JPH0459817A - Radiation curing resin composition - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、放射線に対する硬化性に優れ、金属及びプラ
スチック類に対する密着性、耐溶剤性、耐沸水性、耐候
性に優れる放射線硬化型樹脂組成物に関する。Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention provides a radiation-curable resin composition that has excellent radiation curability, adhesion to metals and plastics, solvent resistance, boiling water resistance, and weather resistance. relating to things.
(従来の技術)
放射線硬化型樹脂及び樹脂組成物は、硬化プロセスが省
資源、省エネルギーであり、高性能皮膜が得られるため
に、各種の接着剤、コーティング荊、インキ、塗料、磁
気記録媒体のバインダーなどへの用途開発が進んでいる
。特にウレタンアクリレート樹脂は放射線に対する硬化
性、硬化後の塗膜の強靭性といった優れた性能を有する
ために、上記の各種分野で検討されている。(Prior Art) Radiation-curable resins and resin compositions are used in various adhesives, coatings, inks, paints, and magnetic recording media because the curing process saves resources and energy, and high-performance films can be obtained. Development of applications such as binders is progressing. In particular, urethane acrylate resins are being studied in the various fields mentioned above because they have excellent properties such as radiation curability and toughness of the coating film after curing.
しかしながら、従来のウレタンアクリレート樹脂及び樹
脂組成物は金属及びプラスチック類に対する密着性が不
充分であり、特にポリエチレンテレフタレートに対し満
足する密着性を示すものは得られていない。However, conventional urethane acrylate resins and resin compositions have insufficient adhesion to metals and plastics, and in particular no one showing satisfactory adhesion to polyethylene terephthalate has been obtained.
さらには、硬化後の皮膜特性のうち、耐溶剤性、耐沸水
性、耐候性に関しては、充分に満足のいく性能を有する
ものは得られていないのが現状である。Furthermore, among the properties of the film after curing, it is currently not possible to obtain a film with sufficiently satisfactory performance in terms of solvent resistance, boiling water resistance, and weather resistance.
(発明が解決しようとする課題)
本発明は上記従来の課題を解決するものであり、その目
的とするところは、放射線に対する硬化性に優れ、金属
及びプラスチック類に対する密着性、耐溶剤性、耐沸水
性、耐候性に優れた放射線硬化型樹脂組成物を提供する
ことにある。(Problems to be Solved by the Invention) The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and its purpose is to provide excellent radiation curability, adhesion to metals and plastics, solvent resistance, and An object of the present invention is to provide a radiation-curable resin composition having excellent boiling water resistance and weather resistance.
(課題を解決するための手段)
本発明者等は、(1)共重合ポリエステルポリオールの
酸成分として芳香族ジカルボン酸を、グリコール成分と
して1.6−ヘキサンジオールをそれぞれ特定量共重合
したポリエステルポリオールに、(2)ポリイソシアネ
ート化合物を介して、(3)1個以上の(メタ)アクリ
ロイルオキシ基と1個以上の水酸基を有する化合物を導
入し、必要により、(4)上記(1)以外のポリオール
及び/又はポリアミンを反応させて鎖延長して得られる
特定範囲の分子量を有するウレタンアクリレート樹Pg
<^)に特定量の(メタ)アクリレート化合物(B)を
配合することにより得られる樹脂組成物を使用すると、
放射線照射に対する硬化性に優れ、前記欠点を克服した
放射線硬化型樹脂組成物が得られることを見い出した。(Means for Solving the Problems) The present inventors have developed (1) a polyester polyol in which specific amounts of aromatic dicarboxylic acid are copolymerized as the acid component of the copolymerized polyester polyol, and specific amounts of 1,6-hexanediol are copolymerized as the glycol component. (2) introduce a compound having one or more (meth)acryloyloxy groups and one or more hydroxyl groups via the polyisocyanate compound, and if necessary, (4) introduce a compound other than (1) above. Urethane acrylate resin Pg having a molecular weight within a specific range obtained by reacting polyol and/or polyamine and extending the chain
When using a resin composition obtained by blending a specific amount of (meth)acrylate compound (B) with <^),
It has been found that a radiation-curable resin composition that has excellent radiation curability and overcomes the above-mentioned drawbacks can be obtained.
すなわち、本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、(1)
酸成分として芳香族ジカルボン酸を40モル%以上
、グリコール成分として1,6.ヘキサンジオールを2
0モル%以上含有する共重合ポリエステルポリオール、
(2) ポリイソシアネート化合物、(3)1個以上
の(メタ)アクリロイルオキシ基と1個以上の水酸基を
有する化合物、及び必要により、
(4) 上記(1)以外のポリオール及び/又はポリ
アミンとを反応させて得られる分子量が1 、000〜
20.000のウレタンアクリレート樹脂(A)と分子
量が500未満の(メタ)アクリレート化合物(B)と
を80/20〜20/80の重量比率で含有してなるこ
とを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物である。That is, the radiation-curable resin composition of the present invention has (1)
40 mol% or more of aromatic dicarboxylic acid as the acid component and 1,6% or more as the glycol component. 2 hexanediol
A copolymerized polyester polyol containing 0 mol% or more, (2) a polyisocyanate compound, (3) a compound having one or more (meth)acryloyloxy groups and one or more hydroxyl groups, and if necessary, (4) the above ( The molecular weight obtained by reacting with polyols and/or polyamines other than 1) is 1,000 to
20,000 urethane acrylate resin (A) and a (meth)acrylate compound (B) having a molecular weight of less than 500 in a weight ratio of 80/20 to 20/80. It is a composition.
上記(1)の共重合ポリエステルポリオールは、ジカル
ボン酸成分とグリコール成分とからなる。The copolymerized polyester polyol (1) above consists of a dicarboxylic acid component and a glycol component.
本発明における必須成分である芳香族ジカルボン酸は芳
香族性を有する基を分子内に有するジカルボン酸であり
、例えば、無水フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸
、オルソフタル酸、1,5−ナフタル酸などが代表的な
ものとしてあげられる。The aromatic dicarboxylic acid which is an essential component in the present invention is a dicarboxylic acid having an aromatic group in the molecule, such as phthalic anhydride, terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 1,5-naphthalic acid, etc. is cited as a representative example.
必要により、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリ
ット酸などのトリ及びテトラカルボン酸を少量含んでい
てもよい。If necessary, a small amount of tri- and tetracarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, and pyromellitic acid may be included.
芳香族ジカルボン酸以外で共重合可能なジカルボン酸と
しては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、
1.2−ヘキサヒドロフタル酸、■、3−ヘキサヒドロ
フタル酸、1.4−ヘキサヒドロフタル酸、パーヒドロ
ナフタレンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸、フマ
ール酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン
酸、テトラヒドロフタル酸、シクロブテンジカルボン酸
等の不飽和脂環族ジカルボン酸、p−ヒドロキシエチル
オキシ安息香酸、ε−カプロラクトン等のオキシ酸が挙
げられる。Examples of copolymerizable dicarboxylic acids other than aromatic dicarboxylic acids include aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedicarboxylic acid;
Alicyclic dicarboxylic acids such as 1.2-hexahydrophthalic acid, 3-hexahydrophthalic acid, 1.4-hexahydrophthalic acid, perhydronaphthalene dicarboxylic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, etc. Examples include unsaturated dicarboxylic acids, unsaturated alicyclic dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and cyclobutene dicarboxylic acid, and oxyacids such as p-hydroxyethyloxybenzoic acid and ε-caprolactone.
グリコール成分としては、1.6−ヘキサンジオールを
必須とする。1,6−ヘキサンジオール以外で共重合可
能なグリコールとしては、例えば、エチレンクリコール
、プロピレングリコール、113−7”l:1パンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール
、ジプロピレングリコール、2,2.4トリメチル〜1
.3−ベンタンジオール、1.4−シクロヘキサンジメ
タツール、スピログリコール、l、4−フェニレングリ
コール、1,4−フェニレングリコールのエチレンオキ
サイド付加物、ビスフェノールAのエチレンオキサイド
付加物およびプロピレンオキサイド付加物、水素化ビス
フェノールAのエチレンオキサイド付加物およびプロピ
レンオキサイド付加物、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
などのジオールなどがある。必要によりトリノチロール
エタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタ
エリスリトールなどのトリオールおよびテトラオールを
少量含んでいてもよい。As the glycol component, 1,6-hexanediol is essential. Examples of copolymerizable glycols other than 1,6-hexanediol include ethylene glycol, propylene glycol, 113-7"l:1 panediol, 1,4-butanediol, 1,5-bentanediol, neo Pentyl glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 2,2.4 trimethyl to 1
.. 3-bentanediol, 1,4-cyclohexane dimetatool, spiroglycol, l,4-phenylene glycol, ethylene oxide adduct of 1,4-phenylene glycol, ethylene oxide adduct and propylene oxide adduct of bisphenol A, hydrogen Examples include ethylene oxide adducts and propylene oxide adducts of bisphenol A, and diols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol. If necessary, a small amount of triol and tetraol such as trinotylolethane, trimethylolpropane, glycerin, and pentaerythritol may be included.
このようなジカルボン酸成分とグリコール成分より共重
合ポリエステルポリオールを得るためには、ジカルボン
酸原料に対して、グリコール原料を過剰に用いて合成す
ればよい。カルボキシル基末端が共重合ポリエステル中
に50eq、/10hg未満になるように合成すること
が望ましい、 50eq、/10’ g以上になると後
述のウレタンアクリレート樹脂を合成する際にジイソシ
アネート化合物との反応における不活性末端が多くなり
すぎ、目的とするウレタン系樹脂が得られず放射線に対
する硬化性が低下する。In order to obtain a copolymerized polyester polyol from such a dicarboxylic acid component and a glycol component, synthesis may be performed using an excess amount of glycol raw material with respect to the dicarboxylic acid raw material. It is desirable to synthesize the copolymerized polyester so that the terminal carboxyl group is less than 50 eq,/10'g.If it is more than 50 eq,/10'g, it may cause problems in the reaction with the diisocyanate compound when synthesizing the urethane acrylate resin described below. If the number of active terminals becomes too large, the desired urethane resin cannot be obtained, and the radiation curability decreases.
本発明で使用するジカルボン酸成分は芳香族ジカルボン
酸が40モル%以上、グリコール成分は1.6−ヘキサ
ンジオールが20モル%以上の範囲である。The dicarboxylic acid component used in the present invention has an aromatic dicarboxylic acid content of 40 mol% or more, and the glycol component contains 1,6-hexanediol 20 mol% or more.
この範囲外では、金属及びプラスチック類、特にポリエ
チレンテレフタレートに対する密着性が悪くなるだけで
なく、耐沸水性、耐溶剤性、耐候性が悪くなり好ましく
ない。Outside this range, not only the adhesion to metals and plastics, especially polyethylene terephthalate, becomes poor, but also boiling water resistance, solvent resistance, and weather resistance are unfavorable.
本発明で使用される(2)ポリイソシアネート化合物と
しては2.4− )リレンジイソシアネー)、2.6ト
リレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネ
ート、ビフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、テトラメチレンジイソシアネート、 3.3’−ジ
メトキシ−4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、
2,4−ナフタレンジイソシアネー)、3.3’−ジメ
チル−4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、4.
4’−ジフェニレンジイソシアネート、4.4’−ジイ
ソシアネートジフェニルエーテル、1.5′−ナフタレ
ンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート
、m−キシリレンジイソシアネート、1.3−ジイソシ
アネートメチルシクロヘキサン、1.4−ジイソシアネ
ートメチルシクロヘキサン、4.4′−ジイソシアネー
トジシクロヘキサン、4.4′−ジイソシアネートジシ
クロヘキシルメタン、イソホロンジイソシアネート等の
ジイソシアネート化合物、あるいは全イソシアネート基
のうち7モル%以下の2.4− トリレンジイソシアネ
ートの二量体、ヘキサメチレンジイソシアネートの二量
体等のトリイソシアネート化合物があげられる。(2) Polyisocyanate compounds used in the present invention include 2.4-) lylene diisocyanate, 2.6 tolylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, biphenylmethane diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, Tetramethylene diisocyanate, 3.3'-dimethoxy-4,4'-biphenylene diisocyanate,
2,4-naphthalene diisocyanate), 3.3'-dimethyl-4,4'-biphenylene diisocyanate, 4.
4'-diphenylene diisocyanate, 4.4'-diisocyanate diphenyl ether, 1.5'-naphthalene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 1.3-diisocyanatemethylcyclohexane, 1.4-diisocyanatemethylcyclohexane , 4,4'-diisocyanate dicyclohexane, 4,4'-diisocyanate dicyclohexylmethane, isophorone diisocyanate and other diisocyanate compounds, or a dimer of 2,4-tolylene diisocyanate containing up to 7 mol% of the total isocyanate groups, hexa Examples include triisocyanate compounds such as a dimer of methylene diisocyanate.
1個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基と1個以上の
水酸基とを有する化合物としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、ヘキサメチレングリコール等
のグリコールのモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェ
ノキシプロビル(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパン、グリセリン、トリメチロールエタン等のトリ
オール化合物のモノ(メタ)アクリレート及びジ(メタ
)アクリレート、ペンタエリスリトール、ジペンタエリ
スリトール等の4価以上のポリオールのモノ(メタ)ア
クリレート、ジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)ア
クリレート、グリセリンモノアリルエーテル、グリセリ
ンジアクリルエーテル等のヒドロキシル基含有アクリル
系化合物が挙げられる。Examples of compounds having one or more (meth)acryloyloxy groups and one or more hydroxyl groups include mono(meth)acrylates of glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, and hexamethylene glycol, 2-hydroxyethyl (meth)acrylates, Mono(meth)acrylates and di(meth)acrylates of triol compounds such as 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, trimethylolpropane, glycerin, trimethylolethane, penta Examples include hydroxyl group-containing acrylic compounds such as mono(meth)acrylate, di(meth)acrylate, tri(meth)acrylate of polyols with 4 or more valences such as erythritol and dipentaerythritol, glycerin monoallyl ether, and glycerin diacryl ether. It will be done.
前記(])以外のポリオール及び/又はポリアミンとし
ては、エチレングリコール、プロピレングリコール等の
前記(1)共重合ポリエステルポリオールのグリコール
成分として挙げられた化合物、ヘキサメチレンジアミン
、ジアミノジフェニルメタン、N−メチルジェタノール
アミン、分子中に1級又は2級のアミノ基を2個以上有
する、末端アミノ化ポリブタジェン等の高分子量ポリア
ミン、水等が挙げられる。Examples of polyols and/or polyamines other than the above (]) include compounds listed as the glycol component of the copolyester polyol (1) above, such as ethylene glycol and propylene glycol, hexamethylene diamine, diaminodiphenylmethane, and N-methyljetanol. Examples include amines, high molecular weight polyamines having two or more primary or secondary amino groups in the molecule, such as terminally aminated polybutadiene, and water.
本発明の放射線硬化型樹脂は、前記(1)共重合ポリエ
ステルポリオールと(2)ポリイソシアネート化合物を
反応させて、イソシアネート末端プレポリマーを得た後
、(3)1個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基と1
個以上の水素基、とを有する化合物、及び必要により、
(4)上記(1)以外のポリオール及び/又はポリアミ
ン反応させて得ることができきる゛。The radiation-curable resin of the present invention is produced by reacting the (1) copolymerized polyester polyol and (2) the polyisocyanate compound to obtain an isocyanate-terminated prepolymer, and then (3) one or more (meth)acryloyloxy base and 1
A compound having 1 or more hydrogen groups, and if necessary,
(4) It can be obtained by reacting polyols and/or polyamines other than those mentioned in (1) above.
別なる製法としては、反応させる化合物を一括して仕込
み反応させる方法がある。Another manufacturing method is a method in which the compounds to be reacted are charged all at once and reacted.
また、必要に応じ、ポリウレタンアクリレートを得る方
法の任意の段階において、−NR2、−NRze、−3
03M、−COOM、−PO(OM’ )z、>PO(
OM’ ) (式中Rは水素原子、アルキル、アリー
ル、アラルキル基を表わし、Mは水素原子、アルカリ金
属原子、テトラアルキルアンモニウム、テトラアルキル
ホスホニウムを表わし、M′は水素原子、アルカリ金属
原子、テトラアルキルアンモニウム、アルキル、アリー
ル、アラルキル基を表わす。)等の極性基を有する化合
物を反応させることにより、各種基材との密着性や、顔
料、添加剤等の均一分散性の向上を計ることもできる。In addition, if necessary, -NR2, -NRze, -3 at any stage of the method for obtaining polyurethane acrylate
03M, -COOM, -PO(OM')z, >PO(
OM') (In the formula, R represents a hydrogen atom, alkyl, aryl, or aralkyl group, M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, tetraalkylammonium, or tetraalkylphosphonium, and M' represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, or a tetraalkyl phosphonium. By reacting compounds with polar groups such as alkylammonium, alkyl, aryl, and aralkyl groups, it is possible to improve adhesion to various substrates and uniform dispersion of pigments, additives, etc. can.
このようにして得られる本発明のウレタンアクリレート
樹脂(A)の分子量は1 、000〜20.000の範
囲内であることが必要である0分子量が1 、000よ
り小さくなると、硬化時の歪が大きくなり、基材への密
着性が悪くなり好ましくなく 、20,000を越える
と、後述の(メタ)アクリレート化合物(B)との相溶
性が悪くなる、粘度が高くなり過ぎ使用が困難になる等
の問題が生じ好ましくない。The molecular weight of the urethane acrylate resin (A) of the present invention thus obtained must be within the range of 1,000 to 20,000. If the molecular weight is less than 1,000, distortion during curing will occur. If it becomes too large, the adhesion to the substrate will deteriorate, which is undesirable. If it exceeds 20,000, the compatibility with the (meth)acrylate compound (B) described below will become poor, and the viscosity will become too high, making it difficult to use. This is undesirable due to problems such as:
本発明の別の必須成分としての分子量が500未満の(
メタ)アクリレート化合物(B)としては、例えば(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(
メタ)アクリル酸ブチル、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート
、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、トルイルオ
キシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)ア
クリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ジ
シクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペン
テニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アク
リレート、N、N−ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、イソボニル(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、N−メチ
ルビニルピロリドン、カプロラクトン変性テトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロキ
シエチルサクシネート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピル(メタ)アクリレート等のモノアクリレート
化合物、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、トリプロピレン
グリコールシ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、ビスフェ
ノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド
変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイ
ド変性ビスフェノ−7L/ A シ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等
のジアクリレート化合物、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)
アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロー
ルプロパントリアクリレート等のトリアクリレート化合
物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレー
ト、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールテトラ(
メタ)アクリレート等のテトラアクリレート化合物等が
挙げられる。As another essential component of the present invention, the molecular weight is less than 500 (
Examples of the meth)acrylate compound (B) include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, (
Butyl meth)acrylate, 2-ethylhexyl(meth)
Acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, tolyloxyethyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, dicyclo Pentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth)acrylate, N- Monoacrylate compounds such as methylvinylpyrrolidone, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, (meth)acryloxyethyl succinate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate,
1.6-hexanethiol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol (meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di(meth)acrylate,
Dicyclopentenyl di(meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid di(meth)acrylate, ethylene oxide modified bispheno-7L/A di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, etc. diacrylate compounds, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol (meth)
Acrylate, triacrylate compounds such as propylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tetra(
Examples include tetraacrylate compounds such as meth)acrylate.
これらの(メタ)アクリレート(8)でポリエチレンテ
レフタレートに対する接着性に優れる点で下記一般式(
1)で示される(メタ)アクリレート化合物である。Since these (meth)acrylates (8) have excellent adhesive properties to polyethylene terephthalate, the following general formula (
This is a (meth)acrylate compound represented by 1).
A −(CHz)、lB・・・・・・・・・ (1)こ
の中で特に好ましい化合物は、テトラヒドロフルフリ−
ルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、トル
イルオキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート
である。A-(CHz), lB... (1) Among these, particularly preferred compounds are tetrahydrofurfree-
acrylate, phenoxyethyl acrylate, tolyloxyethyl acrylate, and benzyl acrylate.
これらの化合物を使用した放射線硬化型樹脂組成物は、
放射線に対する硬化性、金属及びプラスチック類特にポ
リエチレンテレフタレートに対する密着性、耐沸水性、
耐溶剤性、耐候性に優れており好ましい。Radiation-curable resin compositions using these compounds are
Radiation curability, adhesion to metals and plastics, especially polyethylene terephthalate, boiling water resistance,
It is preferred because it has excellent solvent resistance and weather resistance.
本発明の放射線硬化型樹脂組成物は上記のウレタンアク
リレート樹脂(A)と(メタ)アクリレート化合物(B
)を配合したものであって、その配合比率は重量比で(
A) / (B) = 80/20〜20 / 80の
範囲である。(^)が20重量%未滴になるとウレタン
アクリレート樹脂としての特性が失なわれ、金属及びプ
ラスチック類に対する密着性の低下、耐溶剤性、耐候性
の低下が生じ、好ましくない、また(A)が80重量%
を越えると粘度が高過ぎて使用が困難になるだけでなく
、放射線に対する硬化性が悪くなり好ましくない。The radiation-curable resin composition of the present invention comprises the above-mentioned urethane acrylate resin (A) and (meth)acrylate compound (B).
), and the blending ratio is (by weight)
A)/(B) = ranges from 80/20 to 20/80. If (^) is less than 20% by weight, the properties as a urethane acrylate resin will be lost, and the adhesion to metals and plastics, solvent resistance, and weather resistance will decrease, which is undesirable. is 80% by weight
If it exceeds 100%, the viscosity will be too high, making it difficult to use, and the curing property against radiation will be poor, which is undesirable.
本発明の放射線硬化型樹脂組成物を製造する方法として
は、上記の方法でウレタンアクリレート樹脂(A)を合
成した後に(メタ)アクリレート化合物(B)を配合す
る方法がある。別なる方法としては、(メタ)アクリレ
ート化合物(B)を反応溶媒としてウレタンアクリレー
ト樹脂(A)を合成する方法がある。As a method for producing the radiation-curable resin composition of the present invention, there is a method in which the urethane acrylate resin (A) is synthesized by the method described above, and then the (meth)acrylate compound (B) is blended. Another method is to synthesize the urethane acrylate resin (A) using the (meth)acrylate compound (B) as a reaction solvent.
本発明の放射線硬化型樹脂組成物には有機溶剤を加える
ことができる。有機溶剤は揮発性のものに限定され、放
射線硬化前に加熱乾燥環により大部分もしくは全部が揮
発する必要がある。使用可能な溶剤としては、アセトン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
レングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族R化水素類、ヘ
キサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類
、またはこれらの混合物等がある0本発明のウレタンア
クリレート樹脂(A)の合成時に使用した溶剤をそのま
ま使用することもできる。An organic solvent can be added to the radiation-curable resin composition of the present invention. Organic solvents are limited to volatile ones, and most or all of them must be volatilized by a heating drying ring before radiation curing. Usable solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, and ethylene glycol monoethyl ether, benzene, toluene, and xylene. aromatic R-hydrogens such as hexane, aliphatic hydrocarbons such as heptane, methanol,
The solvent used in the synthesis of the urethane acrylate resin (A) of the present invention, such as alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol, or mixtures thereof, can also be used as is.
本発明において使用する放射線は紫外線、電子線、T線
、中性子線等である。紫外線を使用する場合には放射線
硬化型塗料組成物に光開始剤を添加することが望ましい
。Radiation used in the present invention includes ultraviolet rays, electron beams, T-rays, neutron beams, and the like. When using ultraviolet radiation, it is desirable to add a photoinitiator to the radiation-curable coating composition.
光開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、
ベンジルエチルケタール、ヘンジインイソブチルケトン
、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシ
シクロへキシルフェニルケトン、2.2−ジェトキシア
セトフェノン、ミヒラーケトン、2−ヒドロキシ−2−
メチルプロピオフェノン、ベンジル、ジエチルチオキサ
ンソン、2−クロロチオキサンソン、ヘンジイルエトキ
シホスフィンオキサイド、1−1リメチルベンゾイルジ
フエニルホスインオキサイド等が使用できる。また必要
に応じてn−ブチルアミン、ジローブチルアミントリエ
チルアミン等の光増感剤があげられる。Photoinitiators include acetophenone, benzophenone,
benzoin ethyl ether, benzyl methyl ketal,
Benzyl ethyl ketal, hendiine isobutyl ketone, hydroxydimethyl phenyl ketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2-jethoxyacetophenone, Michler's ketone, 2-hydroxy-2-
Methylpropiophenone, benzyl, diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, hendiylethoxyphosphine oxide, 1-1-limethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, and the like can be used. Also, if necessary, photosensitizers such as n-butylamine, dibutylamine triethylamine, etc. may be used.
電子線照射機としてはスキャニング方式、あるいはカー
テンビーム方式が採用でき、吸収線量は1〜20Mra
d好ましくは2〜15Mradが良い、吸収線量がI
Mrad未満では硬化反応が不充分であり、20Mra
dを越えると硬化に使用されるエネルギー効率が低下し
たり、過度の架橋が進行したりするため、好ましくない
。The scanning method or curtain beam method can be used as the electron beam irradiator, and the absorbed dose is 1 to 20 Mra.
d Preferably 2 to 15 Mrad, absorbed dose I
If the curing reaction is less than 20 Mrad, the curing reaction is insufficient.
If it exceeds d, the energy efficiency used for curing may decrease or excessive crosslinking may proceed, which is not preferable.
本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、放射線に対する優
れた硬化性、金属及びプラスチック類に対する密着性、
耐溶剤性、耐沸水性、耐候性に優れるという特徴を生か
し、接着剤、コーティング剤、インキ、塗料、レジスト
材料、磁気記録媒体のバインダー等の様々な用途に使用
できる。The radiation curable resin composition of the present invention has excellent radiation curability, adhesion to metals and plastics,
Taking advantage of its excellent solvent resistance, boiling water resistance, and weather resistance, it can be used in a variety of applications such as adhesives, coating agents, inks, paints, resist materials, and binders for magnetic recording media.
(実施例) 以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.
実施例中単に部とあるのは重量部を示す。In the examples, parts simply indicate parts by weight.
〈共重合ポリエステルポリオールの製造例〉温度計、攪
拌機、蒸留類、コンデンサー、減圧装置を具備した反応
容器中に、ジメチルテレフタレート440部、ジメチル
イソフタレート440部、エチレングリコール279部
、ヘキサンジオール274部、及びテトラブトキシチタ
ネート0.5部を仕込み、150〜230℃で120分
間加熱してエステル交−換反応をさせた0次いで反応系
を1018gに減圧し30分間で250℃まで昇温しで
反応を行ない、共重合ポリエステル−ポリオールAを得
た。<Production example of copolymerized polyester polyol> In a reaction vessel equipped with a thermometer, stirrer, distillate, condenser, and pressure reducing device, 440 parts of dimethyl terephthalate, 440 parts of dimethyl isophthalate, 279 parts of ethylene glycol, 274 parts of hexanediol, and 0.5 part of tetrabutoxytitanate were charged and heated at 150 to 230°C for 120 minutes to cause transesterification.The reaction system was then depressurized to 1018g and heated to 250°C for 30 minutes to carry out the reaction. A copolymerized polyester-polyol A was obtained.
ポリエステルポリオールAの分子量は2.000であっ
た、同様の方法により得られたポリエステルポリオール
B−Eを第1表に示した。樹脂組成は”HNMRにより
分析した。The molecular weight of polyester polyol A was 2.000. Polyester polyols B-E obtained by a similar method are shown in Table 1. The resin composition was analyzed by HNMR.
第1表
溶解後、イソホロンジイソシアネート22部及びジブチ
ル錫ジラウレート0.05部を仕込み、70〜80″C
で2時間反応させた後、更に2−ヒドロキシエチルアク
リレート12部を加え70〜80℃で5時間反応させて
、ウレタンアクリレート樹脂のフェノキシエチルアクリ
レート溶液である放射線硬化型樹脂組成物Aを得た。ウ
レタンアクリレート樹脂の分子量は3,000であった
。同様の方法によりウレタンアクリレート樹脂を合成し
、放射線硬化型樹脂組成物B−Gを得た。得られた組成
物を第2表に示す。Table 1 After dissolving, add 22 parts of isophorone diisocyanate and 0.05 part of dibutyltin dilaurate, and
After reacting for 2 hours, 12 parts of 2-hydroxyethyl acrylate was further added and the reaction was carried out at 70 to 80°C for 5 hours to obtain radiation-curable resin composition A, which is a phenoxyethyl acrylate solution of urethane acrylate resin. The molecular weight of the urethane acrylate resin was 3,000. A urethane acrylate resin was synthesized by the same method to obtain a radiation-curable resin composition BG. The resulting compositions are shown in Table 2.
以下余白
く放射線硬化型樹脂組成物の製造例〉
温度計、攪拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中に
共重合ポリエステルポリオールA100部、フェノキシ
エチルアクリレート134部を仕込み、第
表
実施例1および比較例1
第2表に示した放射線硬化型樹脂組成物A−Gをポリエ
チレンテレフタレートシート上に硬化後の厚みが10I
IIlになるように、アプリケーターを用いて塗布した
。Examples of producing radiation-curable resin compositions are shown below in the margins> 100 parts of copolyester polyol A and 134 parts of phenoxyethyl acrylate were charged into a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux type condenser. Comparative Example 1 Radiation-curable resin compositions A to G shown in Table 2 were placed on a polyethylene terephthalate sheet with a thickness of 10I after curing.
It was applied using an applicator so that the amount of paint was 110%.
次いで加速電圧165KV、電流2.5m^、吸収線量
7.5Mradの電子線照射を行ない硬化皮膜を作成し
た。同様の方法により亜鉛メツキ鋼板、ポリカーボネー
トシート、ポリイミドシート、塩ビシート上に硬化皮膜
を作製した。Next, electron beam irradiation was performed at an accelerating voltage of 165 KV, a current of 2.5 m^, and an absorbed dose of 7.5 Mrad to form a cured film. Cured films were produced on galvanized steel sheets, polycarbonate sheets, polyimide sheets, and vinyl chloride sheets using the same method.
硬化皮膜の評価は以下の方法で行なった。The cured film was evaluated using the following method.
0ゲル分率
硬化皮膜を円筒濾紙に入れ、ソックスレー抽出器を用い
て、メチルエチルケトンにより24時間抽出を行なった
0円筒源紙内の残渣を乾燥した後、秤量し、抽出前の重
量とから不溶分の重量分率を算出し、ゲル分率とした。The 0 gel fraction cured film was placed in a thimble filter paper and extracted with methyl ethyl ketone for 24 hours using a Soxhlet extractor. After drying the residue in the 0 cylindrical source paper, it was weighed and the insoluble content was determined from the weight before extraction. The weight fraction of was calculated and used as the gel fraction.
0密着性
皮膜にカッターで1■×100ケの基盤目を切り、セロ
ハンテープを貼り付け、引きはがして密着性を試験した
。Adhesion was tested by cutting 1 x 100 base lines on the film with a cutter, pasting cellophane tape on it, and peeling it off.
○耐溶剖性
硬化皮膜の表面を、ガーゼにエタノールを含ませて50
回こすった後の表面状態を観察した。○The surface of the dissection-resistant cured film was coated with gauze soaked in ethanol for 50 minutes.
The surface condition after rubbing twice was observed.
O:異常なし。O: No abnormality.
Δ:傷付きあり。Δ: There are scratches.
×:塗膜がはがれる。×: The coating film peels off.
○耐沸水性
湧水中に硬化皮膜を浸せき後、2時間煮沸し、皮膜の表
面状態を目視判定した。○ Boiling Water Resistance After immersing the cured film in spring water, it was boiled for 2 hours and the surface condition of the film was visually judged.
○:異常なし。○: No abnormality.
Δ:わずかに曇るもしくはわずかにはがれる。Δ: Slightly cloudy or slightly peeled.
×:ひどく曇るもしくははがれる。×: Severe clouding or peeling.
O耐候性
促進耐候性試験機(Quv)で300時間暴露後の光沢
の変化を目視判定した。Changes in gloss after 300 hours of exposure were visually determined using an accelerated weathering tester (QUV).
O:異常なし。O: No abnormality.
Δ:光沢がわずかに低下する。Δ: Gloss slightly decreases.
×:光沢がひどく低下する。×: Gloss is severely reduced.
比較例2
実施例1において放射線硬化型樹脂組成物A〜Gの代わ
りに、放射線硬化型樹脂組成物Aの成分であるフェノキ
シエチルアクリレートをメチルエチルケトンに代えたも
のを使用し、電子線照射前に80℃で20分間加熱乾燥
する以外は実施例1と同様にして硬化皮膜を作製し評価
を行なった。Comparative Example 2 In Example 1, instead of radiation-curable resin compositions A to G, phenoxyethyl acrylate, which is a component of radiation-curable resin composition A, was replaced with methyl ethyl ketone, and 80% was used before electron beam irradiation. A cured film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that it was dried by heating at .degree. C. for 20 minutes.
比較例3
実施例1において放射線硬化型樹脂組成物A〜Eの代わ
りにフェノキシエチルアクリレートを使用する以外は実
施例1と同様にして硬化皮膜を作製しようとしたが、電
子線照射により硬化せず、評価を行なうことができなか
った。Comparative Example 3 An attempt was made to produce a cured film in the same manner as in Example 1 except that phenoxyethyl acrylate was used instead of radiation-curable resin compositions A to E in Example 1, but it did not cure by electron beam irradiation. , it was not possible to conduct an evaluation.
以下余白
実施例2および比較例4
第2表に示した放射線硬化型樹脂組成物A−E100部
□、に対し、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェ
ノンを2.5部加え、ポリエチレンテレフタレートシー
ト上に硬化後の厚みがIOM−になるようにアプリケー
タを用いて塗布した0次いで6.4KWX J灯水冷式
低圧水銀灯で500+J/cjの紫外線照射を行ない硬
化皮膜を作製した。同様の方法により亜鉛メツキ鋼板、
ポリカーボネートシート、ポリイミドシート、塩ビシー
ト上に硬化皮膜を作製し、実施例1と同様にして評価を
行なった。Below are margins Example 2 and Comparative Example 4 2.5 parts of 2-hydroxy-2-methylpropiophenone was added to 100 parts of the radiation-curable resin composition A-E shown in Table 2, and a polyethylene terephthalate sheet was prepared. A cured film was prepared by applying ultraviolet rays at 500+J/cj using a 6.4 KWX J light water-cooled low-pressure mercury lamp. Galvanized steel sheet by the same method,
A cured film was prepared on a polycarbonate sheet, a polyimide sheet, and a vinyl chloride sheet, and evaluated in the same manner as in Example 1.
比較例5
実施例2において放射線硬化型樹脂組成物A〜Eの代わ
り、に放射線硬化型樹脂組成物Aの成分であるフェノキ
シエチルアクリレートをメチルエチルケトンに代えたも
のを使用し、紫外線照射前に80℃で20分間加熱乾燥
する以外は実施例2と同様にして評価を行なった。Comparative Example 5 In place of radiation-curable resin compositions A to E in Example 2, phenoxyethyl acrylate, a component of radiation-curable resin composition A, was replaced with methyl ethyl ketone, and the temperature was heated to 80°C before ultraviolet irradiation. Evaluation was conducted in the same manner as in Example 2, except that the sample was dried by heating for 20 minutes.
比較例6
実施例2において放射線硬化型樹脂組成物A〜Eの代わ
りにフェノキシエチルアクリレートを使用する以外は実
施例2と同様にして硬化皮膜を作製しようとしたが、紫
外線照射により硬化せず、評価を行なうことができなか
った。Comparative Example 6 An attempt was made to produce a cured film in the same manner as in Example 2 except that phenoxyethyl acrylate was used instead of radiation-curable resin compositions A to E, but the film did not harden due to ultraviolet irradiation. It was not possible to conduct an evaluation.
以下余白
(発明の効果)
本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、放射線に対する硬
化性に優れ、硬、化後の皮膜は、金属及びプラスチック
類に対する密着性、耐溶剤性、耐湧水性、耐候性に優れ
たものが得られる。The following margin (effects of the invention) The radiation-curable resin composition of the present invention has excellent radiation curability, and the film after hardening and curing has excellent adhesion to metals and plastics, solvent resistance, spring water resistance, and weather resistance. You can obtain products with excellent properties.
手 続 補 正 書 (自発) 平成2年11月21日 特許出願人 東洋紡績株式会社 1゜ & 事件の表示 平成2年特許願第173887号 発明の名称 放射線硬化型樹脂組成物 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪市北区堂島浜二丁目2番8号 & 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 補正の内容 「水素」を「水酸」に訂正する。hand Continued Supplementary Positive book (spontaneous) November 21, 1990 Patent applicant: Toyobo Co., Ltd. 1゜ & Display of incidents 1990 Patent Application No. 173887 name of invention Radiation curable resin composition person who makes corrections Relationship to the case Patent applicant 2-2-8 Dojimahama, Kita-ku, Osaka & “Detailed description of the invention” column in the specification Contents of correction Correct "hydrogen" to "hydroxy acid".
■ 同第14頁第3行目 「(メタ)アクリレート」の次に「化合物」挿入する。■Page 14, line 3 Insert "compound" after "(meth)acrylate".
■ 同第14頁第4行目 「優れる点で」の次に「好ましい化合物は」挿入する。■ Page 14, line 4 After "excellent points", insert "preferred compounds".
に)同第21頁の第2表中の第14行目を を 同第25頁の第3表中 に訂正する。) Line 14 of Table 2 on page 21 of the same of In Table 3 on page 25 of the same Correct.
訂正する。correct.
−1に-1 to
Claims (4)
上、グリコール成分として1,6−ヘキサンジオールを
20モル%以上含有する共重合ポリエステルポリオール
、(1) A copolymerized polyester polyol containing 40 mol% or more of aromatic dicarboxylic acid as an acid component and 20 mol% or more of 1,6-hexanediol as a glycol component,
以上の水酸基を有する化合物、及び必要により、(3) A compound having one or more (meth)acryloyloxy groups and one or more hydroxyl groups, and if necessary,
ンとを反応させて得られる分子量が1,000〜20,
000のウレタンアクリレート樹脂(A)と分子量が5
00未満の(メタ)アクリレート化合物(B)とが80
/20〜20/80の重量比率で含有してなることを特
徴とする放射線硬化型樹脂組成物。(4) The molecular weight obtained by reacting with a polyol and/or polyamine other than (1) above is 1,000 to 20,
000 urethane acrylate resin (A) and molecular weight 5
The (meth)acrylate compound (B) less than 00 is 80
1. A radiation-curable resin composition comprising: a weight ratio of /20 to 20/80.
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Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
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JP2007503491A (en) * | 2003-08-27 | 2007-02-22 | サイテク サーフェィス スペシャルティーズ オーストリア ゲーエムベーハー | Radiation-curable unsaturated polyester / urethane resin |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5416591A (en) * | 1977-07-08 | 1979-02-07 | Kansai Paint Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS63235317A (en) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Kuraray Co Ltd | Urethane-modified acrylate composition |
JPS649212A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Nippon Synthetic Chem Ind | Resin composition curable with actinic radiation |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5416591A (en) * | 1977-07-08 | 1979-02-07 | Kansai Paint Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS63235317A (en) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Kuraray Co Ltd | Urethane-modified acrylate composition |
JPS649212A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Nippon Synthetic Chem Ind | Resin composition curable with actinic radiation |
JPH02618A (en) * | 1987-12-16 | 1990-01-05 | Toyobo Co Ltd | Radiation-curable resin and recording medium prepared by using same |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002052681A (en) * | 2000-08-09 | 2002-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | Decorative sheet and its manufacturing method |
JP2007503491A (en) * | 2003-08-27 | 2007-02-22 | サイテク サーフェィス スペシャルティーズ オーストリア ゲーエムベーハー | Radiation-curable unsaturated polyester / urethane resin |
JP4733637B2 (en) * | 2003-08-27 | 2011-07-27 | サイテク サーフェィス スペシャルティーズ オーストリア ゲーエムベーハー | Radiation-curable unsaturated polyester / urethane resin |
WO2007099753A1 (en) * | 2006-03-03 | 2007-09-07 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Active ray-curable composition, active ray-curable inkjet ink using same, image-forming method and inkjet recording apparatus |
JP2012038499A (en) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Jsr Corp | Radiation curable resin composition for wire coating layer formation |
JP2011136578A (en) * | 2011-03-03 | 2011-07-14 | Dainippon Printing Co Ltd | Decorative sheet and manufacturing method of the same |
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