JPH0486667A - Visible light recording material - Google Patents

Visible light recording material

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JPH0486667A
JPH0486667A JP2200963A JP20096390A JPH0486667A JP H0486667 A JPH0486667 A JP H0486667A JP 2200963 A JP2200963 A JP 2200963A JP 20096390 A JP20096390 A JP 20096390A JP H0486667 A JPH0486667 A JP H0486667A
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recording material
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Yasushi Oe
靖 大江
Kunihiro Ichimura
市村 国宏
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Abstract

PURPOSE:To improveme the sensitivity and heat resistance by forming this material with a specified high polymer compound, a diaryl iodonium salt and a specified p-aminobenzylidene derivative. CONSTITUTION:The material is consisting of one part of the high polymer compound composed of 30-100 mol% a structural unit expressed with formula I, 0-70 mol% a structural unit expressed with formula PI,and 0.02-0.2 parts a diaryl iodonium salt and 0.03-0.2 parts p-aminobenzylidene derivative expressed with formula III. In formula I,R1 denotes tert.-butoxycarbonyl group and tetorahydropyranyl group, and in formula PI,R2 is H,or methyl group,and R3 is 1-4C of a lower alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group,etc. In formula III,R1 and R2 is lower alkyl groups and X is H atom and phenyl group, etc., and Y is a residual group selected from acyl group,cyano group, etc., and (n) is 0 or 1. Thus the sensitivity and heat resistance are improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、可視光線、特にレーザ光に対して高感度で感
光し、しかも、耐熱性を有し、解像性及び保存安定性に
優れた可視光記録材料に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention is directed to a photosensitive material that is highly sensitive to visible light, especially laser light, has heat resistance, and has excellent resolution and storage stability. This invention relates to visible light recording materials.

〈従来の技術〉 可視光記録材料は、可視発振波長を持っレーザを光源と
する諸技術に用いられる。レーザ光による記録は、電子
計算機により制御できるので、直接描画が可能となり、
印刷製版、光ビデオディスク原版作製などに利用されて
いる。さらには、レーザ光の単色性に由来する高解像性
のホログラム記録も重要である。このような目的に適し
た記録材料には、レーザ光に高感度で感光し、しかも高
い解像性を示づことが要求される。また、実際に使用す
るに当たっては、長期にわたって保存安定性に優れてい
ることも必要となる。
<Prior Art> Visible light recording materials are used in various technologies that have a visible oscillation wavelength and use a laser as a light source. Recording using laser light can be controlled by an electronic computer, making direct writing possible.
It is used for printing plate making, optical video disk original plate production, etc. Furthermore, high-resolution hologram recording derived from the monochromaticity of laser light is also important. A recording material suitable for such purposes is required to be highly sensitive to laser light and to exhibit high resolution. Furthermore, in actual use, it is also necessary that the material has excellent storage stability over a long period of time.

感光性樹脂は、レリーフ画像形成に特徴を持つのでこの
点を生かした記録材料に有用であるが、従来の感光性樹
脂の多くはフォトレジスト材料、インキ、塗料、フェス
、印刷製版材料などに利用されており、それらの感光波
長は紫外線領域にとどまっていた。
Photosensitive resins have the characteristic of forming relief images, so they are useful as recording materials that take advantage of this feature, but many conventional photosensitive resins are used for photoresist materials, inks, paints, festivals, printing plate materials, etc. Their photosensitive wavelengths remained in the ultraviolet region.

可視レーザ光に感光する樹脂としては、これまでに、光
重合型、光架橋型の材料が提案されている。
Photopolymerizable and photocrosslinkable materials have been proposed as resins sensitive to visible laser light.

例えば、特開昭52−134692号公報においては、
多環キノンと3級アミンからなる光重合組成物、特開昭
54−151024号公報においては、メロシアニンと
トリアジン誘導体を光重合開始剤とする組成物、特開昭
54−155292号公報においては、イミダゾリルニ
量体とアミノフェニル基をもつ環状ケトンを開始剤とす
る光重合組成物、特開昭60−22129号公報におい
ては、p−フ二二レンジアクリル酸残基とピリリウム塩
などの増感剤とからなる光架橋性高分子が示されている
。これらは、可視光に対して比較的高い感度で感光する
ものであるが、いわゆるネガ型に属し、解像性に劣ると
いう難点を有する。
For example, in Japanese Patent Application Laid-open No. 52-134692,
A photopolymerizable composition comprising a polycyclic quinone and a tertiary amine, JP-A-54-151024, a composition using merocyanine and a triazine derivative as a photopolymerization initiator, JP-A-54-155292, A photopolymerization composition using an imidazolyl dimer and a cyclic ketone having an aminophenyl group as an initiator, JP-A-60-22129 discloses a sensitizing composition using a p-phenyl diacrylic acid residue and a pyrylium salt. A photocrosslinkable polymer consisting of an agent is shown. Although these are sensitive to visible light with relatively high sensitivity, they belong to the so-called negative type and have the disadvantage of poor resolution.

これに対して、光可溶性樹脂組成物(ポジ型)は解像性
が非常に優れており、その代表例としての0−ナフトキ
ノンジアジド類が実用に供せられていることは周知の通
りである。しかしながら、この感光物は光学的な増感を
行うことは知られておらず、可視光領域ではきわめて低
感度であるという問題点を有している。そこで近年、0
−ナフトキノンジアジド類を使用しない高感度光可溶性
樹脂組成物の提案がなされている。特開昭571760
35号公報では、メタクリレート側鎖にオレフィンを導
入したポリマーとメルカプト酸と反応開始剤からなる組
成物、特開昭59−45439号公報では、光照射で発
生した酸を触媒として加水分解を起こすポリ−p−t−
ブトキシカルホキシルスチレンからなる組成物、特開昭
61−167945号公報では、光照射で発生した酸を
触媒として加水分解を起こすシリルエーテル基を持つ化
合物からなる組成物などが示されている。
On the other hand, it is well known that photo-soluble resin compositions (positive type) have extremely excellent resolution, and 0-naphthoquinone diazides, which are representative examples thereof, are in practical use. . However, this photosensitive material is not known to undergo optical sensitization, and has the problem of extremely low sensitivity in the visible light region. Therefore, in recent years, 0
- Highly sensitive photo-soluble resin compositions that do not use naphthoquinone diazides have been proposed. Japanese Patent Publication No. 571760
No. 35 discloses a composition consisting of a polymer having an olefin introduced into the methacrylate side chain, mercapto acid, and a reaction initiator, and JP-A-59-45439 discloses a composition comprising a polymer having an olefin introduced into the methacrylate side chain, and JP-A-59-45439 discloses a composition comprising a polymer that undergoes hydrolysis using an acid generated by light irradiation as a catalyst. -pt-
JP-A-61-167945 discloses a composition made of butoxycarboxylstyrene, and a composition made of a compound having a silyl ether group that undergoes hydrolysis using an acid generated by light irradiation as a catalyst.

しかしながら、いずれも長波長光に感するものではなく
、レーザ用感光材料や銀塩代替材料などとして利用する
にはなお一層高い感度が望まれていた。さらには、耐熱
性を付与した材料ができれば、解像性の一層の向上と、
利用範囲の拡大が図られることから可視光用耐熱性感光
材料が望まれていた。
However, none of them are sensitive to long wavelength light, and even higher sensitivity has been desired for use as photosensitive materials for lasers, silver salt substitute materials, and the like. Furthermore, if a material with heat resistance can be created, resolution can be further improved.
Heat-resistant photosensitive materials for visible light have been desired since the range of use can be expanded.

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明は、可視光に感光して、耐熱性を有した可視光記
録材料に関するものであって、しかも感光速度及び解像
性に優れた特性を併せ持つ感光材料を提供する事を目的
としてなされたものである。
<Problems to be Solved by the Invention> The present invention relates to a visible light recording material that is sensitive to visible light and has heat resistance, and which also has the characteristics of excellent photosensitive speed and resolution. It was made with the purpose of providing.

〈課題を解決するための手段〉 本発明者らは、高感度、光解像性、さらには耐熱性を有
した記録材料を得るべく鋭意研究を重ねた結果、本発明
を成すに至ったものである。
<Means for Solving the Problems> As a result of extensive research by the present inventors to obtain a recording material with high sensitivity, optical resolution, and heat resistance, the present invention was achieved. It is.

すなわち本発明は、 (A)−数式(1) (式中、R,はtert−ブトキシカルボニル基、テヒ
ラヒドロピラニル基を示す) で表される構造単位30〜100モル%と、−形式(I
[) (式中、R7は水素原子またはメチル基を示し、R1は
Cl””’ C4の低級アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、カルバモイル基、置換カルバ
モイル基、フェニル基あるいはナフチル基から選ばれた
残基を示す) で表される構造単位0〜70モル% とからなる高分子化合物1部 (B)ジアリールヨードニウム塩0.02〜0゜2部 (C)−形式(III) (I[l) (式中、R,、R,は低級アルキル基を示し、Xは水素
原子、フェニル基、アシル基、シアノ基、アンモニオ基
またはアルコキシカルボニル基から選ばれた残基であり
、Yはアシル基、シアノ基、アンモニオ基またはアルコ
キシカルボニル基から選ばれた残基であり、nはOまた
は1である)で表されるp−アミノヘンジリデン誘導体
0.03〜0.2部 上記(A)、(B)及び(C)とからなることを特徴と
する可視光記録材料である。
That is, the present invention comprises (A) - 30 to 100 mol% of structural units represented by the formula (1) (wherein R represents a tert-butoxycarbonyl group or a tehirahydropyranyl group); I
[) (In the formula, R7 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R1 is selected from a lower alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a substituted carbamoyl group, a phenyl group, or a naphthyl group of Cl""' C4 1 part of a polymer compound consisting of 0 to 70 mol% of structural units represented by ) (In the formula, R,, R, represents a lower alkyl group, X is a residue selected from a hydrogen atom, a phenyl group, an acyl group, a cyano group, an ammonio group, or an alkoxycarbonyl group, and Y is an acyl group. , a residue selected from a cyano group, an ammonio group, or an alkoxycarbonyl group, and n is O or 1) 0.03 to 0.2 parts of the p-aminohenzylidene derivative (A), A visible light recording material comprising (B) and (C).

本発明の可視光記録材料を構成する高分子化合物は、酸
によって容易に分解する結合を有するマレイミドを共重
合成分として含有する。
The polymer compound constituting the visible light recording material of the present invention contains maleimide as a copolymer component, which has a bond that is easily decomposed by acid.

−形式(I)の構造単位を与える単量体としてN  (
p  tert−ブトキシカルボニルオキシフェニル)
マレイミド、N−(p−テトラヒドロピラニルオキシフ
ェニル)マレイミド等をあげることが出来るがこの限り
ではない。これらモノマーの構造的特徴は、酸によって
容易に結合が切断されることである。
- N (
p tert-butoxycarbonyloxyphenyl)
Examples include maleimide, N-(p-tetrahydropyranyloxyphenyl)maleimide, and the like, but are not limited thereto. A structural feature of these monomers is that their bonds are easily cleaved by acids.

本発明に用いられる高分子化合物としては、これらの単
量体のみによる重合体の他に一般式(■)で示される構
造単位に相当する(メタ)アクリルエステル、(メタ)
アクリルアミド、置換(メタ)アクリルアミド、スチレ
ンなどのビニル系単量体を共重合させたものが用いられ
る。これらの共重合性単量体の種類と共重合比を選択す
ることによって、目的とする感光性樹脂組成物の特性を
調整することができるが、−形式1)の単位の比率が高
すぎると相対的に酸による分解による高分子の分子量変
化が低減し、レリーフ形成能が低下する。このため、−
形式(n)で示される構造単位は70モル%以下である
ことが望ましい。
In addition to polymers made only of these monomers, the polymer compounds used in the present invention include (meth)acrylic esters and (meth)acrylic esters corresponding to the structural unit represented by the general formula (■).
Copolymerized vinyl monomers such as acrylamide, substituted (meth)acrylamide, and styrene are used. By selecting the type and copolymerization ratio of these copolymerizable monomers, the properties of the desired photosensitive resin composition can be adjusted; The molecular weight change of the polymer due to acid decomposition is relatively reduced, and the relief forming ability is reduced. For this reason, −
The content of the structural unit represented by format (n) is preferably 70 mol% or less.

成分(B)であるジアリールヨードニウム塩は光照射に
よって酸を発生する性質を持つ。本発明で用いられる化
合物としては、Macromolecules、10.
1307 (1977)に記載の化合物、例えば、ジフ
ェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル
(p−アニシヨードニウム、ビス(p−t−ブチルフェ
ニル)ヨードニウム、などのヨードニウムのクロリド、
プロミドあるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフ
ェート塩、ヘキサフルオロアルセ不−ト塩をあげること
ができる。
Component (B), diaryliodonium salt, has the property of generating an acid when irradiated with light. Compounds used in the present invention include Macromolecules, 10.
1307 (1977), for example, iodonium chlorides such as diphenyliodonium, ditolyliodonium, phenyl(p-anisiodonium, bis(p-t-butylphenyl)iodonium),
Mention may be made of bromides, borofluoride salts, hexafluorophosphate salts, and hexafluoroarse inert salts.

成分(C)であるP−ジアルキルアミノメチルヘンジリ
デン誘導体はジアリールヨードニウム塩の光分解を増感
する機能を有する。−形式(II)で表されるジアルキ
ルアミノヘンジリデン化合物としては、以下の化合物を
例示することが出来る。
Component (C), a P-dialkylaminomethylhenzylidene derivative, has the function of sensitizing the photodecomposition of diaryliodonium salts. - As the dialkylaminohenzylidene compound represented by the format (II), the following compounds can be exemplified.

ル)ヨードニウム、ビス(m−二トロフェニル)本発明
の光可溶性樹脂組成物に含有される成分(B)(7)ジ
アリールヨードニウム塩の量は、高分子化合物ニジアリ
ールヨードニウム塩の重量比で1:o、03から1:0
.2までの範囲をとることが可能である。さらに、高分
子化合物と増感側との重量比は1:0.02から1:0
.2の範囲である。
(b) iodonium, bis(m-nitrophenyl) The amount of component (B) (7) diaryliodonium salt contained in the photosoluble resin composition of the present invention is 1 by weight of the polymer compound diaryliodonium salt. :o, 03 to 1:0
.. A range of up to 2 is possible. Furthermore, the weight ratio of the polymer compound and the sensitized side is 1:0.02 to 1:0.
.. The range is 2.

本発明の光可溶性樹脂組成物には、所望に応じて公知の
バインダー、顔料、可ワ剤などの添加剤を加えてもよい
。こうして調整した可視感光性材料を平滑な基板上に塗
布して、可視光記録体とする。
If desired, known additives such as binders, pigments, and waxing agents may be added to the photosoluble resin composition of the present invention. The visible light-sensitive material thus prepared is coated onto a smooth substrate to form a visible light recording medium.

本発明の感光性組成物に適した光源としては、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ノ\ロゲンランブ
の他、ヘリウム−カドミウムレーザ、アルゴンレーザが
利用できる。
As light sources suitable for the photosensitive composition of the present invention, in addition to high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, high-pressure xenon lamps, and nitrogen lamps, helium-cadmium lasers and argon lasers can be used.

これらの光源を用いて所定時間露光した後、記録体を暗
所で加熱する。加熱温度は60〜150°C1好ましく
は、80〜120°Cである。これ以下であれば、画像
形成に要する時間は著しく長くなるし、これ以上にして
も画像形成の時間を短縮することができない。加熱時間
は加熱温度に依存するが、1〜20分、好ましくは、2
〜10分である。また、加熱を水蒸気で飽和した状態で
行うと、画像形成に必要な露光時間を短縮することが可
能となり、さらに、本発明の光記録材料の感度を向上さ
せることが出来る。
After exposure for a predetermined time using these light sources, the recording medium is heated in a dark place. The heating temperature is 60 to 150°C, preferably 80 to 120°C. If it is less than this, the time required for image formation becomes extremely long, and even if it is more than this, the time required for image formation cannot be shortened. The heating time depends on the heating temperature, but is 1 to 20 minutes, preferably 2 minutes.
~10 minutes. Further, when heating is performed in a state saturated with water vapor, it is possible to shorten the exposure time required for image formation, and furthermore, it is possible to improve the sensitivity of the optical recording material of the present invention.

〈実施例〉 以下実施例をもって本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明は、これに限定されるものではない。
<Example> The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.
The present invention is not limited to this.

〈実施例1〜3〉 無水マレインfi150.3gにトルエン130m1を
加え、油浴攪拌下p−アミノフェノール166.8gを
トルエン200m1に溶解したものを加え30分間還流
後、スラリー状になった反応物をろ過した。得られた反
応物をトルエンで洗浄後乾燥して、N−(p−ヒドロキ
シフェニル)マレイン酸(a)266gを得た。
<Examples 1 to 3> 130 ml of toluene was added to 150.3 g of anhydrous maleic fi, and while stirring in an oil bath, 166.8 g of p-aminophenol dissolved in 200 ml of toluene was added, and after refluxing for 30 minutes, the reaction product became a slurry. was filtered. The obtained reaction product was washed with toluene and dried to obtain 266 g of N-(p-hydroxyphenyl)maleic acid (a).

次に、(a)156.3gと酢酸ナトリウム45.1g
、無水酢酸56.2gを加え、70°Cの油浴中で30
分反応させた。反応物を水500m1中に注ぎ得られた
沈澱物をろ過、乾燥後エタノールを溶媒とする再結晶を
行い、120gのN(p−アセトキシフェニル)マレイ
ミド(b)を得た。60gの(b)にメタノール184
gを加え、さらにp−1−ルエンスルホン酸150mg
を添加し、90°Cの油浴で加熱して発生する酢酸メチ
ルを系外に除去した。得られた固体は、IPAにより再
結晶し、15gのN−(p−ヒドロキシフェニル)マレ
イミド(C)を得た。
Next, (a) 156.3g and 45.1g of sodium acetate
, 56.2 g of acetic anhydride was added, and the mixture was heated in an oil bath at 70°C for 30 min.
It was allowed to react for a minute. The reaction product was poured into 500 ml of water, and the resulting precipitate was filtered, dried, and then recrystallized using ethanol as a solvent to obtain 120 g of N(p-acetoxyphenyl)maleimide (b). methanol 184 to 60g (b)
g and additionally 150 mg of p-1-luenesulfonic acid.
was added and heated in a 90°C oil bath to remove generated methyl acetate from the system. The obtained solid was recrystallized with IPA to obtain 15 g of N-(p-hydroxyphenyl)maleimide (C).

5gの(C)をテトラヒドロフランに溶解し、7.4g
のBoc−ON、)リエチルアミン1−gを加え攪拌後
、常法により処理し、5.3gのN−(p−tert−
ブトキシカルボニルオキシフェニル)マレイミド(d)
を得た。
Dissolve 5g of (C) in tetrahydrofuran, 7.4g
After adding 1-g of Boc-ON,) ethylamine and stirring, it was treated in a conventional manner to obtain 5.3 g of N-(p-tert-
Butoxycarbonyloxyphenyl)maleimide (d)
I got it.

得られた(d)3gをアセトン30m1に溶解し、アゾ
ビスイソブチロニトリル(AIBN)330mgを添加
したものをアンプルに入れアルゴンガスで置換後封管し
た。
3 g of the obtained (d) was dissolved in 30 ml of acetone, 330 mg of azobisisobutyronitrile (AIBN) was added, the mixture was placed in an ampoule, and the ampoule was replaced with argon gas and sealed.

これを60°Cl2O時間で重合させた後、反応物をメ
タノール中に投し、ろ別して(d)の重合体2,3gを
得た。この重合体を20重量%のジグライム溶液に調製
し、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェ
ートと増感剤をそれぞれ重合体に対して20重量%およ
び10重量%になるように添加し感光液とした。これを
陽極酸化アルミ板上にスピン塗布し、80°Cで10分
間プリベークを行い、ステップ・タブレット(イースト
マン・コダック社製No、IA)を通してキセノン灯1
分間露光した。これを125°C110分間ポストヘー
クした後、メタノールで現像した。
After polymerizing this for 60°C12O hours, the reaction product was poured into methanol and filtered to obtain 2.3 g of the polymer (d). This polymer was prepared as a 20% by weight diglyme solution, and diphenyliodonium hexafluorophosphate and a sensitizer were added to the polymer in amounts of 20% and 10% by weight, respectively, to prepare a photosensitive solution. This was spin-coated onto an anodized aluminum plate, prebaked at 80°C for 10 minutes, and passed through a step tablet (No. IA manufactured by Eastman Kodak) using a xenon lamp.
Exposure was made for a minute. This was post-haked at 125°C for 110 minutes and then developed with methanol.

増感剤として以下の3種類を用いた場合について、可溶
化段数をまとめて表1に示す。
Table 1 summarizes the number of solubilization steps when the following three types of sensitizers were used.

(以  下  余  白) 表1 〈実施例4〜6〉 10.0gの(C)をジクロロメタンに溶かし、P−)
ルエンスルホン酸10mgを添加後、攪拌しながら、3
.4−ジヒドロ−2H−ピラン5゜Ogを滴下した。1
時間攪拌後宮法に従い処理しN−(p−テトラヒドロピ
ラニルオキシフェニル)マレイミド(e)8gを得た。
(Margin below) Table 1 <Examples 4 to 6> Dissolve 10.0 g of (C) in dichloromethane, P-)
After adding 10 mg of luenesulfonic acid, while stirring,
.. 5°Og of 4-dihydro-2H-pyran was added dropwise. 1
The mixture was stirred for a period of time and treated according to the Umiya method to obtain 8 g of N-(p-tetrahydropyranyloxyphenyl)maleimide (e).

得られた(e)5g及びスチレン1gをベンゼン60m
1に溶解し、EIBN660mgを添加したものをアン
プルに入れ、実施例1〜3と同様にして共重合体5.3
gを感光液とし、実施例1〜3と同様の処方で評価した
結果を、以下の3種類を用いた場合について、表2に示
す。
5 g of the obtained (e) and 1 g of styrene were mixed with 60 m of benzene.
Copolymer 5.3 was dissolved in Copolymer 5.3 and 660 mg of EIBN was added thereto, and placed in an ampoule in the same manner as in Examples 1 to 3.
Table 2 shows the results of evaluation using the same formulations as in Examples 1 to 3, using g as a photosensitive liquid and using the following three types.

表2 〈発明の効果〉 本発明の可視光記録材料は、優れた感度、さらには耐熱
性を有しているので、各種レリーフの作製、ホログラム
の作製など幅広い分野に応用できる。
Table 2 <Effects of the Invention> Since the visible light recording material of the present invention has excellent sensitivity and furthermore heat resistance, it can be applied to a wide range of fields such as the production of various reliefs and the production of holograms.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1) (A)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1はtert−ブトキシカルボニル基、テ
トラヒドロピラニル基を示す) で表される構造単位30〜100モル%と、一般式(I
I) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_2は水素原子またはメチル基を示し、R_
3はC_1〜C_4の低級アルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、カルバモイル基、置換カル
バモイル基、フェニル基あるいはナフチル基から選ばれ
た残基を示す) で表される構造単位0〜70モル% とからなる高分子化合物1部 (B)ジアリールヨードニウム塩0.02〜0.2部 (C)一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1、R_2は低級アルキル基を示し、Xは
水素原子、フェニル基、アシル基、シアノ基、アンモニ
オ基またはアルコキシカルボニル基から選ばれた残基で
あり、Yはアシル基、シアノ基、アンモニオ基またはア
ルコキシカルボニル基から選ばれた残基であり、nは0
または1である)で表されるp−アミノベンジリデン誘
導体0.03〜0.2部 上記(A)、(B)及び(C)とからなることを特徴と
する可視光記録材料。
(1) (A) General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (I) (In the formula, R_1 represents a tert-butoxycarbonyl group or a tetrahydropyranyl group) Structural unit 30 represented by ~100 mol% and the general formula (I
I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) (In the formula, R_2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R_
3 represents a residue selected from C_1 to C_4 lower alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, substituted carbamoyl group, phenyl group or naphthyl group) from 0 to 70 mol% of structural units represented by 1 part of a polymer compound (B) 0.02 to 0.2 parts of diaryliodonium salt (C) General formula (III) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (III) (In the formula, R_1 and R_2 are lower represents an alkyl group; residues, n is 0
1. A visible light recording material comprising 0.03 to 0.2 parts of the p-aminobenzylidene derivative represented by (A), (B) and (C).
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