JPH05119341A - 光学装置 - Google Patents
光学装置Info
- Publication number
- JPH05119341A JPH05119341A JP27913391A JP27913391A JPH05119341A JP H05119341 A JPH05119341 A JP H05119341A JP 27913391 A JP27913391 A JP 27913391A JP 27913391 A JP27913391 A JP 27913391A JP H05119341 A JPH05119341 A JP H05119341A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- spatial light
- modulation
- optical
- optical device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2225/00—Active addressable light modulator
- G03H2225/20—Nature, e.g. e-beam addressed
- G03H2225/22—Electrically addressed SLM [EA-SLM]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2225/00—Active addressable light modulator
- G03H2225/30—Modulation
- G03H2225/33—Complex modulation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2240/00—Hologram nature or properties
- G03H2240/50—Parameters or numerical values associated with holography, e.g. peel strength
- G03H2240/56—Resolution
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2240/00—Hologram nature or properties
- G03H2240/50—Parameters or numerical values associated with holography, e.g. peel strength
- G03H2240/61—SLM related parameters, e.g. pixel size
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶パネルをもちいて光の振幅と位相を変調
する。 【構成】 ＴＮパネルとＥＣＢパネルをはりあわせる。
このときＴＮパネルの１画素にＥＣＢパネルの２×２画
素が対応するようにする。 【効果】 ＴＮパネルの画素が粗いので製造が容易にな
る。
する。 【構成】 ＴＮパネルとＥＣＢパネルをはりあわせる。
このときＴＮパネルの１画素にＥＣＢパネルの２×２画
素が対応するようにする。 【効果】 ＴＮパネルの画素が粗いので製造が容易にな
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の光学装置は、Appl. Optics vol.2
6, 929(1987)に示されるように、光の位相または振幅だ
けを変調するものであった。
6, 929(1987)に示されるように、光の位相または振幅だ
けを変調するものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の光学装
置を用いた光の変調では、光のもつ情報のうちの振幅ま
たは位相を無視していたため、精度の高い情報処理を行
うことができないという問題があった。本発明は、この
ような問題点を解決するものであって、その目的は、簡
便な手段により振幅と位相を同時に変調できる光学装置
を提供するところにある。
置を用いた光の変調では、光のもつ情報のうちの振幅ま
たは位相を無視していたため、精度の高い情報処理を行
うことができないという問題があった。本発明は、この
ような問題点を解決するものであって、その目的は、簡
便な手段により振幅と位相を同時に変調できる光学装置
を提供するところにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の光学装置
は、振幅変調用空間光変調器と位相変調用空間光変調器
が空間的に直列に接続されていることを特徴とする。
は、振幅変調用空間光変調器と位相変調用空間光変調器
が空間的に直列に接続されていることを特徴とする。
【０００５】本発明の第２の光学装置は、前記第１の光
学装置において、１つの振幅データに対して複数の位相
データが対応することを特徴とする。
学装置において、１つの振幅データに対して複数の位相
データが対応することを特徴とする。
【０００６】本発明の第３の光学装置は、前記第２の光
学装置において、前記空間光変調器の少なくとも一方が
液晶空間光変調器であることを特徴とする。
学装置において、前記空間光変調器の少なくとも一方が
液晶空間光変調器であることを特徴とする。
【０００７】本発明の第４の光学装置は、前記第２、第
３の光学装置において、前記振幅変調用空間光変調器が
ＴＮ（ツイスト・ネマティック）モードの液晶電気光学
素子、位相変調用空間光変調器がＥＣＢ（電界制御複屈
折）モードの液晶電気光学素子であることを特徴とす
る。
３の光学装置において、前記振幅変調用空間光変調器が
ＴＮ（ツイスト・ネマティック）モードの液晶電気光学
素子、位相変調用空間光変調器がＥＣＢ（電界制御複屈
折）モードの液晶電気光学素子であることを特徴とす
る。
【０００８】本発明の第５の光学装置は、前記第２ない
し第４の光学装置において、前記振幅変調用空間光変調
器がアクティブマトリックス方式であることを特徴とす
る。
し第４の光学装置において、前記振幅変調用空間光変調
器がアクティブマトリックス方式であることを特徴とす
る。
【０００９】本発明の第６の光学装置は、前記第２ない
し第４の光学装置において、前記空間光変調器がいずれ
もアクティブマトリックス方式であり、振幅変調用空間
光変調器の画素ピッチが前記位相変調用空間光変調器の
画素ピッチの整数倍であることを特徴とする。
し第４の光学装置において、前記空間光変調器がいずれ
もアクティブマトリックス方式であり、振幅変調用空間
光変調器の画素ピッチが前記位相変調用空間光変調器の
画素ピッチの整数倍であることを特徴とする。
【００１０】本発明の第７の光学装置は、前記第２ない
し第５の光学装置において、前記位相変調用空間光変調
器が光書き込み式であることを特徴とする。
し第５の光学装置において、前記位相変調用空間光変調
器が光書き込み式であることを特徴とする。
【００１１】
【実施例】以下、実施例により本発明の詳細を示す。
【００１２】（実施例１）図１に本発明の光学装置の構
成を示す。
成を示す。
【００１３】ガラス基板１０７と共通基板１０１の間に
液晶１０４が、ガラス基板１１７と共通基板１０１の間
に液晶１１４が、それぞれ挟まれた構造をしている。
液晶１０４が、ガラス基板１１７と共通基板１０１の間
に液晶１１４が、それぞれ挟まれた構造をしている。
【００１４】液晶１０４の側がＥＣＢ（電界制御複屈
折）モードの液晶電気光学素子として、液晶１１４の側
がＴＮ（ツイスト・ネマティック）モードの液晶電気光
学素子として機能する。
折）モードの液晶電気光学素子として、液晶１１４の側
がＴＮ（ツイスト・ネマティック）モードの液晶電気光
学素子として機能する。
【００１５】ガラス基板１０７、１１７はそれぞれＴＦ
Ｔ（薄膜トランジスタ）素子１０６、１１６と配向膜１
０５、１１５を備えている。共通基板１０１の両面には
透明電極１０２、１１２と、配向膜１０３、１１３があ
る。またガラス基板１０７とＴＦＴ素子１０６、透明電
極１１２と配向膜１１３の間にはそれぞれ遮光マスク１
１１と１２１がある。
Ｔ（薄膜トランジスタ）素子１０６、１１６と配向膜１
０５、１１５を備えている。共通基板１０１の両面には
透明電極１０２、１１２と、配向膜１０３、１１３があ
る。またガラス基板１０７とＴＦＴ素子１０６、透明電
極１１２と配向膜１１３の間にはそれぞれ遮光マスク１
１１と１２１がある。
【００１６】配向膜１０３、１１３、１０５の配向方向
は互いに平行で、１１５はそれから８６度ひねった方向
に配向処理を施してある。ガラス基板１０７、１１７の
外側には偏光板１０８と１１８をそれぞれ配置する。た
だし２つの偏光板の透過軸は配向膜１０５の配向方向と
平行になるようにする。
は互いに平行で、１１５はそれから８６度ひねった方向
に配向処理を施してある。ガラス基板１０７、１１７の
外側には偏光板１０８と１１８をそれぞれ配置する。た
だし２つの偏光板の透過軸は配向膜１０５の配向方向と
平行になるようにする。
【００１７】偏光板１０８の側から入射した光はＥＣＢ
モードの液晶電気光学素子によってまず位相変調だけを
受ける。このとき光の偏光方向は変わらない。次にＴＮ
モードの液晶電気光学素子によって振幅変調のみを受け
る。ただしＴＮモードの液晶電気光学素子によって位相
変化が発生する場合にはあらかじめＥＣＢモードの液晶
電気光学素子で補正しておく。これで振幅と位相を同時
にかつ独立に変調することが出来る。
モードの液晶電気光学素子によってまず位相変調だけを
受ける。このとき光の偏光方向は変わらない。次にＴＮ
モードの液晶電気光学素子によって振幅変調のみを受け
る。ただしＴＮモードの液晶電気光学素子によって位相
変化が発生する場合にはあらかじめＥＣＢモードの液晶
電気光学素子で補正しておく。これで振幅と位相を同時
にかつ独立に変調することが出来る。
【００１８】このようにＥＣＢモードの液晶電気光学素
子の側から光を入射することにより、偏光板を２つの液
晶電気光学素子の間に配置する必要がなくなるため、装
置の製造が極めて容易になる。
子の側から光を入射することにより、偏光板を２つの液
晶電気光学素子の間に配置する必要がなくなるため、装
置の製造が極めて容易になる。
【００１９】透明電極１０２、１１２はそれぞれ定電圧
回路に接続されている。また共通基板は２つの液晶電気
光学素子の間を完全に絶縁している。これによって漏れ
電流や容量結合をなくし、２つの液晶電気光学素子を互
いに影響を与えることなく独立に駆動できる。なお本実
施例の液晶電気光学素子はＴＦＴ素子を用いて駆動する
ためこれらの透明電極は画素などに区切る必要がない。
回路に接続されている。また共通基板は２つの液晶電気
光学素子の間を完全に絶縁している。これによって漏れ
電流や容量結合をなくし、２つの液晶電気光学素子を互
いに影響を与えることなく独立に駆動できる。なお本実
施例の液晶電気光学素子はＴＦＴ素子を用いて駆動する
ためこれらの透明電極は画素などに区切る必要がない。
【００２０】ガラス基板１０７の裏側から光を入射する
ことによるＴＦＴ素子の誤動作や特性の劣化を防ぐた
め、遮光マスク１１１をガラス基板とＴＦＴ素子の間に
配置した。まずガラス基板上にクロムの膜で遮光マスク
１１１を形成し、その上にＳｉＯ2を堆積させて絶縁膜
を作る。この絶縁膜上にＴＦＴ素子を形成した。一方、
ＴＦＴ素子１１６のための遮光マスク１２１は、共通基
板１０１のＴＮモードの液晶電気光学素子側に配置し
た。
ことによるＴＦＴ素子の誤動作や特性の劣化を防ぐた
め、遮光マスク１１１をガラス基板とＴＦＴ素子の間に
配置した。まずガラス基板上にクロムの膜で遮光マスク
１１１を形成し、その上にＳｉＯ2を堆積させて絶縁膜
を作る。この絶縁膜上にＴＦＴ素子を形成した。一方、
ＴＦＴ素子１１６のための遮光マスク１２１は、共通基
板１０１のＴＮモードの液晶電気光学素子側に配置し
た。
【００２１】図２（ａ）にＴＮモードの液晶電気光学素
子の画素、図２（ｂ）にＥＣＢモードの液晶電気光学素
子の画素を示す。ＴＮモードの液晶電気光学素子の画素
ピッチは、ＥＣＢモードの液晶電気光学素子の画素ピッ
チの２倍となっている。２つの液晶電気光学素子を接続
する際、ＴＮモードの液晶電気光学素子の１画素に、Ｅ
ＣＢモードの液晶電気光学素子の２×２画素が対応する
ようにする。
子の画素、図２（ｂ）にＥＣＢモードの液晶電気光学素
子の画素を示す。ＴＮモードの液晶電気光学素子の画素
ピッチは、ＥＣＢモードの液晶電気光学素子の画素ピッ
チの２倍となっている。２つの液晶電気光学素子を接続
する際、ＴＮモードの液晶電気光学素子の１画素に、Ｅ
ＣＢモードの液晶電気光学素子の２×２画素が対応する
ようにする。
【００２２】振幅・位相データの作成について説明す
る。ホログラフィなどの振幅・位相データをまずＥＣＢ
モードの液晶電気光学素子の画素数にあわせて作成す
る。次に振幅データをＥＣＢモードの液晶電気光学素子
に対応する４画素で平均化する。振幅データは位相デー
タほど解像度を必要としないので、振幅データを間引い
ても再生像などにほとんど影響を与えない。
る。ホログラフィなどの振幅・位相データをまずＥＣＢ
モードの液晶電気光学素子の画素数にあわせて作成す
る。次に振幅データをＥＣＢモードの液晶電気光学素子
に対応する４画素で平均化する。振幅データは位相デー
タほど解像度を必要としないので、振幅データを間引い
ても再生像などにほとんど影響を与えない。
【００２３】このようにＴＮモードの液晶電気光学素子
の画素をあらくすると次のような利点が現れる。本発明
の光学装置をホログラフィなどの再生に用いる場合、高
精細化が要求される。ところがＴＮモードの液晶電気光
学素子は画素があらくてもよいので、ＥＣＢモードの液
晶電気光学素子だけを高精細化すればよく、製造が非常
に容易となる。
の画素をあらくすると次のような利点が現れる。本発明
の光学装置をホログラフィなどの再生に用いる場合、高
精細化が要求される。ところがＴＮモードの液晶電気光
学素子は画素があらくてもよいので、ＥＣＢモードの液
晶電気光学素子だけを高精細化すればよく、製造が非常
に容易となる。
【００２４】また２つの液晶電気光学素子を組み合わせ
るとき、ＥＣＢモードの液晶電気光学素子の４画素がＴ
Ｎモードの液晶電気光学素子の１画素の中のどこかに対
応していればよいので位置合わせが非常に容易となる。
るとき、ＥＣＢモードの液晶電気光学素子の４画素がＴ
Ｎモードの液晶電気光学素子の１画素の中のどこかに対
応していればよいので位置合わせが非常に容易となる。
【００２５】（実施例２）図３に本発明の別の実施例の
構成を示す。本実施例では振幅変調用にＴＦＴ駆動方式
の液晶電気光学素子、位相変調用に光書き込み式の液晶
電気光学素子を用いた。
構成を示す。本実施例では振幅変調用にＴＦＴ駆動方式
の液晶電気光学素子、位相変調用に光書き込み式の液晶
電気光学素子を用いた。
【００２６】振幅変調用のＴＮモードの液晶電気光学素
子の構成は実施例１におけるＥＣＢモードの液晶電気光
学素子と液晶の配向が異なるだけで、ほぼ同じである。
ただし共通基板１０１の代わりにシート状ダイクロイッ
ク偏光板を用いた。これはガラス基板３０１、３０２の
間にプラスチックシートを延伸した偏光フィルム３１８
を挟んだものである。この偏光板は両側に透明電極１０
２、３１２と配向膜１０３、３１３を備えている。これ
らの透明電極は画素構造を持たない。
子の構成は実施例１におけるＥＣＢモードの液晶電気光
学素子と液晶の配向が異なるだけで、ほぼ同じである。
ただし共通基板１０１の代わりにシート状ダイクロイッ
ク偏光板を用いた。これはガラス基板３０１、３０２の
間にプラスチックシートを延伸した偏光フィルム３１８
を挟んだものである。この偏光板は両側に透明電極１０
２、３１２と配向膜１０３、３１３を備えている。これ
らの透明電極は画素構造を持たない。
【００２７】位相変調のための光書き込み式ＥＣＢモー
ドの液晶電気光学素子はガラス基板３１７と先ほどの偏
光板で液晶材料３１４を挟んだものである。ただしこの
ガラス基板には液晶に近い側から、配向膜３１５、誘電
体ミラ−３０３、アモルファスシリコン３０４、透明電
極３０５を備えている。
ドの液晶電気光学素子はガラス基板３１７と先ほどの偏
光板で液晶材料３１４を挟んだものである。ただしこの
ガラス基板には液晶に近い側から、配向膜３１５、誘電
体ミラ−３０３、アモルファスシリコン３０４、透明電
極３０５を備えている。
【００２８】偏光板１０８の側から入射したコヒーレン
ト光はＴＮモードの液晶電気光学素子によって振幅変調
され、光書き込み式ＥＣＢモードの液晶電気光学素子で
位相変調された後、誘電体ミラ−３０３で反射され、再
び位相と振幅を変調される。
ト光はＴＮモードの液晶電気光学素子によって振幅変調
され、光書き込み式ＥＣＢモードの液晶電気光学素子で
位相変調された後、誘電体ミラ−３０３で反射され、再
び位相と振幅を変調される。
【００２９】本実施例に使用したＴＮモードの液晶電気
光学素子の画素ピッチは４０μｍ、光書き込み式ＥＣＢ
モードの液晶電気光学素子の解像度は約８０本／ｍｍで
ある。このため１つの振幅データに対して３×３の位相
データが対応する。
光学素子の画素ピッチは４０μｍ、光書き込み式ＥＣＢ
モードの液晶電気光学素子の解像度は約８０本／ｍｍで
ある。このため１つの振幅データに対して３×３の位相
データが対応する。
【００３０】本実施例では高精細の要求される位相変調
用空間光変調器に画素構造のない光書き込み式の液晶電
気光学素子を用いているので製造が非常に容易である。
また光が往復で振幅と位相を変調されるので、変調量が
半分ですむという効果もある。
用空間光変調器に画素構造のない光書き込み式の液晶電
気光学素子を用いているので製造が非常に容易である。
また光が往復で振幅と位相を変調されるので、変調量が
半分ですむという効果もある。
【００３１】以上本発明の実施例について述べてきた
が、本発明はこのほかにも、広く３次元像再生、光相関
器、光情報処理などに応用が可能である。
が、本発明はこのほかにも、広く３次元像再生、光相関
器、光情報処理などに応用が可能である。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、光の振幅と位相を同時
にかつ独立に制御できるため、高精度な光波面制御がで
きる。これにより簡単にホログラム再生、３次元ビ−ム
ステアリング、光相関器、３次元計測、補償光学素子な
どの分野におけるアクティブな光学素子として幅広く応
用が可能である。さらに実時間での書換が可能なことを
活用すれば実時間の３次元表示装置を得ることができ
る。このとき空間光変調器の高精細化が必要となるが、
本発明によれば振幅変調用空間光変調器の画素ピッチは
大きくてもよいので、高精細な装置の製造が容易にな
る。
にかつ独立に制御できるため、高精度な光波面制御がで
きる。これにより簡単にホログラム再生、３次元ビ−ム
ステアリング、光相関器、３次元計測、補償光学素子な
どの分野におけるアクティブな光学素子として幅広く応
用が可能である。さらに実時間での書換が可能なことを
活用すれば実時間の３次元表示装置を得ることができ
る。このとき空間光変調器の高精細化が必要となるが、
本発明によれば振幅変調用空間光変調器の画素ピッチは
大きくてもよいので、高精細な装置の製造が容易にな
る。
【図１】 本発明の光学装置の構成を示す側面図であ
る。
る。
【図２】 （ａ）ＴＮモードの液晶電気光学素子の画素
を示す平面図である。 （ｂ）ＥＣＢモードの液晶電気光学素子の画素を示す平
面図である。
を示す平面図である。 （ｂ）ＥＣＢモードの液晶電気光学素子の画素を示す平
面図である。
【図３】 本発明の光学装置の別の構成を示す側面図で
ある。
ある。
１０１ 共通基板 １０２ 透明電極 １０３ 配向膜 １０４ 液晶材料 １０５ 配向膜 １０６ ＴＦＴ素子 １０７ ガラス基板 １０８ 偏光板 １１１ 遮光マスク １１２ 透明電極 １１３ 配向膜 １１４ 液晶材料 １１５ 配向膜 １１６ ＴＦＴ素子 １１７ ガラス基板 １１８ 偏光板 １２１ 遮光マスク ３０１ ガラス基板 ３０２ ガラス基板 ３０３ 誘電体ミラ− ３０４ アモルファスシリコン ３０５ 透明電極 ３１２ 透明電極 ３１３ 配向膜 ３１４ 液晶材料 ３１５ 配向膜 ３１７ ガラス基板 ３１８ 偏光フィルム
Claims (7)
- 【請求項１】 振幅変調用空間光変調器と位相変調用空
間光変調器が空間的に直列に接続されていることを特徴
とする光学装置。 - 【請求項２】 １つの振幅データに対して複数の位相デ
ータが対応することを特徴とする請求項１記載の光学装
置。 - 【請求項３】 前記空間光変調器の少なくとも一方は液
晶空間光変調器であることを特徴とする請求項２記載の
光学装置。 - 【請求項４】 前記振幅変調用空間光変調器はＴＮ（ツ
イスト・ネマティック）モードの液晶電気光学素子、位
相変調用空間光変調器はＥＣＢ（電界制御複屈折）モー
ドの液晶電気光学素子であることを特徴とする請求項
２、３記載の光学装置。 - 【請求項５】 前記振幅変調用空間光変調器はアクティ
ブマトリックス方式であることを特徴とする請求項２な
いし４記載の光学装置。 - 【請求項６】 前記空間光変調器はいずれもアクティブ
マトリックス方式であり、振幅変調用空間光変調器の画
素ピッチは前記位相変調用空間光変調器の画素ピッチの
整数倍であることを特徴とする請求項２ないし４記載の
光学装置。 - 【請求項７】 前記位相変調用空間光変調器は光書き込
み式であることを特徴とする請求項２ないし５記載の光
学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27913391A JPH05119341A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27913391A JPH05119341A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05119341A true JPH05119341A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=17606896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27913391A Pending JPH05119341A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05119341A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5889599A (en) * | 1996-02-29 | 1999-03-30 | Hamamatsu Photonics K.K. | Holography imaging apparatus holography display apparatus holography imaging method and holography display method |
| WO2008049909A1 (en) * | 2006-10-26 | 2008-05-02 | Seereal Technologies S.A. | Compact holographic display device |
| WO2009050273A2 (en) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Seereal Technologies S.A. | Spatial light modulator using electrowetting cells |
| WO2009080576A1 (de) * | 2007-12-20 | 2009-07-02 | Seereal Technologies S.A. | Steuerbarer lichtmodulator |
| JP2009192961A (ja) * | 2008-02-16 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | 液晶表示装置 |
| WO2010084200A1 (de) * | 2009-01-26 | 2010-07-29 | Seereal Technologies S.A. | Einrichtung zur amplitudenmodulation |
| TWI447540B (zh) * | 2007-05-16 | 2014-08-01 | Seereal Technologies Sa | 可用來提供網際網路語音及全像影像協定（ｖｈｉｏｉｐ）服務或通訊的全像顯示器 |
| KR20170009255A (ko) * | 2015-07-16 | 2017-01-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 공간 광 변조기 및 이를 이용한 디지털 홀로그래피 |
| CN114077076A (zh) * | 2021-11-25 | 2022-02-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示模组以及显示器件 |
| US11579500B2 (en) | 2019-12-26 | 2023-02-14 | Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP27913391A patent/JPH05119341A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5889599A (en) * | 1996-02-29 | 1999-03-30 | Hamamatsu Photonics K.K. | Holography imaging apparatus holography display apparatus holography imaging method and holography display method |
| US8416479B2 (en) | 2006-10-26 | 2013-04-09 | Seereal Technologies S.A. | Compact holographic display device |
| WO2008049909A1 (en) * | 2006-10-26 | 2008-05-02 | Seereal Technologies S.A. | Compact holographic display device |
| TWI447540B (zh) * | 2007-05-16 | 2014-08-01 | Seereal Technologies Sa | 可用來提供網際網路語音及全像影像協定（ｖｈｉｏｉｐ）服務或通訊的全像顯示器 |
| WO2009050273A2 (en) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Seereal Technologies S.A. | Spatial light modulator using electrowetting cells |
| WO2009050273A3 (en) * | 2007-10-19 | 2009-10-01 | Seereal Technologies S.A. | Spatial light modulator using electrowetting cells |
| WO2009080576A1 (de) * | 2007-12-20 | 2009-07-02 | Seereal Technologies S.A. | Steuerbarer lichtmodulator |
| JP2011507047A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-03 | シーリアル テクノロジーズ ソシエテ アノニム | 制御可能光変調器 |
| US8218222B2 (en) | 2007-12-20 | 2012-07-10 | Seereal Technologies S.A. | Controllable light modulator |
| JP2009192961A (ja) * | 2008-02-16 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | 液晶表示装置 |
| WO2010084200A1 (de) * | 2009-01-26 | 2010-07-29 | Seereal Technologies S.A. | Einrichtung zur amplitudenmodulation |
| KR20170009255A (ko) * | 2015-07-16 | 2017-01-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 공간 광 변조기 및 이를 이용한 디지털 홀로그래피 |
| US11579500B2 (en) | 2019-12-26 | 2023-02-14 | Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
| CN114077076A (zh) * | 2021-11-25 | 2022-02-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示模组以及显示器件 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3512150B2 (ja) | 偏光非依存型光位相変調器 | |
| JP3362814B2 (ja) | スイッチング可能なホログラフィー装置 | |
| US8259264B2 (en) | Liquid crystal display device with viewing angle control areas having a black matrix that does not overlap with the data lines | |
| JP2950288B2 (ja) | アクティブマトリクス液晶表示装置 | |
| MY114271A (en) | Reflection type color liquid crystal display device | |
| GB2326263A (en) | Diffractive spatial light modulator and display | |
| US5883687A (en) | Polarization independent liquid crystal phase gratings for reflective spatial light modulators | |
| JP3141440B2 (ja) | 光学装置 | |
| JP2001330844A5 (ja) | ||
| JP3257556B2 (ja) | 光学装置 | |
| JPH05119341A (ja) | 光学装置 | |
| US20030016325A1 (en) | Liquid crystal display device | |
| JP3194873B2 (ja) | アクティブマトリックス型液晶表示装置およびその駆動方法 | |
| JP3164987B2 (ja) | アクティブマトリックス型液晶表示素子 | |
| US7633572B2 (en) | Liquid crystal display and method of driving the same | |
| EP1053501B1 (en) | Light modulator on a semiconductor substrate | |
| JP2871083B2 (ja) | 液晶空間光変調素子および光学的画像処理装置 | |
| JP3473027B2 (ja) | 光学装置 | |
| JP3074367B2 (ja) | 反射型液晶表示装置の基板 | |
| KR100737571B1 (ko) | 광시야각 액정표시장치 | |
| JP2000137237A (ja) | 広視野角の液晶表示装置 | |
| JP3794196B2 (ja) | アクティブマトリクス基板 | |
| JP3846084B2 (ja) | 液晶装置およびその駆動方法並びに電子機器 | |
| JPH0430005B2 (ja) | ||
| JP3901715B2 (ja) | 液晶表示素子 |