JPH048459U - - Google Patents

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JPH048459U
JPH048459U JP4900190U JP4900190U JPH048459U JP H048459 U JPH048459 U JP H048459U JP 4900190 U JP4900190 U JP 4900190U JP 4900190 U JP4900190 U JP 4900190U JP H048459 U JPH048459 U JP H048459U
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lamp
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laser device
cooling structure
cooling
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【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案のレーザ装置の励起源用ラ
ンプの冷却構造の説明に供するレーザ装置の要部
を概略的に示す断面図、第2図は、この考案の説
明に供する、ランプのシール部温度とシール部寿
命の関係を示す特性曲線図である。 10……レーザ媒質、12……ランプ、14…
…保持ブロツク、16……冷却水の通路、18,
20……光通路、22……内壁面、120……バ
ルブ、122……シール部、124……放熱部。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) レーザ装置を構成するレーザ媒質を励起す
    るための励起源用のランプの冷却構造において、 ランプをタングステン−ハロゲンランプとし、 このランプのシール部に放熱部を設けた ことを特徴とするレーザ装置の励起源用ランプの
    冷却構造。 (2) 請求項1に記載のレーザ装置の励起源用ラ
    ンプの冷却構造において、 レーザ媒質を水冷するための冷却水通路を具え
    ると共に、このレーザ媒質を保持するための保持
    ブロツクに、放熱部を接触させて設けた ことを特徴とするレーザ装置の励起源用ランプの
    冷却構造。
JP4900190U 1990-05-10 1990-05-10 Pending JPH048459U (ja)

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JP4900190U JPH048459U (ja) 1990-05-10 1990-05-10
US07/694,092 US5177751A (en) 1990-05-10 1991-05-01 Laser apparatus

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JP4900190U JPH048459U (ja) 1990-05-10 1990-05-10

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JPH048459U true JPH048459U (ja) 1992-01-27

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010090015A1 (ja) * 2009-02-04 2010-08-12 パナソニック株式会社 測定装置及び穿刺装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010090015A1 (ja) * 2009-02-04 2010-08-12 パナソニック株式会社 測定装置及び穿刺装置
JP5307161B2 (ja) * 2009-02-04 2013-10-02 パナソニック株式会社 測定装置及び穿刺装置

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