JPH04741A - Semiconductor integrated circuit device and layout system thereof - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device and layout system thereof

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Publication number
JPH04741A
JPH04741A JP10030390A JP10030390A JPH04741A JP H04741 A JPH04741 A JP H04741A JP 10030390 A JP10030390 A JP 10030390A JP 10030390 A JP10030390 A JP 10030390A JP H04741 A JPH04741 A JP H04741A
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JP
Japan
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blocks
block
wiring
integrated circuit
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP10030390A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuro Hino
日野 哲朗
Asao Nishikata
西方 朝雄
Shizuo Kondo
近藤 静雄
▲はい▼島 幹雄
Mikio Haijima
Yoichi Shiraishi
洋一 白石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH04741A publication Critical patent/JPH04741A/en
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To increase element density by connecting a wiring for connecting blocks arranged in hierarchy on a side of a block as directly as possible. CONSTITUTION:A block is arranged without providing a wiring region among blocks. Wiring among blocks is connected on a side of adjacent blocks which are in contact with each other. When blocks are apart, they are connected by a wiring of a minimum distance to cross with a longitudinal direction of a channel among blocks. When another block exists between blocks to be connected, a passing wiring is formed in the block between blocks and a plurality of dummy terminals connected thereto are provided. A terminal of each block is connected to each dummy terminal on a side. As for layout of an interior of a block, an element is arranged to shorten a distance to an external terminal of a block.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体集積回路装置とそのレイアウト方式
に関し、特にビルディング・ブロック方式により構成さ
れる半導体集積回路装置とそのレイアウト設計方式に利
用して有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and its layout method, and particularly to a semiconductor integrated circuit device constructed using a building block method and its layout design method. It is about effective techniques.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の自動レイアウト設計によるレイアウトモデルを第
7図に示す。この方式は、ビルディング・ブロック方式
と呼ばれ、階層的にチップを構成するもので、機能単位
毎にブロックを構成し、このブロックを並べてブロック
間を接続する。このレイアウト方式では、ブロックの内
部のレイアウトではブロック相互の配置に関係無く、ブ
ロック内部から外に出る信号の接続点(外部端子と称す
る)が決められる。このため、ブロック間を接続する配
線はブロック間に隙間(チャンネル)を設けて配線する
FIG. 7 shows a layout model based on conventional automatic layout design. This method is called a building block method, in which the chip is configured in a hierarchical manner, in which blocks are configured for each functional unit, and the blocks are arranged and connected. In this layout method, connection points (referred to as external terminals) for signals going out from inside the block are determined in the internal layout of the block, regardless of the mutual arrangement of the blocks. For this reason, the wiring that connects the blocks is provided with gaps (channels) between the blocks.

このようなビルディング・ブロック方式に関しては、例
えば儒学技報、Vol、86、N1328 pp59〜
66、rアナログカスタムLSI レイアウトCAD 
Jがある。
Regarding such a building block method, for example, Confucian Technical Report, Vol. 86, N1328 pp59~
66, r analog custom LSI layout CAD
There is a J.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

従来のビルディング・ブロック方式のレイアウトにおい
ては、ブロック間を接続する配線がブロック間に設けら
れた配線領域に形成される。第8図には、半導体集積回
路装置の素子密度と素子数との関係が示されている。第
8図においては、プロセスの微細化に伴う素子サイズと
配線幅の縮小を規格化して同じ尺度で表している。通常
、素子数が多くなるに従い、ブロック数及び配線数が多
くなり、配線領域の比率が高くなる。このため、同図に
示すように、素子数の増大に従い素子密度が低下してし
まうという問題がある。このことは自動レイアウトだけ
ではなく、人手によるレイアウトにおいても同様である
In the conventional building block layout, wiring connecting blocks is formed in wiring areas provided between blocks. FIG. 8 shows the relationship between the element density and the number of elements of a semiconductor integrated circuit device. In FIG. 8, reductions in element size and wiring width due to process miniaturization are normalized and expressed on the same scale. Generally, as the number of elements increases, the number of blocks and the number of wires increase, and the ratio of the wiring area increases. Therefore, as shown in the figure, there is a problem in that the element density decreases as the number of elements increases. This applies not only to automatic layout but also to manual layout.

この発明の目的は、素子密度を高くできる半導体集積回
路装置とそのアイレウト方式を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device that can increase element density and an eye-out method thereof.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、階層的に並べられたブロック間を接続する配
線をブロックの辺上で可能な限り直接接続する構成及び
方式とする。
That is, the configuration and method are such that the wiring connecting blocks arranged hierarchically is connected as directly as possible on the sides of the blocks.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、ブロック間を接続す、配線領域
を必要最小に構成できるから、その分素子密度を高くす
ることができる。
According to the above-mentioned means, since the wiring area for connecting blocks can be configured to the minimum necessary size, the element density can be increased accordingly.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明に係る自動レイアウト方式により
形成される半導体集積回路装置の一実施例のレイアウト
図が示されている。
FIG. 1 shows a layout diagram of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device formed by the automatic layout method according to the present invention.

同図(a)には、チップ全体のレイアウト図が示され、
同図(b)には1つのブロックのレイアウト図が示され
、同図(c)には上記ブロックを構成する回路素子の代
表例としてのトランジスタと抵抗のパターン図が示され
ている。
Figure (a) shows a layout diagram of the entire chip,
FIG. 1B shows a layout diagram of one block, and FIG. 1C shows a pattern diagram of transistors and resistors as representative examples of circuit elements constituting the block.

この実施例における自動レイアウト方式は、以下の基本
的な考え方に従って行われる。
The automatic layout method in this embodiment is performed according to the following basic idea.

■プロ、り間の配線領域は原則として設けないでブロッ
クを配置する。
■As a general rule, place blocks without providing any wiring areas between the blocks.

■ブロン2間配線は隣合って接するブロックの辺の上で
接続する。また、ブロック間が離れているときにはブロ
ック間におけるチャンネルの長手方向と交差するよう最
短距離の配線で接続する。
■Connect the wiring between two blocks on the sides of adjacent blocks. Furthermore, when the blocks are far apart, the blocks are connected by wiring of the shortest distance so as to intersect the longitudinal direction of the channel between the blocks.

■接続するブロック間に別のブロックが存在するときに
は、その間に挟まれたブロックに通過配線を形成してそ
れに接続される複数のダミ一端子を設け、それぞれのダ
ミ一端子に上記それぞれのブロックの端子を辺の上で接
続する。
■When there is another block between the blocks to be connected, form a passing wiring between the blocks sandwiched between them and provide multiple dummy-terminals connected to it, and connect each dummy-terminal to each of the above blocks. Connect the terminals on the sides.

■ブロック内部のレイアウトに当たっては、ブロックの
外部端子までの距離が短くなるように素子の配置を行う
■When designing the layout inside the block, arrange the elements so that the distance to the external terminals of the block is shortened.

このことを、第2図ないし第8図を用いて具体的に説明
する。
This will be specifically explained using FIGS. 2 to 8.

第2図には、ブロック内部の一実施例のレイアウト図が
示され、第3図には、上記のようなブロックを2つ並べ
て配置した場合の一実施例のレイアウト図が示されてい
る。
FIG. 2 shows a layout diagram of an embodiment inside a block, and FIG. 3 shows a layout diagram of an embodiment in which two blocks as described above are arranged side by side.

第3図において、隣接する2つのブロック間を接続する
配線は、従来のような配線チャンネルを設けることなく
、直接2つのブロックの対応する辺がはり重なり合うよ
うにレイアウトし、その重なり合う辺の上の小さな黒丸
で示したように接続する。すなわち、隣接ブロックへ接
続するネットはブロック辺上の小さい黒丸で示した外部
端子まで配線を引き出す。隣接するブロック内の上記ネ
ットに接続する配線も外部端子の位置に合わせて配線を
引き出す。そして、隣接するブロックの辺を重合わせる
ことにより、同一ネットの配線は自動的に接続される。
In Figure 3, the wiring connecting two adjacent blocks is laid out so that the corresponding sides of the two blocks overlap directly, without providing a wiring channel as in the conventional case, and the wiring above the overlapping sides is Connect as shown by the small black circle. That is, a net connected to an adjacent block is wired to an external terminal indicated by a small black circle on the side of the block. The wiring connected to the above net in the adjacent block is also drawn out in accordance with the position of the external terminal. Then, by overlapping the sides of adjacent blocks, wires of the same net are automatically connected.

このことは、上記のと■の原則に従った列である。This is a sequence that follows the principles of and ■ above.

第4図には、離れたブロック間を接続する場合の一実施
例のレイアラNEIが示されている。
FIG. 4 shows a layerer NEI as an embodiment for connecting distant blocks.

この実施例のように2つのブロック間に別のブロックが
存在するときには、2つのブロックに間に挟まれたブロ
ックに通過配線を設ける。このため、このブロックには
、内部を通過する配線に接続される一対からなるダミー
の外部端子が設けられる。このため、このように2つの
ブロックに挟まれたブロックには通過配線として内部の
回路素子には接続されない、配線のみのデータが作成さ
れる。そして、このダミーの外部端子を用い、上記のよ
うに直接2つのブロックの対応する辺がはり重なり合う
ようにレイアウトし、その重なり合う辺の上の小さな黒
丸で示したように接続する。
When another block exists between two blocks as in this embodiment, a passing wiring is provided in the block sandwiched between the two blocks. For this reason, this block is provided with a pair of dummy external terminals connected to wiring passing through the block. Therefore, in a block sandwiched between two blocks in this way, data of only wiring, which is not connected to internal circuit elements, is created as a passing wiring. Then, using this dummy external terminal, the two blocks are laid out so that their corresponding sides directly overlap as described above, and the connections are made as shown by the small black circles above the overlapping sides.

このような構成ないしレイアウト方式を採ることにより
、2つのブロック間に別の回路ブロックが存在しても接
続することができる。上記ブロック内の通過配線は、特
に制限されないが、同図に示すように格別な配線領域を
設けるのではなく、素子形成領域の上を適当に通過する
よう形成される。
By adopting such a configuration or layout method, it is possible to connect two blocks even if another circuit block exists between them. The passing wiring within the block is not particularly limited, but is formed so as to appropriately pass over the element formation area, rather than providing a special wiring area as shown in the figure.

これにより、通過する内部配線のためにブロック自体の
大きさが大きくされることが防止できる。
This prevents the block itself from increasing in size due to the internal wiring passing through it.

このことは、上記■の原則に利用した例である。This is an example of applying the principle of ① above.

なお、2つのブロックに挟まれたブロックが2つ以上あ
る場合には、それぞれに通過配線とダミーの外部端子が
設けられる。このため、隣接するダミーの外部端子を同
士がそのブロックの辺の上で接続される場合も生じる。
Note that if there are two or more blocks sandwiched between two blocks, a passing wiring and a dummy external terminal are provided for each block. Therefore, adjacent dummy external terminals may be connected to each other on the side of the block.

第5図コこは、ブロック間に隙間がある場合の一実施例
のレイアウト図が示されている。この実施例では、隣接
するブロックが接していないので、ブロック間の配線は
自動的には接続されず、ブロック間の配線により接続す
ることになる。この場合、接続されるべき外部端子がブ
ロック間の隙間を挟んで対向しているためは、隙間(チ
ャンネル)の長平方向とは直交する最短長さの配線によ
り接続する。そして、同図の上側のブロック間配線のよ
うに、両外部端子の位置関係が上下にずれた場合、折れ
曲がりを持つ回線を用いて接続することにより、配線領
域(ブロックの隙間)を特に広げる必要がない。これは
、上記■の原則に従った例である。
FIG. 5 shows a layout diagram of an embodiment in which there is a gap between blocks. In this embodiment, since adjacent blocks are not in contact with each other, the wiring between the blocks is not automatically connected, but is connected by the wiring between the blocks. In this case, since the external terminals to be connected are facing each other across the gap between the blocks, the connection is made by a wiring of the shortest length orthogonal to the longitudinal direction of the gap (channel). If the positional relationship between the two external terminals is shifted vertically, as in the case of the wiring between blocks in the upper part of the figure, it is necessary to particularly widen the wiring area (gap between blocks) by connecting using a line with a bend. There is no. This is an example in accordance with the principle of ① above.

第6図には、上記のような基本4通りの原則に従い、1
つのリニア集積回路を構成した場合の一実施例のレイア
ウト図が示されている。
Figure 6 shows 1.
A layout diagram of an embodiment in which two linear integrated circuits are configured is shown.

同図の全体から理解されるように、ブロック間には原則
としてブロック間を接続するための配線を形成する隙間
(チャンネル)が設けられない。
As can be understood from the whole figure, in principle, no gaps (channels) are provided between the blocks to form wiring for connecting the blocks.

また、上記のような接続されるべき2つのブロックにお
ける外部端子の位置的な上下又は左右のずれにより、ブ
ロック間に隙間を設ける場合でも、上記折れ曲がり回線
を配置するに最低必要な隙間にされるものである。これ
により、従来のようにブロック間に画一的に配線チャン
ネルと称する隙間を設ける場合に比べて、同一素子サイ
ズで同一@能を持つ場合において、半導体集積回路装置
のチップサイズを小さくすることができる。言い換える
ならば、上記のような画一的な配線領域が形成されない
分だけ素子密度を高くすることができる。
Furthermore, even if a gap is provided between the blocks due to vertical or horizontal displacement of the external terminals in the two blocks to be connected as described above, the gap is the minimum required for arranging the bent line. It is something. This makes it possible to reduce the chip size of semiconductor integrated circuit devices when the same element size and functionality are provided, compared to the conventional case where gaps called wiring channels are uniformly provided between blocks. can. In other words, the element density can be increased to the extent that the uniform wiring area as described above is not formed.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 Tl1階層的に並べられて構成されるブロック間の接続
を、可能な限りブロックの辺上で直接接続すること、又
は上記のようなブロックのレイアウト方式を採ることに
より、ブロック間に設けられる配線チャンネルを省略な
いし削減できるがらチップサイズの小型化が可能になる
という効果が得られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. In other words, connections between blocks that are arranged hierarchically are directly connected on the edges of the blocks as much as possible, or by using the block layout method described above. The effect is that the wiring channel can be omitted or reduced and the chip size can be reduced.

(2)接続されるべきブロック間に挟よれたブロックに
おいてブロックを通過する配線を設けるとともにその両
端に一対からなるダミーの外部端子を割り当て、上記そ
れぞれダミーの外部端子に上記接続されるべきブロック
の外部端子が接続されるようにすることにより、ブロッ
クが隣接しないときでも特別な配線領域を設ける必要が
ないからチップサイズの小型化が可能になるという効果
が得られる。
(2) In the block sandwiched between the blocks to be connected, provide wiring passing through the blocks, and assign a pair of dummy external terminals to both ends of the wiring, and connect each dummy external terminal to the wiring of the block to be connected. By connecting the external terminals, there is no need to provide a special wiring area even when the blocks are not adjacent to each other, so it is possible to reduce the chip size.

(3)上記(1)及び(2)により、1つの半導体ウェ
ハから形成される半導体チップの数が多くなるから量産
性の向上が図られるという効果が得られる。
(3) According to (1) and (2) above, the number of semiconductor chips formed from one semiconductor wafer increases, so that the effect of improving mass productivity can be obtained.

以上本発明者によりなされた発明を実施例に基づき具体
的に説明したが、本願発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。例えば、機能的なプロ・
ツクを構成する素子しよ、上記ノようなバイポーラ型ト
ランジスタや抵抗素子の他、MOSFET (絶縁ゲー
ト型電界効果トランジスタ)であってもよい。すな2″
)チ、この発明は、バイポーラ型トランジスタを用いグ
こリニア[Cの他、バイポーラ型トランジスタを用いた
ディジタルICや、M OS型LSIにも同様に通用で
きるものである。あるいは、MOS F ETと)1イ
ボーラ型トランジスタとの組み合わせから構成されても
よい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-mentioned Examples, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, a functional professional
The elements constituting the circuit may be MOSFETs (insulated gate field effect transistors) in addition to bipolar transistors and resistive elements such as those mentioned above. Sand 2″
) H. This invention is applicable not only to linear ICs using bipolar transistors, but also to digital ICs using bipolar transistors and MOS type LSIs. Alternatively, it may be constructed from a combination of a MOS FET and an Ibora type transistor.

この発明は、半導体集積回路装置とそのレイアウト方式
に広く利用できる。
The present invention can be widely used in semiconductor integrated circuit devices and their layout methods.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、階層的に並べられて構成されるブロック間
の接続を、可能な限りブロックの辺上で直接接続するこ
と、又は上記のようなブロックのレイアウト方式を採る
ことにより、ブロック間に設けられる配線チャンネルを
省略ないし削減できるかろチップサイズの小型化が可能
になるつ
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. In other words, connections between blocks that are arranged in a hierarchical manner can be made directly on the edges of the blocks as much as possible, or by using the block layout method described above, wiring between blocks can be reduced. Is it possible to omit or reduce the number of channels?It is possible to reduce the chip size.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明に係る自動レイアウト方式により形
成される半導体集積回路装置の一実施例のレイアウト図
、 第2図は、そのブロック内の一実施例を示すレイアウト
図、 第3図は、隣接ブロック間の接続の一実施例を示すレイ
アウト図、 第4図は、離れたブロック間の接続の一実施例を示すレ
イアウト図、 第5図は、ブロック間に隙間がある場合の接続の一実施
例を示すレイアウト図、 第6図は、この発明が適用された半導体集積回路装置の
一実施例を示す全体のレイアウト図、第7図は、従来の
半導体集積回路装置の一例を示すレイアウト図、 第8図は、半導体集積回路装置の素子密度と素子数を説
明するための相関図である。
FIG. 1 is a layout diagram of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device formed by the automatic layout method according to the present invention, FIG. 2 is a layout diagram showing an embodiment of the block, and FIG. FIG. 4 is a layout diagram showing an example of connection between adjacent blocks. FIG. 4 is a layout diagram showing an example of connection between distant blocks. FIG. 5 is an example of connection when there is a gap between blocks. A layout diagram showing an embodiment; FIG. 6 is an overall layout diagram showing an embodiment of a semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied; FIG. 7 is a layout diagram showing an example of a conventional semiconductor integrated circuit device. , FIG. 8 is a correlation diagram for explaining the element density and the number of elements of a semiconductor integrated circuit device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、階層的にブロックが並べられて構成され、ブロック
間を接続する配線がブロックの辺上で可能な限り直接接
続されてなることを特徴とする半導体集積回路装置。 2、階層的にブロックを並べて1つの半導体集積回路を
構成するとき、ブロック間を接続する配線をブロックの
辺上で可能な限り直結するよう各ブロックのレイアウト
を行うことを特徴とする半導体集積回路装置のレイアウ
ト方式。 3、接続されるべきブロック間に挟まれたブロックにお
いてブロックを通過する配線を設けるとともにその端点
に複数のダミーの外部端子を割り当て、上記それぞれダ
ミーの外部端子に上記接続されるべきブロックの外部端
子が接続されるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1又は第2項記載の半導体集積回路装置とそのレ
イアウト方式。
[Scope of Claims] 1. A semiconductor integrated circuit device characterized in that it is configured by hierarchically arranging blocks, and wiring connecting blocks is connected as directly as possible on the sides of the blocks. 2. A semiconductor integrated circuit characterized in that when one semiconductor integrated circuit is constructed by arranging blocks hierarchically, each block is laid out so that the wiring connecting between the blocks is directly connected as much as possible on the side of the block. Equipment layout method. 3. In a block sandwiched between blocks to be connected, provide a wiring that passes through the blocks, and assign a plurality of dummy external terminals to the end points of the wiring, and connect each dummy external terminal to the external terminal of the block to be connected. 3. A semiconductor integrated circuit device and its layout method according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor integrated circuit device and its layout method are connected.
JP10030390A 1990-04-18 1990-04-18 Semiconductor integrated circuit device and layout system thereof Pending JPH04741A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63249A (en) * 1986-06-17 1988-01-05 佐藤 隆司 Production of meat-containing bread

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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