JPH0465495A - Cleaner of rosin-based solder flux and cleaning of rosin-based solder flux using the same cleaning agent - Google Patents

Cleaner of rosin-based solder flux and cleaning of rosin-based solder flux using the same cleaning agent

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JPH0465495A
JPH0465495A JP17910090A JP17910090A JPH0465495A JP H0465495 A JPH0465495 A JP H0465495A JP 17910090 A JP17910090 A JP 17910090A JP 17910090 A JP17910090 A JP 17910090A JP H0465495 A JPH0465495 A JP H0465495A
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rosin
cleaning agent
solder flux
cleaning
based solder
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Junichi Maeno
純一 前野
Jirou Mizuie
次朗 水家
Fumio Ishiga
史男 石賀
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Abstract

PURPOSE:To obtain the title cleaner having excellent cleaning power, sufficiently satisfiable in terms of environmental destruction, ignitability, smell, etc., containing a mixture of a specific glycol ether and a specific hydrocarbon compound as an active ingredient. CONSTITUTION:The objective cleaner containing a mixture of (A) usually about 10-90 wt.% (preferably about 40-60 wt.%) one or more glycol ether-based compounds shown by the formula (R<1> is H or 1-5C alkyl; R<2> is 1-5C alkyl; R<3> is H or methyl; m is 2-4 integer and (B) usually about 90-10 wt.% (preferably about 60-40 wt.%) 8-14C hydrocarbon compound as an active ingredient.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤、特にア
ッセンブリー用ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤なら
びに該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの
洗浄方法に関する。
Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a cleaning agent for rosin-based solder flux, particularly a cleaning agent for rosin-based solder flux for assembly, and a cleaning agent for rosin-based solder flux using the cleaning agent. Regarding the method.

(従来の技術) ロジン系ハンダフラックスはプリント回路板やプリント
配線基鈑などのモジュールの製作にあたって使用される
。ハンダ処理の目的は、一般には基板と入出力ピンとの
接着強度を高めたり、接点の酸化を防止して導電性を維
持するためであり、かかるハンダ処理の実効を図らんと
してハンダ付けに際してロジン系ハンダフラックスが使
用される。ハンダ付は終了後は、基板面からフラックス
のみを選択的にしかも完全に除去すべく洗浄剤が使用さ
れる。すなわち、フラックスの洗浄が不充分である場合
には、残留フラックスによる悪影響として、回路腐食が
起こったり、あるいは基板表面の電気絶縁性が低下し、
最終的には回路破損につながるという不利がある。その
ため、洗浄剤を使用して、残留フラックス、特にそれに
含有されている活性剤成分を除去することにより、前記
不利を解消している。
(Prior Art) Rosin-based solder flux is used in the production of modules such as printed circuit boards and printed wiring boards. The purpose of soldering is generally to increase the adhesive strength between the board and the input/output pins, and to prevent oxidation of the contacts and maintain conductivity. Solder flux is used. After soldering is completed, a cleaning agent is used to selectively and completely remove only the flux from the board surface. In other words, if the flux is not sufficiently cleaned, the residual flux may cause circuit corrosion, or the electrical insulation of the board surface may deteriorate.
This has the disadvantage of ultimately leading to circuit damage. Therefore, the disadvantages mentioned above are overcome by using cleaning agents to remove the residual flux, especially the activator components contained therein.

従来、ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤としてはトリ
クロロエチレン、トリクロロトリフルオロエタン等のい
わゆるフロン等のハロゲン化炭化水素溶剤が使用されて
いる。ところが、オゾン層破壊などの環境汚染の問題か
ら、かがるハロゲン化炭化水素瀉剤の使用規制が本格化
されつつあり、電機業界においてもいわゆるフロン代替
のハンダフラックスの洗浄剤の開発が急務となってきた
Conventionally, halogenated hydrocarbon solvents such as so-called chlorofluorocarbons such as trichlorethylene and trichlorotrifluoroethane have been used as cleaning agents for rosin-based solder flux. However, due to environmental pollution issues such as ozone layer depletion, restrictions on the use of halogenated hydrocarbon cleaning agents are becoming more serious, and there is an urgent need in the electronics industry to develop cleaning agents for solder flux that can replace so-called fluorocarbons. It's here.

近時、非ハロゲン系のハンダフラックス洗浄剤が種々開
発されているが、洗浄力、臭気、引火性などのすべての
要求性能を完全に満足しつるものはいまだ見い出されて
いないのが現状である。
Recently, various non-halogen solder flux cleaning agents have been developed, but the current situation is that no one has yet been found that completely satisfies all required performance such as cleaning power, odor, and flammability. .

(発明が解決しようとする課題) 本発明は、洗浄力に優れ、しかも環境特性、臭気、引火
性などの点でも実質上満足しつる非ハロゲン系のハンダ
フラックス洗浄剤、ならびに該洗浄剤を用いる洗浄方法
を提供することを目的とする。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention provides a non-halogen solder flux cleaning agent that has excellent cleaning power and is substantially satisfactory in terms of environmental characteristics, odor, flammability, etc., and uses the cleaning agent. The purpose is to provide a cleaning method.

(課題を解決するための手段) 本発明者らは前記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結
果、意外にも特定のグリコールエーテル系化合物と炭素
数8〜14の炭化水素化合物とからなる混合物、および
該混合物にノニオン性界面活性剤を含有してなる混合物
を必須成分として使用した場合には、前記課題を悉く解
決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
(Means for Solving the Problems) As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors unexpectedly found that a mixture consisting of a specific glycol ether compound and a hydrocarbon compound having 8 to 14 carbon atoms. The present inventors have discovered that all of the above problems can be solved when a mixture containing a nonionic surfactant and a nonionic surfactant is used as an essential component, and the present invention has been completed.

すなわち本発明は、 (Il−船蔵(1): %式% (式中、R”は水素原子または炭素数1〜5のアルキル
基を、R2は炭素数1〜5のアルキル基、R3は水素原
子またはメチル基を、mは2〜4の整数を示す)で表さ
れるグリコールエテル系化合物のうちの少なくとも一種
、および炭素数8〜14の炭化水素化合物とからなる混
合物を有効成分として含有することを特徴とするロジン
系ハンダフラックスの洗浄剤(以下、洗浄剤@という)
、ならびに (II)−船蔵(1)。
That is, the present invention provides (Il-Shipura (1): % formula % (wherein, R'' is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R3 is Contains as an active ingredient a mixture consisting of at least one glycol ether compound represented by a hydrogen atom or a methyl group (m is an integer of 2 to 4), and a hydrocarbon compound having 8 to 14 carbon atoms. A rosin-based solder flux cleaning agent (hereinafter referred to as cleaning agent@) that is characterized by:
, and (II)-Ship (1).

R’  O−(CH2CHO)、、−R”(式中、R1
は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を、R2は
炭素数1〜5のアルキル基、R3は水素原子またはメチ
ル基を、mは2〜4の整数を示す)で表されるグリコー
ルエテル系化合物のうちの少なくとも一種、炭素数8〜
14の炭化水素化合物およびノニオン性界面活性剤とか
らなる混合物を有効成分として含有することを特徴とす
るロジン系ハンダフラックスの洗浄剤(以下、洗浄剤■
という) 更には(m)該洗浄剤をロジン系ハンダフラックスと接
触させることを特徴とするロジン系ハンダフラックスの
洗浄方法に係る。
R' O-(CH2CHO), -R'' (in the formula, R1
is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R3 is a hydrogen atom or a methyl group, and m is an integer of 2 to 4). At least one type of compound having 8 or more carbon atoms
A rosin-based solder flux cleaning agent (hereinafter referred to as cleaning agent
The present invention further relates to (m) a method for cleaning rosin-based solder flux, which comprises bringing the cleaning agent into contact with rosin-based solder flux.

本発明のロジン系ハンダフラックスの洗浄剤の成分のう
ち、前記−船蔵(1)で表されるグリコールエーテル系
化合物としては、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエ
チルエテル、ジエチレングリコールモノプロピルエテル
、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールエチルプロピルエーテル、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、
ジエチレングリコールエチルブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールプロビルブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノペンチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコルメチルペンチルエ
ーテル、ジエチレングリコールエチルベンチルエーテル
、ジエチレングリコルプロピルペンチルエーテル、ジエ
チレングリコールブチルペンチルエーテル:これらに対
応するトリーもしくはテトラエチレングリコールエテル
仰;これらに対応するジー、トリーもしくはテトラプロ
ピレングリコールエーテル類を例示できる。これら化合
物は単独でまたは2種以上を適宜組み合せて使用できる
Among the components of the rosin-based solder flux cleaning agent of the present invention, the glycol ether compounds represented by the above-mentioned (1) include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and diethylene glycol Methyl ethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol methylpropyl ether, diethylene glycol ethyl propyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol methyl butyl ether,
Diethylene glycol ethyl butyl ether, diethylene glycol propyl butyl ether, diethylene glycol monopentyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl pentyl ether, diethylene glycol ethyl bentyl ether, diethylene glycol propyl pentyl ether, diethylene glycol butyl pentyl ether: corresponding tri- or tetraethylene glycol ethers Examples include di-, tri- or tetrapropylene glycol ethers corresponding to these. These compounds can be used alone or in an appropriate combination of two or more.

本発明のロジン系ハンダフラックスの洗浄剤の成分のう
ち、炭素数8〜14の炭化水素化合物としては、炭素数
8〜14の直鎖状または分枝状アルカン、炭素数8〜1
4の直鎖状または分枝状アルケンが該当する。洗浄力お
よび引火性をより考慮すれば、炭素数11−13の炭化
水素化合物が好ましい。
Among the components of the cleaning agent for the rosin-based solder flux of the present invention, examples of hydrocarbon compounds having 8 to 14 carbon atoms include linear or branched alkanes having 8 to 14 carbon atoms;
4 straight-chain or branched alkenes are suitable. In consideration of detergency and flammability, hydrocarbon compounds having 11 to 13 carbon atoms are preferred.

炭素数8〜14の炭化水素化合物の具体例としては、オ
クタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリ
デカン、テトラデカン:これらに対応する分枝鎖状アル
カン:これらに対応する直鎖または分枝鎖状アルケン:
これらに対応するシクロアルカンまたはシクロアルケン
などを列挙しつる。
Specific examples of hydrocarbon compounds having 8 to 14 carbon atoms include octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, and tetradecane; branched alkanes corresponding to these; linear or branched alkanes corresponding to these; Alkenes:
The corresponding cycloalkanes and cycloalkenes are listed below.

本発明のロジン系ハンダフラックス洗浄剤■は洗浄剤■
に加えてノニオン性界面活性剤を含有してなる。ノニオ
ン性界面活性剤を使用した場合。
The rosin-based solder flux cleaning agent of the present invention ■ is a cleaning agent ■
In addition to this, it contains a nonionic surfactant. When using nonionic surfactants.

すなわち洗浄剤■を使用した場合には、ロジンフラック
スを洗浄剤■で洗浄した場合に比べて、弓き続く水洗工
程を経由した後の基板の最終的な清浄度が一層良好とな
る。該ノニオン性界面活性剤としては、そのイオン性が
ノニオン性である限り特に制限はなく、各種公知のもの
を採用しつる。
That is, when cleaning agent (2) is used, the final cleanliness of the substrate after passing through the continuous water washing process is better than when cleaning rosin flux with cleaning agent (2). The nonionic surfactant is not particularly limited as long as its ionicity is nonionic, and various known surfactants may be used.

その具体例としては、ポリオキシエチレンアルキル(C
,<)エーテル、ポリオキシエチレンフェノルエーテル
、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテルなど
のポリエチレングリコールエテル型ノニオン性界面活性
剤;ポリエチレングリコールモノエステル、ポリエチレ
ングリコールジエステルなどのポリエチレングリコール
エステル型ノニオン性界面活性剤:高級脂肪族アミンの
エチレンオキサイド付加物;脂肪酸アミドのエチレンオ
キサイド付加物;ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂
肪酸エステルなどの多価アルコール型ノニオン性界面活
性剤:脂肪酸アルカノールアミドなど、更にはこれらに
対応するポリオキシプロピレン系ノニオン性界面活性剤
およびポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合
型ノニオン性界面活性剤をあげることができる。これら
ノニオン性界面活性剤は1種単独でまたは2種以上組合
せて使用できる。
A specific example is polyoxyethylene alkyl (C
, <) Polyethylene glycol ether type nonionic surfactants such as ether, polyoxyethylene phenol ether, and polyoxyethylene alkyl phenol ether; Polyethylene glycol ester type nonionic surfactants such as polyethylene glycol monoester and polyethylene glycol diester: Higher fats Ethylene oxide adducts of fatty acid amides; polyhydric alcohol-type nonionic surfactants such as sorbitan fatty acid esters and sucrose fatty acid esters; fatty acid alkanolamides, etc., and polyoxypropylene corresponding to these. Examples include nonionic surfactants based on polyoxyethylene and polyoxypropylene copolymer. These nonionic surfactants can be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、洗浄力の貞、がら好ましいものとしては
、ポリエチレングリコールエーテル撃ノニオン性界面活
性剤であり、更に好ましいものとしでは下記−船蔵(2
)で表されるものが該当する。
Among these, polyethylene glycol ether nonionic surfactants are preferred in terms of detergency, and even more preferred are the following - Shipura (2)
) is applicable.

R’  O−(CH2CH,O)  。 −H(式中、
R4は炭素数6〜20、好ましくは10〜14の直鎖も
しくは分岐鎖アルキル基、フェニル基、または炭素数7
〜12の直鎮もしくは分岐鎖アルキル基で置換されたフ
ェニル基を、nは 2〜20の整数、好ましくは3〜1
6の整数を示す。)前記洗浄剤■においては、前記クリ
コールエテル系化合物と前記炭化水素化合物との使用割
合は特に制限はされないが、通常は順にlO〜90重量
i程度 90〜lO重N%程度であり、好ましくは順に
40〜60重量%程度:60〜40重量1程度である。
R'O-(CH2CH,O). -H (in the formula,
R4 is a linear or branched alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably 10 to 14 carbon atoms, a phenyl group, or a carbon number 7
a phenyl group substituted with ~12 straight or branched alkyl groups, n is an integer of 2 to 20, preferably 3 to 1
Indicates an integer of 6. ) In the cleaning agent (1), the ratio of the glycol ether compound and the hydrocarbon compound to be used is not particularly limited, but is usually about 10 to 90% by weight and about 90 to 10% by weight, preferably about 90 to 10% by weight. are approximately 40 to 60% by weight: approximately 60 to 40% by weight.

また前記洗浄剤[有]についても、前記グリコールエー
テル系化合物と炭化水素化合物と前記ノニオン性界l活
性剤との使用割合は特に制限はされないが、通常は順に
10〜80重量%程度:90〜20重量%程度 30重
fi%程度未満であり、好ましくは順に40〜60重量
%程度・60〜40重量%程度=lO〜20重量%程度
である。
Regarding the cleaning agent, the proportions of the glycol ether compound, the hydrocarbon compound, and the nonionic surfactant are not particularly limited, but are usually about 10 to 80% by weight in that order: 90 to 80% by weight. It is about 20% by weight and less than about 30% by weight, preferably about 40 to 60% by weight, about 60 to 40% by weight = about 10 to 20% by weight.

本発明の洗浄剤である前記洗浄剤■、洗浄剤■はいずれ
も、ロジン系ハンダフラックス、特にアッセンブリー用
ロジン系ハンダフラックスの洗浄に適用される。該フラ
ックスとしては、ロジン、変性ロジンなどのロジン類を
主成分とする非活性ロジンフラックス、該ロジン類と活
性化剤(例えば、トリエタノールアミン塩酸塩、トリエ
チレンテトラミン塩酸塩、シクロヘキシルアミン塩酸塩
、塩酸アニリンなどのアミン化合物の有機酸または無機
酸の塩など)とを主成分とする活性ロジンフラックスが
一般的である。必要により消泡剤、酸化防止剤などの添
加剤を配合することができ、該添加剤の使用量は洗浄剤
に対して0.1%程度以下とされる。本発明の洗浄剤は
、アッセンブリー用の活性ロジンフラックスに適用した
場合その使用意義が大きい。
The cleaning agents (1) and (2) of the present invention are both applicable to cleaning rosin-based solder flux, particularly rosin-based solder flux for assembly. The flux includes an inactive rosin flux mainly composed of rosins such as rosin and modified rosin, and rosins and activators (for example, triethanolamine hydrochloride, triethylenetetramine hydrochloride, cyclohexylamine hydrochloride, etc.). Activated rosin fluxes whose main components are organic or inorganic acid salts of amine compounds such as aniline hydrochloride are common. If necessary, additives such as antifoaming agents and antioxidants may be added, and the amount of these additives used is about 0.1% or less based on the cleaning agent. The cleaning agent of the present invention has great significance when applied to activated rosin flux for assembly.

本発明の洗浄剤を基板上のロジンフラックスに接触させ
るには以下の手段を採用しつる。すなわち、本発明の有
効成分たる前記グリコールエーテル化合物、炭化水素化
合物および必要によりノニオン性界面活性剤からなる洗
浄剤を、そのままでまたは水で希釈して、有効成分の濃
度が通常100重量%未満〜lO重量%程度となるよう
調整する。
The following means are employed to bring the cleaning agent of the present invention into contact with the rosin flux on the substrate. That is, the cleaning agent consisting of the glycol ether compound, hydrocarbon compound, and optionally a nonionic surfactant, which are the active ingredients of the present invention, is used as is or diluted with water, and the concentration of the active ingredient is usually less than 100% by weight. Adjust to about 10% by weight.

かくして得られた水分散液または有効成分そのものに基
板を直接浸漬して洗浄する方法、該水溶液をスプレー装
置を使用してフラッシュする方法、あるいは機械的手段
によりブラッシングしながらする方法などを適宜選択し
て採用することができる。本発明の洗浄剤を適用する際
の条件としては、洗浄剤中の有効成分の濃度、該成分の
使用比率、除去すべきフラックスの種類等により適宜選
択すれば良く、一般に除去すべきフラックスを洗浄除去
するのに有効な温度と時間で洗浄剤をフラックスに接触
させる。洗浄剤の使用時の温度は室温程度から80℃程
度であり、通常、50〜70℃程度とするのが好ましい
。基板上のハンダフラックスを、例えば60℃程度の温
度において浸漬法により除去する場合、一般には本発明
の洗浄剤にハンダフラックスを有する基板を約l〜5分
程度浸漬すれば、良好に除去することができる。
A method of washing the substrate by directly immersing it in the thus obtained aqueous dispersion or the active ingredient itself, a method of flushing the aqueous solution using a spray device, or a method of washing while brushing by mechanical means may be selected as appropriate. can be adopted. Conditions for applying the cleaning agent of the present invention may be appropriately selected depending on the concentration of the active ingredient in the cleaning agent, the usage ratio of the ingredient, the type of flux to be removed, etc. Generally, the flux to be removed is cleaned. Contact the cleaning agent with the flux at a temperature and time effective to remove it. The temperature during use of the cleaning agent is about room temperature to about 80°C, and usually preferably about 50 to 70°C. When removing solder flux on a substrate by a dipping method at a temperature of about 60° C., for example, the solder flux can be removed satisfactorily by immersing the substrate with solder flux in the cleaning agent of the present invention for about 1 to 5 minutes. I can do it.

こうしてフラックスを除去された基板は仕上げ処理とし
て水またはノニオン性界面活性剤を含有する石鹸水を使
用して洗浄を行い、残留している可能性のある洗浄剤を
完全に除去するのが好ましい。このような水洗処理によ
り、基板の清浄度は非常に高いものとなる。
The substrate from which the flux has been removed is preferably cleaned as a finishing treatment using water or soapy water containing a nonionic surfactant to completely remove any cleaning agent that may remain. Such water washing treatment makes the substrate extremely clean.

しかして本発明の洗浄剤は、従来のハロゲン化炭イヒ水
素系の洗浄剤を用いた場合と同様またはそれ以上のフラ
ックス洗浄効果を発揮し、高レベルの基板洗浄度を達成
する。
Therefore, the cleaning agent of the present invention exhibits a flux cleaning effect similar to or superior to that obtained when conventional halogenated hydrocarbon-based cleaning agents are used, and achieves a high level of substrate cleaning.

(実施例) 以下、実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、
本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
(Example) Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited only to these examples.

実施例1 ジエチレングリコールジメチルエーテル50重量部およ
びデカン50重量を混合して本発明の洗浄剤を調製した
Example 1 A cleaning agent of the present invention was prepared by mixing 50 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether and 50 parts by weight of decane.

方、プリント配線基板(銅張積層板)の全面に20ジン
系フラツクス(LONCO社製、商品名r Re5in
 Flux #77−25 J )を塗布し、130℃
で2分間乾燥した後、260℃で5秒間、ハンダフロを
行ない供試基板を調製した。
On the other hand, apply 20 gin-based flux (manufactured by LONCO, trade name: Re5in) to the entire surface of the printed wiring board (copper-clad laminate).
Flux #77-25 J) was applied and heated to 130°C.
After drying for 2 minutes at 260° C., solder flow was performed at 260° C. for 5 seconds to prepare a test board.

この基板を室温下に、上記の洗浄剤に浸漬し、フラック
スの除去の度合いを以下の判定基準に基づき目視判定し
た。結果は第1表に示す。
This substrate was immersed in the above cleaning agent at room temperature, and the degree of flux removal was visually evaluated based on the following criteria. The results are shown in Table 1.

○ 良好に除去できる △ 若干残存する × かなり残存する 次いで、上記基板を水洗および乾燥した後、オメガメー
ター6005E(KENKO社製、商品名)を用いて、
基板の清浄度(残留イオン濃度)を測定した。結果は第
1表に示す。
○ Can be removed well △ Slightly remaining × Significantly remaining Next, after washing and drying the above board, using Omegameter 6005E (manufactured by KENKO, trade name),
The cleanliness (residual ion concentration) of the substrate was measured. The results are shown in Table 1.

実施例2〜11 実施例1において、洗浄剤組成、洗浄時の浸漬温度のい
ずれか少なくとも一種をそれぞれ第1表に示すように変
化させた他は同様にして評価を行った。結果は第1表に
示す。
Examples 2 to 11 Evaluations were conducted in the same manner as in Example 1, except that at least one of the cleaning agent composition and the immersion temperature during cleaning was changed as shown in Table 1. The results are shown in Table 1.

実施例12 ジエチレングリコールジメチルエーテル45重量部とデ
カン45重量およびポリエチレングリコールアルキルエ
ーテル型ノニオン性界面活性剤(第工業製薬■製、商品
名[ノイケンET−135J 、 −6式(2)におい
てR4は炭素数12〜14の分岐鎖アルキル基、nは9
である) 10重量部を混合して本発明の洗浄剤を調製
した。ついで、該洗浄剤を実施例1と同様にして評価を
行った。結果は第1表に小す。
Example 12 45 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether, 45 parts by weight of decane and a polyethylene glycol alkyl ether type nonionic surfactant (manufactured by Dai Kogyo Seiyaku ■, trade name [Neuken ET-135J, -6 In formula (2), R4 has 12 carbon atoms ~14 branched alkyl groups, n is 9
A cleaning agent of the present invention was prepared by mixing 10 parts by weight. Next, the cleaning agent was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例13〜16 実施例1において、洗浄剤組成、使用界面活性剤の種類
のいずれが少なくとも一種をそれぞれ第1表に示すよう
に変化させた他は同様にして評価を行った。結果は第1
表に示す。
Examples 13 to 16 Evaluations were carried out in the same manner as in Example 1, except that at least one of the detergent composition and the type of surfactant used was changed as shown in Table 1. The result is the first
Shown in the table.

なお、第1表中、使用界面活性剤は次の通りである。In Table 1, the surfactants used are as follows.

1ノイゲンEA−12DJ  (第一工業製薬■製、ポ
リエチレングリコールノニルフェニルエーテル型ノニオ
ン性界面活性剤、−船蔵(2)においてR′はノニルフ
ェニル基であり、nは 5である)、[ノイケンEA−
143J  (第一工業製薬■製、ポリエチレングリコ
ールドデシルフェニルエーテル型ノニオン性界面活性剤
、−船蔵(2)においてR4はドデシルフェニル基であ
り、nはIOである)[ソルケンTW20J  (第一
工業製薬■製、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウ
レート、エチレンオキシド平均付加モル数12)、 「エバン420J(第一工業製薬■製、ポリオキシエチ
レンポリオキシプロピレンブロックボリマ[以下余白] (本発明の効果) 本発明によれば、以下の効果が奏される。
1 Neugen EA-12DJ (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku ■, polyethylene glycol nonylphenyl ether type nonionic surfactant, - In Funagura (2), R' is a nonylphenyl group, and n is 5), [Neugen EA-
143J (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku ■, polyethylene glycol decylphenyl ether type nonionic surfactant, - In Funagura (2), R4 is a dodecylphenyl group and n is IO) [Solken TW20J (Daiichi Kogyo Seiyaku) Polyoxyethylene sorbitan monolaurate, average number of added moles of ethylene oxide 12) manufactured by ■, Evan 420J (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku ■, polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer [hereinafter referred to as margins] (Effects of the present invention) According to the invention, the following effects are achieved.

(1)本発明の洗浄剤は非ハロゲン系の洗浄剤であるた
め、フロン系洗浄剤に見られるようなオゾン層破壊の問
題はない。
(1) Since the cleaning agent of the present invention is a non-halogen cleaning agent, it does not cause the problem of ozone layer depletion that occurs with fluorocarbon cleaning agents.

(2)本発明の洗浄剤は、前記グリコールエーテル系化
合物を含有しているため水を含有しない状態では、それ
自体引火点を有するものではあるが、該化合物の引火点
が70℃程度であり日本国消防法でいう第三石油類に属
するものであるため、その使用にあたっては特別に防爆
設計された専用の洗浄装置を使用する必要はな(、従来
のフロン洗浄に際して使用されていた各種の市販洗浄装
置をそのままで、または若干仕様変更することにより容
易に使用できる。
(2) Since the cleaning agent of the present invention contains the glycol ether compound, it itself has a flash point in the absence of water, but the flash point of the compound is about 70°C. Since it belongs to the third class of petroleum as defined in the Japanese Fire Service Act, there is no need to use a special explosion-proof cleaning device when using it. Commercially available cleaning equipment can be easily used as is or by slightly modifying the specifications.

(3)本発明の洗浄剤を水希釈して使用した場合には、
洗浄剤の引火危険性の低減、洗浄剤の低廉化、排水処理
負荷の大幅低減などを達成でき、しかも充分な洗浄力を
保持することができる。
(3) When the cleaning agent of the present invention is used after being diluted with water,
It is possible to reduce the risk of ignition of the cleaning agent, to lower the cost of the cleaning agent, and to significantly reduce the wastewater treatment load, while maintaining sufficient cleaning power.

(4)本発明の洗浄剤は、臭気が非常に少なく、この点
でも満足できる。
(4) The cleaning agent of the present invention has very little odor and is also satisfactory in this respect.

このように、本発明によれば、洗浄力に優れるとともに
、環境破壊、引火性、臭気などの、壱でも十分に満足し
つる非ハロゲン系のハンダフラックス洗浄剤および該洗
浄剤を用いるハンダフラックスを洗浄方法が提供される
As described above, the present invention provides a non-halogen solder flux cleaning agent that has excellent cleaning power and is sufficiently free from environmental damage, flammability, and odor, and a solder flux using the cleaning agent. A cleaning method is provided.

荒川化学工業株式会社Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一般式(1): ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
ル基を、R^2は炭素数1〜5のアルキル基、R^3は
水素原子またはメチル基を、mは2〜4の整数を示す)
で表されるグリコールエーテル系化合物のうちの少なく
とも一種、および炭素数8〜14の炭化水素化合物とか
らなる混合物を有効成分として含有することを特徴とす
るロジン系ハンダフラックスの洗浄剤。
(1) General formula (1): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R^2 is a Alkyl group, R^3 represents a hydrogen atom or methyl group, m represents an integer from 2 to 4)
A rosin-based solder flux cleaning agent containing as an active ingredient a mixture of at least one glycol ether compound represented by the following and a hydrocarbon compound having 8 to 14 carbon atoms.
(2)前記グリコールエーテル系化合物と炭素数8〜1
4の炭化水素化合物の使用割合が順に10〜90重量%
:90〜10重量%である請求項1記載の洗浄剤。
(2) The glycol ether compound and carbon number 8 to 1
The proportion of hydrocarbon compounds used in No. 4 is 10 to 90% by weight in order.
The cleaning agent according to claim 1, wherein: 90 to 10% by weight.
(3)一般式(1): ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
ル基を、R^2は炭素数1〜5のアルキル基、R^3は
水素原子またはメチル基を、mは2〜4の整数を示す)
で表されるグリコールエーテル系化合物のうちの少なく
とも一種、炭素数8〜14の炭化水素化合物およびノニ
オン性界面活性剤とからなる混合物を有効成分として含
有することを特徴とするロジン系ハンダフラックスの洗
浄剤。
(3) General formula (1): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R^2 is a Alkyl group, R^3 represents a hydrogen atom or methyl group, m represents an integer from 2 to 4)
Cleaning of rosin-based solder flux characterized by containing as an active ingredient a mixture consisting of at least one of the glycol ether compounds represented by, a hydrocarbon compound having 8 to 14 carbon atoms, and a nonionic surfactant. agent.
(4)前記グリコールエーテル系化合物と炭素数8〜1
4の炭化水素化合物とノニオン性界面活性剤との使用割
合が順に10〜80重量%:90〜20重量%:30重
量%未満である請求項3記載の洗浄剤。
(4) The glycol ether compound and carbon number 8 to 1
4. The cleaning agent according to claim 3, wherein the proportions of the hydrocarbon compound (4) and the nonionic surfactant used are, in order, 10 to 80% by weight: 90 to 20% by weight: less than 30% by weight.
(5)前記ノニオン性界面活性剤が、 一般式(2): ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素数5〜20の直鎖もしくは分岐鎖アル
キル基、フェニル基、または炭素数7〜12の直鎖もし
くは分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を、nは
5〜20の整数を示す。)で表される界面活性剤である
請求項1〜4のいずれかに記載の洗浄剤。
(5) The nonionic surfactant has the general formula (2): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R is a straight or branched alkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a phenyl group substituted with a linear or branched alkyl group having 7 to 12 carbon atoms, n is an integer of 5 to 20). Cleaning agents listed in .
(6)請求項1〜5のいずれかに記載の洗浄剤をロジン
系ハンダフラックスと接触させることを特徴とするロジ
ン系ハンダフラックスの洗浄方法。
(6) A method for cleaning rosin-based solder flux, which comprises bringing the cleaning agent according to any one of claims 1 to 5 into contact with rosin-based solder flux.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04292699A (en) * 1991-03-19 1992-10-16 Kao Corp Cleaner composition for precision part or jig and industrial tool
JP2002012895A (en) * 2000-06-29 2002-01-15 Chemiprokasei Kaisha Ltd Cleansing composition

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH04292699A (en) * 1991-03-19 1992-10-16 Kao Corp Cleaner composition for precision part or jig and industrial tool
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