JPH0475458B2 - - Google Patents
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- JPH0475458B2 JPH0475458B2 JP60189128A JP18912885A JPH0475458B2 JP H0475458 B2 JPH0475458 B2 JP H0475458B2 JP 60189128 A JP60189128 A JP 60189128A JP 18912885 A JP18912885 A JP 18912885A JP H0475458 B2 JPH0475458 B2 JP H0475458B2
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はX線マイクロアナライザに関し、更に
詳しくは、波高分析器の分析条件設定の改良に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an X-ray microanalyzer, and more particularly, to improvement of analysis condition settings for a pulse height analyzer.
(従来の技術)
X線マイクロアナライザは、極めて細く絞つた
電子線束を試料表面に照射し、その部分から放射
される特性X線の波長と強度をX線分光器で測定
してその微小部分に含まれている元素を定性又は
定量する分析機器であり、試料を非破壊的に分析
できることから各種の分野での組成・材料研究に
広く用いられている。(Prior technology) An X-ray microanalyzer irradiates the surface of a sample with an extremely narrowly focused electron beam, and uses an X-ray spectrometer to measure the wavelength and intensity of the characteristic X-rays emitted from that part. It is an analytical instrument that qualitatively or quantitatively determines the contained elements, and is widely used in composition and materials research in various fields because it can analyze samples non-destructively.
このようなX線マイクロアナライザの一種に、
波長に従つてX線を分散させる分光結晶を駆動パ
ルスに応じて試料上のX線発生点を通る直線上を
移動させるように構成された結晶直進型X線分光
器と、該分光器の検出信号の波高値を分析する波
高分析器(PHA、pulse height analyzer)とを
具備したものがある。 One type of X-ray microanalyzer is
A linear crystal X-ray spectrometer configured to move a spectroscopic crystal that disperses X-rays according to wavelength along a straight line passing through an X-ray generation point on a sample according to a driving pulse, and detection of the spectrometer. Some devices are equipped with a pulse height analyzer (PHA) that analyzes the pulse height value of the signal.
ここで、波高分析器は、供給されるパルスの波
高値を、ベースレベルVとベースレベルVからウ
インドウ幅ΔVだけ大きいレベルV+ΔVと比較
し、前記波高値がこれら両レベルの間の値を有す
る場合のみこのパルスを計数するもので、増幅器
から供給されるパルスの波高値がベースレベルV
より大きい場合にその期間の幅に等しいパルス幅
のパルスを発生する第1の回路と、増幅器から供
給されるパルスの波高値が前記レベルV+ΔVよ
り大きい場合にその期間の幅に等しいパルス幅の
パルスを発生する第2回路と、第1の回路よりパ
ルスが送られ且つ第2の回路よりパルスが送られ
ない場合のみ第1の回路の出力パルスを計数する
反同時計数回路とから成る。この波高分析器を用
いる理由は次の通りである。即ち、エネルギーの
違いに基づき、2次以上の高次線の検出パルスの
波高は1次線の検出パルスの波高と明確に異なる
ので、波高分析器の上記機能を用いて、1次線の
検出パルスを計数し、2次以上の検出パルスは計
数しないようにすれば、スペクトル分析の精度を
向上させることができるからである。 Here, the pulse height analyzer compares the pulse height value of the supplied pulse with a base level V and a level V + ΔV which is larger than the base level V by a window width ΔV, and if the pulse height value has a value between these two levels, Only this pulse is counted, and the peak value of the pulse supplied from the amplifier is the base level V.
a first circuit that generates a pulse with a pulse width equal to the width of the period when the width is greater than the level V+ΔV; and a pulse with a pulse width equal to the width of the period when the peak value of the pulse supplied from the amplifier is larger than the level V+ΔV and an anti-coincidence circuit that counts the output pulses of the first circuit only when pulses are sent from the first circuit and no pulses are sent from the second circuit. The reason for using this pulse height analyzer is as follows. That is, based on the difference in energy, the wave height of the detection pulse of the secondary or higher-order line is clearly different from the wave height of the detection pulse of the primary line, so the above function of the pulse height analyzer is used to detect the primary line. This is because the accuracy of spectrum analysis can be improved by counting pulses and not counting detected pulses of secondary or higher order.
ところで、このような波高分析器の分析条件と
なるベースレベル及びウインドウ幅は、分光結晶
と分光角度、即ち特性X線のエネルギーに対応し
て決まるものであり、通常、分析する元素の標準
試料を用いて各々の特性X線毎に決定される。 By the way, the base level and window width, which are the analysis conditions for such a wave height analyzer, are determined depending on the spectroscopic crystal and the spectroscopic angle, that is, the energy of the characteristic X-ray, and usually the standard sample of the element to be analyzed is is determined for each characteristic X-ray.
例えば、コンピユータにより制御するように構
成された装置では、各々の特性X線毎に予めベー
スレベル及びウインドウ幅を調べて個別にそのベ
ースレベル及びウインドウ幅を記憶させておき、
該当する元素を分析する時にそのベースレベル及
びウインドウ幅をコンピユータにより設定するこ
とができる。 For example, in an apparatus configured to be controlled by a computer, the base level and window width are checked in advance for each characteristic X-ray and the base level and window width are individually stored.
The base level and window width can be set by the computer when analyzing the relevant element.
又、予め1つ乃至2つの基準となる元素の特性
X線を用いて求めておいた近似式から分析対象元
素の特性X線のベースレベル及びウインドウ幅を
計算し、その値をコンピユータにより設定するこ
ともできる。 In addition, the base level and window width of the characteristic X-ray of the element to be analyzed are calculated from an approximation formula obtained in advance using the characteristic X-rays of one or two reference elements, and the values are set by a computer. You can also do that.
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、このようにコンピユータにより制御さ
れる装置において、各特性X線毎に標準試料を用
いてベースレベル及びウインドウ幅を求めるため
には多大な作業工数を要する。又、分光結晶を移
動させる毎に波高分析器のベースレベル及びウイ
ンドウ幅を計算して設定させるためにはプログラ
ムの作成に多大の工数を要することになり、プロ
グラム容量が増大することになる。(Problem to be solved by the invention) However, in such a computer-controlled device, it takes a large amount of man-hours to determine the base level and window width using a standard sample for each characteristic X-ray. . Furthermore, in order to calculate and set the base level and window width of the pulse height analyzer each time the spectroscopic crystal is moved, a large amount of man-hours are required to create a program, resulting in an increase in program capacity.
本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、そ
の目的は、任意の分光位置における波高分析器の
ベースレベル及びウインドウ幅がプログラムの計
算結果によることなく自動的に設定でき、ベース
レベル及びウインドウ幅を求めるために多大な作
業工数を要したり、プログラム容量が増大したり
することのないX線マイクロアナライザを実現す
ることにある。 The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to automatically set the base level and window width of a pulse height analyzer at any spectral position without depending on the calculation results of a program. The object of the present invention is to realize an X-ray microanalyzer that does not require a large number of man-hours to determine the width or increase the program capacity.
(問題点を解決するための手段)
前記した問題点を解決する本発明は、分光結晶
が駆動パルスに応じて試料上のX線発生点を通る
直線上を移動するように構成された結晶直進型X
線分光器と、該分光器の検出信号の波高値を分析
する波高分析器とを具備したX線マイクロアナラ
イザにおいて、前記分光結晶とX線発生点との距
離を表わす信号を発生するための信号発生回路
と、該信号発生回路の出力信号をその信号値の逆
数に対応した信号に変換するための第1の演算器
と、前記信号発生回路の出力信号をその信号値の
平方根の逆数に対応した信号に変換するための第
2の演算器と、前記第1及び第2の演算器の出力
信号に基づいて前記波高分析器のベースレベルを
設定するためのベースレベル設定器と、前記第2
の演算器の出力信号に基づいて前記波高分析器の
ウインドウ幅を設定するためのウインドウ幅設定
器と、を設けたことを特徴とするものである。(Means for Solving the Problems) The present invention, which solves the above-mentioned problems, is a crystal rectilinear movement system in which a spectroscopic crystal is configured to move along a straight line passing through an X-ray generation point on a sample in response to a driving pulse. Type X
In an X-ray microanalyzer equipped with a line spectrometer and a pulse height analyzer that analyzes the peak value of a detection signal of the spectrometer, a signal for generating a signal representing the distance between the spectroscopic crystal and the X-ray generation point. a generating circuit, a first arithmetic unit for converting the output signal of the signal generating circuit into a signal corresponding to the reciprocal of the signal value, and the output signal of the signal generating circuit corresponding to the reciprocal of the square root of the signal value. a base level setter for setting a base level of the pulse height analyzer based on the output signals of the first and second computing units;
The present invention is characterized by further comprising a window width setting device for setting the window width of the pulse height analyzer based on the output signal of the arithmetic unit.
(実施例)
以下、図面を参照し本発明の実施例を詳細に説
明する。(Embodiments) Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は、本発明の一実施例を示す構成ブロツ
ク図である。第1図において、1は電子線2が照
射されることによりX線3を放射するX線源(試
料)、4は該X線源1から放射されるX線3を分
散させる分光結晶、5は該分光結晶4で分散反射
されたX線6を検出するX線検出器XDのスリツ
トであり、これらX線源1、分光結晶4及びスリ
ツト5はローランド円と呼ばれる円周7上に位置
していてX線分光器を構成している。尚、該X線
分光器において、分光結晶4はX線源1を通る直
線8上を駆動パルス源9から出力される駆動パル
スに応じて移動するように構成されている。従つ
て、ローランド円7の中心10とスリツト5も移
動することになり、このようなX線分光器は結晶
直進型と呼ばれている。11は分光結晶4を移動
させるために駆動パルス源9から出力される駆動
パルスを回転量に変換するパルスモータ、12は
該パルスモータ11の回転をポテンシヨメータ1
3の回転に変換するためのギヤである。これによ
り、分光結晶4の移動量はポテンシヨメータ13
の抵抗値の変化に変換されることになる。14は
該ポテンシヨメータ13の抵抗値変化を電圧変化
に変換する抵抗電圧変換器、15は該抵抗電圧変
換器14で変換された電圧の逆数を演算する第1
の演算器、16は抵抗電圧変換器14で変換され
た電圧の平方根の逆数を演算する第2の演算器で
ある。これら各演算器15,16の出力信号は、
それぞれ入出力比を調整する較正器17,18を
介して自動手動切換器19に加えられている。該
自動手動切換器19には手動設定器20,21か
らそれぞれ演算器15,16に対応した設定信号
が加えられている。そして、該自動手動切換器1
9から切換状態に応じてこれら演算器15,16
の出力信号又は手動設定器20,21の設定信号
が選択的に波高分析器22のベースレベル設定器
23及びウインドウ幅設定器24に出力されるこ
とになる。これにより、増幅器25を介して加え
られるX線検出器XDの検出信号は所定のベース
レベル及びウインドウ幅以内のもののみ波高分析
器22で選択されることになる。 FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is an X-ray source (sample) that emits X-rays 3 when irradiated with an electron beam 2; 4 is a spectroscopic crystal that disperses the X-rays 3 emitted from the X-ray source 1; is the slit of the X-ray detector XD that detects the X-rays 6 dispersed and reflected by the spectroscopic crystal 4, and these X-ray source 1, spectroscopic crystal 4, and slit 5 are located on the circumference 7 called the Rowland circle. It consists of an X-ray spectrometer. In this X-ray spectrometer, the spectroscopic crystal 4 is configured to move on a straight line 8 passing through the X-ray source 1 in response to a drive pulse output from a drive pulse source 9. Therefore, the center 10 of the Rowland circle 7 and the slit 5 also move, and such an X-ray spectrometer is called a crystal rectilinear type. 11 is a pulse motor that converts the drive pulse output from the drive pulse source 9 into a rotation amount in order to move the spectroscopic crystal 4; 12 is a potentiometer 1 that controls the rotation of the pulse motor 11;
This is a gear for converting into 3 rotations. As a result, the amount of movement of the spectroscopic crystal 4 is controlled by the potentiometer 13.
This will be converted into a change in resistance value. 14 is a resistance voltage converter that converts a change in the resistance value of the potentiometer 13 into a voltage change; 15 is a first unit that calculates the reciprocal of the voltage converted by the resistance voltage converter 14;
A computing unit 16 is a second computing unit that computes the reciprocal of the square root of the voltage converted by the resistance voltage converter 14. The output signals of each of these arithmetic units 15 and 16 are as follows:
The signals are applied to an automatic/manual switch 19 via calibrators 17 and 18 that adjust the input/output ratio, respectively. Setting signals corresponding to the computing units 15 and 16 are applied to the automatic manual switching device 19 from manual setting devices 20 and 21, respectively. And the automatic manual switching device 1
9 to these computing units 15 and 16 depending on the switching state.
The output signal or the setting signal of the manual setting devices 20 and 21 is selectively outputted to the base level setting device 23 and the window width setting device 24 of the pulse height analyzer 22. As a result, only those detection signals from the X-ray detector XD applied via the amplifier 25 that are within a predetermined base level and window width are selected by the pulse height analyzer 22.
このように構成された装置の動作について説明
する。 The operation of the device configured in this way will be explained.
波長λÅの特性X線が第1図の0点からC点ま
での距離lmmで検出されるとすると、
l=(2R/2d)nλ ……(1)
R;ローランド円7の半径
d;分光結晶4の面間隔
n;整数(1、2、…)
の関係が成立する。該特性X線のエネルギーを
EkeVとすると、
λE=12.4 ……(2)
となることから、(1)式、(2)式より
l=n・12.4(2R/2d)(1/E) ……(3)
が得られる。 Assuming that a characteristic X-ray with wavelength λÅ is detected at a distance of lmm from point 0 to point C in Figure 1, then l=(2R/2d)nλ...(1) R; radius d of Rowland circle 7; spectroscopy The following relationship holds true: interplanar spacing n of the crystal 4; an integer (1, 2,...). The energy of the characteristic X-ray
Assuming EkeV, λE=12.4...(2), so from equations (1) and (2), l=n・12.4(2R/2d)(1/E)...(3) is obtained. .
一方、X線検出器XDから出力される検出信号
の1次パルスの高さは入射X線のエネルギーに比
例する。そして、増幅器25を介して波高分析器
22に加えられるパルスの高さ(H)とエネルギ
ー(E)の比例係数をkとすると、
H=k・E ……(4)
の関係が成立することから、波高分析器22に加
えられるパルスの波高値は、
H=k・n・12.4(2R/2d)(1/l) ……(5)
となる。又、波高分析器22の適当なウインドウ
幅Wは、X線検出器XD内で作られるイオン対の
統計的ゆらぎを考慮すると、W∝√であること
から、
W=h・√1 ……(6)
h;比例係数
と表わせる。 On the other hand, the height of the primary pulse of the detection signal output from the X-ray detector XD is proportional to the energy of the incident X-ray. Then, if k is the proportional coefficient between the height (H) and energy (E) of the pulse applied to the pulse height analyzer 22 via the amplifier 25, then the following relationship holds: H=k・E...(4) Therefore, the pulse height value of the pulse applied to the pulse height analyzer 22 is H=k・n・12.4 (2R/2d) (1/l) (5). Also, since the appropriate window width W of the pulse height analyzer 22 is W∝√ considering the statistical fluctuation of ion pairs created in the X-ray detector XD, W=h・√1...( 6) h: Can be expressed as proportionality coefficient.
尚、(5)式における比例係数k及び(6)式における
比例係数hは増幅器25のゲインや使用する分光
結晶の面間隔dに応じて変わるものである。 Note that the proportionality coefficient k in equation (5) and the proportionality coefficient h in equation (6) change depending on the gain of the amplifier 25 and the interplanar spacing d of the spectroscopic crystal used.
第2図は、パルス波高値Hと距離lとの対応関
係を示す説明図である。第2図から明らかなよう
に、比例係数k、hを適当に設定することによ
り、距離lがL1からL2に変わる(L1<L2)とき
に曲線を任意の適当な高さにシフトさせることが
できる。 FIG. 2 is an explanatory diagram showing the correspondence between the pulse height value H and the distance l. As is clear from Fig. 2, by appropriately setting the proportionality coefficients k and h, when the distance l changes from L 1 to L 2 (L 1 < L 2 ), the curve can be adjusted to any appropriate height. It can be shifted.
即ち、分光結晶4をL1からL2まで移動させる
のに必要な駆動パルス数をpとすると、分光結晶
4がnパルス駆動されたときの距離lの変化分
Δlは、
Δl=(n/p)(L2−L1) ……(7)
になる。ここで、予めl=l0で分光される特性X
線のパルス波高値がHoとなり、このパルス波高
値Hoを中心レベルとするウインドウ幅がWoにな
るように(ベースレベルはウインドウ幅の下限レ
ベルであるから、この時のベースレベルはパルス
波高値HoよりもWo/2だけ低い値になる)、前
述の比例係数k、hを設定しておくと、l0からΔl
離れたl位置で分光される特性X線のパルス波高
値Hは、
H=H0+ΔH=const・1/(l0+Δl) ……(8)
で与えられ、同じくウインドウ幅Wは、
W=W0+ΔW=const・1/(√0+) ……(9)
で与えられる。 That is, if the number of driving pulses required to move the spectroscopic crystal 4 from L 1 to L 2 is p, then the change Δl in the distance l when the spectroscopic crystal 4 is driven by n pulses is as follows: Δl = (n/ p) (L 2 − L 1 ) ...(7). Here, the characteristic X
The pulse height value of the line is Ho, and the window width with this pulse height Ho as the center level is Wo (the base level is the lower limit level of the window width, so the base level at this time is equal to the pulse height Ho). ), by setting the aforementioned proportionality coefficients k and h, l 0 to Δl
The pulse height value H of characteristic X-rays spectrally separated at l positions is given by H=H 0 +ΔH=const・1/(l 0 +Δl)...(8) Similarly, the window width W is given by W= W 0 +ΔW=const・1/(√ 0 +) ...(9) It is given by.
従つて、第1図に示すように、分光結晶4の駆
動に同期したパルスをパルスモータ11、ギヤ1
2を介してポテンシヨメータ13に伝えることに
よりlの値に応じて抵抗値を変えることができ、
該抵抗値を抵抗電圧変換器14で電圧に変換する
ことによりlの値に比例した電圧を得ることがで
きる。従つて、パルスモータ11、ギヤ12、ポ
テンシヨメータ13及び抵抗電圧変換器14は、
分光結晶4とX線発生点との距離を表わす信号を
発生するための信号発生回路を構成していること
になる。そして、この信号発生回路の出力信号、
即ち、抵抗電圧変換器14の出力電圧を演算器1
5に加えることにより(5)式を満足するようなパル
スの波高値Hに比例した電圧が得られ、演算器1
6に加えることにより(6)式を満足するようなウイ
ンドウ幅Wに関連した電圧が得られる。尚、較正
器17,18により、l0に対する適当なパルス波
高値H0及びウインドウ幅W0を決めるために比例
係数k、hを変えるようにする。 Therefore, as shown in FIG.
2 to the potentiometer 13, the resistance value can be changed according to the value of l,
By converting the resistance value into a voltage using the resistance voltage converter 14, a voltage proportional to the value of l can be obtained. Therefore, the pulse motor 11, gear 12, potentiometer 13 and resistance voltage converter 14 are as follows:
This constitutes a signal generation circuit for generating a signal representing the distance between the spectroscopic crystal 4 and the X-ray generation point. Then, the output signal of this signal generation circuit,
That is, the output voltage of the resistance voltage converter 14 is
5, a voltage proportional to the peak value H of the pulse that satisfies equation (5) can be obtained, and the calculation unit 1
6, a voltage related to the window width W that satisfies equation (6) can be obtained. Note that the proportionality coefficients k and h are changed by the calibrators 17 and 18 in order to determine an appropriate pulse height value H 0 and window width W 0 for l 0 .
自動手動切換器19には上記演算器15,16
の出力信号が較正器17,18を介して与えら
れ、自動手動切換器19の切換状態が自動の場合
に、これら信号は波高分析器22のウインドウ幅
設定器24及びベースレベル設定器23に出力さ
れる。これにより、ベースレベル設定器23、ウ
インドウ幅設定器24から、それぞれ、lに対応
したウインドウ幅W、ベースレベル(ベースレベ
ルはウインドウ幅Wの下限レベルであるから、パ
ルス波高値HよりもW/2だけ低い値であり、演
算器15,16の双方の出力信号を受けるベース
レベル設定器23によつて算出される)の各設定
値が波高分析器22に与えられ、増幅器25を介
して加えられるX線検出器XDの検出信号は、所
定のベースレベル及びウインドウ幅以内のものの
み波高分析器22で選択される。これらから明ら
かなように、任意のl値に対応する波高分析器2
2のベースレベル設定値とウインドウ幅設定値が
分光結晶4の移動に連動して自動的に設定され
る。 The automatic manual switch 19 has the above-mentioned computing units 15 and 16.
output signals are given via the calibrators 17 and 18, and when the switching state of the automatic/manual switch 19 is automatic, these signals are output to the window width setter 24 and base level setter 23 of the pulse height analyzer 22. be done. As a result, the base level setter 23 and the window width setter 24 respectively output the window width W corresponding to l and the base level (since the base level is the lower limit level of the window width W, W/ 2 (calculated by the base level setter 23 which receives the output signals of both the arithmetic units 15 and 16) are given to the pulse height analyzer 22, and added via the amplifier 25. The pulse height analyzer 22 selects only those detection signals of the X-ray detector XD that are within a predetermined base level and window width. As is clear from these, the wave height analyzer 2 corresponding to any l value
The base level setting value and window width setting value of No. 2 are automatically set in conjunction with the movement of the spectroscopic crystal 4.
このように構成することにより、各特性X線毎
に標準試料を用いてベースレベル及びウインドウ
幅を求めるといつた多大な作業工数を要する作業
は不要になり、又、ベースレベル及びウインドウ
幅を設定するための命令をメモリに格納する必要
がなくなり、分析プログラムの容量を減らすこと
ができ、プログラム作成の工数も大幅に削減でき
る。 This configuration eliminates the need for a large number of man-hours, such as determining the base level and window width using a standard sample for each characteristic X-ray, and also makes it possible to set the base level and window width. It is no longer necessary to store instructions for the analysis in memory, reducing the capacity of the analysis program and greatly reducing the number of steps required to create the program.
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、任意の
分光位置における波高分析器のベースレベル及び
ウインドウ幅がプログラムの計算結果によること
なく自動的に設定でき、ベースレベル及びウイン
ドウ幅を求めるために多大な作業工数を要した
り、プログラム容量が増大したりすることのない
X線マイクロアナライザが実現できる。(Effects of the Invention) As explained above, according to the present invention, the base level and window width of the pulse height analyzer at any spectral position can be automatically set without depending on the calculation results of the program, and the base level and window width can be set automatically. It is possible to realize an X-ray microanalyzer that does not require a large number of man-hours or increase the program capacity in order to obtain the .
第1図は本発明の一実施例を示す構成ブロツク
図、第2図はパルス波高値Hと距離lとの対応関
係を示す説明図である。
1……X線源(試料)、4……分光結晶、5…
…スリツト、9……パルス源、11……パルスモ
ータ、12……ギヤ、13……ポテンシヨメー
タ、14……抵抗電圧変換器、15,16……演
算器、17,18……較正器、19……自動手動
回路、20,21……手動設定器、22……波高
分析器、23……ベースレベル設定器、24……
ウインドウ幅設定器、25……増幅器、XD……
X線検出器。
FIG. 1 is a configuration block diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram showing the correspondence between pulse peak value H and distance l. 1... X-ray source (sample), 4... Spectroscopic crystal, 5...
...slit, 9...pulse source, 11...pulse motor, 12...gear, 13...potentiometer, 14...resistance voltage converter, 15, 16...computer, 17, 18...calibrator , 19... Automatic manual circuit, 20, 21... Manual setting device, 22... Wave height analyzer, 23... Base level setting device, 24...
Window width setter, 25...Amplifier, XD...
X-ray detector.
Claims (1)
発生点を通る直線上を移動するように構成された
結晶直進型X線分光器と、該分光器の検出信号の
波高値を分析する波高分析器とを具備したX線マ
イクロアナライザにおいて、 前記分光結晶とX線発生点との距離を表わす信
号を発生するための信号発生回路と、 該信号発生回路の出力信号をその信号値の逆数
に対応した信号に変換するための第1の演算器
と、 前記信号発生回路の出力信号をその信号値の平
方根の逆数に対応した信号に変換するための第2
の演算器と、 前記第1及び第2の演算器の出力信号に基づい
て前記波高分析器のベースレベルを設定するため
のベースレベル設定器と、 前記第2の演算器の出力信号に基づいて前記波
高分析器のウインドウ幅を設定するためのウイン
ドウ幅設定器と、 を設けたことを特徴とするX線マイクロアナライ
ザ。[Claims] 1. A linear crystal X-ray spectrometer configured such that a spectroscopic crystal moves on a straight line passing through an X-ray generation point on a sample in response to a driving pulse, and a detection signal of the spectrometer. An X-ray microanalyzer equipped with a pulse height analyzer for analyzing wave height values, comprising: a signal generation circuit for generating a signal representing the distance between the spectroscopic crystal and the X-ray generation point; and an output signal of the signal generation circuit. a first arithmetic unit for converting the output signal of the signal generation circuit into a signal corresponding to the reciprocal of the signal value; and a second arithmetic unit for converting the output signal of the signal generation circuit into a signal corresponding to the reciprocal of the square root of the signal value.
a base level setter for setting the base level of the pulse height analyzer based on the output signals of the first and second calculators; and a base level setting device for setting the base level of the pulse height analyzer based on the output signals of the second calculator. An X-ray microanalyzer comprising: a window width setting device for setting a window width of the wave height analyzer;
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60189128A JPS6249247A (en) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | X-ray microanalyzer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60189128A JPS6249247A (en) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | X-ray microanalyzer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6249247A JPS6249247A (en) | 1987-03-03 |
JPH0475458B2 true JPH0475458B2 (en) | 1992-11-30 |
Family
ID=16235863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60189128A Granted JPS6249247A (en) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | X-ray microanalyzer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6249247A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07229859A (en) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Aloka Co Ltd | Device for measuring extended x-ray absorption fine structure |
Families Citing this family (6)
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JPH06102609B2 (en) * | 1990-04-24 | 1994-12-14 | 花王株式会社 | Cosmetics |
US5766577A (en) * | 1992-09-10 | 1998-06-16 | Elizabeth Arden Co., Division Of Conopco, Inc. | Color cosmetic composition |
US5283062A (en) * | 1992-09-10 | 1994-02-01 | Elizabeth Arden Company, Division Of Conopco, Inc. | Color cosmetic composition |
US5340569A (en) * | 1992-09-10 | 1994-08-23 | Elizabeth Arden Co., Division Of Conopco, Inc. | Color cosmetic composition |
US9040094B2 (en) | 2007-02-13 | 2015-05-26 | Sakai Chemical Industry Co., Ltd. | Flaky particle and cosmetic |
FR2986166B1 (en) | 2012-01-31 | 2014-03-14 | Univ Claude Bernard Lyon | PROCESS FOR THE PREPARATION OF HEXAGONIC BORON NITRIDE PARTICLES HAVING STABLE NANOPARTICLES FIXED ACCORDING TO STABLE BONDS |
-
1985
- 1985-08-28 JP JP60189128A patent/JPS6249247A/en active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07229859A (en) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Aloka Co Ltd | Device for measuring extended x-ray absorption fine structure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6249247A (en) | 1987-03-03 |
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