JPH0475822A - 放電加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電極と被加工体間の加工間隙に加工液を供給
すると共に、両者間に加工パルス電流を供給し、パルス
放電を繰返すことにより被加工体を加工する放電加工装
置、ワイヤカット放電加工装置のほか、それらとレーザ
を併用する複合加工装置、微細放電により母材表面に電
極材を溶着被覆するマイクロウェルディング装置など、
加工間隙放電を利用するタイプのあらゆる種類の放電加
工装置に関する。

〔従来技術〕

従来公知の放電加工装置には、加工間隙又は加工送り、
加工用の電圧及び電流パルス、加工液供給量及び圧力そ
の他の各種加工パラメータの調整、制御や、加工間隙内
の加工液更新、洗浄等を行なうために、手動制御装置と
かフィードバック制御装置等が設けられている。

〔発明が解決しようとする課題〕

前者の手動制御装置によるパラメータの調整制御には放
電加工に関する長年の経験、熟練を必要とする上、急速
かつ微細な制御を必要とするため、熟練者でも常時加工
状態変化に追従し、正確な制御を行うことが困難である
という問題かあった。

又フィードバック制御の場合は、制御量と操作量が線型
であるような場合には極めて高精度な制御かできても、
放電加工のように加工中放電により加工屑やガス等か発
生し、加工間隙に介在した状態て加工かおこなわれるた
め１、加工状態か複雑に変化するような場合には、オー
バーシュートやハンチングか大きくなり、安定した追従
制御が困難であり、かつ、加工間隙の制御、加工電流パ
ルス、放電エネルギー等の制御か適切に安定して行なわ
れないと、アーク放電か発生し、加工速度のみならず加
工精度も大幅に低下するという問題かある。

又、マイクロウェルディングに於いては、アーク放電か
連続すると、被覆精度か悪くなるはかりでなく、熱変化
層が生じる等の悪影響かある。

レーザー加工に於いては、送り速度に対して放電パルス
のエネルギーか均一に保たれないと、良好な加工精度を
保持することができない。

本発明は、このような欠点を解決するために提案された
ものである。

〔問題点の解決手段〕

本発明の上記の目的は、叙上の放電加工装置に於いて、 加工状態検出装置と、 加工状態検出装置の検出信号を設定基準値と比較して偏
差を演算出力する比較演算回路と、比較演算回路の出力
偏差をあいまいな量として入力するインターフェースと
、 入力変数に対応して設定した所要数のファジィルールや
メンバシップ関数を離散的な数値データとして書き込ん
だ記憶装置と、 記憶装置のメンバシップ関数を用いて入力値から最適出
力を推論選択し各推論の結果を合成して操作量として出
力するファジィ推論を実行する中央演算処理装置と、 中央演算処理装置の出力を加工パルス、加工間隙の送り
、加工液の供給のうちの少なくとも１つに関するパラメ
ータを制御する装置に供給するインターフェースと、 から成る推論演算処理回路を設けることによって達成さ
れる。

〔作　　用〕

本発明は、加工間隙に於ける放電状態を検出し、その検
出信号と基準値との偏差、及びその時間的変化率（１サ
ンプリング周期間の偏差の変化分）をあいまいな量とし
て入力し、この入力値から離散的な数値データとしてメ
モリに書き込んだメンバシップ関数を用いて最適出力を
推論選択し、その結果を操作量として出力し、この出力
信号をもって電極及び被加工体に供給する加工パルスの
間隔τ。２．やパルス列集団の継続時間幅とか中断時間
幅、又、必要によりパルス幅で。□、波高値Ｉ９、電圧
Ｖその他のパラメータの制御をするようにしたから、従
来の手動設定とかフィードバック制御による場合に比較
して安定性かよく、アーク放電の発生がなく、ワイヤ電
極の断線もなく安定した加工かできる。

又、メンバシップ関数を離散的な数値データとして書き
込んだものであるから、推論か簡単な足し算、掛は算で
所要の演算かでき、メモリ容量も少なく、演算時間を短
くてき、高速な制御にも好適である。

〔実施例〕

以下、図面により本発明を説明する。

第１図は加工パルスのτ。４．を制卸して加工電流を制
御する装置を示す回路図、第２図は液中電極間放電の電
圧−電流の特性を示す図、第３図は第１図に示した装置
で採用されるファジィルールの一例を示すルール表、第
４図は手動操作とファジィ制御の性能を対比して示すグ
ラフ、第５図は電圧と電流により加工電力を制御する装
置の構成を示す回路図、第６図は第５図に示した装置で
採用されるファジィルールの一例を示すルール表、第７
図は加工パルスの一例を示すタイムチャート、第８図は
加工間隙の大きさとそこに介在する加工屑の堆積する状
態によって加工電流を制御するようにした構成例を示す
回路図、第９図は第５図に示した装置て採用されるファ
ジィルールの一例を示すルール表である。

而して第１図中、■は電極（以下、ワイヤ電極を含むも
のとする）、２は被加工体、３は電極１と被加工体２の
間に形成される微小な加工間隙、４は加工用の電源、５
は電源４を開閉するトランジスタ等の半導体から成るス
イッチ、６は放電電流検出用の抵抗、７はＤ／Ａコンバ
ータ、８はＡ／Ｄコンバータ７の出力信号を予め設定し
である基準値と比較し、その偏差値工及びその時間的変
化率ΔＩ／ΔＴを求める比較演算回路、９は最適放電加
工かできるパラメータの基準値設定器、】０はインター
フェース、１１は推論演算処理回路、１２はＲＯＭ又は
ＲＡＭなとのメモリ、１３はインターフェース、１４は
増幅器、１５はτ。４．信号を発生するワンショットマ
ルチ回路、１６はτ。ゎ信号を発生するワンショットマ
ルチ回路、１７はスイッチ５を制卸するゲートパルスを
発生するフリップフロップである。

スイッチ５の開閉に伴って、電源４から加工用のパルス
電圧が電極ｌと被加工体２の間に供給される。

放電電流は直流抵抗６の端子電圧として検出され、加工
間隙に流れる電流平均値はＡ／Ｄ変換器７てデジタル信
号に変換され、比較演算回路８に供給される。

比較演算回路８は、Ｄ／Ａ変換器７から供給されるデジ
タル信号と、基準設定器９に設定されている基準値との
偏差Ｉと、その時間的変化率Δ■／ΔＴをファジィ推論
用のあいまいな量として出力する。

推論演算処理回路１１の入力側インターフェイス１０は
、Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータなどであり、これらを介し
て比較演算回路８から偏差Ｉ及びその時間的変化率ΔＩ
／ΔＴが、ファジィ制御部の推論演算処理回路１１に入
力する。

ファジィ制御部の構成は図示されていないキーボードな
どから自由に設定することかでき、各種の変数の他に基
準設定値、サンプリング周期などを入力する。

ファジィルールやメンバシップ関数は、第２図に示す液
中電極間放電の電圧−電流の特性に基づいて定める。

第２図に示したグラフで、実線部分は放電加工に利用で
きる領域であるか、ここでは電圧が低下しても電流か引
続き増大するので、放電状態は不安定であり、従って、
−旦放電か開始されると、放電電流は瞬時に増大して、
点線で示されているアーク放電領域へと移行する。

アーク放電領域では、電流か電圧の単調増加関数となる
ので放電状態は安定であるか、放電柱かプラズマ状態と
なって広がり、被加工面から金属を除去できなくなるの
で、放電加工が不可能となる。

従って、放電加工では電流の増大を制御しながら、常時
第２図中実線て示した領域を超えないように制御する必
要がある。

今、加工電流を１とすれば、加工電流は、１（ｔ）＝　
Ｉ（を−Δｔ）（ｅμΔｔ）１″・・・（１）但し、　
μ＝電流増大度（Ｓ−’） Ｕ＝フィードバック係数 て示される漸化式にしたかって増大するので、この式（
１）に従って制御することか必要である。

換言すれば、上記式ｆｌ）を用いてアーク放電に移行し
ないように放電を制御しなけれはならない。

このときの推論は例えば次の如くにする。

Ｕ＝１のときは、■は指数関数的に増大する。

Ｕ＜１のときは、ＩをＵ−１まで減少させる。

Ｕ＞１ならば、ＩはＵ段まで増大する。

このような推論に基づき且つ経験則によりファジィルー
ルを設定する場合、第３図に示す如く、電流検出信号と
その基準値との偏差Ｉと、その時間的変化率ΔＩ／ΔＴ
に対応して、図示されているような７Ｘ７のルールを用
いることが好ましいことが判明した。

ルールの設定は次のようにする。即ち、電流偏差値Ｉに
対しては、−大、−中、−小、０、上手、＋中、十人の
７個のルールを、電流変化率ΔＩ／ΔＴに対しては十人
、土中、上手、０、−小、中、−大の７個のルールを定
め、これらを縦横の分布表にして各々Ｉ＝０の軸とΔＩ
／ΔＴ＝Ｏの軸について合計１３個の制御ルールを設定
し、他の領域のルールは、それぞれの軸について上記ル
ールに収斂するように順次設定する。

表中の数値は、■及び△１／ΔＴに対応する操作量の変
化分を倍率係数で表したものである。

而して、メンバシップ関数を定めてメモリ１２に書き込
む際には連続的な関数とせず、第３図に示されているよ
うな４９点程度の離散的な数値データをテーブルの形で
書き込むようにすることか推奨される。

加工電流制御の目的は、記録した離散値データを使って
加工間隙に供給する加工パルス列の休止時間幅τ。２．
を制御することにより、アーク放電への移行を防止し、
安定した加工を行なうことである。

電極１と被加工体２の間の加工間隙３に流れる加工電流
を検出抵抗６により検出し、その信号をＡ／Ｄコンバー
タ７てデジタル変換し、比較演算回路８で設定基準値と
比較し、その偏差値Ｉ及び時間的変化率ΔＩ／ΔＴを算
出する。

このＩ及びΔＩ／ΔＴをあいまいな量としてファジィ制
御部に入力しファジィ推論する。

インターフェース１２を通して入力した情報は、−旦図
示されていないアキュムレータに貯えられ、推論演算処
理回路１１によりファジィ推論の演算処理が行われる。

今、に一小、 ΔＩ／ΔＴ＝十小 である上手ると、第３図の表に示されたルールに従って
データ“＋１”か選ばれ、この選択されたデータを使っ
てプロセスの制御が行なわれる。

このようにしてファジィ推論して得られた操作量信号を
インターフェース１３を介して増幅成形回路１４に供給
し、所要の信号に変換して加工パルス発生回路のτ。ｆ
、設定用のワンショットマルチ回路の制御信号として供
給し、τ。ｒ、をその制御信号に対応した最適値に調整
する。

ファジィ推論の時間間隙は放電加工装置に於いては通常
１〜５ｍｓ程度でよく、この時間間隔で加工電流の検出
を行ない、ファジィ推論を実行し、τ。ｔｒ制御を繰返
すことにより、アーク放電か完全に防止され、安定した
放電加工を行なうことかできるようになる。

第４図は、実際の放電加工に於いて、τ。７．のファジ
ィ制御を行なったときと、手動調整したときの比較実験
成績を示すものである。

加工条件は次の通りであった。

電　　極：グラファイト電極 軸直角断面；ｌＸ２ｃｍ　　角形 被加工体：３５５Ｃ鋼材 加工目的：型彫加工 加工液　：シリコン系表面活性剤水溶液濃度：０．５重
量％ 加工パルス条件： Ｉ、＝５０Ａ τ。、＝２Ｉｌｓ 上記の如き加工条件を設定し、かつ、初期加工平均電流
を１〜５　Ａ　／　ｃｍ　２の範囲に設定して加工を開
始し、加工安定状態に於いてて。ｆｌか２μｓに落ち着
くよって。２．のファジィ制御を行なった。

その結果は第４図のグラフに示されている。

このグラフの横軸は加工時間（Ｈ）、縦軸は平均加工電
流１．、、、（Ａ）である。

手動調整の場合は、平均電流Ｉ　ＩＩ＠Ｉｌｌか約４０
分の周期で１１〜１６Ａ程度の振幅で大幅に変動し、そ
のため加工が困難であったか、ファジィ制御の場合には
、平均電流Ｉ　ｍ＠＠。は、加工開始後短時間に約１４
Ａ程度の値に収斂し、以降、極めて安定した状態か維持
され、長時間にわたり安定加工か可能となった。

尚、加工は上記の型彫加工に限らず、ワイヤカットを行
なう場合もファジィ推輪間隔約１〜５ｍｓの制御で、−
度の断線も起こさずに安定加工することができた。

第５図は、加工電力を制御するタイプの放電加工装置の
構成を示す回路図で、図中、２０は電極ｌと被加工体２
の間にパルス電力を供給して放電加工する電源、２１は
回路に挿入した平均電流検出回路、２２は電圧検出回路
、２３及び２４はＡ／Ｄコンバータ、２５は比較演算回
路、２６及び２７は基準値設定器、２８及び２９はイン
ターフェイス、３０はファジー用の推論演算処理回路、
３１はメモリ、３２は出力段のインターフェイス、３３
は増幅波形成形回路である。

加工電流は検出回路２１により、又、電圧は検出回路２
２によりそれぞれ検出され、両信号をデジタル変換した
後、比較演算回路２５に入力してそれぞれ基準値設定器
２６及び２７から供給される基準値と比較する。

この比較演算回路２５では、放電電流偏差■と、電圧偏
差■が算出され、その出力はファジィ推論のあいまいな
量として推論演算処理回路３０に供給される。

勿論、単なる偏差Ｉ及びＶのみてなく、それらの時間的
変化量を演算出力して、更に精密な推論制御をすること
も可能である。

第６図は放電加工に於ける大１のデータに基ついて作ら
れたルール表であって、２人力／ｌ出力のプロセスの制
御例であり、電流偏差値ｒに対し、大、−中、−小、０
、土手、土中、十人の７個のルールを、又電圧偏差値Ｖ
に対して十人、土中、土手、０、−小、−中、−大の７
個ルールを定め、１、Ｖの縦横二軸の分布表にして、各
々０の軸について合計１３個のルールを設定しである。

他の空欄の領域も応答の立ち上がりを良くするためにル
ールを設定することができ、これらの離散値データをメ
モリ３１に書き込むようにする。

メモリした離散値データを使って加工間隙に供給する電
圧、電流を制御することにより、アーク放電を防止して
長時間にわたって安定加工を継続することができる。

ファジィ推論の演算処理は、推論演算処理回路３０のク
ロック周波数に基づいてプログラム制御されるようにな
っており、推論演算処理回路３ｏは、電流及び電圧偏差
ＩＳＶに対応して、第６図の表に従ってメモリ３１のデ
ータの選択が行なわれ、選択された離散値をファジィ推
論のグレードとしてこれに所要の設定変数を掛けて推論
結果の操作量を出力する。

ファジィ推論により得られた出力信号は、インターフェ
ース３２を介して増幅波形成形回路３３に供給され、そ
の出力により加工用電源２０の制御か行なわれる。

平均加工電流を制御するためには、出力パルスの■２、
τ。。　　τ。１．の何れかを制御すればたりる。

加工精度、面粗さ等を変えないようにするためにはＩＰ
、τ。。を変えずにて。Ｉｒのみを制御をすればよく、
τ。ｆｌを長く又は短くすることにより、平均電流値を
減少又は増加させることかできるから、これを利用すれ
ば加工精度、面粗さ等に影響を及ぼすことなく簡単に平
均加工電流を制御することかできる。

又、加工電圧の制御は、直流電源の電圧を変えることの
外に、放電間隙を制御することによっても達成できるも
のである。即ち、加工間隙をサーボ制御するモータの追
従速度を遅くすることにより、放電間隙を広げて間隙電
圧を上昇させ、反対にモータ送り速度を速め、送りを過
度にすることによって放電間隙を狭めて間隙電圧を低下
させることができる。

上記の如くして、加工電力を制御し、アーク放電への移
行を防止すれば、長時間にわたって安定した放電加工が
可能となる。

第７図は、極く短いパルス幅τ。わと、パルス間隔て。

ｆ、とを存する高周波パルス列を、長い継続時間幅Ｔ　
ａ　ｓと、休止時間Ｔ　６　ｆ　＋とにより断続制御を
して得た断続パルス列を示すタイムチャートである。

このような集団パルス列による場合、高周波単位パルス
の波形を制御せず、■２、τ。。、τ。、Ｉは一定にし
ておき、その継続時間幅Ｔ　ｏｅの制御により加工速度
を制御し、荒加工から仕上加工まで加工条件を順次変更
し、又、アーク放電や短絡などが発生する子機か見られ
るときは、パルス列休止時間Ｔ、１．を制御して放電中
断時間を延長してそれらの事故を回避すると共に、堆積
した加工屑などを放電中断時間中に排除する用構成する
。

このように、放電状態に応じてよって、これらを遂次制
御するが、この高周波パルスの断続列をファジィ制御す
ることによって極めて安定した制御が可能となる。

Ｔ、、、は所定の範囲内で正常加工が行われている間、
順次増加させ、異常放電が認められれば次第に減少させ
るというサイクルを繰り返し、常に目的とする加工のた
め許容される最大加工速度が得られるよう追従制御し、
Ｔ　ｏ　Ｉ　ｆは上記Ｔ０゜とは反対の方向に制御する
ようにする。

なお単位パルスのパルス輻τ。１は、μｓよりｎｓとす
ることにより高電流密度が得られる。

例えば、τ。、をＩＩｔｓとした場合、電流密度δは１
．２　ＸＩＯ’　Ａ／ｍｍ”であるが、τｏｎを１０ｎ
ｓとすると１．２　ＸＩＯ”　Ａ／ｍｍ２　と、１０２
倍も高い電流密度か得られ、理論上加工能率は１０００
倍にも高められることになる。

第８図は、加工間隙の大きさと、加工間隙に介在する加
工屑の堆積状態によって加工電流を制御するよう構成し
た実施例を示す回路図である。

３６は電極１に送りを与えて被加工体２との加工間隙３
を制御するモータ、３７は送り位置、送り方向、速度等
を検出するためモータ３６の軸に設けたエンコーダ、３
８は加工用の電源回路、３９は電源回路３８から電極１
及び被加工体２に加工パルスを供給する電流供給回路に
挿入されたパルス電流検出器、４０は前記エンコーダ３
７及びパルス電流検出器３９から信号を入力し、基準設
定器４１．４２に設定された基準値と比較してその偏差
を作るための比較演算回路、４３は比較演算回路４０か
ら供給される偏差値をあいまいな量としてファジィ推論
する推論演算処理回路、４４及び４５は信号のＤ／Ａ変
換インターフェース、４６はファジィ推論して得られた
操作量を出力するインターフェース、４７は加工電源３
８を制御するために信号を増幅成形する増幅器である。

推論演算処理回路４３は、既に第１図によって説明した
ものと路間−のもので、信号の入力インターフェース、
推論の演算処理をするＣＰＵ及びファジィルールやメン
バシップ関数、推論演算といったファジィ制御用のプロ
グラム等か記憶されたメモリ等を含んでいる。

メモリに記憶するファジィルールとして、例えば第９図
に示すような、加工間隙の状態に対応して定められるＡ
−Ｊのようなルールを採用する。

Ａは電極か被加工体に接近するときであって間隙に加工
屑か存在しない状態、Ｂは電極か被加工体から開離する
ときであって間隙に加工屑か存在しない状態、Ｃは電極
か接近するときてあって間隙に微量の加工屑の粒か介在
する状態、Ｄは電極が開離するときであって間隙に微量
の加工屑の粒か介在する状態、Ｅは電極が接近するとき
であって介在粒子か縦に連なって存在する状態、Ｆは電
極が開離するときであって且つ粒子が縦に連なった状態
、Ｇは電極が接近するときであって且つ介在粒子が加工
平面に並んだ状態、Ｈは電極が開離するときであって且
つ粒子が加工平面に並んだ状態、■は電極か接近すると
きであって且つ粒子か間隙に多量に介在する状態、Ｊは
電極か開離するときであって且つ粒子か多量に介在する
状態である。

以上のように設定されたＩＯのルールのそれぞれに対応
して、操作出力として例えば次表のような離散的な数値
データを設定する。

この表の数値は加工パルスの休止時間幅Ｔ０．。

を制御する信号の倍率を表す。

以上に於いて、電極ｌか被加工体２に接近、開離する状
態は、電極送りモータ３６に結合したエンコーダ３７に
よって検出される。

エンコーダ３７による位置信号を比較演算回路４０に入
力し、設定器４１により設定した基準値と比較演算する
ことによって得られた電極移動信号をファジィ制御部４
３に入力する。

又、間隙に介在する加工屑粒子の状態は、電源回路に挿
入した放電電流検出器３９の検出信号として知られるか
ら、比較演算回路４０により、これを設定器４２に設定
した基準値と比較演算し、そと出力信号を推論演算処理
回路４３に入力してファジィ推論を実行する。

推論演算処理回路４３は、比較演算回路４０より入力す
る２つの信号をあいまいな量として推論を行い、上記の
状態Ａ−Ｊの中のいずれかを推論し、上表によって、推
論に対応した操作量を出力する。

このようにして入力するあいまいな量に対応してファジ
ィ推論を実行し、予め設定した離散値データの中から所
要の操作量を選択出力し、これを制御装置に供給して、
加工電流がアーク放電に移行せず、正常加工か維持でき
るよう加工条件を制御する。

加工電流の制御は上述の々ｕく一般にパルスｒＩＲ隔Ｔ
、、、を調整して制御するので、例えば、今、高周波電
圧パルスか、継続時間Ｔ、、＝１１１ｓ、休止時間Ｔ６
ｒｔ　＝　１．８μｓで繰り返し断続していたとき、フ
ァジィ推論の結果、ルールＢか選はれ、操作量として２
．０の倍率か出力したときは、パルス列の休止時間Ｔ。

、、は、２．０Ｘ１．８μｓ、即ち、３．６゜に調節さ
れるものである。

ルールＢは、電極か被加工体から離れた位置から次第に
接近し、放電か開始される状態で、このときＴ。、ｌを
長くして加工電流を減少させることにより、より速やか
に所定の正常間隙に復帰させることかできることとなる
。

ファジィ推論を、例えば０．５ｍｓのサイクルで行い、
その推論に基づいてＴ　ｅ　ｌ　＋の調整をすることに
より、連続して安定した放電加工を行なうことかできる
ようになる。

以上、ファジィ推論によるプロセス制御の方法として、
加工パルスの制御による方式ついて説明したが、本発明
を実施する方法はこの方式に限定されるものでなく、加
工送り速度制御、加工液の供給制御などを利用すること
も可能であり、これらの制御ルールを定めておくことに
よって、上記と同様の推論をしなからプロセスの制御を
行なうことにより、安定した加工状態を維持し得るよう
になる。

又、これらの制御に於いては、制御すべきパラメータは
一つに限定されるものでなく、複数のパラメータの組み
合せ制御を行なうこともてき、そのようにすると、放電
加工の安定性を更に向上させることが可能となる。

又、加工状態の検出には、前記の電圧や電流の検出回路
、エンコーダなどの他、音波、電磁波等に感応するセン
サーを利用することかできる。

ワイヤカット放電加工の場合、アーク放電が発生すると
、放電点の移動が行なわれず、細線ワイヤの一点に集中
して放電が発生するため断線を起こし、又型彫放電加工
でもアーク放電の集中によって加工面を傷つけたり変質
させるという事故か発生するが、このような異常アーク
放電は、マイクロホン等のセンサにより音を検出するこ
とによって容易に判別でき、又、放電間隙にアーク放電
か発生すると発生する光の状態か変化するので、光セン
サで検出することもてきる。

光センサによる検出は、特にレーザー加工の検出制御に
は好適で、加工の進行に合わせた送り速度制御により高
精度を保って加工かでき、Ｑスイッチングの周波数とか
、光のチョッパー制御により常にエネルギー密度を均一
に保って安定した精密加工することかできる。

〔発明の効果〕

以上のように本発明は、加工間隙で行なわれている放電
等の加工状態を検出し、これを基準電圧と比較した偏差
、さらに１サンプリング周期中の偏差の変化分をあいま
いな量として入力し、この入力から離散的な数値データ
としてメモリに書き込んだメンバシップ関数を用いて最
適な操作量の出力を推論選択し、この出力信号をもって
加工間隙に供給する加工パルスのパルス輻τ。、や、パ
ルス間隔τ。ｒｒ、高周波パルス列の継続時間幅Ｔ’ｏ
ｓや、中断時間幅Ｔ、、ｒ、又必要によりパルス波高４
１１１、　、電圧Ｖ等を制御するようにしたから、従来
の手動設定とかフィードバック制御による場合に比較し
て安定性かよく、アーク放電の発生かなく、電極の断線
や損傷などがなく安定した加工かできる。

又、制御対象のパラメータは加工パルス、加工エネルギ
の制御に限らず、加工間隙制御とか間隙の洗浄制御、加
工液の制御等も単独に又は組合せ制御することができ、
ファジィ制御部を利用することにより極めて有効なプロ
セスの制御か可能となる。

而して、最適の制御を実現するためには、加工パルスの
制御、放電間隙の調整、加工液の制御等を最適に組み合
わせ調整制御し、しかも加工の深さ、加工面積変化等の
加工進行状況に応じて、パラメータの最適値も変化する
から、随時それらの変化に適応した制御か必要となるか
、例えば間隙の調整制御−つをとって見ても簡単てなく
、又、従来公知の方法により、単に間隙の広がりだけを
制御しようとしても旨く行かない。

その理由は、放電加工によって発生する加工屑とかター
ル、気泡等によって放電状態か変化し、又間隙に介在す
る加工液の温度、比抵抗、金属粉の濃度、イオン濃度等
が複雑に変化するためである。

そのため、従来公知の方法により制御を実行しようとす
ると、極めて高度の専門知識と複雑な制御プロセスか要
求される。

例えば、従来のＰＩＤ（比例・積分・微分）制御を利用
しようとしても、それらを使いこなすためには、数式に
乗り切らない熟練オペレータの勘や経験、知識に依存し
なければならない。

このような点を解決するため、本発明では、ファジィ推
論により熟練オペレータの把握している経験、知識に基
づき、プロセスの制御をあいまいな値に対応する最良の
操作量として記憶しておき、これを入力変数から推論し
制御動作中にこれらのデータをとりパラメータの制御を
行なうので、最高級の熟練オペレータの勘や経験による
のと同様なプロセス制御ができ、所定の精度で、目的と
する加工拡大代、テーパ度、精度、面粗さ等が得られる
ようになる。

本発明によるときは、定性的であいまいな表現を離散的
な数値データとしてメモリすることにより、熟練者の経
験やノウハウを簡単にコンピュータに入力でき、データ
ベース化することが可能となら。

【図面の簡単な説明】

第、１図は加工パルスのτ。ｍｌを制御して加工電流を
制御する装置を示す回路図、第２図は液中電極間放電の
電圧−電流の特性を示す図、第３図は第１図に示した装
置で採用されるファジィルールの一例を示すルール表、
第４図は手動操作とファジィ制御の性能を対比して示す
グラフ、第５図は電圧と電流により加工電力を制御する
装置の構成を示す回路図、第６図は第５図に示した装置
で採用されるファジィルールの一例を示すルール表、第
７図は加工パルスの一例を示すタイムチャート、第８図
は加工間隙の大きさとそこに介在する加工屑の堆積する
状態によって加工電流を制御するようにした構成例を示
す回路図、第９図は第５図に示した装置で採用されるフ
ァジィルールの一例を示すルール表である。 １・・・・・・電極 ２・・・・・・被加工体 ３・・・・・・加工間隙 ４．２０．３８・・電源 ５・・・・・・スイッチ ６・・・・・・放電電流検出用の抵抗 ７・・・・・・Ｄ／Ａコンバータ ８．２５．４０・・比較演算回路 ９．２６．２７・・基準値設定器 １１．３０．４３・・推論演算処理回路１２．３１・・
・・メモリ １４．３３．４７・・増幅波形成形回路１５．１６・・
・・ワンショットマルチ回路１７・・・・・・フリップ
フロップ ２１．３９・・・・電流検出回路 ２２・・・・・・電圧検出回路

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記（ａ）項乃至（ｆ）項記載の構成要素からな
   る推論演算処理回路を設けたことを特徴とする放電加工
   装置。 記 （ａ）加工状態検出装置。 （ｂ）加工状態検出装置の検出信号を設定基準値と比較
   して偏差を演算出力する比較演算回路。 （ｃ）比較演算回路の出力偏差をあいまいな量として入
   力するインターフェース。 （ｄ）入力変数に対応して設定した所要数のファジィル
   ールやメンバシップ関数を離散的な数値データとして書
   き込んだ記憶装置。 （ｅ）記憶装置のメンバシップ関数を用いて入力値から
   最適出力を推論選択し各推論の結果を合成して操作量と
   して出力するファジィ推論を実行する中央演算処理装置
   。 （ｆ）中央演算処理装置の出力を加工パルス、加工送り
   、加工液の供給のうちの少なくとも１つに関するパラメ
   ータを制御する装置に供給するインターフェース。
2. （２）ワイヤカット放電加工装置である請求項１に記載
   の放電加工装置。
3. （３）型彫放電加工装置である請求項１に記載の放電加
   工装置。
4. （４）マイクロウェルディング装置である請求項１に記
   載の放電加工装置。
5. （５）レーザ併用複合加工装置である請求項１に記載の
   放電加工装置。