JPH0480377A - Surface treating device - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は表面処理装置、特に電子ビームを使用する表
面処理装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a surface treatment apparatus, and particularly to a surface treatment apparatus using an electron beam.
（従来の技術）
電子ビームを被照射物に照射することによって、その表
面の硬度、耐摩耗、耐腐食、耐熱などの特性を改良する
ことは、すでによく知られている。(Prior Art) It is already well known that properties such as hardness, wear resistance, corrosion resistance, and heat resistance of the surface of an object can be improved by irradiating the object with an electron beam.
従来ではこのような表面処理に使用する電子ビームとし
て、連続電子ビームを使用するのを普通としている。Conventionally, it has been common practice to use a continuous electron beam as the electron beam used for such surface treatment.
（発明が解決しようとする課題）
しかし従来のような電子ビームによる表面処理は、処理
される被照射物の面が平坦であることが多く、たとえば
筒状の被照射物の内面あるいは外面への照射による表面
処理は大きな困難が伴っていた。特に内面の処理は極め
て困難であり、また外面の処理も、被照射物を回転させ
るなどの必要があった。(Problem to be solved by the invention) However, in conventional surface treatment using an electron beam, the surface of the irradiated object to be treated is often flat. Surface treatment by irradiation was accompanied by great difficulties. In particular, processing the inner surface is extremely difficult, and processing the outer surface also requires rotating the object to be irradiated.
この発明は、筒状の被照射物の内外面の表面処理を容易
に可能とすることを目的とする。An object of the present invention is to easily perform surface treatment on the inner and outer surfaces of a cylindrical object to be irradiated.
（課題を解決するための手段）
この発明は、パルス電圧を真空中のカソード、アノード
間へ印加することにより、カソードより発生するパルス
電子ビームを被照射物に照射し。(Means for Solving the Problems) According to the present invention, a pulsed electron beam generated from the cathode is irradiated onto an irradiated object by applying a pulsed voltage between a cathode and an anode in a vacuum.
表面処理を行なう装置において、カソード、アノードお
よび被照射物を筒状とするとともに、そのそれぞれを同
軸に配置することを特徴とする特（作用）
パルス電子ビームはカソードから面状に発生させること
ができるので、そのカソードを筒状とし、またアノード
もカソードと同軸の筒状とすることによって、カソード
の内面または外面からパルス電子ビームを発生すること
ができるようになる。An apparatus for surface treatment, characterized in that the cathode, anode, and object to be irradiated are cylindrical, and each of them is arranged coaxially.A pulsed electron beam can be generated from the cathode in a planar shape. Therefore, by making the cathode cylindrical and the anode coaxial with the cathode, a pulsed electron beam can be generated from the inner or outer surface of the cathode.
したがって被照射物をアノード、カソードとともに同軸
に配置しておけば、カソードからのパルス電子ビームを
、被照射物の内面または外面に照射することができるよ
うになる。Therefore, by arranging the object to be irradiated coaxially with the anode and cathode, the pulsed electron beam from the cathode can be irradiated onto the inner or outer surface of the object.
たとえば被照射物の内側にカソードを配置しておけば、
被照射物の内面を表面処理することができ、また被照射
物の外側にカソードを配置しておけば、被照射物の外面
を表面処理することができるようになる。For example, if you place a cathode inside the object to be irradiated,
The inner surface of the object to be irradiated can be surface-treated, and if a cathode is placed outside the object to be irradiated, the outer surface of the object can be surface-treated.
（実施例）
この発明の詳細な説明する。第５図はパルス電子ビーム
を発生するための基本的構成の一例を示し、これはエネ
ルギー蓄積コンデンサ１に蓄えられた電気エネルギーを
、スイッチ２を用いてパルス放電させる。(Example) This invention will be explained in detail. FIG. 5 shows an example of a basic configuration for generating a pulsed electron beam, in which electrical energy stored in an energy storage capacitor 1 is discharged in pulses using a switch 2.
放電エネルギーは、パルス成形部３．出力スイッチ４に
より、高電圧、短パルスへと波形成形される。そしてア
ノード５、カソード６からなる電子ビームダイオード部
７（真空）に印加する。The discharge energy is supplied to the pulse forming section 3. The output switch 4 shapes the waveform into a high voltage, short pulse. Then, the electron beam is applied to an electron beam diode section 7 (vacuum) consisting of an anode 5 and a cathode 6.
なおりソード６はコールドカソードで、その材料として
は、高融点金属フォイルのエツジ、チーズブレータ、カ
ーボンフェルト、ベルベットなどからなり、カソード基
板の全面に一様に取り付けられている。The sword 6 is a cold cathode made of high melting point metal foil edge, cheese breaker, carbon felt, velvet, etc., and is uniformly attached to the entire surface of the cathode substrate.
またアノード５は、パルス電子ビーム８が透過可能な金
属薄膜、金属メツシュ、金属多孔体などによって構成さ
れである。The anode 5 is made of a metal thin film, a metal mesh, a metal porous body, etc. through which the pulsed electron beam 8 can pass.
カソード６とアノード５との間に前記のようにして発生
されたパルス電圧を印加すると、カソード６からの電界
放出、並びにそれに伴って発生するカソード表面プラズ
マより、面状（シャワー状）のパルス電子ビーム８が均
一に発生する。これを台９の上にある被照射物１０の表
面に照射して、所要の表面処理を行なう。When the pulse voltage generated as described above is applied between the cathode 6 and the anode 5, field emission from the cathode 6 and the accompanying cathode surface plasma generate planar (shower-like) pulsed electrons. A beam 8 is generated uniformly. This is irradiated onto the surface of the object to be irradiated 10 placed on the table 9 to perform the required surface treatment.
この発明にしたがい、アノード５、カソード６および被
照射物１０を筒（たとえば円筒）状とし、これらを同軸
に配置する。第１図に示す例は、被照射物１０の内面を
処理する場合の構成を示し。According to this invention, the anode 5, the cathode 6, and the object to be irradiated 10 are formed into tubes (for example, cylinders) and are arranged coaxially. The example shown in FIG. 1 shows a configuration for processing the inner surface of the object 10 to be irradiated.
アノード５の内側にカソード６を配置する。そして被照
射物１０をアノード５の内面に直接取り付けるか、また
は被照射物１０をアノードとして使用する。A cathode 6 is placed inside the anode 5. Then, the object 10 to be irradiated is directly attached to the inner surface of the anode 5, or the object 10 to be irradiated is used as an anode.
このようにすれば、カソード６からのパルス電子ビーム
８が被照射物１０の内面を照射し、これによってその内
面が表面処理されるようになる。In this way, the pulsed electron beam 8 from the cathode 6 irradiates the inner surface of the object 10 to be irradiated, thereby surface-treating the inner surface.
この場合第２図に示すようにアノード５として、電子ビ
ームが透過可能の金属薄膜または金属メツシュ、金属多
孔体を用い、これをカソード６の外側に配置し、その外
側に被照射物１０を配置するようにしてもよい。In this case, as shown in FIG. 2, a metal thin film, a metal mesh, or a metal porous body through which the electron beam can pass is used as the anode 5, and this is placed outside the cathode 6, and the irradiated object 10 is placed outside of the cathode 6. You may also do so.
第３図に示す例は、被照射物１０の外面を処理する場合
の構成を示し、アノード５の外側にカソード６を配置す
る。そして被照射物１０をアノード５の表面に直接取り
付けるか、または被照射物１０をアノードとして使用す
る。The example shown in FIG. 3 shows a configuration for treating the outer surface of the object to be irradiated 10, in which a cathode 6 is placed outside the anode 5. Then, the object 10 to be irradiated is directly attached to the surface of the anode 5, or the object 10 to be irradiated is used as an anode.
このようにすれば、カソード６からのパルス電子ビーム
８が被照射物１０の外面を照射し、これによってその外
面が表面処理されるようになる。In this way, the pulsed electron beam 8 from the cathode 6 irradiates the outer surface of the object 10 to be irradiated, thereby surface-treating the outer surface.
この場合第４図に示すようにアノード５として、電子ビ
ームが透過可能の金属薄膜または金属メツシュ、金属多
孔体を用い、これを被照射物１０の外側に配置するとと
もに、その外側にカソード６を配置するようにしてもよ
い。In this case, as shown in FIG. 4, a metal thin film, a metal mesh, or a metal porous body through which the electron beam can pass is used as the anode 5, and this is placed outside the irradiated object 10, and a cathode 6 is placed outside of it. You may also arrange it.
なおこれらの各構成において、被照射物１０をその軸方
向に移動させる機構を設ければ、長尺状の被照射物をよ
り早く処理することができるようになる。In each of these configurations, if a mechanism for moving the irradiation object 10 in the axial direction is provided, a long irradiation object can be processed more quickly.
（発明の効果）
以上詳述したようにこの発明によれば、パルス電子ビー
ムを利用し、かつアノード、カソードおよび被照射物を
筒状にして同軸に配置することによって、被照射物の内
面または外面に電子ビームを照射することができ、した
がってその内面または外面の表面処理を容易に実施する
ことができるようになるといった効果を奏する。(Effects of the Invention) As described in detail above, according to the present invention, a pulsed electron beam is used and the anode, cathode, and object to be irradiated are arranged coaxially in a cylindrical shape, so that the inner surface of the object to be irradiated or The outer surface can be irradiated with an electron beam, and therefore the inner or outer surface can be easily subjected to surface treatment.
第１図乃至第４図はこの発明の実施例を示す断面図、第
５図はこの発明の実施にあたって使用するパルス電子ビ
ーム発生装置の断面図である。
５・・・アノード、６・・・カソード、８・・・パルス
電子ビ１０・・・被照射物、
第７図
兜２図
第５ｍ1 to 4 are cross-sectional views showing embodiments of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view of a pulsed electron beam generator used in carrying out the present invention. 5...Anode, 6...Cathode, 8...Pulse electron beam 10...Irradiated object, Figure 7, Figure 2, Figure 5m
Claims (1)
ことにより、前記カソードより発生するパルス電子ビー
ムを被照射物に照射し、表面処理を行なう表面処理装置
において、前記カソード、アノードおよび被照射物を筒
状とするとともに、そのそれぞれを同軸に配置してなる 表面処理装置。[Scope of Claims] A surface treatment apparatus that performs surface treatment by applying a pulsed voltage between a cathode and an anode in a vacuum to irradiate a pulsed electron beam generated from the cathode onto an irradiated object, the cathode; A surface treatment device in which the anode and the object to be irradiated are cylindrical and arranged coaxially.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19097690A JPH0480377A (en) | 1990-07-19 | 1990-07-19 | Surface treating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19097690A JPH0480377A (en) | 1990-07-19 | 1990-07-19 | Surface treating device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0480377A true JPH0480377A (en) | 1992-03-13 |
Family
ID=16266803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19097690A Pending JPH0480377A (en) | 1990-07-19 | 1990-07-19 | Surface treating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0480377A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019009089A (en) * | 2017-06-28 | 2019-01-17 | 株式会社ソディック | Electron beam surface reformer |
-
1990
- 1990-07-19 JP JP19097690A patent/JPH0480377A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019009089A (en) * | 2017-06-28 | 2019-01-17 | 株式会社ソディック | Electron beam surface reformer |
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