JPH0478033A - 多層光記録媒体 - Google Patents
多層光記録媒体Info
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- JPH0478033A JPH0478033A JP2184007A JP18400790A JPH0478033A JP H0478033 A JPH0478033 A JP H0478033A JP 2184007 A JP2184007 A JP 2184007A JP 18400790 A JP18400790 A JP 18400790A JP H0478033 A JPH0478033 A JP H0478033A
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Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、独立に記録再生か可能な少なくとも二層の
記録膜を有する多層光記録媒体と、これを用いて情報を
記録再生するための光記録再生装置に関する。
記録膜を有する多層光記録媒体と、これを用いて情報を
記録再生するための光記録再生装置に関する。
(従来の技術)
光ビームの照射により情報の記録再生を行うディスク状
またはカード状の光記録媒体において、面記録密度を上
げるために記録膜を二層またはそれ以上積層した多層媒
体か提案されている(例えば特開昭63−113947
号公報等)。
またはカード状の光記録媒体において、面記録密度を上
げるために記録膜を二層またはそれ以上積層した多層媒
体か提案されている(例えば特開昭63−113947
号公報等)。
このような多層光記録媒体を用いた光情報記録再生装置
においては、記録再生時に記録再生を行う層の記録膜に
対して選択的にフォーカス制御、すなわち光ビームの焦
点合わせを行う必要がある。このフォーカス制御を行う
ために、従来では各層の記録膜毎に波長の異なる光源を
用いて記録膜の層を選択していた。これは単一レンズを
用いて波長の異なる光ビームを通すと、レンズの波長分
散により焦点位置も変わるという現象を利用したもので
ある。
においては、記録再生時に記録再生を行う層の記録膜に
対して選択的にフォーカス制御、すなわち光ビームの焦
点合わせを行う必要がある。このフォーカス制御を行う
ために、従来では各層の記録膜毎に波長の異なる光源を
用いて記録膜の層を選択していた。これは単一レンズを
用いて波長の異なる光ビームを通すと、レンズの波長分
散により焦点位置も変わるという現象を利用したもので
ある。
しかしながら、この方法では波長の異なる複数の光源か
必要となるために、光学系の構造か複雑になり、光ヘッ
ドが大型化するとともに、コストも高くなってしまう。
必要となるために、光学系の構造か複雑になり、光ヘッ
ドが大型化するとともに、コストも高くなってしまう。
(発明か解決しようとする課題)
上述したように、従来の多層光記録媒体を用いた光情報
記録再生装置では、各層の記録膜に対して選択的にフォ
ーカス制御を行うために、波長の異なる複数の光源を用
いていることにより、光学系の構造が複雑化して光ヘッ
ドか大型となり、コストも高くなるという問題があった
。
記録再生装置では、各層の記録膜に対して選択的にフォ
ーカス制御を行うために、波長の異なる複数の光源を用
いていることにより、光学系の構造が複雑化して光ヘッ
ドか大型となり、コストも高くなるという問題があった
。
本発明は、単一波長の光源を用いて各層の記録膜に対し
選択的にフォーカス制御を行うことができる多層光記録
媒体および光記録再生装置を提供することを目的とする
。
選択的にフォーカス制御を行うことができる多層光記録
媒体および光記録再生装置を提供することを目的とする
。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
上記の課題を解決するため、本発明の多層光記録媒体は
記録膜が一層のみ単独で存在する領域を有することを特
徴とする。
記録膜が一層のみ単独で存在する領域を有することを特
徴とする。
本発明の一つの態様による光記録再生装置では、基板上
に光ビームの照射により記録再生を行う第1、第2の記
録膜を順次積層した多層領域と第1の記録膜のみ単独で
存在する単層領域とを有する多層光記録媒体を用い、単
層領域および多層領域でそれぞれ光ビームのフォーカス
誤差を検出して第1および第2のフォーカス誤差信号を
生成する。そして、第2のフォーカス誤差信号から第1
のフォーカス誤差信号を差引いて第3のフォーカス誤差
信号を生成し、第1、第3のフォーカス誤差信号を用い
て、第1、第2の記録膜にそれぞれ光ビームをフォーカ
ス制御する時に多層領域から得ら・れる第2のフォーカ
ス誤差信号を補正する。
に光ビームの照射により記録再生を行う第1、第2の記
録膜を順次積層した多層領域と第1の記録膜のみ単独で
存在する単層領域とを有する多層光記録媒体を用い、単
層領域および多層領域でそれぞれ光ビームのフォーカス
誤差を検出して第1および第2のフォーカス誤差信号を
生成する。そして、第2のフォーカス誤差信号から第1
のフォーカス誤差信号を差引いて第3のフォーカス誤差
信号を生成し、第1、第3のフォーカス誤差信号を用い
て、第1、第2の記録膜にそれぞれ光ビームをフォーカ
ス制御する時に多層領域から得ら・れる第2のフォーカ
ス誤差信号を補正する。
また11本発明の他の態様による光記録再生装置では、
基板上に先ビームの照射により記録再生を行う第1、第
2の記録膜を順次積層した多層領域と第1、第2の記録
膜がそれぞれ単独で存在する第1、第2の単層領域とを
有する多層光記録媒体を用い、第1、第2の単層領域お
よび多層領域でそれぞれ光ビームのフォーカス誤差を検
出してフォーカス誤差信号を生成する。
基板上に先ビームの照射により記録再生を行う第1、第
2の記録膜を順次積層した多層領域と第1、第2の記録
膜がそれぞれ単独で存在する第1、第2の単層領域とを
有する多層光記録媒体を用い、第1、第2の単層領域お
よび多層領域でそれぞれ光ビームのフォーカス誤差を検
出してフォーカス誤差信号を生成する。
そして、多層領域で得られたフォーカス誤差信号から第
1の単層領域で得られたフォーカス誤差信号を差引いて
得られた信号と第2の単層領域で得られたフォーカス誤
差信号を用いて、第1、第2の記録膜にそれぞれ先ビー
ムをフォーカス制御する時に多層領域で得られるフォー
カス誤差信号を補正する。
1の単層領域で得られたフォーカス誤差信号を差引いて
得られた信号と第2の単層領域で得られたフォーカス誤
差信号を用いて、第1、第2の記録膜にそれぞれ先ビー
ムをフォーカス制御する時に多層領域で得られるフォー
カス誤差信号を補正する。
(作用)
本発明においては、記録膜が一層のみ単独で存在する単
層領域を持つことにより、多層光記録媒体の各層の記録
膜単独でのフォーカス誤差信号が得られ、これを用いて
多層領域で各層の記録膜にフォーカス制御を行う場合に
多層領域て得られたフォーカス誤差信号をオフセ・ント
補正するのに必要なオフセット信号か生成される。
層領域を持つことにより、多層光記録媒体の各層の記録
膜単独でのフォーカス誤差信号が得られ、これを用いて
多層領域で各層の記録膜にフォーカス制御を行う場合に
多層領域て得られたフォーカス誤差信号をオフセ・ント
補正するのに必要なオフセット信号か生成される。
すなわち、単一波長の光源を用いて多層領域で得られる
フォーカス誤差信号は、各層の記録膜のフォーカス点に
おいて零レベルとならす、あるオフセットを持っている
。本発明では、このオフセットを補正するのに必要なオ
フセ・ント信号か各層の記録膜単独でのフォーカス誤差
信号から計算で求められる。このようなオフセ・ソト補
正により、単一波長の光源を用いて、各層の記録膜に対
し選択的にフォーカス制御を行うことができる。
フォーカス誤差信号は、各層の記録膜のフォーカス点に
おいて零レベルとならす、あるオフセットを持っている
。本発明では、このオフセットを補正するのに必要なオ
フセ・ント信号か各層の記録膜単独でのフォーカス誤差
信号から計算で求められる。このようなオフセ・ソト補
正により、単一波長の光源を用いて、各層の記録膜に対
し選択的にフォーカス制御を行うことができる。
(実施例)
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図(a)(b)は、本発明の第1の実施例に係る光
記録媒体(以下、光ディスクという)の構成を示す平面
図および断面図である。同図に示すように、この光ディ
スクは透明樹脂基板やガラス基板などの透明のディスク
状基板]O上に第1の記録膜11、中間層13および第
2の記録膜12が順次積層され、中央に中心穴(クラン
プ領域)14か設けられている。
記録媒体(以下、光ディスクという)の構成を示す平面
図および断面図である。同図に示すように、この光ディ
スクは透明樹脂基板やガラス基板などの透明のディスク
状基板]O上に第1の記録膜11、中間層13および第
2の記録膜12が順次積層され、中央に中心穴(クラン
プ領域)14か設けられている。
記録膜11.12は光ビームの照射により情報の記録再
生を行うためのものであり、具体的な一例を示すと第1
の記録膜11は例えばインジウムをCHと02とCFの
混合ガス中でスパッタして形成された膜厚25nIlの
I COF膜が用いられ、第2の記録膜12は例えば膜
厚50nmのTe−C膜か用いられる。中間層13は透
明誘電体膜、例えば膜厚1即のSi、N4膜か用いられ
る。
生を行うためのものであり、具体的な一例を示すと第1
の記録膜11は例えばインジウムをCHと02とCFの
混合ガス中でスパッタして形成された膜厚25nIlの
I COF膜が用いられ、第2の記録膜12は例えば膜
厚50nmのTe−C膜か用いられる。中間層13は透
明誘電体膜、例えば膜厚1即のSi、N4膜か用いられ
る。
そして、光ディスクの記録領域外、すなわち記録領域よ
り内周側および外周側である最内周部および最外周部に
、第1の記録膜11のみが存在する単層領域(リファレ
ンス領域)15゜16が設けられている。これらの単層
領域1516以外の領域、すなわち第1、第2の記録膜
11.12が中間層13を挟んで積層された領域17を
多層領域という。この多層領域17が記録領域となる。
り内周側および外周側である最内周部および最外周部に
、第1の記録膜11のみが存在する単層領域(リファレ
ンス領域)15゜16が設けられている。これらの単層
領域1516以外の領域、すなわち第1、第2の記録膜
11.12が中間層13を挟んで積層された領域17を
多層領域という。この多層領域17が記録領域となる。
単層領域1.5.16は、記録再生時に多層領域]7の
各記録膜11.12に対してフォーカス制御を行う時に
必要なフォーカス誤差信号を生成するために、多層領域
17て得られたフォーカス誤差信号に加えるオフセ・ソ
ト電圧の計算に必要な基準となるフォーカス誤差信号を
得るためのリファレンス領域である。但し、本実施例に
おいては、多層領域17のうち中間より内周側では最内
周部の単層領域15て得られたフォーカス誤差信号、多
層領域17のうち中間より外周側では最外周部の単層領
域16で得られたフォーカス誤差信号かそれぞれオフセ
ット電圧の計算に用いられる。
各記録膜11.12に対してフォーカス制御を行う時に
必要なフォーカス誤差信号を生成するために、多層領域
17て得られたフォーカス誤差信号に加えるオフセ・ソ
ト電圧の計算に必要な基準となるフォーカス誤差信号を
得るためのリファレンス領域である。但し、本実施例に
おいては、多層領域17のうち中間より内周側では最内
周部の単層領域15て得られたフォーカス誤差信号、多
層領域17のうち中間より外周側では最外周部の単層領
域16で得られたフォーカス誤差信号かそれぞれオフセ
ット電圧の計算に用いられる。
なお、記録膜11.12を上述した組成および膜厚で形
成すると、基板10側から光ビームを照射した場合、多
層領域17における記録膜11からの反射光量と、記録
膜12からの反射光量がほぼ同程度となる。具体的には
、記録膜11単独では反射率が15%、透過率か60%
、記録膜12単独では反射率か40%である。従って、
多層領域17における記録膜11からの反射率は15%
、記録膜12からの反射率は60%×40%X 609
6−14.496と、はぼ等しくなる。
成すると、基板10側から光ビームを照射した場合、多
層領域17における記録膜11からの反射光量と、記録
膜12からの反射光量がほぼ同程度となる。具体的には
、記録膜11単独では反射率が15%、透過率か60%
、記録膜12単独では反射率か40%である。従って、
多層領域17における記録膜11からの反射率は15%
、記録膜12からの反射率は60%×40%X 609
6−14.496と、はぼ等しくなる。
第2図は、上述した本発明の光ディスクを用いた光記録
再生装置の実施例を示す図である。
再生装置の実施例を示す図である。
光ディスク]00は例えば第1図に示した二層光記録媒
体であり、記録再生時にはモータ101により回転駆動
される。光ヘッド102は先ディスク100に光ビーム
(レーザビーム)を照射することによって情報の記録再
生を行うもので、単一波長のレーザビームを発生する半
導体レーザなどのレーザ光源103と、コリメータレン
ズ104、ビームスプリッタ105、対物レンズ106
、フォーカスアクチュエータ107、シリンドリカルレ
ンズ108および4分割の光検出器109からなる。
体であり、記録再生時にはモータ101により回転駆動
される。光ヘッド102は先ディスク100に光ビーム
(レーザビーム)を照射することによって情報の記録再
生を行うもので、単一波長のレーザビームを発生する半
導体レーザなどのレーザ光源103と、コリメータレン
ズ104、ビームスプリッタ105、対物レンズ106
、フォーカスアクチュエータ107、シリンドリカルレ
ンズ108および4分割の光検出器109からなる。
すなわち、レーザ光源103から出射されたレーザビー
ムはコリメータレンズ104により平行光とされた後、
ビームスプリッタ105で反射されて対物レンズ106
に導かれ、対物レンズ106によって光デイスク100
上に集束照射される。光ディスク100からの反射光は
対物レンズ106を戻り、ビームスプリッタ105を透
過して入射光と分離され、シリンドリカルレンズ10g
を介して光検出器109に入射される。光検出器109
の出力は、コントロール部110および減算器111に
入力される。減算器111は公知の非点収差法に従って
光検出器109の対角方向の二つの出力を加算して得ら
れた二組の信号の差をとることにより、フォーカス誤差
信号を生成する。このフォーカス誤差信号は、レーザビ
ームの焦点か記録膜11.12の中間に合った時、零レ
ベルになり、ここから焦点が前後にずれるに従って逆方
向にレベルが変化する信号である。
ムはコリメータレンズ104により平行光とされた後、
ビームスプリッタ105で反射されて対物レンズ106
に導かれ、対物レンズ106によって光デイスク100
上に集束照射される。光ディスク100からの反射光は
対物レンズ106を戻り、ビームスプリッタ105を透
過して入射光と分離され、シリンドリカルレンズ10g
を介して光検出器109に入射される。光検出器109
の出力は、コントロール部110および減算器111に
入力される。減算器111は公知の非点収差法に従って
光検出器109の対角方向の二つの出力を加算して得ら
れた二組の信号の差をとることにより、フォーカス誤差
信号を生成する。このフォーカス誤差信号は、レーザビ
ームの焦点か記録膜11.12の中間に合った時、零レ
ベルになり、ここから焦点が前後にずれるに従って逆方
向にレベルが変化する信号である。
このフォーカス誤差信号は、フォーカスサボ回路112
およびオフセット補正回路113に入力される。オフセ
ット補正回路113はオフセット設定部114とオフセ
ット電圧発生部115により構成され、入力されたフォ
ーカス誤差信号からオフセット量を計算してオフセット
電圧を生成し、フォーカスサーボ回路112に供給する
。フォーカスサーボ回路112は、減算器111からの
フォーカス誤差信号にオフセット電圧を加算し、さらに
適当なフィルタ処理などを施すことによりフォーカス制
御信号を生成する。このフォーカス制御信号に基づいて
、アクチュエータ駆動回路116によりフォーカスアク
チュエータ107か駆動され、対物レンズ106が光軸
方向に移動制御されることにより、フォーカス制御か行
われる。
およびオフセット補正回路113に入力される。オフセ
ット補正回路113はオフセット設定部114とオフセ
ット電圧発生部115により構成され、入力されたフォ
ーカス誤差信号からオフセット量を計算してオフセット
電圧を生成し、フォーカスサーボ回路112に供給する
。フォーカスサーボ回路112は、減算器111からの
フォーカス誤差信号にオフセット電圧を加算し、さらに
適当なフィルタ処理などを施すことによりフォーカス制
御信号を生成する。このフォーカス制御信号に基づいて
、アクチュエータ駆動回路116によりフォーカスアク
チュエータ107か駆動され、対物レンズ106が光軸
方向に移動制御されることにより、フォーカス制御か行
われる。
コントロール部110は記録膜11.12を選択するた
めの信号に従ってオフセット補正回路113を制御する
。これによって記録膜11゜12にそれぞれフォーカス
制御を行う際に必要なオフセット電圧が選択的に得られ
る。先ディスク100へ情報を記録する時には、半導体
レーザ103から出射されるレーザビームか情報信号に
応じて変調される。また、光ディスク100に記録され
た情報を再生する時には、光検出器109の全出力が加
算されて再生信号が得られる。その他、第1図には示し
てしないが、光ディスク100に照射されるレーザビー
ムを媒体100上のトラックに追従させるトラッキング
制御系が設けられる。
めの信号に従ってオフセット補正回路113を制御する
。これによって記録膜11゜12にそれぞれフォーカス
制御を行う際に必要なオフセット電圧が選択的に得られ
る。先ディスク100へ情報を記録する時には、半導体
レーザ103から出射されるレーザビームか情報信号に
応じて変調される。また、光ディスク100に記録され
た情報を再生する時には、光検出器109の全出力が加
算されて再生信号が得られる。その他、第1図には示し
てしないが、光ディスク100に照射されるレーザビー
ムを媒体100上のトラックに追従させるトラッキング
制御系が設けられる。
第3図は、第2図におけるオフセット設定部114を詳
しく示すブロック図である。第2図の減算器111から
入力されたフォーカス誤差信号はA/D変換器201に
よりディジタル化された後、メモリ202および減算回
路203に入力される。メモリ202は光ディスク10
0の第1図における単層領域15.16で得られた第1
の記録膜11のみに対応する第1のフォーカス誤差信号
を保持するためのもので、減算回路203は単層領域1
5.16で得られた第1のフォーカス誤差信号を多層領
域17で得られた第2のフォーカス誤差信号から差し弓
いて第2の記録膜12のみに対応する第3のフォーカス
誤差信号を求める演算を行う。メモリ204は、減算回
路203で得られた第3のフォーカス誤差信号を保持す
る。
しく示すブロック図である。第2図の減算器111から
入力されたフォーカス誤差信号はA/D変換器201に
よりディジタル化された後、メモリ202および減算回
路203に入力される。メモリ202は光ディスク10
0の第1図における単層領域15.16で得られた第1
の記録膜11のみに対応する第1のフォーカス誤差信号
を保持するためのもので、減算回路203は単層領域1
5.16で得られた第1のフォーカス誤差信号を多層領
域17で得られた第2のフォーカス誤差信号から差し弓
いて第2の記録膜12のみに対応する第3のフォーカス
誤差信号を求める演算を行う。メモリ204は、減算回
路203で得られた第3のフォーカス誤差信号を保持す
る。
オフセット量演算部205は、メモリ202゜204に
保持された第1、第3のフォーカス誤差信号から、多層
領域103における第1、第2の記録膜11.12に対
応するフォーカス誤差信号を求めるためのオフセット量
を計算する。
保持された第1、第3のフォーカス誤差信号から、多層
領域103における第1、第2の記録膜11.12に対
応するフォーカス誤差信号を求めるためのオフセット量
を計算する。
計算されたオフセット量はD/A変換器206てアナロ
グ値に変換され、第2図のオフセット電圧発生部115
に供給される。オフセット電圧発生部115は演算増幅
器により構成され、アナログ値のオフセット量を増幅し
てフォーカスサーボ回路112に適した電圧レベルの信
号に変換する。なお、メモリ202,204の保持タイ
ミング、減算回路203の計算タイミング、オフセット
量演算回路205の計算タイミングおよび計算方法は、
コントロール部110からのコントロール信号によって
制御される。
グ値に変換され、第2図のオフセット電圧発生部115
に供給される。オフセット電圧発生部115は演算増幅
器により構成され、アナログ値のオフセット量を増幅し
てフォーカスサーボ回路112に適した電圧レベルの信
号に変換する。なお、メモリ202,204の保持タイ
ミング、減算回路203の計算タイミング、オフセット
量演算回路205の計算タイミングおよび計算方法は、
コントロール部110からのコントロール信号によって
制御される。
次に、第4図を参照して本実施例におけるフォーカス制
御の動作を詳しく説明する。
御の動作を詳しく説明する。
まず、コントロール部110の制御により先ディスク1
00の最内周部の単層領域15にレサビームを照射し、
単層領域]5ての第1の記録膜]]のろに対応する第1
のフォーカス誤差信号41を検出する。このフォーカス
誤差信号41を第4図(a>に実線で示す。このフォー
カス誤差信号41をメモリ202に保持する。
00の最内周部の単層領域15にレサビームを照射し、
単層領域]5ての第1の記録膜]]のろに対応する第1
のフォーカス誤差信号41を検出する。このフォーカス
誤差信号41を第4図(a>に実線で示す。このフォー
カス誤差信号41をメモリ202に保持する。
次に、レーザビームの照射位置を光ディスク]00の最
内周から少し外周側にシフl−L、多層領域17ての第
2のフォーカス誤差信号43を検出する。このフォーカ
ス誤差信号43を第4図(b)に示す。そして、減算回
路203でフォーカス誤差信号43からメモリ202に
保持されているフォーカス誤差信号41を差し引くこと
によって、第2の記録膜12のみに対応する第3のフォ
ーカス誤差信号42を生成し、メモリ204に保持する
。このフォーカス誤差信号42を第4図(a)に破線で
示す。このようにしてメモリ202,204にはそれぞ
れ第1、第2の記録膜1]、、]2のみに対応するフォ
ーカス誤差信号41.42か保持されたことになる。但
し、フォーカス誤差信号41.43の検出は、光ディス
ク100を回転させず静止させた状態で行う。
内周から少し外周側にシフl−L、多層領域17ての第
2のフォーカス誤差信号43を検出する。このフォーカ
ス誤差信号43を第4図(b)に示す。そして、減算回
路203でフォーカス誤差信号43からメモリ202に
保持されているフォーカス誤差信号41を差し引くこと
によって、第2の記録膜12のみに対応する第3のフォ
ーカス誤差信号42を生成し、メモリ204に保持する
。このフォーカス誤差信号42を第4図(a)に破線で
示す。このようにしてメモリ202,204にはそれぞ
れ第1、第2の記録膜1]、、]2のみに対応するフォ
ーカス誤差信号41.42か保持されたことになる。但
し、フォーカス誤差信号41.43の検出は、光ディス
ク100を回転させず静止させた状態で行う。
次に、メモリ202,204に保持されているフォーカ
ス誤差信号41.42から、多層領域17において記録
膜11.12にそれぞれフォーカス制御する時に必要な
オフセット量をオフセット演算部205で以下のように
して計算する。
ス誤差信号41.42から、多層領域17において記録
膜11.12にそれぞれフォーカス制御する時に必要な
オフセット量をオフセット演算部205で以下のように
して計算する。
すなわち、多層領域17において第コの記録膜1ユにフ
ォーカス制御する時は、メモリ202に保持されている
フォーカス誤差信号41の零クロス点401におけるフ
ォーカス誤差信号42の電圧値V401をオフセラhi
とし、第2の記録膜12にフォーカス制御する時は、メ
モリ204に保持されているフォーカス誤差信号42の
零クロス点402におけるフォーカス誤差信号41の電
圧値V402をオフセット量とする。実際にはオフセッ
トffi演算部205ではオフセットffi V 40
1 、 V 402に対応するディジタル値か求めら
れ、D/A変換器206てアナログ値に変換された後、
オフセット電圧発生部115てV2O3、V2O3とな
る。
ォーカス制御する時は、メモリ202に保持されている
フォーカス誤差信号41の零クロス点401におけるフ
ォーカス誤差信号42の電圧値V401をオフセラhi
とし、第2の記録膜12にフォーカス制御する時は、メ
モリ204に保持されているフォーカス誤差信号42の
零クロス点402におけるフォーカス誤差信号41の電
圧値V402をオフセット量とする。実際にはオフセッ
トffi演算部205ではオフセットffi V 40
1 、 V 402に対応するディジタル値か求めら
れ、D/A変換器206てアナログ値に変換された後、
オフセット電圧発生部115てV2O3、V2O3とな
る。
ここで、多層領域17て検出されるフォーカス誤差信号
4Bは、各記録膜11..12かそれぞれ単独で存在す
る場合の第4図(a)に示したフォーカス誤差信号41
..42を足し合わせたものに相当するから、このフォ
ーカス誤差信号43上で零点から正方向、負方向にそれ
ぞれV 411 V 412なる全だけシフトした点
411゜412が各記録膜11,1..2のフォーカス
点に対応する。この多層領域17で検出されたフォーカ
ス誤差信号43に、フォーカスサーボ回路]12におい
てオフセット電圧発生部115からのオフセット1V4
cN、 、 V2O3を加えることにより、各記録膜
11.12へのフォーカス制御に必要なフォーカス制御
電圧が得られる。すなわち、この操作により記録膜11
.12へのフォーカス制御時には、フォーカス誤差信号
43の零レベルラインかそれぞれV41.1v41また
けシフトされ、点4]1.4]2かそれぞれの場合の零
レベルとなる。
4Bは、各記録膜11..12かそれぞれ単独で存在す
る場合の第4図(a)に示したフォーカス誤差信号41
..42を足し合わせたものに相当するから、このフォ
ーカス誤差信号43上で零点から正方向、負方向にそれ
ぞれV 411 V 412なる全だけシフトした点
411゜412が各記録膜11,1..2のフォーカス
点に対応する。この多層領域17で検出されたフォーカ
ス誤差信号43に、フォーカスサーボ回路]12におい
てオフセット電圧発生部115からのオフセット1V4
cN、 、 V2O3を加えることにより、各記録膜
11.12へのフォーカス制御に必要なフォーカス制御
電圧が得られる。すなわち、この操作により記録膜11
.12へのフォーカス制御時には、フォーカス誤差信号
43の零レベルラインかそれぞれV41.1v41また
けシフトされ、点4]1.4]2かそれぞれの場合の零
レベルとなる。
このようにして多層光ディスクを用いながら、オフセッ
ト補正回路]]3を追加するたけて従来の単層の先ディ
スクを用いた場合と同様に、単一波長のレーザ光源10
3を用いた光ヘッドにより、各層の記録膜11.12に
対して個々にフォーカス制御を行うことか可能となる。
ト補正回路]]3を追加するたけて従来の単層の先ディ
スクを用いた場合と同様に、単一波長のレーザ光源10
3を用いた光ヘッドにより、各層の記録膜11.12に
対して個々にフォーカス制御を行うことか可能となる。
また、本実施例では最内周部および最外周部にそれぞれ
単層領域15,1.6を設け、これらを光ディスク10
0の半径方向の内側半分と外側半分とて使い分けてフォ
ーカス誤差信号のオフセット補正を行う。これにより同
一の光デイスク内で半径方向において膜厚や反射特性に
違いかある(例えば膜厚は製造工程上、内周側から外周
側に向けて少しずつ厚くなる傾向かある等)場合でも、
ディスク上の位置によらず安定したフォーカス制御を行
うことか可能となる。
単層領域15,1.6を設け、これらを光ディスク10
0の半径方向の内側半分と外側半分とて使い分けてフォ
ーカス誤差信号のオフセット補正を行う。これにより同
一の光デイスク内で半径方向において膜厚や反射特性に
違いかある(例えば膜厚は製造工程上、内周側から外周
側に向けて少しずつ厚くなる傾向かある等)場合でも、
ディスク上の位置によらず安定したフォーカス制御を行
うことか可能となる。
上記実施例では記録膜が2層の場合について述べたか、
3層あるいはそれ以上の多層の場合でも本発明を適用す
ることかできる。その場合、第5図に示すように基板5
0上に記録膜51゜52.53を中間層54,55.5
6を間に介して積層する際、記録膜51のみか存在する
リファレンス領域、記録膜51.52のみか存在するリ
ファレンス領域が形成されるように、各層を階段状にす
ればよい。
3層あるいはそれ以上の多層の場合でも本発明を適用す
ることかできる。その場合、第5図に示すように基板5
0上に記録膜51゜52.53を中間層54,55.5
6を間に介して積層する際、記録膜51のみか存在する
リファレンス領域、記録膜51.52のみか存在するリ
ファレンス領域が形成されるように、各層を階段状にす
ればよい。
また、上記実施例ではリファレンス領域を光ディスクの
最内周部と最外周部に設定し、フォーカス誤差信号のオ
フセット補正もこれに対応して内周側と外周側とで分け
て行ったか、リファレンス領域をどのように設定しても
良く、どのリファレンス領域を用いてフォーカス誤差信
号のオフセット補正を行っても良い。
最内周部と最外周部に設定し、フォーカス誤差信号のオ
フセット補正もこれに対応して内周側と外周側とで分け
て行ったか、リファレンス領域をどのように設定しても
良く、どのリファレンス領域を用いてフォーカス誤差信
号のオフセット補正を行っても良い。
リファレンス領域を上記のように最内周部と最外周部に
設けた場合、フォーカス誤差信号のオフセット補正を単
純に内周側と外周側に分けて行うのでなく、線形補間な
どにより半径方向中間部のオフセット量を補間により求
めてオフセット補正を行うことにより、−層精密なフォ
ーカス制御を実現することも可能である。
設けた場合、フォーカス誤差信号のオフセット補正を単
純に内周側と外周側に分けて行うのでなく、線形補間な
どにより半径方向中間部のオフセット量を補間により求
めてオフセット補正を行うことにより、−層精密なフォ
ーカス制御を実現することも可能である。
さらに、リファレンス領域と多層領域とを光ディスクの
半径方向で分けずに、第6図に示すように光ディスクの
円周方向でリファレンス領域6162と多層領域63を
分けても良い。
半径方向で分けずに、第6図に示すように光ディスクの
円周方向でリファレンス領域6162と多層領域63を
分けても良い。
この場合、先ビームの照射位置を円周方向に移動させる
ことにより、リファレンス領域6162と多層領域63
でのフォーカス誤差信号の検出を別々に行うことかでき
る。
ことにより、リファレンス領域6162と多層領域63
でのフォーカス誤差信号の検出を別々に行うことかでき
る。
次に、本発明の第4の実施例を説明する。
第7図(a) (b)は、第4の実施例に係る光ディス
クの平面図および断面図である。この光ディスクは透明
樹脂基板やガラス基板などのディスク状基板70上に第
1の記録膜71、中間層73および第2の記録膜72か
順次積層され、中央に中心穴(クランプ領域)74か設
けられている。記録膜71.72は光ビームの照射によ
り情報の記録再生を行うためのものであり、具体的な一
例を示すと第1、第2の記録膜71゜72はいずれもイ
ンジウムをCHと02とCFの混合ガス中でスパッタし
て形成された膜厚25r+mのI COF膜か用いられ
、中間層13は例えば膜厚1趣のSi3N4膜が用いら
れる。
クの平面図および断面図である。この光ディスクは透明
樹脂基板やガラス基板などのディスク状基板70上に第
1の記録膜71、中間層73および第2の記録膜72か
順次積層され、中央に中心穴(クランプ領域)74か設
けられている。記録膜71.72は光ビームの照射によ
り情報の記録再生を行うためのものであり、具体的な一
例を示すと第1、第2の記録膜71゜72はいずれもイ
ンジウムをCHと02とCFの混合ガス中でスパッタし
て形成された膜厚25r+mのI COF膜か用いられ
、中間層13は例えば膜厚1趣のSi3N4膜が用いら
れる。
そして、この実施例では光ディスクの記録領域より内周
側である最内周部に、リファレンス領域として第1の記
録膜71のみが存在する単層領域75aと第2の記録膜
72のみが存在する単層領域76aが設けられ、記録領
域より外周側である最外周部にも、同様にリファレンス
領域として第1の記録膜71のみか存在する単層領域7
5bと第2の記録膜72のみが存在する単層領域76b
が設けられている。これらの単層領域75a、75b、
76a、76b以外の領域、すなわち第1、第2の記録
膜71゜72が中間層73を挾んで積層された領域77
が多層領域であり、この多層領域77か記録領域となる
。
側である最内周部に、リファレンス領域として第1の記
録膜71のみが存在する単層領域75aと第2の記録膜
72のみが存在する単層領域76aが設けられ、記録領
域より外周側である最外周部にも、同様にリファレンス
領域として第1の記録膜71のみか存在する単層領域7
5bと第2の記録膜72のみが存在する単層領域76b
が設けられている。これらの単層領域75a、75b、
76a、76b以外の領域、すなわち第1、第2の記録
膜71゜72が中間層73を挾んで積層された領域77
が多層領域であり、この多層領域77か記録領域となる
。
記録膜71.72を上述した組成および膜厚で形成した
場合、基板70側から光ビームを照射した時の多層領域
77における記録膜71がらの反射光量と、記録膜72
からの反射光量は異なる。具体的には、各記録膜71.
72単独では反射率が共に40%であり、記録膜71の
透過率は60%である。従って、多層領域77における
記録膜71からの反射率は40%、記録膜72からの反
射率ハ80%X 40%X60%=14.49t+とな
る。
場合、基板70側から光ビームを照射した時の多層領域
77における記録膜71がらの反射光量と、記録膜72
からの反射光量は異なる。具体的には、各記録膜71.
72単独では反射率が共に40%であり、記録膜71の
透過率は60%である。従って、多層領域77における
記録膜71からの反射率は40%、記録膜72からの反
射率ハ80%X 40%X60%=14.49t+とな
る。
この実施例におけるオフセット設定部114の構成は、
第3図と同様でよい。
第3図と同様でよい。
次に、第8図を参照して本実施例におけるフォーカス制
御の動作を説明する。
御の動作を説明する。
まず、コントロール部110の制御により光ディスクの
領域75aにレーザビームを照射し、領域75aでの第
1の記録膜71のみに対応する第8図(a)に示すフォ
ーカス誤差信号81を検出してメモリ202に保持する
。次に、レーザビームの照射位置を光ディスクの最内周
がら少し外周側にシフトし、領域76aでの第2の記録
膜72のみに対応する第8図(a)に示すフオーカス誤
差信号82を検出してメモリ204に保持する。そして
、第1の実施例と同様にメモリ202,204に保持さ
れているフォーカス誤差信号81..82の各々の零ク
ロス点8・01.802における他方のフォーカス誤差
信号82,8]の電圧値V801 、 V2O3を求
める。
領域75aにレーザビームを照射し、領域75aでの第
1の記録膜71のみに対応する第8図(a)に示すフォ
ーカス誤差信号81を検出してメモリ202に保持する
。次に、レーザビームの照射位置を光ディスクの最内周
がら少し外周側にシフトし、領域76aでの第2の記録
膜72のみに対応する第8図(a)に示すフオーカス誤
差信号82を検出してメモリ204に保持する。そして
、第1の実施例と同様にメモリ202,204に保持さ
れているフォーカス誤差信号81..82の各々の零ク
ロス点8・01.802における他方のフォーカス誤差
信号82,8]の電圧値V801 、 V2O3を求
める。
次に、レーサビーム照射位置をさらに外周側に少しシフ
トし、多層領域77ての第8図(b)に示すフォーカス
誤差信号83を検出する。このフォーカス誤差信号83
からメモリ202に保持されているフォーカス誤差信号
81を差し引き、信号84を生成する。そして、フォー
カス誤差信号82の振幅V803と信号84の振幅■8
13との比をとり、この比をV8O1に乗じることによ
って、多層領域77て検出されたフォーカス誤差信号8
3における記録膜71のフォーカス点811のオフセッ
ト1V81.1を求める。
トし、多層領域77ての第8図(b)に示すフォーカス
誤差信号83を検出する。このフォーカス誤差信号83
からメモリ202に保持されているフォーカス誤差信号
81を差し引き、信号84を生成する。そして、フォー
カス誤差信号82の振幅V803と信号84の振幅■8
13との比をとり、この比をV8O1に乗じることによ
って、多層領域77て検出されたフォーカス誤差信号8
3における記録膜71のフォーカス点811のオフセッ
ト1V81.1を求める。
すなわち、
を訓算する。
一方、記録膜71で検出されたフォーカスご(差信号8
1は、記録膜71からの反射光か他の記録膜72を通過
しないことから、v go2かそのまま記録膜71のフ
ォーカス点812のオフセット量V812に対応する。
1は、記録膜71からの反射光か他の記録膜72を通過
しないことから、v go2かそのまま記録膜71のフ
ォーカス点812のオフセット量V812に対応する。
すなわち、多層領域77においてレーザビームか第2層
目の記録膜72に入射する時と反射する時に、第1層目
の記録膜71を通過することによる減衰分を補正したこ
とになる。従って、第1層目の記録膜71にフォーカス
制御を行う場合はオフセット量V81.l、第2層目の
記録膜72のフォーカス制御を行う場合はオフセットf
f1V812をフォーカス制御信号にそれぞれ加えれば
よい。
目の記録膜72に入射する時と反射する時に、第1層目
の記録膜71を通過することによる減衰分を補正したこ
とになる。従って、第1層目の記録膜71にフォーカス
制御を行う場合はオフセット量V81.l、第2層目の
記録膜72のフォーカス制御を行う場合はオフセットf
f1V812をフォーカス制御信号にそれぞれ加えれば
よい。
この実施例によれば、第8図(a)に示すようにリファ
レンス領域において得られる各記録膜71.72に対応
したフォーカス誤差信号8182か同レベルの振幅を持
っており、これらの信号を比較することによりオフセッ
ト量を計算している。従って、多層領域77での第2層
目の記録膜72からの反射光量か第1層目の記録膜7]
からの反射光量より少なくなる場合においても、記録膜
72にフォーカス制御を行う場合のオフセット量の設定
精度か低下しないという利点かある。
レンス領域において得られる各記録膜71.72に対応
したフォーカス誤差信号8182か同レベルの振幅を持
っており、これらの信号を比較することによりオフセッ
ト量を計算している。従って、多層領域77での第2層
目の記録膜72からの反射光量か第1層目の記録膜7]
からの反射光量より少なくなる場合においても、記録膜
72にフォーカス制御を行う場合のオフセット量の設定
精度か低下しないという利点かある。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によればフォーカス制御系
にフォーカス誤差信号のオフセット補正回路を付加する
ことにより、単一波長の光源を用いて多層光記録媒体に
対するフォーカス制御を安定に行うことができる。
にフォーカス誤差信号のオフセット補正回路を付加する
ことにより、単一波長の光源を用いて多層光記録媒体に
対するフォーカス制御を安定に行うことができる。
第1図(a) (b)は本発明の第1の実施例に係る多
層光記録媒体の平面図および断面図、第2図は本発明に
係る光記録再生装置の構成を示すブロック図、第3図は
第2図におけるオフセット設定部を詳細に示すブロック
図、第4図は同実施例におけるフォーカス誤差信号のオ
フセット補正動作を説明するための図、第5図は本発明
の第2の実施例に係る多層光記録媒体の断面図、第6図
は本発明の第3の、実施例に係る多層光記録媒体の平面
図、第7図(a) (b)は本発明の第4の実施例に係
る多層光記録媒体の平面図および断面図、第8図は同実
施例におけるフォーカス誤差信号のオフセット補正動作
を説明するための図である。 10.50.70・・・基板 11.12,51〜53.71..72・・・記録膜 13.53.54.55・中間層 1.4.74・・中心穴 15、 1.6. 61. 62. 75a、 75
b76a、76b・・・リファレンス領域(単層領域)
1.7.63.77・・多層領域 41.42,43,81,82.83・・フォーカス誤
差信号 100・・・光ディスク 102・・・光ヘッド 103・・・レーザ光源 112・・・フォーカスサーボ回路 113・・・オフセット補正回路 114・・・オフセット設定部 1]5・・・オフセット電圧発生部 202 204・・・メモリ 203・・・減算回路 205・・オフセット演算部
層光記録媒体の平面図および断面図、第2図は本発明に
係る光記録再生装置の構成を示すブロック図、第3図は
第2図におけるオフセット設定部を詳細に示すブロック
図、第4図は同実施例におけるフォーカス誤差信号のオ
フセット補正動作を説明するための図、第5図は本発明
の第2の実施例に係る多層光記録媒体の断面図、第6図
は本発明の第3の、実施例に係る多層光記録媒体の平面
図、第7図(a) (b)は本発明の第4の実施例に係
る多層光記録媒体の平面図および断面図、第8図は同実
施例におけるフォーカス誤差信号のオフセット補正動作
を説明するための図である。 10.50.70・・・基板 11.12,51〜53.71..72・・・記録膜 13.53.54.55・中間層 1.4.74・・中心穴 15、 1.6. 61. 62. 75a、 75
b76a、76b・・・リファレンス領域(単層領域)
1.7.63.77・・多層領域 41.42,43,81,82.83・・フォーカス誤
差信号 100・・・光ディスク 102・・・光ヘッド 103・・・レーザ光源 112・・・フォーカスサーボ回路 113・・・オフセット補正回路 114・・・オフセット設定部 1]5・・・オフセット電圧発生部 202 204・・・メモリ 203・・・減算回路 205・・オフセット演算部
Claims (3)
- (1)基板上に光ビームの照射により記録再生を行う少
なくとも二層の記録膜を積層した多層光記録媒体におい
て、記録膜が一層のみ単独で存在する領域を有すること
を特徴とする多層光記録媒体。 - (2)基板上に光ビームの照射により記録再生を行う第
1、第2の記録膜を順次積層した多層領域と第1の記録
膜のみ単独で存在する単層領域とを有する多層光記録媒
体と、 前記単層領域および多層領域でそれぞれ前記光ビームの
フォーカス誤差を検出して第1および第2のフォーカス
誤差信号を得る手段と、前記第2のフォーカス誤差信号
から前記第1のフォーカス誤差信号を差引いて第3のフ
ォーカス誤差信号を得る手段と、 前記第1、第3のフォーカス誤差信号を用いて、前記第
1、第2の記録膜にそれぞれ光ビームをフォーカス制御
する時に前記多層領域で得られる第2のフォーカス誤差
信号を補正する手段と を具備することを特徴とする光記録再生装置。 - (3)基板上に光ビームの照射により記録再生を行う第
1、第2の記録膜を順次積層した多層領域と第1、第2
の記録膜がそれぞれ単独で存在する第1、第2の単層領
域とを有する多層光記録媒体と、 前記第1、第2の単層領域および多層領域でそれぞれ前
記光ビームのフォーカス誤差を検出してフォーカス誤差
信号を得る手段と、 前記多層領域で得られたフォーカス誤差信号から前記第
1の単層領域で得られたフォーカス誤差信号を差引く手
段と、 この手段により得られた信号と前記第2の単層領域で得
られたフォーカス誤差信号を用いて、前記第1、第2の
記録膜にそれぞれ光ビームをフォーカス制御する時に前
記多層領域で得られるフォーカス誤差信号を補正する手
段と を具備することを特徴とする光記録再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184007A JP2997512B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 多層光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184007A JP2997512B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 多層光記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0478033A true JPH0478033A (ja) | 1992-03-12 |
JP2997512B2 JP2997512B2 (ja) | 2000-01-11 |
Family
ID=16145698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2184007A Expired - Lifetime JP2997512B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 多層光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2997512B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001001408A1 (fr) * | 1999-06-28 | 2001-01-04 | Sony Corporation | Support d'enregistrement optique et son procede de lecture |
WO2001004888A1 (fr) * | 1999-07-12 | 2001-01-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Support d'enregistrement d'information optique et procede d'initialisation correspondant |
EP1258868A2 (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical storage medium, optical read/write apparatus, and optical read/write method |
WO2003046902A1 (fr) * | 2001-11-28 | 2003-06-05 | Tdk Corporation | Support d'enregistrement optique multicouche, procede d'enregistrement de donnees et enregistreur |
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