JPH0475393A - レーザー装置 - Google Patents
レーザー装置Info
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- JPH0475393A JPH0475393A JP18968590A JP18968590A JPH0475393A JP H0475393 A JPH0475393 A JP H0475393A JP 18968590 A JP18968590 A JP 18968590A JP 18968590 A JP18968590 A JP 18968590A JP H0475393 A JPH0475393 A JP H0475393A
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Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野ゴ
本発明は、エネルギー効率の高いレーザー装置に関する
。
。
［従来の技術］
Ｎｄ： ＹＡＧレーザーの場合、キセノンフラッシュラ
ンプを励起光源とし、集光反射鏡でレーザー媒質である
ＹＡＧロッドに光を照射し、ミラー系からなる共振器で
レーザー発振をさせている。
ンプを励起光源とし、集光反射鏡でレーザー媒質である
ＹＡＧロッドに光を照射し、ミラー系からなる共振器で
レーザー発振をさせている。
キセノンランプが高熱を発するため、ランプとＹＡＧロ
ッドを石英管で囲み、冷却水を循環させている。
ッドを石英管で囲み、冷却水を循環させている。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、Ｎｄ： ＹＡＧは７２０〜８３０ｎｍの励起光
に対してのみレーザー遷移を行うが、キセノンランプの
発光スペクトルは、全波長域でほぼフラットである。７
２０ｎｍより短波長の光はロッドの劣化原因に、８３０
ｎｍより長波長の光は発熱源となり、エネルギーの大き
な損失となっている。
に対してのみレーザー遷移を行うが、キセノンランプの
発光スペクトルは、全波長域でほぼフラットである。７
２０ｎｍより短波長の光はロッドの劣化原因に、８３０
ｎｍより長波長の光は発熱源となり、エネルギーの大き
な損失となっている。
励起光源とレーザー媒質の少なくとも一方を、ドープト
石英ガラス管で囲むと励起光源の発光スペクトルを変化
させることができ、エネルギー効率を上げ、レーザー媒
質の劣化を防ぐことができる。しかし、ドープト石英ガ
ラス管を用いると反射による損失が大きく、ドープト石
英ガラス管自体の蛍光も拡散してしまい、レーザー媒質
に有効に照射されないというｎ題があった。
石英ガラス管で囲むと励起光源の発光スペクトルを変化
させることができ、エネルギー効率を上げ、レーザー媒
質の劣化を防ぐことができる。しかし、ドープト石英ガ
ラス管を用いると反射による損失が大きく、ドープト石
英ガラス管自体の蛍光も拡散してしまい、レーザー媒質
に有効に照射されないというｎ題があった。
本発明は、励起光源及びドープト石英ガラス管の蛍光が
レーザー媒質に有効に照射され、高いエネルギー効率で
レーザー光を出射するレーザー装置の提供を目的として
いる。
レーザー媒質に有効に照射され、高いエネルギー効率で
レーザー光を出射するレーザー装置の提供を目的として
いる。
［課題を解決するための手段］
本発明は、励起光源、レーザー媒質、共振器から構成さ
れ、励起光源とレーザー１３Ｍの少なくとも一方を、ド
ープト石英ガラス管で囲んだレーザー装置において、ド
ープト石英ガラス管の表面に反射防止コーティングまた
は、反射防止加工を施すことを特徴とする。
れ、励起光源とレーザー１３Ｍの少なくとも一方を、ド
ープト石英ガラス管で囲んだレーザー装置において、ド
ープト石英ガラス管の表面に反射防止コーティングまた
は、反射防止加工を施すことを特徴とする。
以下、実施例により本発明の詳細を示す。
［実施例］
実施例Ｉ
Ｎｄ： ＹＡＧレーザー装置の断面構造の概念を表す
図を、第１図に示す。ＹＡＧロッド１を石英ガラス管４
で囲み、冷却水６を流した。一方キセノンフラッシュラ
ンプ２を表面を反射防止コーティングしたクロムドープ
ト石英ガラス管５（例えば特開昭６Ｏ−７６９３３）で
囲み冷却水６を流した。
図を、第１図に示す。ＹＡＧロッド１を石英ガラス管４
で囲み、冷却水６を流した。一方キセノンフラッシュラ
ンプ２を表面を反射防止コーティングしたクロムドープ
ト石英ガラス管５（例えば特開昭６Ｏ−７６９３３）で
囲み冷却水６を流した。
クロムをドープした石英ガラスは４００〜６００ｎｍの
波長の光を吸収し、６００〜８５０ｎｍの波長域で発光
する。また、蒸着により３層からなる反射防止コーティ
ングを施すと、広い波長域にわたって反射率は０． ５
％以下におさえられる。
波長の光を吸収し、６００〜８５０ｎｍの波長域で発光
する。また、蒸着により３層からなる反射防止コーティ
ングを施すと、広い波長域にわたって反射率は０． ５
％以下におさえられる。
キセノンフラッシュランプから出射した光は、表面を反
射防止コーティングしたクロムドープト石英ガラス管を
通過する際、６００ｎｍより長波長の光は減衰せず、６
００ｎｍより短波長の光がガラス管の蛍光に有効に変換
され、６００〜８５０ｎｍの波長域の輝度が倍増した。
射防止コーティングしたクロムドープト石英ガラス管を
通過する際、６００ｎｍより長波長の光は減衰せず、６
００ｎｍより短波長の光がガラス管の蛍光に有効に変換
され、６００〜８５０ｎｍの波長域の輝度が倍増した。
このように波長変換した光を、集光反射鏡３でＮｄ：
ＹＡＧロッドに照射し、共振器でレーザー光を取り出
したところ、レーザーの出射強度は従来のほぼ２倍とな
った。また長時間使用しても、ＹＡＧロッドおよびクロ
ムドープト石英ガラス管には、ソーラリゼーションによ
る劣化が発生せず、レーザー特性に変化は認められなか
った。
ＹＡＧロッドに照射し、共振器でレーザー光を取り出
したところ、レーザーの出射強度は従来のほぼ２倍とな
った。また長時間使用しても、ＹＡＧロッドおよびクロ
ムドープト石英ガラス管には、ソーラリゼーションによ
る劣化が発生せず、レーザー特性に変化は認められなか
った。
実施例２
アレキサンドライト（Ｃｒ： ＢｅＡ１２０４）０ツ
ドを、表面を反射防止加工したセリウムドープト石英ガ
ラス管で囲み、冷却水を流した。一方キセノンフラッシ
ュラングを石英管で囲み、冷却水を流した。アレキサン
ドライトレーザーは、４００〜６５０ｎｍの励起光を吸
収し、７００〜８１８ｎｍの波長可変レーザー発振を起
こす。
ドを、表面を反射防止加工したセリウムドープト石英ガ
ラス管で囲み、冷却水を流した。一方キセノンフラッシ
ュラングを石英管で囲み、冷却水を流した。アレキサン
ドライトレーザーは、４００〜６５０ｎｍの励起光を吸
収し、７００〜８１８ｎｍの波長可変レーザー発振を起
こす。
セリウムをドープした石英ガラスは、２００〜３００ｎ
ｍの紫外線を吸収し、３５０〜５５０ｎｍの波長域で発
光する。また、ガラス管の表面を適度な粗さに機械加工
すると、広い波長域にわたって反射率は１％以下におさ
えられる。
ｍの紫外線を吸収し、３５０〜５５０ｎｍの波長域で発
光する。また、ガラス管の表面を適度な粗さに機械加工
すると、広い波長域にわたって反射率は１％以下におさ
えられる。
クリプトンフラッシュランプの出射光が集光反射鏡で反
射され、セリウムドープト石英ガラス管を通過する際、
３００ｎｍより長波長の光は減衰せず、３００ｎｍより
短波長の光がガラス管の蛍光に有効に変換され、３５０
〜５５０ｎｍの波長域の輝度が倍増した。このように波
長変換した光をアレキサンドライトロッドに照射し、共
振器でレーザーを取り出したところ、レーザーの出射強
度は従来のほぼ２倍となった。
射され、セリウムドープト石英ガラス管を通過する際、
３００ｎｍより長波長の光は減衰せず、３００ｎｍより
短波長の光がガラス管の蛍光に有効に変換され、３５０
〜５５０ｎｍの波長域の輝度が倍増した。このように波
長変換した光をアレキサンドライトロッドに照射し、共
振器でレーザーを取り出したところ、レーザーの出射強
度は従来のほぼ２倍となった。
実施例３
Ｎｄ： ＹＡＧロッドを、表面をＭ ｇ Ｆ ２コー
テイングしたクロムドープト石英ガラス管で囲み、冷却
水を流した。一方キセノンフラッシュランプを、同様な
反射防止コーティングしたセリウムドープト石英ガラス
管で囲み、冷却水を流した。
テイングしたクロムドープト石英ガラス管で囲み、冷却
水を流した。一方キセノンフラッシュランプを、同様な
反射防止コーティングしたセリウムドープト石英ガラス
管で囲み、冷却水を流した。
キセノンフラッシュランプの出射光が、表面を反射防止
コーティングしたセリウムドープト石英ガラス管、続い
て表面を反射防止コーティングしたクロムドープト石英
ガラス管を通過すると、６００ｎｍより長波長の光は減
衰せず、６００ｎｍより短波長の光がガラス管の蛍光に
有効に変換され、６００〜８５０ｎｍの波長域の輝度が
約３倍になった。このように波長変換した光をＮｄ：
ＹＡＧロッドに照射し、共振器でレーザーを取り出し
たところ、レーザーの出射強度は従来の３倍近くに増加
した。
コーティングしたセリウムドープト石英ガラス管、続い
て表面を反射防止コーティングしたクロムドープト石英
ガラス管を通過すると、６００ｎｍより長波長の光は減
衰せず、６００ｎｍより短波長の光がガラス管の蛍光に
有効に変換され、６００〜８５０ｎｍの波長域の輝度が
約３倍になった。このように波長変換した光をＮｄ：
ＹＡＧロッドに照射し、共振器でレーザーを取り出し
たところ、レーザーの出射強度は従来の３倍近くに増加
した。
実施例４
Ｎｄ： ＹＡＧロッドを、表面を反射防止加工したセ
リウムとクロムを共ドープした石英ガラス管で囲み、冷
却水を流した。反射防止加工は、酸によるエツチングで
おこなった。一方キセノンフラッシュランプを、石英ガ
ラス管で囲み、冷却水を流した。
リウムとクロムを共ドープした石英ガラス管で囲み、冷
却水を流した。反射防止加工は、酸によるエツチングで
おこなった。一方キセノンフラッシュランプを、石英ガ
ラス管で囲み、冷却水を流した。
キセノンフラッシュランプの出射光が集光され、表面を
反射防止加工しセリウムとクロムを共ドープした石英管
を通過すると、６００ｎｍより短波長の光がカットされ
、６００〜８５０ｎｍの波長の光が約３倍の強度になっ
た。このように波長変換した光をＮｄ： ＹＡＧロッ
ドに照射し、共振器でレーザーを取り出したところ、レ
ーザーの出射強度は従来の３倍近くに増加した。
反射防止加工しセリウムとクロムを共ドープした石英管
を通過すると、６００ｎｍより短波長の光がカットされ
、６００〜８５０ｎｍの波長の光が約３倍の強度になっ
た。このように波長変換した光をＮｄ： ＹＡＧロッ
ドに照射し、共振器でレーザーを取り出したところ、レ
ーザーの出射強度は従来の３倍近くに増加した。
実施例５
アレキサンドライトレーザー装置の断面構造の概念を表
す図を、第２図に示す。アレキサンドライトロッド１１
及びキセノンフラッシュランプ１２を、表面を適度な粗
さに反射防止加工したセリウムドープト石英ガラス管１
４で囲み、冷却水１５を流した。
す図を、第２図に示す。アレキサンドライトロッド１１
及びキセノンフラッシュランプ１２を、表面を適度な粗
さに反射防止加工したセリウムドープト石英ガラス管１
４で囲み、冷却水１５を流した。
キセノンランプを出射した光は、表面を反射防止加工し
たセリウムドープト石英ガラス管で、減衰することなく
有効に波長変換され、集光反射鏡１３でアレキサンドラ
イトロッドに集光される。
たセリウムドープト石英ガラス管で、減衰することなく
有効に波長変換され、集光反射鏡１３でアレキサンドラ
イトロッドに集光される。
共振器でレーザー光を取り出したところ、レーザーの出
射強度は従来のほぼ２倍となった。
射強度は従来のほぼ２倍となった。
また、レーザーの出射強度が従来並みになるよう、キセ
ノンランプの動作エネルギーを約半分にしたところ、ラ
ンプ寿命を１０倍近く延ばすことができた。
ノンランプの動作エネルギーを約半分にしたところ、ラ
ンプ寿命を１０倍近く延ばすことができた。
以上数種類のレーザー装置について実施例を述べてきた
が、励起光源やレーザー媒質の種類に何ら限定されるこ
とはない。また、反射防止の方法や石英ガラスへのドー
ピング物質も種々考えられる。
が、励起光源やレーザー媒質の種類に何ら限定されるこ
とはない。また、反射防止の方法や石英ガラスへのドー
ピング物質も種々考えられる。
［発明の効果］
以上述べたように本発明によれば、励起光源、レーザー
媒質、共振器から構成され、励起光源とレーザー媒質の
少なくとも一方を、ドープト石英ガラス管で囲んだレー
ザー装置において、ドープト石英ガラス管の表面に反射
防止コーティングまたは、反射防止加工を施すことによ
り、励起光源及びドープト石英ガラス管の蛍光がレーザ
ー媒質に有効に照射され、高いエネルギー効率でレーザ
ー光を出射するレーザー装置を提供することができた。
媒質、共振器から構成され、励起光源とレーザー媒質の
少なくとも一方を、ドープト石英ガラス管で囲んだレー
ザー装置において、ドープト石英ガラス管の表面に反射
防止コーティングまたは、反射防止加工を施すことによ
り、励起光源及びドープト石英ガラス管の蛍光がレーザ
ー媒質に有効に照射され、高いエネルギー効率でレーザ
ー光を出射するレーザー装置を提供することができた。
第１図は本発明の実施例１における、Ｎｄ：ＹＡＧレー
ザー装置の断面構造の概念を表す図である。第２図は本
発明の実施例５における、アレキサンドライトレーザー
装置の断面構造の概念を表す図である。 ５ ・・・ １５ ・・・ 表面を反射防止コーティングしたクロムドープト石英ガ
ラス管 冷却水 アレキサンドライトロッド キセノンフラッシュランプ 集光反射鏡 表面を反射防止加工したセリウムドープト石英ガラス管 冷却水 以 上
ザー装置の断面構造の概念を表す図である。第２図は本
発明の実施例５における、アレキサンドライトレーザー
装置の断面構造の概念を表す図である。 ５ ・・・ １５ ・・・ 表面を反射防止コーティングしたクロムドープト石英ガ
ラス管 冷却水 アレキサンドライトロッド キセノンフラッシュランプ 集光反射鏡 表面を反射防止加工したセリウムドープト石英ガラス管 冷却水 以 上
Claims (1)
- 励起光源、レーザー媒質、共振器から構成され、励起光
源とレーザー媒質の少なくとも一方を、ドープト石英ガ
ラス管で囲んだレーザー装置において、ドープト石英ガ
ラス管の表面に反射防止コーティングまたは、反射防止
加工を施すことを特徴とするレーザー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18968590A JPH0475393A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | レーザー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18968590A JPH0475393A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | レーザー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0475393A true JPH0475393A (ja) | 1992-03-10 |
Family
ID=16245468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18968590A Pending JPH0475393A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | レーザー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0475393A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008210999A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Okamoto Kogaku Kakosho:Kk | 白色光励起レーザー装置 |
| US20120057841A1 (en) * | 2010-09-01 | 2012-03-08 | Luna Innovation Incorporated | Registration of an extended reference for parameter measurement in an optical sensing system |
| WO2013129108A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | レーザ光源ユニット、その制御方法および光音響画像生成装置 |
| WO2013129106A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | レーザ光源ユニット、その制御方法および光音響画像生成装置 |
| WO2013129105A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | レーザ光源ユニット、その制御方法および光音響画像生成装置 |
| JP2017168662A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | トヨタ自動車株式会社 | 太陽光励起レーザー装置 |
| JP2018107158A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | トヨタ自動車株式会社 | 太陽光励起ファイバーレーザー装置 |
-
1990
- 1990-07-18 JP JP18968590A patent/JPH0475393A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008210999A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Okamoto Kogaku Kakosho:Kk | 白色光励起レーザー装置 |
| US20120057841A1 (en) * | 2010-09-01 | 2012-03-08 | Luna Innovation Incorporated | Registration of an extended reference for parameter measurement in an optical sensing system |
| US8842963B2 (en) * | 2010-09-01 | 2014-09-23 | Intuitive Surgical Operations, Inc. | Reducing reflection at termination of optical fiber in a small volume |
| WO2013129108A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | レーザ光源ユニット、その制御方法および光音響画像生成装置 |
| WO2013129106A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | レーザ光源ユニット、その制御方法および光音響画像生成装置 |
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| JP2014160692A (ja) * | 2012-02-29 | 2014-09-04 | Fujifilm Corp | レーザ光源ユニット、その制御方法および光音響画像生成装置 |
| JP2017168662A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | トヨタ自動車株式会社 | 太陽光励起レーザー装置 |
| JP2018107158A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | トヨタ自動車株式会社 | 太陽光励起ファイバーレーザー装置 |
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