JPH0511671B2 - - Google Patents
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- JPH0511671B2 JPH0511671B2 JP62183678A JP18367887A JPH0511671B2 JP H0511671 B2 JPH0511671 B2 JP H0511671B2 JP 62183678 A JP62183678 A JP 62183678A JP 18367887 A JP18367887 A JP 18367887A JP H0511671 B2 JPH0511671 B2 JP H0511671B2
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
- H01S3/08063—Graded reflectivity, e.g. variable reflectivity mirror
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明はレーザ装置に係り、とくに大出力レ
ーザ装置におけるビーム品質の改良に関するもの
である。
ーザ装置におけるビーム品質の改良に関するもの
である。
［従来の技術］
第１３図は例えばレーザハンドブツク（Laser
Handbook 1979.North−Holland Publishing
Company）に記載された従来の不安定型共振器
を有するレーザ装置の模式図である。図におい
て、１は凹面鏡よりなるコリメートミラー、２は
このコリメートミラーに対向配設された凸面鏡よ
りなる拡大ミラーであり、両ミラー１，２は全反
射ミラーによつて構成されている。３はレーザ媒
質でCO2レーザ等のガスレーザを例にとれば放電
などにより励起されたガス媒質、YAGレーザな
どの固体レーザを例にとればフラツシユランプ等
により励起されたガラス媒質である。４はウイン
ドミラー、５はウインドミラー４の面上に施され
た無反射コーテイング膜、６は周囲を覆う箱体、
７はコリメートミラー１と拡大ミラー２とにより
構成された共振器内に発生するレーザビーム、８
は拡大ミラー２の周辺部より外部に取出されたレ
ーザビームである。
Handbook 1979.North−Holland Publishing
Company）に記載された従来の不安定型共振器
を有するレーザ装置の模式図である。図におい
て、１は凹面鏡よりなるコリメートミラー、２は
このコリメートミラーに対向配設された凸面鏡よ
りなる拡大ミラーであり、両ミラー１，２は全反
射ミラーによつて構成されている。３はレーザ媒
質でCO2レーザ等のガスレーザを例にとれば放電
などにより励起されたガス媒質、YAGレーザな
どの固体レーザを例にとればフラツシユランプ等
により励起されたガラス媒質である。４はウイン
ドミラー、５はウインドミラー４の面上に施され
た無反射コーテイング膜、６は周囲を覆う箱体、
７はコリメートミラー１と拡大ミラー２とにより
構成された共振器内に発生するレーザビーム、８
は拡大ミラー２の周辺部より外部に取出されたレ
ーザビームである。
次の動作について説明する。コリメートミラー
１と拡大ミラー２はいわゆる不安定型共振器を構
成しており、拡大ミラー２により反射拡大された
レーザビーム７はレーザ媒質３により増幅される
と共に、コリメートミラー１により平行ビーム７
ａにコリメートされて、拡大ミラー２及び拡大ミ
ラー２の周辺部上に反射し、リング状のビームと
してウインドミラー４より外部にとり出される。
取出されたリング状のレーザビーム８はほとんど
等位相で得られるため、レンズ等によつて集光す
ることにより中高のレーザビームとなり、鉄板な
どの切断、溶接等を効率よくおこなうことができ
る。
１と拡大ミラー２はいわゆる不安定型共振器を構
成しており、拡大ミラー２により反射拡大された
レーザビーム７はレーザ媒質３により増幅される
と共に、コリメートミラー１により平行ビーム７
ａにコリメートされて、拡大ミラー２及び拡大ミ
ラー２の周辺部上に反射し、リング状のビームと
してウインドミラー４より外部にとり出される。
取出されたリング状のレーザビーム８はほとんど
等位相で得られるため、レンズ等によつて集光す
ることにより中高のレーザビームとなり、鉄板な
どの切断、溶接等を効率よくおこなうことができ
る。
また、その集光の度合いは、取出されるリング
状のレーザビーム８の内径と外径との比（Ｍ値
（Magnification facter））できまり、Ｍ値が大き
いほど、すなわち、より中づまりで取出されたビ
ームほどよく集光される。しかしＭ値を大きくす
ると発振効率が著しく悪化するため、工業的に現
実にもちいられるＭ値の上限は２程度である。
状のレーザビーム８の内径と外径との比（Ｍ値
（Magnification facter））できまり、Ｍ値が大き
いほど、すなわち、より中づまりで取出されたビ
ームほどよく集光される。しかしＭ値を大きくす
ると発振効率が著しく悪化するため、工業的に現
実にもちいられるＭ値の上限は２程度である。
［発明が解決しようとする問題点］
従来のレーザ装置は以上のように構成されてい
るので、集光特性を向上させるためにＭ値を大き
くすると発振効率が悪化するため、実用的にはＭ
値を最高集光性能の得られる無限大近くまであげ
られないという問題があつた。また、ウインドミ
ラー４がリング状のレーザビーム８により不均一
に過熱されるため、不均一な内部応力が発生して
通過するレーザビーム８の位相分布をくずし、集
光性能を悪化させる等の問題があつた。
るので、集光特性を向上させるためにＭ値を大き
くすると発振効率が悪化するため、実用的にはＭ
値を最高集光性能の得られる無限大近くまであげ
られないという問題があつた。また、ウインドミ
ラー４がリング状のレーザビーム８により不均一
に過熱されるため、不均一な内部応力が発生して
通過するレーザビーム８の位相分布をくずし、集
光性能を悪化させる等の問題があつた。
この発明は上記のような問題点を解消するため
になされたもので、発振効率の低下を招かずにＭ
値が無限大に近い高品質のレーザビームを取出す
ことができるレーザ装置を得ることを目的とす
る。
になされたもので、発振効率の低下を招かずにＭ
値が無限大に近い高品質のレーザビームを取出す
ことができるレーザ装置を得ることを目的とす
る。
［問題点を解決するための手段］
この発明に係るレーザ装置は、中央部に部分透
過部を周辺部に無反射部を有する出口ミラーと、
この出口ミラーに対向配置され出口ミラーの部分
透過部で反射されたレーザビームを反射する反射
ミラーとを備えた共振器に、上記出口ミラーの部
分透過部とその周辺部を通過するレーザビームの
位相差を打消す位相差打消手段を設けたものであ
る。
過部を周辺部に無反射部を有する出口ミラーと、
この出口ミラーに対向配置され出口ミラーの部分
透過部で反射されたレーザビームを反射する反射
ミラーとを備えた共振器に、上記出口ミラーの部
分透過部とその周辺部を通過するレーザビームの
位相差を打消す位相差打消手段を設けたものであ
る。
［作用］
この発明においては、出口ミラーがレーザビー
ムの一部を通過させ、レーザビームは従来のリン
グ状から中詰まり状になつて取出されるととも
に、位相差打消手段が中央部と周辺部でのレーザ
ビームの位相差を打消して、集光性のよい高品質
のレーザビームが得られる。
ムの一部を通過させ、レーザビームは従来のリン
グ状から中詰まり状になつて取出されるととも
に、位相差打消手段が中央部と周辺部でのレーザ
ビームの位相差を打消して、集光性のよい高品質
のレーザビームが得られる。
［実施例］
第１図はこの発明の一部を構成するレーザ装置
の模式図である。図において、４は凸面鏡からな
る出口ミラーであり、コリメートミラー１に対向
する面の中央部に部分反射率を有する部分反射膜
２０が設けられ、拡大ミラーとして働く。また部
分反射膜２０の周辺部及び他面側には無反射コー
テイング膜５が設けられている。
の模式図である。図において、４は凸面鏡からな
る出口ミラーであり、コリメートミラー１に対向
する面の中央部に部分反射率を有する部分反射膜
２０が設けられ、拡大ミラーとして働く。また部
分反射膜２０の周辺部及び他面側には無反射コー
テイング膜５が設けられている。
次に動作について説明する。コリメートミラー
１及び出口ミラー４の部分反射膜２０部はいわゆ
る不安定型共振器を構成しており、出口ミラー４
の部分反射膜２０で反射拡大されたレーザビーム
７は、レーザ媒質３により増幅されると共にコリ
メートミラー１により平行ビームにコリメートさ
れ、出口ミラー４より外部へレーザビーム８は部
分反射膜２０を通過する部分と、無反射コーテイ
ング膜５を通過する部分とからなつており、部分
反射膜２０を通過する部分は部分透過性をもつの
で、レーザビーム８は中づまりであり、従来の不
安定型共振器で定義されたＭ値は無限大に相当す
る。
１及び出口ミラー４の部分反射膜２０部はいわゆ
る不安定型共振器を構成しており、出口ミラー４
の部分反射膜２０で反射拡大されたレーザビーム
７は、レーザ媒質３により増幅されると共にコリ
メートミラー１により平行ビームにコリメートさ
れ、出口ミラー４より外部へレーザビーム８は部
分反射膜２０を通過する部分と、無反射コーテイ
ング膜５を通過する部分とからなつており、部分
反射膜２０を通過する部分は部分透過性をもつの
で、レーザビーム８は中づまりであり、従来の不
安定型共振器で定義されたＭ値は無限大に相当す
る。
第２図ａ，ｂはそれぞれ従来及び第１図の不安
定型共振器で発生したレーザビームをレンズで集
光させた場合のパターン形状を模式的に示す特性
図であり、横軸は光軸からの距離、縦軸はビーム
強度である。
定型共振器で発生したレーザビームをレンズで集
光させた場合のパターン形状を模式的に示す特性
図であり、横軸は光軸からの距離、縦軸はビーム
強度である。
この実験では両者の発振特性をほぼ同一にする
ため、部分反射膜２０の反射率は50％、また部分
反射膜２０の径とビーム外径との比は1.5とした
（即ち、Ｍ＝1.5の従来の不安定型共振器の拡大ミ
ラー２に50％の部分透過性をもたせて、この発明
の不安定型共振器とした）。また、出口ミラー４
の両面の曲率は同一とし（厚みを一定とし）、レ
ーザビーム８が出口ミラー４を通過後も平行ビー
ムであるようにした。第２図ａ，ｂで示される各
集光性能を比較すると、第１図のもの（第２図
ｂ）は中央強度が高く、かつ光軸上に集中したレ
ーザビームが得られることがわかる。また中央の
強度の山（メインローブ）には全パワーの約82％
のレーザパワーが含まれていることが確かめら
れ、これは従来の不安定型共振器でのＭ値が無限
大での理論値80％にほぼ匹敵する値であり、理論
限界に近い集光性が得られていることがわかる。
ため、部分反射膜２０の反射率は50％、また部分
反射膜２０の径とビーム外径との比は1.5とした
（即ち、Ｍ＝1.5の従来の不安定型共振器の拡大ミ
ラー２に50％の部分透過性をもたせて、この発明
の不安定型共振器とした）。また、出口ミラー４
の両面の曲率は同一とし（厚みを一定とし）、レ
ーザビーム８が出口ミラー４を通過後も平行ビー
ムであるようにした。第２図ａ，ｂで示される各
集光性能を比較すると、第１図のもの（第２図
ｂ）は中央強度が高く、かつ光軸上に集中したレ
ーザビームが得られることがわかる。また中央の
強度の山（メインローブ）には全パワーの約82％
のレーザパワーが含まれていることが確かめら
れ、これは従来の不安定型共振器でのＭ値が無限
大での理論値80％にほぼ匹敵する値であり、理論
限界に近い集光性が得られていることがわかる。
また、上記の実施例では無反射コーテイング膜
５を通過する場合の位相変化と、部分反射膜２０
を通過する場合の位相変化との差が小さいため、
集光性のよい位相のよくそろつたレーザビーム８
が得られたが、部分反射膜２０の反射率を上げて
部分反射膜２０の膜厚を大きくした場合には、両
者の間に生じる位相差により集光性能が悪化す
る。
５を通過する場合の位相変化と、部分反射膜２０
を通過する場合の位相変化との差が小さいため、
集光性のよい位相のよくそろつたレーザビーム８
が得られたが、部分反射膜２０の反射率を上げて
部分反射膜２０の膜厚を大きくした場合には、両
者の間に生じる位相差により集光性能が悪化す
る。
例えば、第３図は集光点での軸上強度の１／e2
倍になる点の直径（集光スポツト径）、及びその
径内に含まれるレーザパワーの全体に対する割合
（パワー集中度）と位相差との関係を示す特性図
であり、横軸は位相差（degree）、縦軸は集光ス
ポツト径（μｍ）及びパワー集中度（％）を示
す。曲線Ａは集光スポツト径と位相差との関係を
示し、曲線Ｂはパワー集中度と位相差との関係を
示す。なお、Ｍ値は1.5で、部分反射膜２０の部
分透過性は50％とした。また、第３図は波動計算
により共振器内に発生するレーザビーム、及びそ
れをもちいての集光点での強度分布を計算した結
果にもとづくものである。一般にスポツト径が小
さく、パワー集中度が大きい程集光性能がよいと
判断できる。しかし第３図では、例えば、位相差
が0゜から45゜程度内に打消されていれば、パワー
集中度、スポツト径とも好ましい結果が得られる
が、100゜以上の位相差が生じた場合には、特にス
ポツト径が著しく悪化し、集光性能が悪化するこ
とがわかる。
倍になる点の直径（集光スポツト径）、及びその
径内に含まれるレーザパワーの全体に対する割合
（パワー集中度）と位相差との関係を示す特性図
であり、横軸は位相差（degree）、縦軸は集光ス
ポツト径（μｍ）及びパワー集中度（％）を示
す。曲線Ａは集光スポツト径と位相差との関係を
示し、曲線Ｂはパワー集中度と位相差との関係を
示す。なお、Ｍ値は1.5で、部分反射膜２０の部
分透過性は50％とした。また、第３図は波動計算
により共振器内に発生するレーザビーム、及びそ
れをもちいての集光点での強度分布を計算した結
果にもとづくものである。一般にスポツト径が小
さく、パワー集中度が大きい程集光性能がよいと
判断できる。しかし第３図では、例えば、位相差
が0゜から45゜程度内に打消されていれば、パワー
集中度、スポツト径とも好ましい結果が得られる
が、100゜以上の位相差が生じた場合には、特にス
ポツト径が著しく悪化し、集光性能が悪化するこ
とがわかる。
この場合は、第４図ａ又はｂに示すようにコリ
メートミラー１面中央部の部分反射膜２０と同径
の部分に（第４図ｂ）、あるいは上記中央部をの
ぞいて（第４図ａ）金属薄膜よりなる反射薄膜１
０を設け、その厚みが上記位相差を打消すように
構成すればよい。たとえば部分反射膜２０を通過
する場合に、無反射コーテイング膜５を通過する
場合より位相がθ゜進むとした場合には、金属薄膜
１０の厚みｄは ｄ＝｜λ・θ／360｜ ［１］ と計算される（ここでλはレーザビームの波長で
ある）。
メートミラー１面中央部の部分反射膜２０と同径
の部分に（第４図ｂ）、あるいは上記中央部をの
ぞいて（第４図ａ）金属薄膜よりなる反射薄膜１
０を設け、その厚みが上記位相差を打消すように
構成すればよい。たとえば部分反射膜２０を通過
する場合に、無反射コーテイング膜５を通過する
場合より位相がθ゜進むとした場合には、金属薄膜
１０の厚みｄは ｄ＝｜λ・θ／360｜ ［１］ と計算される（ここでλはレーザビームの波長で
ある）。
またこれと同じことは第５図、ａ、ｂに示すよ
うに、コリメートミラー１の中央部に部分反射膜
２０と同径の凹（第５図ａ）又は凸（第５図ｂ）
状の段部１１を設けても実現でき、また第６図
ａ，ｂに示すように出口ミラー４の内面側に段部
４０を設け、拡大ミラー部、即ち部分反射膜２０
をコーテイングした部分と、拡大ミラー周辺部、
即ち無反射コーテイング膜５をコーテイングした
部分との間に段差を設けても実現できる。この場
合の段差の大きさは［１］式にもとづいてきめれ
ばよい。
うに、コリメートミラー１の中央部に部分反射膜
２０と同径の凹（第５図ａ）又は凸（第５図ｂ）
状の段部１１を設けても実現でき、また第６図
ａ，ｂに示すように出口ミラー４の内面側に段部
４０を設け、拡大ミラー部、即ち部分反射膜２０
をコーテイングした部分と、拡大ミラー周辺部、
即ち無反射コーテイング膜５をコーテイングした
部分との間に段差を設けても実現できる。この場
合の段差の大きさは［１］式にもとづいてきめれ
ばよい。
また、以上の例では不安定型共振器の拡大ミラ
ーとして凸面鏡の場合を示したが、第７図に示す
ように出口ミラーに凹面鏡４１をもちいて、一度
共振器内でビームを集光後拡大した構成のものに
ついても、凹面鏡４１の中央部に部分反射率をも
つ部分反射膜２０を設けて、部分透過率を有する
拡大ミラーとすることにより同様にして中づまり
のモードを発生させることができる。なお、第４
図ないし第７図はいずれも周囲を覆う箱体を省い
てこの発明のレーザ装置の断面構成を示してい
る。
ーとして凸面鏡の場合を示したが、第７図に示す
ように出口ミラーに凹面鏡４１をもちいて、一度
共振器内でビームを集光後拡大した構成のものに
ついても、凹面鏡４１の中央部に部分反射率をも
つ部分反射膜２０を設けて、部分透過率を有する
拡大ミラーとすることにより同様にして中づまり
のモードを発生させることができる。なお、第４
図ないし第７図はいずれも周囲を覆う箱体を省い
てこの発明のレーザ装置の断面構成を示してい
る。
第８図はこの発明の他の実施例の断面図であ
る。図において、１ａは凸面鏡からなる拡大全反
射ミラー、３はレーザ媒質、４は凹面鏡からなる
出口ミラーで、５は無反射コーテイング膜、２０
は内面の中央部に設けた部分反射鏡である。６は
箱体、７，７ａ，８はレーザビームである。
る。図において、１ａは凸面鏡からなる拡大全反
射ミラー、３はレーザ媒質、４は凹面鏡からなる
出口ミラーで、５は無反射コーテイング膜、２０
は内面の中央部に設けた部分反射鏡である。６は
箱体、７，７ａ，８はレーザビームである。
次に動作について説明する。拡大全反射ミラー
１ａにより拡大されたレーザビーム７ａはレーザ
媒質３により増幅され、その中央部の一部が出口
ミラー４の部分反射膜２０を通して、またその周
囲部の全部が出口ミラー４の無反射コーテイング
膜５を通して外部に取出され、両者は合成されて
中づまりの高品質レーザビーム８となる。一方、
部分反射膜２０により部分反射されたレーザビー
ム７は再びレーザ媒質３により増幅され、さらに
拡大全反射ミラー１ａにより反射拡大される。
１ａにより拡大されたレーザビーム７ａはレーザ
媒質３により増幅され、その中央部の一部が出口
ミラー４の部分反射膜２０を通して、またその周
囲部の全部が出口ミラー４の無反射コーテイング
膜５を通して外部に取出され、両者は合成されて
中づまりの高品質レーザビーム８となる。一方、
部分反射膜２０により部分反射されたレーザビー
ム７は再びレーザ媒質３により増幅され、さらに
拡大全反射ミラー１ａにより反射拡大される。
このようにしてレーザビーム７は拡大全反射ミ
ラー１ａ、出口ミラー４よりなるレーザ共振器間
を往復するごとに中づまりの高品質レーザビーム
８の外部に出射する。
ラー１ａ、出口ミラー４よりなるレーザ共振器間
を往復するごとに中づまりの高品質レーザビーム
８の外部に出射する。
なお、この実施例では出口ミラー４の外面の曲
率を内面の曲率より小さくして、出口ミラー４を
通過するレーザビーム８が一般に使用しやすい平
行光となる例を示してある。
率を内面の曲率より小さくして、出口ミラー４を
通過するレーザビーム８が一般に使用しやすい平
行光となる例を示してある。
上記実施例では出口ミラー４に部分反射膜２０
を施して部分反射性をもたせた場合を示したが、
第９図に示すように無コート部分２１により部分
反射性を実現してもよい。また、上記実施例では
出口ミラー４の内面の部分反射膜２０を通過する
レーザビーム７と、無反射コーテイング膜５を通
過するレーザビーム７ａ間の位相差は一般に小さ
いので問題にしなかつたが、これを打消す手段を
もうければさらに効果を高めることができる。
を施して部分反射性をもたせた場合を示したが、
第９図に示すように無コート部分２１により部分
反射性を実現してもよい。また、上記実施例では
出口ミラー４の内面の部分反射膜２０を通過する
レーザビーム７と、無反射コーテイング膜５を通
過するレーザビーム７ａ間の位相差は一般に小さ
いので問題にしなかつたが、これを打消す手段を
もうければさらに効果を高めることができる。
この手段としては第８図の部分反射膜２０に厚
みをもたせて、無反射コーテイング膜５と部分反
射膜２０を通過するレーザビーム７ａ，７、の位
相差を打消し、レーザビーム８が等位相となるよ
うにするか、あるいは第１０図に示すように出口
ミラー４の外面に段差２２を設け、上記２つのレ
ーザビーム７，７ａに対する出口ミラー４内の光
路差に差をもたせて位相差を打消してもよい。さ
らに第１１図に示すように出口ミラー４の外面と
同様の作用をもつ段差２２をもつ位相補償ミラー
９を別にもうけてもよい。
みをもたせて、無反射コーテイング膜５と部分反
射膜２０を通過するレーザビーム７ａ，７、の位
相差を打消し、レーザビーム８が等位相となるよ
うにするか、あるいは第１０図に示すように出口
ミラー４の外面に段差２２を設け、上記２つのレ
ーザビーム７，７ａに対する出口ミラー４内の光
路差に差をもたせて位相差を打消してもよい。さ
らに第１１図に示すように出口ミラー４の外面と
同様の作用をもつ段差２２をもつ位相補償ミラー
９を別にもうけてもよい。
また拡大ミラーについても凸状のもののみ示し
たが、第１２図に示すように凹状のミラー１ｂを
用いてもよい。
たが、第１２図に示すように凹状のミラー１ｂを
用いてもよい。
上記の実施例はいずれも出口ミラーとウインド
ミラーとが一体となつたのを示したが、従来と同
様、ウインドミラー面上に部分透過率を有する凹
または凸面鏡よりなる出口ミラーを設けてもよ
い。
ミラーとが一体となつたのを示したが、従来と同
様、ウインドミラー面上に部分透過率を有する凹
または凸面鏡よりなる出口ミラーを設けてもよ
い。
［発明の効果］
以上のように、この発明によれば共振器の出口
ミラーに部分透過部を設けると共に、出口ミラー
の部分透過部及びその周辺部に反射された二つの
レーザビームを互いの位相差を打消して外部に取
出す構成としたので、発振効率を犠牲にすること
なく中づまりの集光特性のよいレーザビームを得
ることができる。したがつてこのレーザビームを
利用することにより高速で効率よく高精度のレー
ザ加工をおこなうことができる。また、レーザビ
ームは出口ミラー全体を加熱するため、熱応力が
発生しにくく、長期間かつ安定してレーザビーム
を取出すことができる。
ミラーに部分透過部を設けると共に、出口ミラー
の部分透過部及びその周辺部に反射された二つの
レーザビームを互いの位相差を打消して外部に取
出す構成としたので、発振効率を犠牲にすること
なく中づまりの集光特性のよいレーザビームを得
ることができる。したがつてこのレーザビームを
利用することにより高速で効率よく高精度のレー
ザ加工をおこなうことができる。また、レーザビ
ームは出口ミラー全体を加熱するため、熱応力が
発生しにくく、長期間かつ安定してレーザビーム
を取出すことができる。
第１図はこの発明の一部を構成するレーザ装置
の模式図、第２図ａ，ｂはそれぞれ従来及び第１
図のレーザ装置の集光特性を示す特性図、第３図
は集光点での集光スポツト径及びパワー集中度と
位相差との関係を示す特性図、第４図ａ，ｂ、第
５図ａ，ｂ、第６図ａ，ｂはそれぞれこの発明の
実施例のレーザ装置の模式図、第７図は出口ミラ
ーに凹面鏡を用いたレーザ装置の模式図、第８図
はこの発明の実施例のレーザ装置の模式図、第９
図は出口ミラーに無コート部分を設けたレーザ装
置の模式図、第１０図、第１１図はそれぞれこの
発明の実施例のレーザ装置の模式図、第１２図は
拡大ミラーに凹面鏡を用いたレーザ装置の模式
図、第１３図は従来のレーザ装置の一例を示す模
式図である。 １……コリメートミラー、１ａ……拡大ミラ
ー、３……レーザ媒質、４……凸面鏡、５……無
反射コーテイング膜、７，７ａ，８……レーザビ
ーム、９……位相補償ミラー、１０……反射薄
膜、１１，２２，４０……段部、２０……部分反
射膜、４１……凹面鏡。なお、図中、同一符号は
同一又は相当部分を示す。
の模式図、第２図ａ，ｂはそれぞれ従来及び第１
図のレーザ装置の集光特性を示す特性図、第３図
は集光点での集光スポツト径及びパワー集中度と
位相差との関係を示す特性図、第４図ａ，ｂ、第
５図ａ，ｂ、第６図ａ，ｂはそれぞれこの発明の
実施例のレーザ装置の模式図、第７図は出口ミラ
ーに凹面鏡を用いたレーザ装置の模式図、第８図
はこの発明の実施例のレーザ装置の模式図、第９
図は出口ミラーに無コート部分を設けたレーザ装
置の模式図、第１０図、第１１図はそれぞれこの
発明の実施例のレーザ装置の模式図、第１２図は
拡大ミラーに凹面鏡を用いたレーザ装置の模式
図、第１３図は従来のレーザ装置の一例を示す模
式図である。 １……コリメートミラー、１ａ……拡大ミラ
ー、３……レーザ媒質、４……凸面鏡、５……無
反射コーテイング膜、７，７ａ，８……レーザビ
ーム、９……位相補償ミラー、１０……反射薄
膜、１１，２２，４０……段部、２０……部分反
射膜、４１……凹面鏡。なお、図中、同一符号は
同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 中央部に部分透過部を周辺部に無反射部を有
する出口ミラーと、この出口ミラーに対向配置さ
れ出口ミラーの部分透過部で反射されたレーザビ
ームを反射する反射ミラーとを備えた共振器に、
上記出口ミラーの部分透過部とその周辺部を通過
するレーザビームの位相差を打消す位相差打消手
段を設けてなるレーザ装置。 ２ 位相差打消手段として、上記出口ミラーに対
向する反射ミラーの中央部に出口ミラーの部分透
過部と同径の反射薄膜を設けた特許請求の範囲第
１項記載のレーザ装置。 ３ 位相差打消手段として、上記出口ミラーの部
分透過部と同径の中央部分を除いた上記反射ミラ
ーに反射薄膜を設けた特許請求の範囲第１項記載
のレーザ装置。 ４ 上記反射薄膜の厚みは、 ｄ＝λ・θ／360 但し、 λ：レーザビームの波長 θ：出口ミラーの中央部及び周辺部を通る各レー
ザビームの位相差 である特許請求の範囲第２項又は第３項記載のレ
ーザ装置。 ５ 位相差打消手段として、上記出口ミラーに対
向する反射ミラーの中央部に出口ミラーの部分透
過部と同径の段部を設けた特許請求の範囲第１項
記載のレーザ装置。 ６ 位相差打消手段として、上記出口ミラーの部
分透過部とその周辺部とに段差を設けた特許請求
の範囲第１項記載のレーザ装置。 ７ 位相差打消手段として、上記出口ミラーの外
面に段差を設けてなる特許請求の範囲第１項記載
のレーザ装置。 ８ 位相差打消手段として、上記出口ミラーから
取出されたレーザビームの通路に段差を有する位
相補償ミラーを設けてなる特許請求の範囲第１項
記載のレーザ装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62183678A JPS63265479A (ja) | 1986-12-08 | 1987-07-24 | レ−ザ装置 |
| KR1019880006600A KR910008990B1 (ko) | 1987-06-03 | 1988-06-02 | 레이저장치 |
| DE8888108902T DE3879547T2 (de) | 1987-06-03 | 1988-06-03 | Laser-apparat. |
| US07/201,999 US4903271A (en) | 1987-06-03 | 1988-06-03 | Laser apparatus |
| EP88108902A EP0293907B1 (en) | 1987-06-03 | 1988-06-03 | Laser apparatus |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-291786 | 1986-12-08 | ||
| JP29178686 | 1986-12-08 | ||
| JP62183678A JPS63265479A (ja) | 1986-12-08 | 1987-07-24 | レ−ザ装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4228931A Division JPH07105545B2 (ja) | 1986-12-08 | 1992-08-27 | レーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63265479A JPS63265479A (ja) | 1988-11-01 |
| JPH0511671B2 true JPH0511671B2 (ja) | 1993-02-16 |
Family
ID=26502017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62183678A Granted JPS63265479A (ja) | 1986-12-08 | 1987-07-24 | レ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63265479A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4871326B2 (ja) * | 2008-05-29 | 2012-02-08 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ光源 |
| KR102556816B1 (ko) * | 2018-05-11 | 2023-07-18 | 엘지이노텍 주식회사 | 표면방출발광레이저 패키지 및 이를 포함하는 광 모듈 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61199686A (ja) * | 1985-03-01 | 1986-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | 不安定型レ−ザ共振器 |
-
1987
- 1987-07-24 JP JP62183678A patent/JPS63265479A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61199686A (ja) * | 1985-03-01 | 1986-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | 不安定型レ−ザ共振器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63265479A (ja) | 1988-11-01 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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