure controller controls the automatic valve after the set pressure is approached. A pressure control device for a vacuum chamber, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2178886U JPH0512281Y2 (en) | 1986-02-17 | 1986-02-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2178886U JPH0512281Y2 (en) | 1986-02-17 | 1986-02-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62136567U JPS62136567U (en) | 1987-08-28 |
| JPH0512281Y2 true JPH0512281Y2 (en) | 1993-03-29 |
Family
ID=30818553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2178886U Expired - Lifetime JPH0512281Y2 (en) | 1986-02-17 | 1986-02-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0512281Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6105967B2 (en) * | 2012-03-21 | 2017-03-29 | 株式会社日立国際電気 | Semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, substrate processing apparatus, and program |
-
1986
- 1986-02-17 JP JP2178886U patent/JPH0512281Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62136567U (en) | 1987-08-28 |
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