JPH0511830B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0511830B2
JPH0511830B2 JP61309499A JP30949986A JPH0511830B2 JP H0511830 B2 JPH0511830 B2 JP H0511830B2 JP 61309499 A JP61309499 A JP 61309499A JP 30949986 A JP30949986 A JP 30949986A JP H0511830 B2 JPH0511830 B2 JP H0511830B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
photodiode
voltage
capacitive element
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61309499A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63161780A (ja
Inventor
Mikio Kyomasu
Seiichiro Mizuno
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP61309499A priority Critical patent/JPS63161780A/ja
Priority to US07/135,382 priority patent/US4839735A/en
Publication of JPS63161780A publication Critical patent/JPS63161780A/ja
Publication of JPH0511830B2 publication Critical patent/JPH0511830B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は検出精度を向上させた固体撮像素子に
関する。
【従来技術】
従来のMOS型イメージセンサの1つの画素の
原理的構成は第4図に示すようになつている。即
ち、ホトダイオードPDがMOS−FETのスイツチ
SWを介して映像信号を出力するビデオライン
VLに接続されている。ビデオラインVLは抵抗R
を介して負電源Eに接続されており、この抵抗R
の端子間電圧の変化により映像信号VSが取り出
される。映像信号は、各画素のスイツチSWを順
次オンとすることにより、スイツチSWを介して
各画素のホトダイオードPDを負電源Eで充電す
る時の充電電流による抵抗Rの電圧変動として検
出される。この充電電流はホトダイオードPDに
励起された電荷の量に依存する。まず、ある走査
のタイミングで、ホトダイオードPDは負電源E
により充電され逆方向にバイアスされる。次の走
査タイミグまでに、ホトダイオードPDは光を受
光して電荷を光励起させる。その結果、その光励
起された電荷により予め充電された電荷は緩和さ
れ、ホトダイオードの逆電圧Vpは低下する。こ
の逆電圧Vpは、第5図に示すように、走査タイ
ミングの1周期の間に受光された光の光量に応じ
て減少する。例えば、光量が0の場合暗電流によ
り△q0の電圧低下が生じ、光量が増加するにつれ
て光励起された電荷により△q1,△q2の電圧低下
が生じ、光量が多いと電圧低下は飽和する。従つ
てホトダイオードPDの逆電圧Vpは、光量、暗電
流、走査周期(「電荷の蓄積期間」を意味する。)
に依存する。そして、走査タイミングでスイツチ
SWがオンとなると、ホトダイオードPDは再び
負電源Eから充電され、ホトダイオードPDの逆
電圧Vpは負電源Eの電圧に等しくなる。この時
流れる充電電流は、第5図dに示すようにホトダ
イオードPDの電圧低下に応じて変化する。した
がつて、充電電流はホトダイオードPDで1走査
周期の間に受光された光量に応じて変化すること
になる。しかし、ビデオラインには分布容量が存
在し、ホトダイオードPDにこのビデオライン容
量が並列接続されているのと等価であるから、走
査時に負電源Eから流出する充電電流は、ビデオ
ライン容量が無い場合に比べて減少する。 第6図は1画素の部分的なパターン図である。
アパーチヤ部90の拡散層部分がホトダイオード
PDとなり、他の拡散部分を含めて容量部が形成
されている。91はn型の基板であり、92,9
3はp型の拡散層である。このホトダイオード
PDにMOS FETスイツチ素子SWが接続されて
いる。92はソース、93はドレインであり、9
4がゲートである。そして、ドレイン93はポリ
シリコン95を介してビデオラインVLに接続さ
れている。ビデオライン容量には、ポリシリコン
95により形成される浮遊容量、ドレイン93の
拡散容量、アルミニウムからなるビデオライン
VLによつて形成される浮遊容量がある。
【発明が解決しようとする問題点】
以上のように、従来のMOSイメージセンサは、
ビデオライン容量により映像信号のレベルが低下
し感度が低くなるという問題がある。また、各画
素のホトダイオードPDは一定の周期で走査して
順次充電し、その時の充電電流を映像信号として
検出しているため、各画素の電荷の蓄積期間はそ
の画素の走査タイミングに応じて異なる。したが
つて、映像のサンプルホールドのタイミングが異
なり、全画素において同時性ある映像信号を得る
ことができないという問題がある。同時性のある
映像信号が得られないと、走査周期より高周期で
大きく輝度が変化する光源、例えば蛍光灯の映像
信号にスパイクを生じ平均的な明度を測定するの
に問題がある。
【問題点を解決するための手段】
上記問題点を解決するための発明の構成は、各
画素にホトダイオードを配列し、各ホトダイオー
ドにおいて光励起された電荷に基づいて映像信号
をビデオラインに出力する固体撮像素子におい
て、ホトダイオードに並列に接続され、少なくと
もホトダイオードにより光励起された電荷の蓄積
期間導通される第1のスイツチ素子と容量素子か
らなる直列回路と、ホトダイオードの一端と基準
電圧電源又はアースに接続され、少なくとも蓄積
期間非導通とされ、導通によりホトダイオードに
逆電圧を印加させる第2のスイツチ素子と、容量
素子の端子電圧を入力し電流増幅した信号を出力
する増幅器と、増幅器とビデオラインとの間に配
設され、蓄積期間の経過後、各画素の走査信号に
より導通される第3のスイツチ素子とを有する検
出セルを設けたことである。
【作 用】
まず、第1のスイツチ素子及び第2のスイツチ
素子が導通状態となることで、ホトダイオードと
容量素子には、基準電圧が印加されたリセツト状
態となる。尚、ホトダイオードには逆方向に基準
電圧が印加される。 次に、第2のスイツチ素子が非導通状態、第1
のスイツチ素子が導通状態となることで、ホトダ
イオード及び容量素子には基準電圧が印加されて
いない状態となる。この状態の継続期間が、電荷
の蓄積期間である。 電荷の蓄積期間において、第1のスイツチ素子
は導通状態であるので、ホトダイオードから発生
される光電流が、第1のスイツチ素子を介して、
ホトダイオードに並列に接続された容量素子に流
れる。この結果、容量素子は逆方向に充電され、
容量素子の端子間電圧は、基準電圧を初期値とし
て減少する。 電荷の蓄積期間が終了すると、第1のスイツチ
素子は非導通状態となり、その容量素子はホトダ
イオードから絶縁され、その端子間電圧を維持す
る。 この端子間電圧は増幅器により電流増幅された
映像信号となる。即ち、電流を取り出しても信号
電圧レベルが低下しない映像信号となる。 この信号は、第3のスイツチ素子の一方の端子
にに入力する。第3のスイツチ素子の制御端子に
は、各画素の走査信号が入力されて、所定期間導
通状態となる。この結果、容量素子の端子間電圧
は電流供給能力の高い映像信号としてビデオライ
ンに出力されることになる。 又、蓄積期間が経過した後は、第1のスイツチ
素子は非導通状態、第2のスイツチ素子は導通状
態となる。この結果、ホトダイオードには逆方向
に基準電圧が印加され、光電流は基準電圧源を通
る閉回路を流れる。よつて、光が照射されていて
も、ホトダイオードの端子間電位は変化すること
がなく、ブルーミングが防止される。 次に、全ての画素の読取走査が完了すると、第
1のスイツチ素子が導通状態、第2のスイツチ素
子が導通状態、即ち、リセツト状態となり初期状
態に戻る。上記の動作が繰り返されて、映像信号
の出力が行われる。 このように、第2のスイツチ素子が非導通とな
つてから、第1のスイツチ素子が非導通となるま
での期間を制御することにより、全ての画素にお
いて電荷の蓄積期間を同期させることができ、そ
の蓄積期間の長さも自由に設定することができ
る。 したがつて、全ての画素において同期のとれた
映像信号が得られる。また、電荷の蓄積期間を自
由に設定することにより、感度を変化させること
ができる。 また、電流増幅する増幅器は各検出セル毎に設
けられており、容量素子に接近した位置に設けら
れている。したがつて、増幅器からは容量素子の
端子電圧が充分な電流を供給しても電圧低下を起
こさない出力インピーダンスの充分低い電圧信号
源から映像信号としてビデオラインに出力される
ので、ビデオライン容量を充電することによる映
像信号の電圧降下が防止でき感度が向上する。
【実施例】
以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明
する。第1図は実施例のMOS型固体撮像素子の
主要部の構成を示した電気回路図である。X1は
一つの検出セル(第1検出セル)を表し、Wはダ
ミーセルである。ダミーセルは固体撮像素子にお
いて1つ設けられている。 まず、検出セルX1について説明する。 ホトダイオードPD1のカソードは、MOS−
FET(以下単に「トランジスタ」という)FT2
(第2のスイツチ素子)(エンハンスメントタイ
プ)のソースに接続され、ホトダイオードPD1
のアノードは接地されている。そして、トランジ
スタFT2のドレインには正のリフアレンス電圧
Vrefが印加されている。また、ホトダイオード
PD1の陰極はトランジスタFT1(第1のスイツ
チ素子)(エンハンスメントタイプ)のソースに
接続され、そのトランジスタFT1のドレインは
容量素子C1に接続され、その容量素子C1の他
の端子は接地されている。この容量素子C1は
MOS型の容量素子で構成されている。このトラ
ンジスタFT1と容量素子C1とで直列回路を構
成し、その直列回路がホトダイオードPD1の両
端子間に接続されている。 また、容量素子C1の陽極はトランジスタFT
3(エンハンスメントタイプ)のソースに接続さ
れ、そのトランジスタFT3のドレインにはリフ
アレンス電圧Vrefが印加されている。さらに、
容量素子C1の陽極はセンス増幅回路A1を構成
するトランジスタFT4(第1のトランジスタ)
(ノンドープエンハンスメントタイプ)のゲート
に接続され、そのトランジスタFT4のドレイン
には電圧Vrefが印加され、そのソースは負荷抵
抗を構成するトランジスタFT6(ノンドープエ
ンハンスメントタイプ)のドレインに接続されて
いる。トランジスタFT6のソースはトランジス
タFT7(第2のトランジスタ)(ノンドープエン
ハンスメントタイプ)のドレインに接続され、ト
ランジスタFT7のソースは接地されている。両
トランジスタFT6,FT7のゲートには安定した
電圧が印加されている。また、トランジスタ4の
ソースはトランジスタFT5(第3のスイツチ素
子)(エンハンスメントタイプ)のドレインに接
続され、そのトランジスタFT5のソースはビデ
オラインVLに接続されている。 トランジスタFT3はゲートにアクテイブハイ
のリセツト信号S2を入力しており、リセツト信
号S2が高レベルとなると導通する。また、トラ
ンジスタFT1はゲートにアクテイブハイのデー
タ信号S1を入力しており、データ信号S1が高
レベルとなると導通する。また、トランジスタ
FT5はゲートにアクテイブハイのX1選択信号
S3を入力しており、X1選択信号S3が高レベ
ルとなると導通する。さらに、トランジスタFT
2はデータ信号S1を反転したロツク信号S4が
入力しており、ロツク信号S4が高レベルとなる
と導通する。 係る構成において、第2図のタイミングチヤー
トに示すように、リセツト信号S2が時刻t1で
高レベルとなると、トランジスタFT3は導通し
容量素子C1は電圧Vrefに充電される。尚、ロ
ツク信号S4は時刻t1において高レベルである
ので、この時ホトダイオードPD1には逆方向に
電圧Vrefが印加されている。次に時刻t2にお
いて、データ信号S1が高レベルとなるロツク信
号S4が低レベルとなると、トランジスタFT1
がオンとなりトランジスタFT2がオフとなる。
すると、ホトダイオードPD1はトランジスタFT
1,FT3を介して、逆方向に電圧Vrefが継続し
て印加される。 次に、時刻t3においてリセツト信号S2が低
レベルとなると、トランジスタFT3はオフとな
り、トランジスタFT1のみがオン状態を継続す
る。すると、ホトダイオードPD1により生じる
光電流ILは自己の容量を充電すると共に、I1
で示すように容量素子C1、トランジスタFT1、
ホトダイオードPD1の閉回路に分流する。この
ため、光電流ILの分流成分により容量素子C1
は逆方向に充電され、その端子電圧Vcは初期電
圧Vrefから漸次減少する。 次に、時刻t4においてデータ信号S1が低レ
ベルとなると、トランジスタFT1がオフとなり、
光電流ILの分流成分による容量素子C1に対す
る逆充電が停止し、容量素子C1の端子電圧Vc
の減少が停止する。このようにして、容量素子C
1の端子電圧Vcは光電流ILの分流成分の大きさ
と容量素子C1を逆方向に充電する期間(時刻t
3〜時刻t4の期間)、即ち、電荷の蓄積期間の
長さに依存して変化する。 次に、時刻t5において、シフトレジスタで構
成された選択信号出力回路1に、アクテイブロー
のスタート信号が入力されると、選択信号出力回
路1はクロツク信号に同期して、選択信号を順次
各セルのトランジスタFT5のゲートに出力する。
シフトレジスタは、初期状態において全桁が
「0」にプリセツトされており、1桁だけが「1」
となり「1」が下位桁から上位桁へクロツク信号
に同期して伝搬す るように構成されている。 時刻t6において、クロツク信号に同期してア
クテイブハイのX1選択信号S3が第1検出セル
X1のトランジスタFT5のゲートに出力される
と、そのトランジスタFT5は1クロツク周期の
間(時刻t6〜t7)オンとなり、その第1検出
セルX1の容量素子C1の端子電圧Vcがビデオ
ラインVLに出力される。次に、時刻t7におい
て、クロツク信号に同期してアクテイブハイの選
択信号が第2セルのトランジスタFT5のゲート
に出力されると、そのトランジスタFT5は1ク
ロツク周期の間(時刻t7〜t8)オンとなり、
その第2検出セルの容量素子C1の端子電圧Vc
がビデオラインVLに出力される。このようにし
て、最終セルに至るまで走査され、各検出セルの
容量素子C1の端子電圧VcがビデオラインVLに
映像信号VSとして出力される。最終の検出セル
まで走査が進行すると、エンド信号が選択信号出
力回路1に出力され、時刻t9で検出セルの走査
が停止する。その後、上記した時刻t1か次のサ
イクルの処理が繰り返される。 上記処理において、時刻t3〜t4間における
光電流による電荷の蓄積の処理は、各検出セルに
おいて同時に実行される。したがつて、時系列的
に出力された映像信号VSは、全検出セルにおい
て同時性のある受光量を表すことになる。また、
容量素子C1に電荷を蓄積しているため電荷の蓄
積量を多くとることができるので、感度を向上さ
せることができる。 尚、上記実施例において、電荷の蓄積期間以外
の期間は、アクテイブハイのロツク信号S4によ
りトランジスタFT2がオンとなり、ホトダイオ
ードPD1に初期電圧Vrefが印加される。この場
合には、電荷の蓄積期間外はホトダイオードPD
1により生じる光電流ILは、I2で示すように
ホトダイオードPD1等に蓄積されることなく電
源に流れ込むことになりブルーミングが防止され
る。 次に、ダミーセルWについて述べる。 ダミーセルWはホトダイオードPD11のアパ
ーチヤ部90がアルミニウム層96により遮光さ
れていることを除き、検出セルX1の構成と同一
である。即ち、ダミーセルWのトランジスタFT
11,FT12,FT13,FT14,FT15,
FT16,FT17は、それぞれ、検出セルX1の
トランジスタFT1,FT2,FT3,FT4,FT
5,FT6,FT7に対応する。ダミーセルWは各
検出セルと同様に作動し、電荷の蓄積期間t3〜
t4にホトダイオードPD11により生じた暗電
流IDは自己の容量と容量素子C11を逆方向に
充電し、容量素子C11の端子電圧Vdを減少さ
せる。そして、各検出セルが順次走査され映像信
号VSが順次出力されている走査期間(時刻t6
〜t9)高レベルとなるアクテイブハイのダミー
セル選択信号S5がトランジスタFT15のゲー
トに入力しているので、ダミーセルWの容量素子
C11の端子電圧Vdは、走査期間ダミーライン
DLに暗信号DSとして出力される。 このようにしてビデオラインVLに出力された
映像信号VSからダミーラインDLに出力された暗
信号DSを減算することにより、映像信号VSから
暗電流の影響を除去した信号を得ることができ
る。 センス増幅回路A1はソースホロワであり、ト
ランジスタFT6とトランジスタFT7とで定電流
源を構成している。トランジスタFT7のゲート
電圧をV1、トランジスタFT6のソース電圧を
V2、トランジスタFT6のゲート電圧をV3、
トランジスタFT4の閾値電圧をVt4、トランジ
スタFT6の閾値電圧をVt6、トランジスタFT
7の閾値電圧をVt7、トランジスタFT4のゲー
ト電圧をVin、ソース電圧をVotとすると、トラ
ンジスタFT4とトランジスタFT7を流れる電流
が等しいことから良く知られたように次式の関係
が成立する。 Vin−Vot−Vt4=V3−V2−Vt6 =V1−Vt7 よつて Vot=Vin−V1−(Vt4−Vt7) となり、トランジスタFT4の出力電圧Votは、
トランジスタFT7のゲート電圧V1だけ減少す
ると共にトランジスタFT4とトランジスタFT7
の閾値電圧の差に依存する。したがつて、トラン
ジスタFT4とトランジスタFT7を均一に作成す
れば、Vt4−Vt7を零とすることができ、各検
出セルの出力する映像信号をトランジスタFT4
の閾値電圧に依存しない均一なものとすることが
できる。このとき、各検出セルの映像信号を不均
一とするのは、閾値電圧のミスマツチング、基板
効果、アーリー効果による不均一性がある。ミス
マツチングはトランジスタを同一大きさでパター
ンを同一とすると、第1に、ゲート酸化膜の不均
一性、第2に、酸化膜中の可動イオン濃度及び空
乏層中の電荷濃度の不均一性、第3に、チヤンネ
ルドープの不均一性により生じる。第1と第2の
不均一性はトランジスタの配設位置を接近させる
ことにより除去できる。また、第3の不均一性は
ノンドープタイプに構成することにより解決され
た。このノンドープタイプのトランジスタは閾値
電圧が略0ボルトとなるため、第3図aに示すバ
イアス電圧発生回路を用いた。そのバイアス電圧
発生回路のトランジスタもノンドープタイプの
MOS−FETを用いた。また、トランジスタFT
6とトランジスタFT7の接続はアーリー効果を
低減させるためである。尚、ダミーセルWのセン
ス増幅回路A11についてもセンス増幅回路A1
と同じ構成である。また、バイアス電圧発生回路
は第3図bの回路を使用してもよい。 尚、上記実施例において、容量素子C1をリセ
ツトしホトダイオードPD1をロツクするために
トランジスタFT3とトランジスタFT2が使用さ
れているが、トランジスタFT3を省略すること
もできる。省略した場合には、トランジスタFT
2とトランジスタT1がオンすることにより容量
素子C1がリセツトされ、トランジスタFT2が
オンし、トランジスタFT1がオフすることによ
りホトダイオードPD1のリセツトとロツクが行
われる。また、トランジスタFT2がオフしトラ
ンジスタFT1がオンすることにより、容量素子
C1に電荷の蓄積が行われる。このことはダミー
セルWについても同様である。
【発明の効果】
上述したように、本発明では、ホトダイオード
により光励起された電荷は電荷の蓄積期間導通さ
れる第1のスイツチ素子を介して容量素子に蓄積
される。よつて、容量素子によりホトダイオード
よりも多くの電荷が蓄積できるので飽和を防止で
きると共に感度が向上する。又、第1のスイツチ
素子及び第2のスイツチ素子のオンオフ期間を制
御することで、電荷の蓄積期間を制御でき、感度
を容易に制御することができる。更に、各画素か
ら映像信号が読み出されている期間は第2のスイ
ツチ素子が導通しているので、ホトダイオードに
は逆電圧が印加されることになり、光励起された
電荷は電源回路に還流するため、ブルーミングが
防止される。さらに、容量素子の端子電圧を入力
し電流増幅した信号を出力する増幅器を各検出セ
ル毎に設けているので、映像信号は内部インピー
ダンスの小さな信号源からビデオラインに出力さ
れることになり、ビデオライン容量による感度の
低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の具体的な一実施例に係る固体
撮像素子の主要部の構成を示した回路図。第2図
は実施例回路の動作を説明するタイミングチヤー
ト。第3図a,bはその回路のセンス増幅回路に
バイアス電圧を与えるバイアス電圧発生回路を示
した回路図。第4図は従来のMOS型イメージセ
ンサの1画素の主要部の構成を示した構成図。第
5図はその素子の動作特性を示した波形図。第6
図aはその素子の構造を示した平面図、第6図b
はその素子の構造を示した断面図である。 FT1〜FT7,FT11〜FT17…MOS−
FET、PD,PD1,PD11…ホトダイオード、
C1,C11…容量素子、X1…検出セル、W…
ダミーセル、A1,A11…センス増幅回路、
VL…ビデオライン、DL…ダミーライン、90…
アパーチヤ部、91…n型基板、92…ソース、
93…ドレイン、94…ゲート、96…アルミニ
ウム層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 各画素にホトダイオードを配列し、各ホトダ
    イオードにおいて光励起された電荷に基づいて映
    像信号をビデオラインに出力する固体撮像素子に
    おいて、 前記ホトダイオードに並列に接続され、少なく
    ともホトダイオードにより光励起された電荷の蓄
    積期間導通される第1のスイツチ素子と容量素子
    からなる直列回路と、 前記ホトダイオードの一端と基準電圧電源又は
    アースに接続され、少なくとも前記蓄積期間非導
    通とされ、導通により前記ホトダイオードに逆電
    圧を印加させる第2のスイツチ素子と、 前記容量素子の端子電圧を入力し電流増幅した
    信号を出力する増幅器と、 前記増幅器と前記ビデオライン間に配設され、
    前記蓄積期間の経過後、各画素の走査信号により
    導通される第3のスイツチ素子と を設けた検出セルを有することを特徴とする固体
    撮像素子。 2 前記蓄積期間が始まる前に、前記ホトダイオ
    ードは逆電圧が印加され前記容量素子はその逆電
    圧で充電されることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の固体撮像素子。 3 前記増幅器は、第1定電位のラインと、前記
    第1定電位と異なる電位の第2の定電位のライン
    間に設けられ、第1のトランジスタ及び第2のト
    ランジスタの直列接続から成り、 前記第1のトランジスタのキヤリアが外部へ流
    出する側の端子は前記第1定電位のラインに接続
    され、前記第1のトランジスタの制御端子には光
    励起された電荷に応じた電圧が入力されており、 前記第2のトランジスタのキヤリアが外部から
    流入する側の端子は前記第2定電位のラインに接
    続され、前記第2のトランジスタの制御端子に
    は、前記第2のトランジスタを流れる電流を一定
    とする所定の定電圧が入力されており、 前記第1のトランジスタの閾値電圧と前記第2
    のトランジスタの閾値電圧は略等しく構成され、 前記第1のトランジスタのキヤリアが外部から
    流入する側の端子の電位を映像信号として出力す
    る回路であることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の固体撮像素子。
JP61309499A 1986-12-22 1986-12-25 固体撮像素子 Granted JPS63161780A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61309499A JPS63161780A (ja) 1986-12-25 1986-12-25 固体撮像素子
US07/135,382 US4839735A (en) 1986-12-22 1987-12-21 Solid state image sensor having variable charge accumulation time period

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61309499A JPS63161780A (ja) 1986-12-25 1986-12-25 固体撮像素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63161780A JPS63161780A (ja) 1988-07-05
JPH0511830B2 true JPH0511830B2 (ja) 1993-02-16

Family

ID=17993728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61309499A Granted JPS63161780A (ja) 1986-12-22 1986-12-25 固体撮像素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63161780A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4703815B2 (ja) 2000-05-26 2011-06-15 株式会社半導体エネルギー研究所 Mos型センサの駆動方法、及び撮像方法
JP4943525B2 (ja) * 2010-03-10 2012-05-30 株式会社半導体エネルギー研究所 Mos型センサ、モジュール及び電子機器

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56124279A (en) * 1980-02-06 1981-09-29 Origin Electric Co Ltd Image pickup device
JPS58168922A (ja) * 1982-03-30 1983-10-05 Takeomi Suzuki 光検出回路
JPS596677A (ja) * 1982-07-02 1984-01-13 Olympus Optical Co Ltd 光電変換装置
JPS6162284A (ja) * 1984-09-03 1986-03-31 Mitsubishi Electric Corp 固体撮像素子
JPS61214870A (ja) * 1985-03-20 1986-09-24 Mitsubishi Electric Corp 固体撮像装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56124279A (en) * 1980-02-06 1981-09-29 Origin Electric Co Ltd Image pickup device
JPS58168922A (ja) * 1982-03-30 1983-10-05 Takeomi Suzuki 光検出回路
JPS596677A (ja) * 1982-07-02 1984-01-13 Olympus Optical Co Ltd 光電変換装置
JPS6162284A (ja) * 1984-09-03 1986-03-31 Mitsubishi Electric Corp 固体撮像素子
JPS61214870A (ja) * 1985-03-20 1986-09-24 Mitsubishi Electric Corp 固体撮像装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63161780A (ja) 1988-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4839735A (en) Solid state image sensor having variable charge accumulation time period
US4879470A (en) Photoelectric converting apparatus having carrier eliminating means
US4972243A (en) Photoelectric conversion apparatus with shielded cell
US6797933B1 (en) On-chip design-for-testing structure for CMOS APS (active pixel sensor) image sensor
EP1178673B1 (en) Solid state image pickup apparatus
EP0489724B1 (en) Device and method of photoelectrically converting light into electrical signal
EP0665685A2 (en) Solid-state imager having photo fets and storage capacitors
US4980546A (en) Photosensitive device of the type with amplification of the signal at the photosensitive dots
EP0226338B1 (en) Photoelectric conversion device
US6476371B2 (en) Solid state imaging device and driving method thereof
US11558567B2 (en) Optical active pixel sensor using TFT pixel circuit
EP0274236B1 (en) Photoelectric converting apparatus
KR20070062410A (ko) 광역 동적 영역을 갖는 이미지 센서를 이용하여 이미지를획득하는 방법
EP0472066A1 (en) Solid state imaging device
US4868405A (en) Photoelectric converting apparatus having a common region connecting either sources or drains to a common signal line
US4055836A (en) Charge transfer readout circuits
US4109284A (en) Self-scanning photo-sensitive circuits
JPH0511830B2 (ja)
US7755418B2 (en) Current source generator utilizing a portion of a targeted analog circuit
US4266237A (en) Semiconductor apparatus
JPH0511831B2 (ja)
JPH0511829B2 (ja)
JPH0511828B2 (ja)
JP2741703B2 (ja) 光電変換装置
JP2791073B2 (ja) 固体撮像装置

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term