JPH049392A - モノアルキルリン化合物の製造方法 - Google Patents

モノアルキルリン化合物の製造方法

Info

Publication number
JPH049392A
JPH049392A JP11057090A JP11057090A JPH049392A JP H049392 A JPH049392 A JP H049392A JP 11057090 A JP11057090 A JP 11057090A JP 11057090 A JP11057090 A JP 11057090A JP H049392 A JPH049392 A JP H049392A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
reaction
phosphorus
boiling point
monoalkyldihalogenophosphine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11057090A
Other languages
English (en)
Inventor
Toru Imori
徹 伊森
Takayuki Ninomiya
二宮 貴之
Kazuhiro Kondo
一博 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Nikko Kyodo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd, Nikko Kyodo Co Ltd filed Critical Nippon Mining Co Ltd
Priority to JP11057090A priority Critical patent/JPH049392A/ja
Publication of JPH049392A publication Critical patent/JPH049392A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、モノアルキルリン化合物の製造方法に係わり
、特には、M OCV D (Metalorganl
cChemical Vapour Depositi
on)法等を用いる化合物半導体薄膜を形成する際の原
料となる高純度のモノアルキルリン化合物を製造する方
法に関する。
[従来の技術] インジウムリンをはじめとするm−■族化合物半導体薄
膜は電子デバイスを作成する材料として有用である。こ
の化合物半導体薄膜を形成する方法としては、0M B
 E (Molecular Beamgpitaxy
)、■ハライドCVD、■MOCVD、0M OM B
 E (Metalorganic Mo1ecula
r BeamEpi taxy)などがある。これらの
中でもMOCVDあるいはMOMBEは結晶成長系内を
高真空に保つ必要がなく原料の交換が容易であり、メン
テナンスが楽であるため、最近、かなり使用されてきて
いる。ところがm−v族化合物半導体のうちV族元素と
してリンを用いるものは、原料として毒性の高い水素化
物であるホスフィンを使用し、量産化のために、それを
多量に使用することになり、その取扱上の安全の問題が
クローズアップされてきている。
このため、近年、V族のリン原料としてアルキルリン化
合物の使用が提案され、特にモノアルキルリン化合物は
、−分子中に水素を2つ有するため半導体薄膜への炭素
の混入が少なく、毒性を低減したホスフィン代替材料と
して注目されている(例えば、J、Crystal G
rowth、 77 (1986)り11)。
このようなモノアルキルリン化合物の合成法としては、 ■二塩化アルキル亜ホスホニルをリチウムアルミニウム
ハイドライドあるいは金属ナトリウムで還元する方法 2RPC1,+ LiAlH4−2RP)l、+ Li
AlCl4■亜ホスホン酸ジアルキルやホスホン酸ジア
ルキルをリチウムアルミニウムハイドライドにより還元
する方法 R’P(OR”)、+ LiAIH,→R’ PH。
R’P(OR”)t+ LiA11(4−e R’PH
■ホスフィンとオレフィンとの反応による方法 PH1+R=  → RPHs+  RsPI(+  
R,P等が知られている。
ところで、上記■の方法における二塩化アルキル亜ホス
ホニルは、塩化アルキルと塩化リン(m)及び塩化アル
ミニウムから生成する錯体を塩化ナトリウムや塩化カリ
ウムの存在下に、アルミニウム、マグネシウム、銅、亜
鉛或いは水銀等の金属で還元する方法により製造されて
おり、この錯体の製造が煩雑で、このため高価となり、
また嵩高いアルキル基の場合は著しく収率が低下し、し
かも塩化アルミニウム中の不純物を同伴するので、この
除去操作が煩雑であるなどの問題があった。
一方、■の方法は、リンそれ自体を5価から3価に還元
する必要があり、多量の還元剤を必要とし、操作が煩雑
になるととも経済的でないと云う問題を有し、また■の
方法では、化合物半導体の原料として用いた場合、炭素
の混入が多くなって好ましくない第2級、第3級のリン
化合物が混入し、これを分離精製することが極めて困難
であった。
〔発明が解決しようとする課題] 本発明者は、上記欠点を解決すべく、鋭意研究を進めた
結果、従来トリアルキルリン化合物の合成方法として提
案されているグリニヤール反応を用いる方法(新実験化
学講座12.有機金属化学、p423.昭和51年3月
20日、丸善(株)発行)において、量論比を制御すれ
ば、二塩化亜ホスホニルを効率よく合成でき、このグリ
ニヤール反応による二塩化亜ホスホニルを経由してモノ
アルキルホスフィンを製造すると工程数が少なく、しか
も高純度なものが得られることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づきなされたもので、本発明
の目的は、製造の工程数が少なく、しかも高純度のモノ
アルキルリン化合物を製造する方法を提供することにあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、トリハロゲン化リン1モルをグリニヤール試
薬1モル未満と反応させてモノアルキルジハロゲノホス
フィンとし、当該モノアルキルジハロゲノホスフィンを
還元することからなるもので、特に、好ましくは、前記
グリニヤール試薬とトリハロゲン化リンとの反応を反応
生成物の沸点より低沸点の有機溶剤の存在下に、また、
前記還元反応を当該還元反応生成物より高沸点の有機溶
剤の存在下に行うことからなるモノアルキルリン化合物
の製造方法である。
本発明の上記グリニヤール試薬はマグネシウムをエーテ
ル系溶媒中に入れハロゲン化アルキルを滴下すれば得ら
れる。この場合のマグネシウムの形状としては反応効率
を高くするためにチップ状のものが望ましい。上記エー
テル系溶媒は、当該グリニヤール試薬とトリハロゲン化
リンとの反応に用いるものと同じものを用いることが好
ましく、特には、グリニヤール試薬の溶解性等の理由か
らジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどが好まし
い。
本発明の方法によるモノアルキルジハロゲノホスフィン
の生成量は、添加するグリニヤール試薬の量に大きく影
響される。すなわちグリニヤール試薬をトリハロゲン化
リンに対し当量以上に加えるとジアルキルやトリアルキ
ルジハロゲノホスフィンなどの副生物を生じることとな
り、収率の点で好ましくない。このためグリニヤール試
薬はトリハロゲン化リンの当量未満、とくには00g当
量付近が好ましい。この反応では、反応生成物であるモ
ノアルキルジハロゲノホスフィンの沸点より低沸点のエ
ーテル系有機溶剤を反応溶媒として用いることが好まし
く、特には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランな
どを用いることが好ましい。これは、反応に用いられる
原料がいずれも生成物より沸点が低く、蒸留により、未
反応の原料を反応溶媒とともに留呂できるようにし、高
純度の反応生成物を得るためである。
尚、トリハロゲン化リンとしては、三塩化リン、三臭化
リン、三ヨウ化リン等を用いることができ、特には、価
格及び安定性の面から三塩化リンが好ましい。このグリ
ニヤール試薬とトリハロゲン化リンとの反応は、きわめ
て速いためグリニヤール試薬滴下後は、とくに還流等を
行う必要はなく、すぐに反応を終了させてもほとんど収
率には影響を与えない。この反応は、反応溶媒の沸点以
下の温度で行うことができるが、室温で十分速く反応が
進行するので、室温で行うことが好ましい。
反応終了後、反応溶媒等を蒸留等により除去することが
望ましい。
得られたモノアルキルジハロゲノホスフィンはリチウム
アルミニウムハイドライドや金属ナトリウムなどの還元
剤を用いて、還元することによりモノアルキルホスフィ
ンとすることができる。この還元は、モノアルキルジハ
ロゲノホスフィンに対して、当量以上の還元剤を用いて
行うと良い。
一般にモノアルキルジハロゲノホスフィンとそれを還元
して得られるモノアルキルホスフィンの沸点差は非常に
大きく、低沸点のモノアルキルホスフィンを高純度で得
るためには、当該モノアルキルホスフィンより高沸点の
溶剤、例えば、ジブチルエーテル、ジイソペンチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、キシレ
ン、n−ドデカン等を用いることが好ましい。これらの
反応溶媒に、上記モノアルキルジハロゲノホスフィンを
10〜70重量%の濃度で溶解して還元すると良い。反
応温度は、−100〜10℃の温度が好ましく、特には
、水冷下で行うことが安価で好ましい。
以上のようにして得られた還元反応生成物であるモノア
ルキルホスフィンは蒸留により簡便に分離することがで
きる。
〔実施例] (実施例1) グリニヤール  のム マグネシウム100g(4,1mol)に脱水ジエチル
エフチル1000mlを加え、tert−ブチルクロラ
イド453m1(4,1mol)滴下した。滴下終了後
、2時間還流し、ガラスフィルターでスラッジをろ過し
、淡茶色の液体を得た。得られた液体から20m1をサ
ンプリングし、IMの塩酸水溶液20m1を加えて加水
分解し、過剰の酸をIMの水酸化ナトリウム水溶液で滴
定して濃度の検定を行なった。得られたグリニヤール試
薬中のtert−BuMgClの濃度は1.9mol/
Qで、収率は57%であった。
tert−プチルジグロロホスフィンの4三塩化リン1
08g(0,79mol)に脱水ジエチルエーテル10
0m1を加え、上記で調製したグリニヤール試薬のジエ
チルエーテル溶液372m1(0,7mol)を氷冷下
で滴下した。滴下終了後、直ちに蒸留装置を取りつけ、
加熱せずに50mmHgでジエチルエーテルを留去した
後、反応容器を150℃まで加熱し、さらに110mm
1(で受器を冷却しながら蒸留すると無色透明液体が得
られた。この無色透明液体を加熱せず10mmHgに減
圧すると溶媒が留去し白色固体84g(粗収率67%)
が得られた。再び蒸留装置を取りつけ蒸留塔を60℃に
加熱し、再蒸留を行ない白色固体81gを得た。
GC−MS、NMR測定により得られた白色固体はte
rt−BuPCl、と同定された。収率は64%であっ
た。
モノtert−ブチルホスフィンのム リチウムアルミニウムハイドライド21.Ig(0,5
6mol)に脱水ジブチルエーテル100m1を加えた
懸濁液に、tert−ブチルジクロロホスフィン50.
0g(0,314mol)を脱水ジブチルエーテル10
0m1に溶解した溶液を、水冷下で、滴下した。滴下終
了後に、これにさらに6規定の塩酸水溶液300mlを
徐々に滴下した。反応液の有機相と水相とが完全に分離
した後、上層の有機相を抜き出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、受器を冷却しながら、常圧で蒸留し、無
色透明の液体14.Ogを得た。GC−MS、NMR測
定により得られたこの液体は、tert−BuPH5と
同定され、純度は99%以上で、収率は55%であった
(実施例2) 三塩化リン108g(0,79mol)にテトラヒドロ
フラン100m1を加え、実施例1と同様にして調製し
たtert−BuMgC1テトラヒドロフラン溶液36
0m1(0,75mol)を水冷下で滴下した。実施例
1と同様の操作によりtert−ブチルジクロロホスフ
ィン78g(収率62%ンを得た。
次に、リチウムアルミニウムハイドライド21.1g(
0,56mol)にジイソペンチルエーテル100m1
を加えた懸濁液に、上記で得られたtert−ブチルジ
クロロホスフィン50.0g(0,314mol)をジ
イソペンチルエーテル100m1に溶解した溶液を、水
冷下で、滴下して還元し、その後は、実施例1と同様の
方法により精製して、収率53%で、純度99%以上の
モノアルキルホスフィンを得ることができた。
(比較例1) 三塩化リンL 06g(0,77mof)にジエチルエ
ーテル100mlを加え、実施例1と同一のtert−
BuMgClジエチルエーテル溶液445m1(0,8
511101)を水冷下で滴下した。実施例1と同様の
操作により再蒸留物69g(収率56%)を得た。
このモノtert−ブチルクロロホスフィンを実施例1
と同様の方法により、リチウムアルミニウムハイドライ
ドで還元することにより、収率45%で純度98%のモ
ノアルキルホスフィンを得ることができた。
(比較例2) 三塩化リン108g(0,79mol)にジエチルエー
テル100m1を加え、実施例1と同一のtert−B
uMgC1ジエチルエーテル溶液480m1(0,92
mol)を水冷下で滴下した。実施例Iと同様の操作に
より粗蒸留物86g(粗収率68%)を得た。
これを再蒸留したところ収量は63g(収率5゜%)と
なった。
このモノtert−ブチルクロロホスフィンを実施例1
と同様の方法により、リチウムアルミニウムハイドライ
ドで還元することにより、収率45%で、純度97%の
モノアルキルホスフィンを得ることができた。
(比較例3) 三塩化リン111g(0,81?l+01)にジエチル
エーテル100m1を加え、実施例1と同様にして合成
したtert−BuMgC1ジエチルエーテル溶液50
4m1(1,21mol)を水冷下で滴下した。実施例
と同様の操作により液状の粗蒸留物75gを得た。
これをGC−MS及びNMR測定した結果、純度92%
のジーtert−ブチルジクロロホスフィンであること
が確認された。
これらの結果から、グリニヤール試薬の添加割合が増加
するにつれ再蒸留後の収率が低下することが分かり、こ
のことよりジアルキルリン化合物等が住成されているこ
とが分かる。
[発明の効果] 以上説明したようにグリニヤール反応を用いてモノアル
キルホスフィンを製造すると工程数が少なく、しかも高
純度なものが得られるという利点がある。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)トリハロゲン化リン1モルをグリニャール試薬1
    モル未満と反応させてモノアルキルジハロゲノホスフィ
    ンとし、当該モノアルキルジハロゲノホスフインを還元
    することを特徴とするモノアルキルリン化合物の製造方
    法。
  2. (2)請求項(1)のグリニャール試薬とトリハロゲン
    化リンとの反応を反応生成物の沸点より低沸点の有機溶
    剤の存在下に、また還元反応を当該還元反応生成物より
    高沸点の有機溶剤の存在下に行うことを特徴とするモノ
    アルキルリン化合物の製造方法。
JP11057090A 1990-04-27 1990-04-27 モノアルキルリン化合物の製造方法 Pending JPH049392A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11057090A JPH049392A (ja) 1990-04-27 1990-04-27 モノアルキルリン化合物の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11057090A JPH049392A (ja) 1990-04-27 1990-04-27 モノアルキルリン化合物の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH049392A true JPH049392A (ja) 1992-01-14

Family

ID=14539183

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11057090A Pending JPH049392A (ja) 1990-04-27 1990-04-27 モノアルキルリン化合物の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH049392A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0839817A3 (en) * 1996-10-31 1998-11-18 Furukawa Co., Ltd. Method for purifying mono-alkyl-arsines or mono-alkyl-phosphines

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0839817A3 (en) * 1996-10-31 1998-11-18 Furukawa Co., Ltd. Method for purifying mono-alkyl-arsines or mono-alkyl-phosphines

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2688965B2 (ja) 有機金属化合物
JPH10505355A (ja) 有機金属化合物類
US4427599A (en) Method for preparation of N-phosphonomethylglycine
US4307040A (en) Process for producing phosphonomaleic acid esters
JPH049392A (ja) モノアルキルリン化合物の製造方法
US3414625A (en) Process for preparing tertiary phosphines
US4942252A (en) Synthesis of phosphorus and arsenic, halides and hydrides
US4482504A (en) Method for preparation of N-phosphonomethylglycine
JP2572498B2 (ja) 高純度有機ホスフィン化合物の製造方法
US6060119A (en) Compound tertiarybutylbis-(dimethylamino)phosphine and a process for preparing the compound tertiarybutylbis-(dimethylamino)phosphine
US3636144A (en) Dithiophosphoric acid salts and process for making same
JPH0931085A (ja) 第二アリールホスフィンの製造方法
JP2002371088A (ja) スルホン酸アミン塩およびその製造方法
US20170081344A1 (en) Method for producing trialkylgallium compounds and the use thereof
JP2501147B2 (ja) 高純度アルキルホスフィンの製造方法
JP2645101B2 (ja) アリファチルホスフィン酸誘導体の製造方法
JP2807101B2 (ja) 高純度アルキルホスフィンの製造方法
JP2515909B2 (ja) 高純度モノアルキルホスフィンの製造方法
CA2005343A1 (en) Chemical process for obtaining high purification of monoalkylarsines and dialkylarsines and purified mono- and dialkylarsines
JPH05310764A (ja) 高純度モノアルキルまたはモノアリ−ルアルシン化合物の製造方法
EP0390833B1 (en) Method for purification of tellurium and selenium alkyls
JPH03501478A (ja) ジアルキルテルル及びジアルキルセレンの製造方法
US4476063A (en) N-Acylaminomethyl-N-cyanomethyl phosphonates
JP3661825B2 (ja) 有機インジウム化合物の製造方法
JP3602571B2 (ja) モノアルキルフォスフィンの製造方法