JPH0478854A - Wiring pattern inspecting device - Google Patents

Wiring pattern inspecting device

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JPH0478854A
JPH0478854A JP2193661A JP19366190A JPH0478854A JP H0478854 A JPH0478854 A JP H0478854A JP 2193661 A JP2193661 A JP 2193661A JP 19366190 A JP19366190 A JP 19366190A JP H0478854 A JPH0478854 A JP H0478854A
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run length
image
wiring pattern
defect
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祐二 丸山
Atsuharu Yamamoto
淳晴 山本
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秀彦 川上
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Abstract

PURPOSE:To inspect a clearance hole, etc., on an inner layer substrate of a through-hole part of a multi-layered substrate by counting the run length in one-scanning line units after labeling every connection component and detecting the defect based on the summation of the run length. CONSTITUTION:A wiring pattern formed on a substrate 101 is illuminated by a diffusion illuminator 104 and then, a graduation image is formed by an image inputting means 102 provided with a CCD camera, etc. The image is converted to a binary image after comparing with a threshold obtained by a density histogram, etc., by a binarizing means 105 in advance, and labeling processing for assigning different labels to each connection component is performed for the binary image by a labeling means 106. The run length of every connection component is counted in one-scanning line units by a run length counting means 107, and then, the means informs a judging means 112 of the effect. The summation is obtained at every connection component by the means 106 by performing software processing, and then, by comparing it with one or more optional thresholds fixed in advance so as to detect the defect. And in the case of the defect, the means 106 informs the outside of the kind and the coordinate of the defect.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、プリント基板やホトマスク等における配線パ
ターンの不良を検査するための配線パターン検査装置に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a wiring pattern inspection device for inspecting wiring patterns on printed circuit boards, photomasks, etc. for defects.

従来の技術 従来、プリント基板等の不良の検査は人間による目視検
査に頼っていた。ところが、製品の小型化や軽量化が進
むに連れ、配線パターンの細密化や複雑化がより一層進
んでいる。このような状況の中で、人間が高い検査精度
を保ちつつ非常に細密な配線パターンをしかも長時間続
ける事が難しくなっており、検査の自動化が強く望まれ
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, inspection for defects in printed circuit boards and the like has relied on human visual inspection. However, as products become smaller and lighter, wiring patterns are becoming more detailed and complex. Under these circumstances, it has become difficult for humans to continue inspecting extremely detailed wiring patterns for long periods of time while maintaining high inspection accuracy, and automation of inspection is strongly desired.

配線パターンの欠陥検出方式としては、ジョージ エル
、シー、サンとアニル、シエイン(J orgeL、C
,5anz and Anil K、Jain :  
’ Machine−vision techique
s for 1nspection of print
ed wiring boards and thic
k−filem circuits”、 0pticl
 5ociety of America、 Vol、
 3゜No、9.  september、pp145
5−1482.1986)らにより数多くの方式が紹介
されており、主にデザインル−ル法と比較法の2つの方
式に大別することができる。しかし、これらの方法は一
長一短がある。
As a defect detection method for wiring patterns, Jorge L., C., Sun and Anil, C.
, 5anz and Anil K, Jain:
'Machine-vision technology
s for 1nspection of print
ed wiring boards and thic
k-filem circuits”, 0pticl
5ociety of America, Vol.
3°No, 9. september, pp145
5-1482, 1986) have introduced a number of methods, which can be roughly divided into two main methods: the design rule method and the comparison method. However, these methods have advantages and disadvantages.

中でも、将来有望で興味深い方式として、ジョナ、マン
デヒル(Jonr、 Mandevile : ” N
ovel methodfor analysis o
f printed circuit images”
、 IBM J、Res。
Among them, Jonr, Mandeville (Jonr, Mandeville) is a promising and interesting method.
ovel method for analysis
f printed circuit images”
, IBM J, Res.

DEVELOP、、Vol、29. No、1 、 J
anuary、 1985 )ノものがあり、2値化し
た画像データを収縮または膨張させたのち細線化し、配
線パターンの欠陥を検出する方法を提案しており、以下
に従来例として説明する。
DEVELOP,, Vol, 29. No. 1, J
(1985) proposed a method for detecting defects in wiring patterns by shrinking or expanding binarized image data and then thinning the data, which will be described below as a conventional example.

第6図に、欠陥検出の処理の流れを示す。(al〜(d
iは、断線の検出処理を示し、(e)〜(hiはショー
トの検出処理を示している。
FIG. 6 shows the flow of defect detection processing. (al~(d
i indicates a disconnection detection process, and (e) to (hi) indicate a short circuit detection process.

(alは、欠陥を含む画像データを示しており、b点お
よび0点が線幅異常と断線の致命的欠陥とし、a点は欠
陥としないものとしている。第1ステツプとして(bl
では、画像の収縮処理(周辺から一画素づつ削り取る処
理)を行う。この処理により、b点の欠陥が断線となり
欠陥を誇張することになる。第2ステツプとしてfc)
では、細線化処理(−本の線になるまで周辺から一画素
づつ削り取る処理を繰り返す)を行う。これにより、配
線パターンは一本の線となる。第3ステツプとしくdl
では、3×3論理マスクを走査させLUT (ルック・
アップ・テーブル)を参照しながら欠陥検出を行い、b
点および0点が断線として検出できる。さらに端子部と
配線パターンとの接合点も検出している。
(al indicates image data including defects, and points b and 0 are considered fatal defects such as abnormal line width and wire breakage, and point a is not considered a defect. As the first step, (bl
Now, image shrinkage processing (processing to remove one pixel from the periphery) is performed. This process causes the defect at point b to become disconnected and exaggerate the defect. fc) as the second step
Then, line thinning processing (repeat the process of removing one pixel from the periphery until the line becomes negative) is performed. As a result, the wiring pattern becomes one line. 3rd step toshiki dl
Now, scan the 3×3 logical mask and create a LUT (look
Defect detection is performed while referring to the up table), and
Points and zero points can be detected as disconnections. Furthermore, the junction points between the terminal portion and the wiring pattern are also detected.

次に、ショートおよび線間異常について(e)〜(hi
の処理の流れに沿って説明する。
Next, regarding short circuits and line abnormalities, (e) to (hi
This will be explained along the flow of processing.

(e)は、欠陥を含む画像データを示しており、b点お
よび0点を線間異常とショートの致命的欠陥とし、a点
は欠陥としないものとしている。
(e) shows image data including defects, in which point b and point 0 are considered to be fatal defects such as abnormalities between lines and short circuits, and point a is not considered to be a defect.

第1ステツプとして(f)では、画像の膨張処理(周辺
画素から一画素づつ膨らませる)を行い、これによりb
点がショート状態になる。第2ステツプとして(g)で
は、細線化処理を行い、−本の線にする。第3ステツプ
として(hlでは、3×3論理マスクを走査させLUT
 (ルック・アップ・テーブル)を参照しながら欠陥検
出を行い、b点および0点がT分岐としてショートが検
出できる。さらに、端子部と配線パターンとの接合点も
検出している。
As the first step (f), the image is expanded (inflated one pixel at a time starting from the surrounding pixels), and this results in b
The points become shorted. In the second step (g), thinning processing is performed to make -1 lines. As the third step (in hl, the 3x3 logical mask is scanned and the LUT
Defects are detected while referring to a look-up table, and shorts can be detected as point b and point 0 are T branches. Furthermore, the junction point between the terminal portion and the wiring pattern is also detected.

以上のようにして、断線や線幅異常およびショートや線
間異常が検出できる。
In the manner described above, wire breaks, line width abnormalities, short circuits, and line spacing abnormalities can be detected.

なお、細線化処理・膨張処理および収縮処理等の画像処
理手法については、森俊二、板倉栂子著:@画像認識の
基礎CI)“、オーム社に詳しく記載されているので詳
細な説明は省略した。
Image processing techniques such as thinning, dilation, and contraction are described in detail in Ohmsha, written by Shunji Mori and Toshiko Itakura: @Fundamentals of Image Recognition CI), so a detailed explanation will be omitted. did.

発明が解決しようとする課題 さて、2値化画像を収縮や膨張し、欠陥を誇張した上で
細線化し3×3の論理マスクを走査し欠陥を検出する方
式について説明した。この方法は、デザインルール法に
基づくもので確実に欠陥が検出できる有望な方法と言え
よう。
Problems to be Solved by the Invention Now, a method has been described in which a binarized image is contracted or expanded to exaggerate defects, thinned, and a 3×3 logical mask is scanned to detect defects. This method is based on the design rule method and can be said to be a promising method that can reliably detect defects.

しかし、この方法は、デザインルール法に基づ(もので
、多層基板のスルーホール部の内層基板におけるクリア
ランスホールなどの検査することはできない。
However, this method is based on the design rule method and cannot inspect clearance holes in the inner layer substrate of the through-hole portion of a multilayer substrate.

本発明は、上記課題を鑑み簡単な構成で、多層基板のス
ルーホール部の内層基板におけるクリアランスホールな
どの検査のできる配線パターン検査装置を提供するもの
である。
In view of the above-mentioned problems, the present invention provides a wiring pattern inspection device that has a simple configuration and is capable of inspecting clearance holes in an inner layer substrate of a through-hole portion of a multilayer substrate.

課題を解決するだめの手段 上記課題を解決するため本発明の技術的課題は、第1に
プリント基板上に形成された配線パターンを光電変換す
る画像入力手段と、前記画像入力手段からの濃淡画像を
2値画像に変換する2値化手段と、 各々の連結成分に対して異なったラベルを割り当てるラ
ベリング手段と、前記連結成分毎に走査ライン単位にラ
ン長を計数するラン長計数手段と、前記ラン長計数手段
からの計数された画素数を連結成分毎に総和を求め、予
め定めた1つ以上の任意の閾値と比較して欠陥を検出す
る判定手段とを設けたものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the technical problems of the present invention are, firstly, an image input means for photoelectrically converting a wiring pattern formed on a printed circuit board, and a grayscale image from the image input means. a binarization means for converting the image into a binary image; a labeling means for assigning a different label to each connected component; a run length counting means for counting the run length in scanning line units for each connected component; A determining means is provided for calculating the sum of the number of pixels counted by the run length counting means for each connected component and comparing the sum with one or more predetermined arbitrary threshold values to detect a defect.

第2に、第1の構成手段に加え判定手段において、前記
連結成分毎に走査ライン単位にラン長と前ラインのラン
長との差分を予め定めた任意の閾値と比較するようにし
たものである。
Second, in addition to the first configuration means, the determination means compares the difference between the run length and the run length of the previous line in units of scanning lines for each connected component with a predetermined arbitrary threshold value. be.

第3に、第1及び第2の構成手段に加え、判定手段にお
いて前記連結成分毎に走査ライン単位にラン長と前ライ
ンのラン長との差分をパターン化し、副走査方向に対す
る対象性を判定するようにしたものである。
Thirdly, in addition to the first and second configuration means, the determination means patterns the difference between the run length and the run length of the previous line for each scanning line for each connected component, and determines the symmetry in the sub-scanning direction. It was designed to do so.

作用 本発明は、第1にプリント基板上に形成された配線パタ
ーンを2値画像に変換し、各々の連結成分に対して異な
ったラベルを割り当てるラベリング処理を施し、連結成
分毎に走査ライン単位にラン長を計数する。計数された
ラン長(画素数)を連結成分毎に総和を求め、予め定め
た1つ以上の任意の閾値と比較して、面積で欠陥を検出
するもので簡便でしかも任意の閾値が複数設定できる。
Function The present invention first converts a wiring pattern formed on a printed circuit board into a binary image, performs a labeling process that assigns a different label to each connected component, and labels each connected component in scanning line units. Count run length. The method calculates the sum of the counted run lengths (number of pixels) for each connected component and compares it with one or more predetermined threshold values to detect defects based on area.It is simple and can have multiple arbitrary threshold values set. can.

第2に、前記連結成分毎に走査ライン単位に現ラン長と
前ラン長との差分を予め定めた任意の閾値と比較するこ
とによりクリアランス内の銅残り等の異常を検査するこ
とができる。
Second, by comparing the difference between the current run length and the previous run length on a scanning line basis for each connected component with a predetermined arbitrary threshold value, abnormalities such as copper residue in the clearance can be inspected.

第3に、前記連結成分毎に走査ライン単位に現ラン長と
前ラン長との差分をパターン化し、副走査方向に対する
対象性を評価することにより、クリアランス内の銅残り
等の異常を検査することができる。
Thirdly, by patterning the difference between the current run length and the previous run length in each scanning line for each connected component and evaluating the symmetry in the sub-scanning direction, abnormalities such as copper residue in the clearance are inspected. be able to.

実施例 以下、第1図を参照しながら本発明の第1の実施例につ
いて説明する。
EXAMPLE A first example of the present invention will be described below with reference to FIG.

第1図は、本発明の配線パターン検査装置の実施例を示
すブロック図である。第1図において、101はプリン
ト基板、102は104のリング状のライトガイドなど
の拡散照明装置と103のCCDカメラのような撮像装
置を備えた画像入力手段、105は濃淡画像を2値画像
に変換する2値化手段、106は各々の連結成分に対し
て異なったラベルを割り当てるラベリング手段、107
は連結成分毎に走査ライン単位にラン長を計数するラン
長計数手段、108はラン長計数手段107からのラン
長を通知するためのI/F、112はCPU1o9・メ
モリ110およびI /F 111から構成される判定
手段を示す。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the wiring pattern inspection apparatus of the present invention. In FIG. 1, 101 is a printed circuit board, 102 is an image input means equipped with a diffuse illumination device such as a ring-shaped light guide 104, and an imaging device such as a CCD camera 103, and 105 is a grayscale image converted into a binary image. A binarization means for converting, 106 a labeling means for assigning a different label to each connected component, 107
108 is an I/F for notifying the run length from the run length counting means 107; 112 is the CPU 1o9, memory 110 and I/F 111; The determining means is shown below.

上記構成において、以下その動作を説明する。The operation of the above configuration will be explained below.

フリント基板101上に形成された配線パターンを、リ
ング状のライトガイド等の拡散照明装置104で照明し
、CCDカメラ(−次元または二次元)などの撮像装置
103を備えた画像入力手段102で濃淡画像として得
る。本実施例では、ラスクスキャンのイメージで以後説
明するものとし、撮像装置として一次元のCCDカメラ
を用いた例を示す。
A wiring pattern formed on a flint board 101 is illuminated with a diffuse illumination device 104 such as a ring-shaped light guide, and the image input means 102 equipped with an imaging device 103 such as a CCD camera (-dimensional or two-dimensional) is used to determine the shading. Get it as an image. In this embodiment, the following description will be made using the image of a rusk scan, and an example will be shown in which a one-dimensional CCD camera is used as an imaging device.

画像入力手段102で得られた濃淡画像から背景と配線
パターンとを分離するために、2値化手段105で予め
濃度ヒストグラム等で得られた任意の閾値と比較し2値
画像に変換する。本実施例ではスルーホール部のクリア
ランスの検査に限定するために、背景を11#配線パタ
ーンを60#に2値化するものとする。ラベリング手段
106は、2値化手段105で得られた2値画像を、各
々の連結成分に対して異なったラベルを割り当てるラベ
リング処理を行う。ラン長計数手段107は、ラベリン
グ手段106でラベリング処理された画像データを入力
し、連結成分毎に走査ライン単位にラン長を計数し、I
/F108介して判定手段112に通知される。判定手
段112は、CP U 109・メモリ110・I /
F 108. 111でコンピュータ・システムを構成
している。判定手段106では、ラン長計数手段107
で計数された走査ライン単位のラン長を、I/F108
を介して通知されソフトウェア処理により連結成分毎に
総和を求め、予め定めた1つ以上の任意の閾値と比較し
て欠陥を検出し、欠陥であれば欠陥の種類や座標がI/
Fillを介して外部に通知される。
In order to separate the background and the wiring pattern from the grayscale image obtained by the image input means 102, the binarization means 105 compares it with an arbitrary threshold obtained in advance from a density histogram or the like and converts it into a binary image. In this embodiment, in order to limit the inspection to the clearance of the through-hole portion, the background is assumed to be binarized from 11# wiring pattern to 60#. The labeling means 106 performs a labeling process on the binary image obtained by the binarization means 105, assigning a different label to each connected component. The run length counting means 107 inputs the image data labeled by the labeling means 106, counts the run length in units of scanning lines for each connected component,
The determination means 112 is notified via /F108. The determining means 112 includes the CPU 109, memory 110, I/
F 108. 111 constitutes a computer system. In the determination means 106, the run length counting means 107
The run length in scanning line units counted by I/F 108
The total sum is calculated for each connected component by software processing, and defects are detected by comparing them with one or more predetermined threshold values.If it is a defect, the type and coordinates of the defect are
It is notified to the outside via Fill.

以上の動作を繰り返し、順次行うことによりプリント基
板101の全面について検査することができる。また、
この一連の動作は、ライン同期信号等適当な信号により
同期して行うものである。
By repeating and sequentially performing the above operations, the entire surface of the printed circuit board 101 can be inspected. Also,
This series of operations is performed in synchronization with an appropriate signal such as a line synchronization signal.

次に、ラベリング手段106、ラン長計数手段107お
よび判定手段112についてさらに詳しく説明する。
Next, the labeling means 106, the run length counting means 107, and the determining means 112 will be explained in more detail.

第2図に、ラベリング手段106の詳細ブロック図を示
し、以下に説明する。
A detailed block diagram of the labeling means 106 is shown in FIG. 2 and will be described below.

第2図において、202は注目画素、203は注目画素
202の隣接画素領域を示すレジスタ、205はラベル
判定、204はラインメモリから構成される。
In FIG. 2, 202 is a pixel of interest, 203 is a register indicating an adjacent pixel area of the pixel of interest 202, 205 is a label determination, and 204 is a line memory.

ラベル判定205は、2値化手段105からの2値画像
201が入力され、注目画素202が”1″の時。
Label determination 205 is performed when the binary image 201 from the binarization means 105 is input and the pixel of interest 202 is "1".

隣接画素領域203の4画素がまだ何もラベルがついて
いなければ新しいラベルをつけて206に出力し、隣接
画素領域203の4画素にラベルがついていれば同じラ
ベルをつけて206に出力するものである。注目画素2
02が“0#の場合は、本実施例では@O”のラベルを
つけるものとする。ただし、隣接画素領域203で2種
類以上の異なったラベルがつけられたときは、最も古い
ラベルヲツケル、!:。
If the 4 pixels in the adjacent pixel area 203 do not have any labels yet, they are given new labels and output to 206, and if the 4 pixels in the adjacent pixel area 203 are labeled, they are given the same labels and output to 206. It is. Interested pixel 2
If 02 is "0#", it is labeled as @O in this embodiment. However, if two or more different types of labels are attached to the adjacent pixel area 203, the oldest label will be removed! :.

共にフラグ207を立てるものとする。これは、−船釣
には、ラベルの同一性を確保するためにフレームメモリ
に記憶された画像に対して少なくとも2回に分けて処理
することが多く、隣接画素領域で異なったラベルがつけ
られても、2回目の処理でラベルを付は直すことを行う
。しかし、今回はラスクスキャン方式で処理することを
前提にしており、1回の処理でラベ)フラグするものと
し、後段の処理はこのフラグをみてラベルを付は直すと
同じ処理を行うものとする。また、今回は隣接画素の取
りがたを8連結で行ったが、隣接画素領域203のA、
C画素を参照するようにすれば4連結となる。
It is assumed that a flag 207 is set for both. This is because - In boat fishing, images stored in frame memory are often processed at least twice in order to ensure the sameness of labels, and different labels may be attached to adjacent pixel areas. However, the label is reattached in the second processing. However, this time, we are assuming that processing will be done using the rask scan method, and the label will be flagged in one process, and the subsequent processing will perform the same process by checking this flag and re-labeling. . In addition, this time, the adjacent pixels were removed by 8 connections, but A of the adjacent pixel area 203,
If the C pixel is referred to, there will be 4 connections.

第3図に、ラン長計数手段107の詳細ブロック図を示
し、以下に説明する。
FIG. 3 shows a detailed block diagram of the run length counting means 107, which will be described below.

第3図において、302は比較器、303は閾値、30
6はラベルを一時記憶するラベル−時記憶レジスタ、3
07はラン長計数カウンタ、308はXYアドレスカウ
ンタを示す。
In FIG. 3, 302 is a comparator, 303 is a threshold value, and 30
6 is a label-time storage register for temporarily storing a label; 3;
07 is a run length counter, and 308 is an XY address counter.

まず、ラベル画像206を、1比較器302で任意の閾
値303で比較する。本実施例では、配線パターン部を
“0”ラベル値をつけているために、比較器302では
″0#0#を検出するようにする。比較器302の出力
304は、連結成分毎の走査ライン単位のラン長に相当
することになる。ラン長計数カウンタ307では、ラン
長信号304をイネーブル信号として′1nの間の画素
クロックをカウントすることによりラン長が計数できる
。また、ラベル−時記憶レジスタ306は、う/長信号
304のエツジでラベルをラッチし、ラン長計数値とと
もに判定手段に通知する。同様にXYアドレスカウンタ
308では、ラン長信号304のエツジでXYアドレス
をラッチし、判定手段112に通知する。また、フラグ
遅延回路において、ラン長信号が“1″の間にフラグが
立てば判定手段112に通知する。
First, the label image 206 is compared with an arbitrary threshold value 303 by the 1 comparator 302 . In this embodiment, since the wiring pattern portion is given a label value of "0", the comparator 302 is configured to detect "0#0#".The output 304 of the comparator 302 is This corresponds to the run length in line units.The run length counter 307 can count the run length by counting the pixel clocks during '1n with the run length signal 304 as an enable signal. The storage register 306 latches the label at the edge of the run/length signal 304 and notifies the judgment means along with the run length count value.Similarly, the XY address counter 308 latches the XY address at the edge of the run length signal 304 and sends it to the judgment means. In addition, in the flag delay circuit, if the flag is set while the run length signal is "1", the determining means 112 is notified.

判定手段112は、CPU 109− メモリ110−
 I/F108.111でコンピュータ・システムを構
成している。
The determining means 112 includes the CPU 109-memory 110-
A computer system is configured with I/Fs 108 and 111.

第4図に判定手段の処理フa−を示し、第5図に欠陥検
出の処理例と演算テーブルの例を示し以下に説明する。
FIG. 4 shows a processing phase a of the determining means, and FIG. 5 shows an example of defect detection processing and an example of a calculation table, which will be described below.

判定手段106では、ラン長計数手段107で計数され
た走査ライン単位のラン長を、I/F108を介して通
知され第4図に示す処理フローに従ってソフトウェア処
理される。
The determining means 106 is notified of the run length in units of scanning lines counted by the run length counting means 107 via the I/F 108, and is subjected to software processing according to the processing flow shown in FIG.

第1ステツプとして■では、I/F108を介して通知
されるラン長およびXYアドレス(例えば開始アドレス
)をラベルの連結成分毎に第5図に示すような演算テー
ブルを作成する。
As the first step (2), a calculation table as shown in FIG. 5 is created using the run length and XY address (for example, start address) notified via the I/F 108 for each connected component of the label.

第2ステツプとして■では、ラベルの連結成分毎に演算
テーブルに従ってラン長の総和演算を行う。また、ラン
の開始アドレスとラン長をもとに、走査ライン毎にX方
向の平均Xアドレスを求め、さらに走査ライン分の平均
を求め、Xアドレスとする。
In the second step (2), a run length summation calculation is performed for each connected component of the label according to the calculation table. Also, based on the run start address and run length, the average X address in the X direction is determined for each scanning line, and the average of the scanning lines is determined and used as the X address.

同様に、Y方向の平均を求め、Yアドレスとする。Similarly, the average in the Y direction is determined and used as the Y address.

第3ステツプとして■として、予め定めた1つ以上の任
意の閾値と第(2)式のごとく比較する。
As a third step (2), a comparison is made with one or more predetermined arbitrary threshold values as shown in equation (2).

T tmin≧総和≧’l” tmax(T tmin
 :総和の最小閾値、T tmax :総和の最大閾値
を示す) その結果、閾値の範囲内であれば良品として判断される
T tmin≧Total≧'l” tmax(T tmin
: indicates the minimum threshold value of the total sum, T tmax : indicates the maximum threshold value of the total sum) As a result, if it is within the range of the threshold value, it is judged as a good product.

次に、第2の実施例は、連結成分毎に走査ライン単位に
ラン長と前ラインのラン長との差分を予め定めだ任意の
閾値と比較するもので、第4図を用いて以下に説明する
Next, the second embodiment compares the difference between the run length and the run length of the previous line in scanning line units for each connected component with a predetermined arbitrary threshold. explain.

第1ステツプとして■では、I/F108を介して通知
されるラン長およびXYアドレス(例えば開始アドレス
)をラベルの連結成分毎に第5図に示すような演算テー
ブルを作成する。
As the first step (2), a calculation table as shown in FIG. 5 is created using the run length and XY address (for example, start address) notified via the I/F 108 for each connected component of the label.

第2ステツプとして0では、ラベルの連結成分毎に演算
テーブルに従って走査ライン単位にラン長と前ラインの
ラン長との差分の演算を行う。
As the second step, at 0, the difference between the run length and the run length of the previous line is calculated for each connected component of the label in accordance with the calculation table for each scanning line.

第3ステツプとして■として、予め定めた1つ以上の任
意の閾値と第(2)式のごとく比較する。
As a third step (2), a comparison is made with one or more predetermined arbitrary threshold values as shown in equation (2).

Ta2 ラン長の差分 (Td :ラン長の差分閾値を示す) 次に、第3の実施例は、連結成分毎に走査ライン単位に
ラン長と前ラインのラン長との差分をパターン化し、副
走査方向の対象性を判定するもので、第4図を用いて以
下に説明する。
Ta2 Difference in run length (Td: Indicates run length difference threshold) Next, in the third embodiment, the difference between the run length and the run length of the previous line is patterned for each connected component in units of scanning lines, and This is for determining symmetry in the scanning direction, and will be explained below using FIG. 4.

第1ステツプとしてのでは、I/F108を介して通知
されるラン長およびXYアドレス(例えば開始アドレス
)をラベルの連結成分毎に第5図に示すような演算テー
ブルを作成する。
As a first step, a calculation table as shown in FIG. 5 is created using the run length and XY address (for example, start address) notified via the I/F 108 for each connected component of the label.

第2ステツプとして■では、ラベルの連結成分毎に演算
テーブルに従って走査ライン単位にラン長と前ラインの
ラン長との差分の演算を行う。
In the second step (2), the difference between the run length and the run length of the previous line is calculated for each scanning line according to the calculation table for each connected component of the label.

第3ステツプとして■として、ラン長の差分パターンが
副走査方向に対象かどうかの判定を行う。
As the third step (2), it is determined whether the run length difference pattern is symmetrical in the sub-scanning direction.

次に、第5図を用いて、欠陥の検出例について説明する
Next, an example of defect detection will be described using FIG. 5.

第5図において、(a)は正常なりリアランスを、(b
)および(clは銅残り503. 504のある欠陥例
を示すとともに、下記第1〜第3表に演算テーブルの値
を走査ラインに対応させて示している。
In Figure 5, (a) shows normal clearance, (b
) and (cl indicate defective examples with copper residues 503 and 504, and Tables 1 to 3 below show the values of the calculation tables in correspondence with the scanning lines.

(alの正常なりリアランスの場合は、ラン長の総和は
766画素一画素当りの分解能がわかっていれば面積と
して表すことができる。また、ラン長の差分値は、±2
と小さくしかも副走査方向に対して対象となっている。
(In the case of normal or clearance of al, the total run length can be expressed as an area if the resolution per pixel of 766 pixels is known. Also, the difference value of the run length is ±2
It is small and symmetrical in the sub-scanning direction.

(blは、銅残りのある欠陥の一例である。ラン長の総
和も700画素少なく、ラン長の差分値も副走査方向に
対する対象性を欠いていることがわかる。
(bl is an example of a defect with copper residue. It can be seen that the total run length is 700 pixels less, and the run length difference value also lacks symmetry in the sub-scanning direction.

(C)は、銅残りのある欠陥の一例である。ラン長の総
和は72画素と少なく、ラン長の差分値も差が大きくし
かも副走査方向のに対する対象性にも欠けることがよ(
わかる。
(C) is an example of a defect with copper residue. The total run length is small at 72 pixels, and the difference in run length is large, and symmetry in the sub-scanning direction is also lacking.
Recognize.

(以 下 余 白) 発明の詳細 な説明したように、連結成分毎にラベリング後走査ライ
ン単位でラン長を計数し、ラン長の総和つまりクリアラ
ンス内の面積の大小で欠陥を検出するもので、ラスクス
キャン方式で処理する場合ハードウェアとソフトウェア
との機能分割を効率よく行うことができる。(例えば、
連結成分毎の総画素数を)・−ドウエアで行うことはノ
・−ドウエア規模が太き(なり実用化は困難である。)
また、第2に、前ラインのラン長との差分を予め定めた
任意の閾値と比較するもので、クリアランス内に銅残り
の欠陥があった場合などよく検出できる。
(Left below) As explained in detail about the invention, after each connected component is labeled, the run length is counted in scanning line units, and defects are detected based on the sum of the run lengths, that is, the size of the area within the clearance. When processing using the Rask scan method, functions can be efficiently divided into hardware and software. (for example,
To calculate the total number of pixels for each connected component using hardware, the scale of the software is large (and it is difficult to put it into practical use).
Secondly, since the difference from the run length of the previous line is compared with a predetermined arbitrary threshold value, it is possible to easily detect defects such as copper remaining within the clearance.

更に、第3に、前ラインのラン長との差分をパターン化
し、副走査方向に対しての対象性を評価する方法は、欠
陥の特徴がでやすく効果が大きい。
Furthermore, thirdly, the method of patterning the difference with the run length of the previous line and evaluating the symmetry with respect to the sub-scanning direction is highly effective because it easily reveals the characteristics of defects.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の実施例における配線パターン検査装置
のブロック結線図、第2図は同装置におけるラベリング
手段の詳細ブロック結線図、第3図は同装置におけるラ
ン長計数手段の詳細ブロック結線図、第4図は同装置の
判定手段の処理フロー図、第5図は欠陥検出例を示した
図、第6図は従来の配線パターン検査装置の処理の状態
を示した図である。 101・・・プリント基板、102・・・画像入力手段
、103・・・撮像装置、105・・・2値化手段、1
06・・・ラベリング手段、107・・・ラン長計数手
段、112・・・判定手段、109・・・CPU、11
0・・・メモリ、501・・クリアランス、503.5
04・・・銅残り。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝ほか1名第4 
図 第5図 第6図
Fig. 1 is a block wiring diagram of a wiring pattern inspection device according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a detailed block wiring diagram of a labeling means in the same device, and Fig. 3 is a detailed block wiring diagram of a run length counting means in the same device. , FIG. 4 is a processing flow diagram of the determination means of the same apparatus, FIG. 5 is a diagram showing an example of defect detection, and FIG. 6 is a diagram showing the processing state of the conventional wiring pattern inspection apparatus. 101... Printed circuit board, 102... Image input means, 103... Imaging device, 105... Binarization means, 1
06... Labeling means, 107... Run length counting means, 112... Judgment means, 109... CPU, 11
0...Memory, 501...Clearance, 503.5
04...Copper remaining. Name of agent: Patent attorney Shigetaka Awano and 1 other person No. 4
Figure 5 Figure 6

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)プリント基板上に形成された配線パターンを光電
変換する画像入力手段と、 前記画像入力手段からの濃淡画像を2値画像に変換する
2値化手段と、 各々の連結成分に対して異なったラベルを割り当てるラ
ベリング手段と、 前記連結成分毎に走査ライン単位にラン長を計数するラ
ン長計数手段と、 前記ラン長計数手段からの計数された画素数を連結成分
毎に総和を求め、予め定めた1つ以上の任意の閾値と比
較して欠陥を検出する判定手段とを具備した配線パター
ン検査装置。
(1) An image input means for photoelectrically converting a wiring pattern formed on a printed circuit board; and a binarization means for converting a grayscale image from the image input means into a binary image; labeling means for allocating a label for each connected component; run length counting means for counting the run length in scanning line units for each of the connected components; and a run length counting means for calculating the sum of counted pixels from the run length counting means for each connected component. A wiring pattern inspection device comprising: a determining means for detecting a defect by comparing it with one or more predetermined arbitrary threshold values.
(2)判定手段は、前記連結成分毎に走査ライン単位に
ラン長と前ラインのラン長との差分を予め定めた任意の
閾値と比較することを特徴とする請求項1記載の配線パ
ターン検査装置。
(2) The wiring pattern inspection according to claim 1, wherein the determining means compares the difference between the run length and the run length of the previous line in units of scanning lines for each connected component with a predetermined arbitrary threshold value. Device.
(3)判定手段は、前記連結成分毎に走査ライン単位に
ラン長と前ラインのラン長との差分をパターン化し、副
走査方向の対象性を判定することを特徴とする請求項1
、又は請求項2いずれか記載の配線パターン検査装置。
(3) The determining means determines the symmetry in the sub-scanning direction by patterning the difference between the run length and the run length of the previous line in units of scanning lines for each connected component.
, or the wiring pattern inspection device according to claim 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001075800A1 (en) * 2000-03-30 2001-10-11 Kokusai Gijutsu Kaihatsu Kabushiki Kaisha Pattern inspecting device
US7266232B2 (en) 2002-06-10 2007-09-04 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Apparatus and method for inspecting pattern

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WO2001075800A1 (en) * 2000-03-30 2001-10-11 Kokusai Gijutsu Kaihatsu Kabushiki Kaisha Pattern inspecting device
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