JPH0457297A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH0457297A
JPH0457297A JP2164613A JP16461390A JPH0457297A JP H0457297 A JPH0457297 A JP H0457297A JP 2164613 A JP2164613 A JP 2164613A JP 16461390 A JP16461390 A JP 16461390A JP H0457297 A JPH0457297 A JP H0457297A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word line
transistor
potential
power supply
drive circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2164613A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3070068B2 (en
Inventor
Masahide Kaneko
金子 正秀
Ryuichi Matsuo
龍一 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP16461390A priority Critical patent/JP3070068B2/en
Publication of JPH0457297A publication Critical patent/JPH0457297A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3070068B2 publication Critical patent/JP3070068B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To speedily select a word line without damaging the degree of integration by turning on a second transistor (Tr) when exceeding a second threshold voltage, and connecting the word line through a first Tr to a power source as the result. CONSTITUTION:At time t0, the word line selected by the H drive of an X decoder 4 starts rising. When the potential of the most distant part of the word line exceeds a threshold voltage Vth' of a Tr31 at time tV, the Tr 31 is changed from OFF to ON. Since the resistance value of a resistor 33 is enough higher than the ON resistance of the Tr 31, the gate potential of a Tr 32 is made L. Since the Tr 32 is turned on as the result, it is connected to a power supply word line 2 and the H drive of an auxiliary drive circuit 10' is operated. By the H drive of the circuit 10', the rising potential change of the most distant part of the word line is made sharp.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は第1及び第2の電源に接続され、マトリクス
状に配置され行単位にワード線に接続されたメモリセル
を有し、行デコーダにより選択された前記ワード線を第
1の電源電位に設定し、非選択の前記ワード線を第2の
電源電位に設定することにより、メモリセルの行選択を
行う半導体記憶装置に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] This invention has memory cells connected to first and second power supplies, arranged in a matrix, and connected to word lines in units of rows, and a row decoder. The present invention relates to a semiconductor memory device in which a row of memory cells is selected by setting the selected word line to a first power supply potential and setting the unselected word line to a second power supply potential.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第4図はメモリセルがマトリクス状に配置された半導体
記憶装置の1っであるマスクROMの構成を示す回路構
成図である。
FIG. 4 is a circuit configuration diagram showing the configuration of a mask ROM, which is one of the semiconductor memory devices in which memory cells are arranged in a matrix.

同図に示すように、メモリトランジスタ1かマトリクス
状に配置されており、そのゲートが行単位で共通にワー
ド線2に接続され、そのドレインが列単位で共通にビッ
ト線3に接続されている。
As shown in the figure, memory transistors 1 are arranged in a matrix, their gates are commonly connected to a word line 2 in each row, and their drains are commonly connected to a bit line 3 in each column. .

ワード線2はXデコーダ4に接続され、ビット線3はY
デコーダ5に接続されている。
Word line 2 is connected to X decoder 4 and bit line 3 is connected to Y decoder 4.
It is connected to the decoder 5.

Xデコーダ4は図示しない外部入力信号に基づき、複数
のワード線2のうち1本の選択ワード線2をHレベルに
、他の非選択ワード線2をLレベルにドライブする。X
デコーダ4による上記ドライブは、−射的にXデコーダ
4内部のドライブ回路により行われる。
Based on an external input signal (not shown), the X decoder 4 drives one selected word line 2 among the plurality of word lines 2 to the H level and drives the other unselected word lines 2 to the L level. X
The above driving by the decoder 4 is carried out by a drive circuit inside the X decoder 4.

そして、Yデコーダ5は図示しない外部入力信号に基づ
き、複数のビット線3のうち1本のビット線3を選択し
、この選択ビット線3と選択ワF線2との交点にあるメ
モリトランジスタ1の記憶内容を読み出す。
Then, the Y decoder 5 selects one bit line 3 from among the plurality of bit lines 3 based on an external input signal (not shown), and selects a memory transistor 1 at the intersection of the selected bit line 3 and the selected wire F line 2. Read the memory contents of.

ところで、メモリの大容量化に伴い、ワード線2の長さ
が長くなる傾向にあり、その結果、ワド線2はその長さ
に比例して無視てきない抵抗成分を有してしまう。従っ
て、Xデコーダ4に一番近い位置にあるメモリトランジ
スタ1まてのワード線2の抵抗値rOと、Xデコーダ4
に一番遠い位置にあるメモリトランジスタ1まてのワー
ド線2の抵抗値rEとに違いが生じる。
By the way, as the capacity of memory increases, the length of the word line 2 tends to increase, and as a result, the word line 2 has a resistance component that cannot be ignored in proportion to its length. Therefore, the resistance value rO of the word line 2 up to the memory transistor 1 located closest to the X decoder 4 and the
There is a difference between the resistance value rE of the word line 2 and the memory transistor 1 located farthest from the word line 2.

その結果、第5図に示すように、ワード線2のHレベル
立ち上がり時において、Xデコーダ4に一番近い位置に
あるメモリトランジスタ1のゲート下のワード線2(以
下、ワード線最近部と略す)の電位変化しOに比べ、X
デコーダ4に一番遠い位置にあるメモリトランジスタ1
のゲート下のワード線2(以下、ワード線最遠部と略す
)の電位変化LEか緩やかになり、全体としての立ち上
がり時間が遅くなる。同様のことがワード線のLレベル
立ち下がり時にもいえる。この立ち上がり及び立ち下が
り時間の遅延は、マスクROMのアクセス時間の低速化
につながるという問題があった。
As a result, as shown in FIG. 5, when the word line 2 rises to the H level, the word line 2 (hereinafter abbreviated as the nearest word line) under the gate of the memory transistor 1 located closest to the X decoder 4. ) changes in potential, compared to O,
Memory transistor 1 located farthest from decoder 4
The potential change LE of the word line 2 below the gate (hereinafter abbreviated as the farthest part of the word line) becomes gradual, and the rise time as a whole becomes slow. The same thing can be said when the word line falls to the L level. This delay in rise and fall times has the problem of slowing down the access time of the mask ROM.

上記問題を改善するために、第6図に示すようなワード
線の立ち上がり及び立ち下がり動作を補助する補助ドラ
イブ回路10を、Xデコーダ4が接続されていない側の
ワード線2の末端に接続する。補助ドライブ回路10は
、PMOS)ランジスタ21とNMOS)ランジスタ2
2とからなり入力がワード線2の末端に接続されたイン
バータ11と、PMOS)ランジスタ23とNMOSト
ランジスタ24とからなるインバータI2を直列接続し
、インバータI2の出力をインバータ11の入力に帰還
させている。なお、rはワード線2全体の抵抗値を示し
ている。
In order to improve the above problem, an auxiliary drive circuit 10 that assists the rise and fall operations of the word line as shown in FIG. 6 is connected to the end of the word line 2 on the side to which the X decoder 4 is not connected. . The auxiliary drive circuit 10 includes a PMOS) transistor 21 and an NMOS) transistor 2.
An inverter 11 consisting of 2 and whose input is connected to the end of the word line 2, and an inverter I2 consisting of a PMOS transistor 23 and an NMOS transistor 24 are connected in series, and the output of the inverter I2 is fed back to the input of the inverter 11. There is. Note that r indicates the resistance value of the entire word line 2.

以下、補助ドライブ回路10の働きを第5図を参照して
説明する。ワード線選択時に補助ドライブ回路10がな
い場合、時刻toにワード線最遠部が立ち上がると、最
終的にHレベルに達するのは時刻tEである。しかしな
がら、補助ドライブ回路10がある場合、電位変化LE
’に示すように、時刻toにワード線最遠部が立ち上が
った後、時刻t1にワード線最遠部の電位かインバータ
11の閾値電圧vthを越えると、インバータ11がH
からLに反転し、これに伴いインバータI2がLからH
に反転する。その結果、補助ドライブ回路10によるH
ドライブ駆動が働き、ワード線最遠部の電位変化が急俊
になり、最終的にHレベルに達するのは時刻tHとなり
時刻tEより速くなる。
The function of the auxiliary drive circuit 10 will be explained below with reference to FIG. If the auxiliary drive circuit 10 is not present when the word line is selected, when the farthest part of the word line rises at time to, it finally reaches the H level at time tE. However, if the auxiliary drive circuit 10 is present, the potential change LE
' As shown in FIG.
Accordingly, inverter I2 changes from L to H.
to be reversed. As a result, H by the auxiliary drive circuit 10
The drive operates, and the potential change at the farthest part of the word line becomes rapid, and finally reaches the H level at time tH, which is faster than time tE.

一方、選択ワード線が非選択になる場合も、ワード線最
遠部が立ち下がり、その電位がインバータ11の閾値電
圧vthを下回ると、インバータ11がLからHに反転
し、これに伴いインバータ■2がHからLに反転するた
め、補助ドライブ回路10によるしドライブ駆動が働き
、ワード線最遠部の電位変化が急俊になり、最終的にL
レベルに達する時刻は従来より速くなる。
On the other hand, even when the selected word line becomes unselected, when the farthest part of the word line falls and its potential falls below the threshold voltage vth of the inverter 11, the inverter 11 is inverted from L to H, and as a result, the inverter 2 is inverted from H to L, the auxiliary drive circuit 10 operates, and the potential change at the farthest part of the word line becomes rapid, and finally the L
The time to reach the level will be faster than before.

もっとも、マスクROMのアクセス時間の遅延の主因と
なるのは、ワード線をHレベルに充電する立ち上がり時
間の遅延であり、基本的には立ち上がり時間の短縮化が
図れれば良い。
However, the main cause of the delay in the access time of the mask ROM is the delay in the rise time for charging the word line to the H level, and basically it is sufficient if the rise time can be shortened.

このように、最も立ち上がり及び立ち下がりに時間がか
かるワード線最遠部の立ち上がり及び立ち下がり時間が
補助ドライブ回路10により速められることにより、R
OMのアクセス時間の高速化を実現している。なお、イ
ンバータ11の閾値電圧vthは、インバータII、I
2の2つの反転動作(H→L、L−+H)が安定に行わ
れるように、H(V  )、L(Ov)の中間値(■o
o/2)にC 設定するのが望ましい。
In this way, by speeding up the rise and fall times of the furthest part of the word line, which takes the longest time to rise and fall, by the auxiliary drive circuit 10, R
This realizes faster OM access times. Note that the threshold voltage vth of the inverter 11 is the same as that of the inverters II and I.
The intermediate value (■ o
It is desirable to set C to o/2).

また、補助ドライブ回路10は、第7図に示すように、
ワード線2の中心部に設けることもできる。なお、同図
において、r / 2はワード線2の半分の長さ分の抵
抗値を示している。
Further, the auxiliary drive circuit 10, as shown in FIG.
It can also be provided at the center of the word line 2. Note that in the figure, r/2 indicates the resistance value for half the length of the word line 2.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、上記補助ドライブ回、路10を構成する
ため、少なくとも4つのトランジスタを形成する必要が
有り、このような補助ドライブ回路10をワード線ごと
に設けることは集積度を損ね、メモリの大容量化の大き
な障害となるという問題点があり、実用性が乏しかった
However, in order to configure the auxiliary drive circuit 10, it is necessary to form at least four transistors, and providing such an auxiliary drive circuit 10 for each word line impairs the degree of integration and increases the capacity of the memory. The problem was that it was a major hindrance, and its practicality was poor.

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、ワード線が抵抗成分を有しても、集積度を損
ねることなくワード線の選択を速やかに行うことができ
る半導体記憶装置を得ることを目的とする。
This invention has been made to solve the above-mentioned problems, and provides a semiconductor memory device that can quickly select a word line without impairing the degree of integration even if the word line has a resistance component. The purpose is to obtain.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明にかかる半導体記憶装置は、第1及び第2の電
源に接続され、マトリクス状に配置され行単位にワード
線に接続されたメモリセルを有し、行デコーダにより選
択された前記ワード線を第1の電源電位に設定し、非選
択の前記ワード線を第2の電源電位に設定することによ
り、メモリセルの行選択を行い、前記ワード線に接続さ
れた補助ドライブ回路を備えており、この補助ドライブ
回路は、一方電極が前記第1の電源に接続され、他方電
極が前記ワード線に接続され、制御電極に前記第1及び
第2の電源電位の中間電位である第1の閾値電圧より前
記第2の電源電位側の電位が与えられるとオンする第1
の導電型の第1のトランジスタと、一方電極か前記第2
の電源に接続され、制御電極が前記ワード線に接続され
、制御電極に前記第1及び第2の電源電位の中間電位で
ある第2の閾値電圧より前記第1の電源電位側の電位が
与えられるとオンする第2の導電型の第2のトランジス
タと、一端が前記第1の電源に接続され、他端が前記第
2のトランジスタの他方電極及び前記第1のトランジス
タの制御電極に接続され、その抵抗値が前記第2のトラ
ンジスタのオン抵抗より十分大きい抵抗とから構成され
ている。
A semiconductor memory device according to the present invention has memory cells connected to first and second power supplies, arranged in a matrix, and connected to word lines in units of rows, and has memory cells connected to word lines selected by a row decoder. A memory cell row is selected by setting the word line to a first power supply potential and setting the unselected word line to a second power supply potential, and includes an auxiliary drive circuit connected to the word line. This auxiliary drive circuit has one electrode connected to the first power supply, the other electrode connected to the word line, and a control electrode with a first threshold voltage that is an intermediate potential between the first and second power supply potentials. The first transistor turns on when a potential on the second power supply potential side is applied.
a first transistor having a conductivity type of
is connected to a power supply, a control electrode is connected to the word line, and a potential on the side of the first power supply potential is applied to the control electrode from a second threshold voltage that is an intermediate potential between the first and second power supply potentials. a second transistor of a second conductivity type that turns on when the transistor is turned on, one end of which is connected to the first power source, and the other end of which is connected to the other electrode of the second transistor and the control electrode of the first transistor; , and a resistor whose resistance value is sufficiently larger than the on-resistance of the second transistor.

〔作用、〕[action,]

この発明においては、メモリセルの行選択時に、選択さ
れたワード線の電位が第2の電源電位から第1の電源電
位に変化する際、第2の閾値電圧を越えると第2のトラ
ンジスタはオンし、抵抗と第2のトランジスタのオン抵
抗により分圧された電位が第1のトランジスタの制御電
極に与えられる。
In this invention, when the potential of the selected word line changes from the second power supply potential to the first power supply potential when selecting a row of memory cells, when the potential exceeds the second threshold voltage, the second transistor is turned on. However, a potential divided by the resistor and the on-resistance of the second transistor is applied to the control electrode of the first transistor.

このとき、抵抗の抵抗値は第2のトランジスタのオン抵
抗より十分大きく、第1のトランジスタの制御電極に与
えられる電位は第1の閾値電圧より第2の電源電位側の
電位となるため、第1のトランジスタがオンする。その
結果、第1のトランジスタを介してワード線は第1の電
源に接続されることにより第1の電源電位にドライブさ
れる。
At this time, the resistance value of the resistor is sufficiently larger than the on-resistance of the second transistor, and the potential applied to the control electrode of the first transistor is closer to the second power supply potential than the first threshold voltage. Transistor 1 turns on. As a result, the word line is connected to the first power supply via the first transistor and thereby driven to the first power supply potential.

〔実施例〕〔Example〕

第1図はこの発明の一実施例であるマスクROMのワー
ド線周辺を示した回路構成図である。同図に示すように
、補助ドライブ回路10′を、Xデコーダ4が接続され
ていない側のワード線2の末端に接続している。補助ド
ライブ回路10′は、NMOS)ランジスタ31.PM
OSトランジスタ32及び抵抗33とから構成され、電
源、接地間に抵抗33とNMOS)ランジスタ31か直
列に接続される。抵抗33の抵抗値はNMOSトランジ
スタ31のオン抵抗より十分大きく設定されており、N
MOSトランジスタ31のゲートがワード線2の末端に
接続される。また、電源とワード線2との間にPMO5
)ランジスタ32が介挿され、このPMOSトランジス
タ32のゲートが抵抗33とNMOSトランジスタ31
のドレインとの間に接続される。なお、rはワード線2
全体の抵抗値を示している。また、マスクROMの全体
構成は第4図で示した従来例と同様である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the vicinity of a word line of a mask ROM which is an embodiment of the present invention. As shown in the figure, the auxiliary drive circuit 10' is connected to the end of the word line 2 to which the X decoder 4 is not connected. The auxiliary drive circuit 10' includes NMOS) transistors 31. PM
It is composed of an OS transistor 32 and a resistor 33, and the resistor 33 and NMOS transistor 31 are connected in series between the power supply and ground. The resistance value of the resistor 33 is set to be sufficiently larger than the on-resistance of the NMOS transistor 31, and N
The gate of MOS transistor 31 is connected to the end of word line 2. Also, PMO5 is connected between the power supply and word line 2.
) A transistor 32 is inserted, and the gate of this PMOS transistor 32 is connected to a resistor 33 and an NMOS transistor 31.
connected between the drain and the drain of the Note that r is word line 2
Shows the overall resistance value. Further, the overall structure of the mask ROM is similar to the conventional example shown in FIG.

第2図は第1図で示した補助ドライブ回路10を有する
マスクROMのワード線の選択動作を示したグラフであ
る。なお、同図において、LOがワード線最近部の電位
変化、LEは補助ドライブ回路10′がない場合のワー
ド線最遠部の電位変化、LE2が補助ドライブ回路10
′がある場合のワード線最遠部の電位変化を示している
。第2図に示すように、時刻toにXデコーダ4のHド
ライブ駆動により選択されたワード線(ワード線最近部
、ワード線最遠部)か立ち上がりを開始する。そして、
時刻tVでワード線最遠部の電位がNMOSトランジス
タ31の閾値電圧v th’ を越えると、NMOSト
ランジスタ31がオフ→オンに変化する。この時、抵抗
33の抵抗値はNMOSトランジスタ31のオン抵抗よ
り十分高いため、電源V。Cを抵抗31とNMOSトラ
ンジスタ31のオン抵抗とにより分圧して得られるPM
OSトランジスタ32のゲート電位はほぼLレベルに導
かれる。その結果、PMO5I−ランジスタ32がオン
するため、PMOSトランジスタ32を介して電源がワ
ード線2に接続されることにより、補助ドライブ回路1
0’ によるHドライブ駆動か働く。この補助ドライブ
回路10′によるHドライブ駆動により、ワード線最遠
部の立ち上がり電位変化が急俊になり、最終的にHレベ
ルに達するのは時刻tH’ となり、補助ドライブ回路
10′によるHドライブ駆動が働かないHレベル到達時
刻tEより速くなる。しかも、NMOSトランジスタ3
1の閾値電圧v th’ はCMOSインバータの閾値
電圧vthよりも低く設定することができるため、CM
OSインバータの直列接続により構成された従来の補助
ドライブ回路10(第6図、第7図参照)よりも、ワー
ド線のHレベル立ち上がり時間の短縮化が図れる。
FIG. 2 is a graph showing the word line selection operation of the mask ROM having the auxiliary drive circuit 10 shown in FIG. In the same figure, LO represents the potential change at the nearest part of the word line, LE represents the potential change at the farthest part of the word line without the auxiliary drive circuit 10', and LE2 represents the potential change at the farthest part of the word line without the auxiliary drive circuit 10'.
′ shows the potential change at the farthest part of the word line. As shown in FIG. 2, at time to, the word line selected by the H drive of the X decoder 4 (the nearest word line, the farthest word line) starts to rise. and,
When the potential at the farthest part of the word line exceeds the threshold voltage v th' of the NMOS transistor 31 at time tV, the NMOS transistor 31 changes from off to on. At this time, since the resistance value of the resistor 33 is sufficiently higher than the on-resistance of the NMOS transistor 31, the power supply V is applied. PM obtained by dividing C by the resistor 31 and the on-resistance of the NMOS transistor 31
The gate potential of OS transistor 32 is led to approximately L level. As a result, the PMO5I-transistor 32 is turned on, and the power is connected to the word line 2 via the PMOS transistor 32, so that the auxiliary drive circuit 1
H drive drive by 0' works. Due to this H drive drive by the auxiliary drive circuit 10', the rise potential change at the farthest part of the word line becomes rapid, and it finally reaches the H level at time tH', and the H drive drive by the auxiliary drive circuit 10' It becomes faster than the H level arrival time tE when it does not work. Moreover, NMOS transistor 3
1 can be set lower than the threshold voltage vth of the CMOS inverter.
Compared to the conventional auxiliary drive circuit 10 (see FIGS. 6 and 7) configured by connecting OS inverters in series, the rise time of the word line to the H level can be shortened.

一方、選択ワード線が非選択になる場合も、ワト線最遠
部が立ち下がりその電位がNMOSトランジスタの閾値
v th’ を下回ると、NMOSトランジスタ31が
オン→オフに変化し、PMOSトランジスタ32のゲー
ト電位はHレベルに導かれPMO3I−ランジスタ32
がオフする。その結果、NMOSトランジスタ31を介
してワード線2が接地されるため、補助ドライブ回路1
0′によるしドライブ駆動が働き、立ち下がり電位変化
が急俊になり、最終的にLレベルに達する時刻は従来よ
り速くなる。
On the other hand, even when the selected word line becomes unselected, when the farthest part of the word line falls and its potential falls below the threshold value v th' of the NMOS transistor, the NMOS transistor 31 changes from on to off, and the PMOS transistor 32 turns off. The gate potential is led to H level and PMO3I-transistor 32
turns off. As a result, the word line 2 is grounded via the NMOS transistor 31, so the auxiliary drive circuit 1
0', the drive is activated, the falling potential changes rapidly, and the time at which the voltage finally reaches the L level becomes faster than before.

第3図は補助ドライブ回路10′のレイアウトパターン
を示す平面図である。なお、同図において、口はコンタ
クトを示している。同図に示すように、ポリシリコンか
らなる抵抗33は電源配線40の幅方向に沿って形成さ
れており、その一端は電源配線40の端部とコンタクト
を介して接続され、他端はコンタクトを介してへρ配線
42に接続されるとともにPMOSトランジスタ32の
ポリシリコンゲート41と接続される。
FIG. 3 is a plan view showing the layout pattern of the auxiliary drive circuit 10'. Note that in the figure, the mouth indicates a contact. As shown in the figure, a resistor 33 made of polysilicon is formed along the width direction of the power supply wiring 40, and one end thereof is connected to the end of the power supply wiring 40 via a contact, and the other end is connected to the end of the power supply wiring 40 through a contact. It is connected to the ρ wiring 42 and to the polysilicon gate 41 of the PMOS transistor 32 through it.

PMO5)ランジスタ32のソースはコンタクトを介し
て電源配線40の端部に接続され、トレインはコンタク
トを介してAρ配線43に接続される。そして、このA
11配線43はコンタクトを介してNMOSl−ランジ
スタ31のポリシリコンゲートを兼ねたワード線2に接
続される。NMOSトランジスタ31のドレインはコン
タクトを介してAI配線42に接続され、ソースはポリ
シリコンからなるソース線43(接地レベルに導く)に
接続される。
PMO5) The source of the transistor 32 is connected to the end of the power supply wiring 40 through a contact, and the train is connected to the Aρ wiring 43 through a contact. And this A
The No. 11 wiring 43 is connected to the word line 2 which also serves as the polysilicon gate of the NMOS l-transistor 31 via a contact. The drain of the NMOS transistor 31 is connected to the AI wiring 42 via a contact, and the source is connected to a source line 43 made of polysilicon (leading to the ground level).

このようにレイアウトすることにより、補助ドライブ回
路10′が実現する。なお、第3図で示した抵抗33は
電源配線40の幅に沿って形成されており、マスクRO
Mの集積度をほとんど損ねることなく形成されているが
、これは電源配線40の幅が十分広いことが前提となっ
ている。しかしながら、近年、メモリチップをパッケー
ジに封入した際の応力等の影響からチップを保護するた
めにζメモリセルの周辺に幅の広い電源配線を配置する
のが一般的になっていることから、実用上なんら不都合
はない。
This layout realizes the auxiliary drive circuit 10'. Note that the resistor 33 shown in FIG. 3 is formed along the width of the power supply wiring 40, and the resistor 33 shown in FIG.
Although it is formed without substantially impairing the degree of integration of M, this is based on the premise that the width of the power supply wiring 40 is sufficiently wide. However, in recent years, it has become common practice to place wide power supply wiring around the ζ memory cell in order to protect the chip from the effects of stress when the memory chip is sealed in a package. There is no problem with the above.

このように2つのトランジスタと1つの抵抗により補助
ドライブ回路10′を構成している。抵抗は能動素子で
なく素子分離して形成する必要がないため、抵抗1つの
形成領域は2つのトランジスタの形成領域より小領域で
済む。したがって、従来よりコンパクトに補助ドライブ
回路を構成できるため、その分集積度が向上する。
In this way, two transistors and one resistor constitute the auxiliary drive circuit 10'. Since the resistor is not an active element and does not need to be formed separately, the region for forming one resistor can be smaller than the region for forming two transistors. Therefore, the auxiliary drive circuit can be configured more compactly than in the past, and the degree of integration is improved accordingly.

なお、この実施例ではマスクROMを例に挙げたが、実
質的に抵抗成分を有するワード線の選択動作を集積度を
損ねることなく高速に行う必要のある半導体記憶装置で
あれば、EPROM、E2FROM、SRAM、DRA
M等の他の半導体記憶装置にも本発明を適用することが
できる。また、補助ドライブ回路10′は、ワード線2
の末端に設けず中心部に設けることもできる。
In this embodiment, a mask ROM is used as an example, but if it is a semiconductor memory device that needs to select a word line that has a substantial resistance component at high speed without impairing the degree of integration, an EPROM or an E2FROM may be used. , SRAM, DRA
The present invention can also be applied to other semiconductor memory devices such as M. Further, the auxiliary drive circuit 10' is connected to the word line 2
It can also be provided in the center instead of at the end.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、この発明によれば、選択されたワ
ード線の電位が第2の電源電位から第1の電源電位に変
化する際、第2の閾値電圧を越えると第2のトランジス
タはオンし、これに伴い第1のトランジスタがオンする
ことにより、第]のトランジスタを介して第1の電源に
接続されることにより、ワード線は第1の電源電位にド
ライブされる。
As described above, according to the present invention, when the potential of the selected word line changes from the second power supply potential to the first power supply potential, the second transistor is turned on when it exceeds the second threshold voltage. Accordingly, the first transistor is turned on and connected to the first power supply via the second transistor, thereby driving the word line to the first power supply potential.

この第1のトランジスタがオンすることによる補助ドラ
イブ回路のドライブ駆動により、ワード線が多少の抵抗
成分を有していても、ワード線の選択を速やかに行うこ
とかできる。しかも、2つのトランジスタと1つの抵抗
により補助ドライブ回路が形成できるため、集積度も向
上する。
By driving the auxiliary drive circuit by turning on the first transistor, the word line can be selected quickly even if the word line has some resistance component. Furthermore, since the auxiliary drive circuit can be formed using two transistors and one resistor, the degree of integration is also improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例であるマスクROMのワー
ド線周辺を示した回路構成図、第2図は第1図で示した
補助ドライブ回路の動作説明用のグラフ、第3図は第1
図で示した補助ドライブ回路のレイアウトパターンを示
す平面図、第4図は従来のマスクROMの全体構成を示
す回路構成図、第5図は選択されたワード線の電位変化
を示すグラフ、第6図及び第7図はマスクROM内に形
成された補助ドライブ回路を示す回路図である。 図において、2はワード線、3]はNMOSトランジス
タ、32はPMOSトランジスタ、33は抵抗である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 第1図
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing the periphery of a word line of a mask ROM which is an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a graph for explaining the operation of the auxiliary drive circuit shown in FIG. 1, and FIG. 1
4 is a circuit configuration diagram showing the overall configuration of a conventional mask ROM, FIG. 5 is a graph showing potential changes of selected word lines, and FIG. 7 and 7 are circuit diagrams showing an auxiliary drive circuit formed within the mask ROM. In the figure, 2 is a word line, 3 is an NMOS transistor, 32 is a PMOS transistor, and 33 is a resistor. Note that the same reference numerals in each figure indicate the same or corresponding parts. Figure 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)第1及び第2の電源に接続され、マトリクス状に
配置され行単位にワード線に接続されたメモリセルを有
し、行デコーダにより選択された前記ワード線を第1の
電源電位に設定し、非選択の前記ワード線を第2の電源
電位に設定することにより、メモリセルの行選択を行う
半導体記憶装置において、 前記ワード線に接続された補助ドライブ回路を備え、 前記補助ドライブ回路は、 一方電極が前記第1の電源に接続され、他方電極が前記
ワード線に接続され、制御電極に前記第1及び第2の電
源電位の中間電位である第1の閾値電圧より前記第2の
電源電位側の電位が与えられるとオンする第1の導電型
の第1のトランジスタと、 一方電極が前記第2の電源に接続され、制御電極が前記
ワード線に接続され、制御電極に前記第1及び第2の電
源電位の中間電位である第2の閾値電圧より前記第1の
電源電位側の電位が与えられるとオンする第2の導電型
の第2のトランジスタと、 一端が前記第1の電源に接続され、他端が前記第2のト
ランジスタの他方電極及び前記第1のトランジスタの制
御電極に接続され、その抵抗値が前記第2のトランジス
タのオン抵抗より十分大きい抵抗とから構成されること
を特徴とする半導体記憶装置。
(1) It has memory cells connected to first and second power supplies, arranged in a matrix and connected to word lines in row units, and sets the word line selected by a row decoder to the first power supply potential. a semiconductor memory device that selects a row of memory cells by setting the unselected word line to a second power supply potential, further comprising an auxiliary drive circuit connected to the word line, the auxiliary drive circuit One electrode is connected to the first power source, the other electrode is connected to the word line, and the control electrode is lowered from a first threshold voltage, which is an intermediate potential between the first and second power source potentials, to the second power source. a first transistor of a first conductivity type that turns on when a potential on the power supply potential side is applied; one electrode is connected to the second power supply; a control electrode is connected to the word line; a second transistor of a second conductivity type that turns on when a potential closer to the first power supply potential than a second threshold voltage, which is an intermediate potential between the first and second power supply potentials; 1, the other end is connected to the other electrode of the second transistor and the control electrode of the first transistor, and the resistance value is sufficiently larger than the on-resistance of the second transistor. A semiconductor memory device characterized in that:
JP16461390A 1990-06-22 1990-06-22 Semiconductor storage device Expired - Lifetime JP3070068B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16461390A JP3070068B2 (en) 1990-06-22 1990-06-22 Semiconductor storage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16461390A JP3070068B2 (en) 1990-06-22 1990-06-22 Semiconductor storage device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0457297A true JPH0457297A (en) 1992-02-25
JP3070068B2 JP3070068B2 (en) 2000-07-24

Family

ID=15796522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16461390A Expired - Lifetime JP3070068B2 (en) 1990-06-22 1990-06-22 Semiconductor storage device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3070068B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993010535A1 (en) * 1991-11-22 1993-05-27 Fujitsu Limited Disc device
US5608592A (en) * 1992-10-29 1997-03-04 Fujitsu Limited Head actuator
GB2520277A (en) * 2013-11-13 2015-05-20 Advanced Risc Mach Ltd Controlling the voltage level on the word line to maintain performance and reduce access disturbs
US9105315B2 (en) 2012-07-23 2015-08-11 Arm Limited Controlling the voltage level on the word line to maintain performance and reduce access disturbs

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60226095A (en) * 1984-04-25 1985-11-11 Hitachi Micro Comput Eng Ltd Semiconductor storage device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60226095A (en) * 1984-04-25 1985-11-11 Hitachi Micro Comput Eng Ltd Semiconductor storage device

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993010535A1 (en) * 1991-11-22 1993-05-27 Fujitsu Limited Disc device
US5880904A (en) * 1991-11-22 1999-03-09 Fujitsu Limited Disk drive having a thickness equal to an IC memory card
US6016237A (en) * 1991-11-22 2000-01-18 Fujitsu Limited Shaft construction of a disk drive
US6025973A (en) * 1991-11-22 2000-02-15 Fujitsu Limited Construction for attaching a disk in a disk drive
US5608592A (en) * 1992-10-29 1997-03-04 Fujitsu Limited Head actuator
US9105315B2 (en) 2012-07-23 2015-08-11 Arm Limited Controlling the voltage level on the word line to maintain performance and reduce access disturbs
GB2520277A (en) * 2013-11-13 2015-05-20 Advanced Risc Mach Ltd Controlling the voltage level on the word line to maintain performance and reduce access disturbs
GB2520277B (en) * 2013-11-13 2016-07-20 Advanced Risc Mach Ltd Controlling the voltage level on the word line to maintain performance and reduce access disturbs

Also Published As

Publication number Publication date
JP3070068B2 (en) 2000-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10453519B2 (en) Semiconductor device
JP2507164B2 (en) Semiconductor memory device
JPH1116363A (en) Static ram
JP2005293759A5 (en)
JP4072127B2 (en) Semiconductor integrated circuit
KR940022836A (en) Nonvolatile Semiconductor Integrated Circuits with NAND Type
JP2828950B2 (en) Pad structure of semiconductor memory device
US4858182A (en) High speed zero power reset circuit for CMOS memory cells
JPH0457297A (en) Semiconductor memory
EP0590591B1 (en) Static random access memory for gate array devices
JP3181000B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0831581B2 (en) Semiconductor device
JPH0523000B2 (en)
JPH04318392A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH05120881A (en) Semiconductor storage device
JPH0477399B2 (en)
JP3266346B2 (en) Semiconductor storage device
JPH0230117B2 (en)
JP3186059B2 (en) Semiconductor device
JPH03246968A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0983348A (en) Variable logic circuit
JPH0224896A (en) Semiconductor memory
JPH0950693A (en) Memory and semiconductor device provided with it
JPH07182869A (en) Data writing method for semiconductor memory and semiconductor memory
JP3749294B2 (en) Decoder circuit for semiconductor memory device

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080526

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080526

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526

Year of fee payment: 11