JPH0457259A - 磁気ヘッドスライダの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダの製造方法Info
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- JPH0457259A JPH0457259A JP2165088A JP16508890A JPH0457259A JP H0457259 A JPH0457259 A JP H0457259A JP 2165088 A JP2165088 A JP 2165088A JP 16508890 A JP16508890 A JP 16508890A JP H0457259 A JPH0457259 A JP H0457259A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/048—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces of sliders and magnetic heads of hard disc drives or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
低浮上化に有利な磁気ヘントスライダの製造方法に関し
、 浮上レールにおける傾斜面と平坦面とが交差する稜部分
での勾配の急変を円滑化することにより、その稜部分で
の磁気ディスクとの浮上間隙間に流入する空気流により
生じる空気圧の栄、変を緩和して異物の付着・堆積を低
減することを目的とし、傾斜面と平坦面の連続した浮上
レールを備える磁気ヘントスライダの製造方法において
、前記浮上レールの傾斜面と平坦面が交差する稜部分を
、Ｅｌａｓｔｉｃ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｍａｃｈｉｎｉ
ｎｇ（Ｅ Ｅ Ｍ）加工法により曲面化するように構成
する。
、 浮上レールにおける傾斜面と平坦面とが交差する稜部分
での勾配の急変を円滑化することにより、その稜部分で
の磁気ディスクとの浮上間隙間に流入する空気流により
生じる空気圧の栄、変を緩和して異物の付着・堆積を低
減することを目的とし、傾斜面と平坦面の連続した浮上
レールを備える磁気ヘントスライダの製造方法において
、前記浮上レールの傾斜面と平坦面が交差する稜部分を
、Ｅｌａｓｔｉｃ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｍａｃｈｉｎｉ
ｎｇ（Ｅ Ｅ Ｍ）加工法により曲面化するように構成
する。
また、前記ＥＥＭ加工法に用いる回転加工子をローラー
形状にして、横方向に配列した多数の前記磁気ヘッドス
ライダの浮上レールにおける稜部分を同時に曲面化する
ように構成する。
形状にして、横方向に配列した多数の前記磁気ヘッドス
ライダの浮上レールにおける稜部分を同時に曲面化する
ように構成する。
本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘントスラ
イダの製造方法に係り、特に磁気ディスりに対する低浮
上化に有利な磁気ヘントスライダの製造方法に関するも
のである。
イダの製造方法に係り、特に磁気ディスりに対する低浮
上化に有利な磁気ヘントスライダの製造方法に関するも
のである。
近年、磁気ディスク装置においては、高密度記録化に伴
って磁気ディスク面に記録されるビット単位が著しく縮
小されて再生信号が微弱となることから、該磁気ディス
ク面に対して磁気ヘントスライダを低浮上化させて記録
トラックにできるだけ近接させることが要求される。こ
のため、そのような低浮上で動作させる磁気ヘッドスラ
イダの浮上レールのレール面を常に清浄に保ち、かつ円
滑な浮上動作を維持し得る加工法が必要とされる。
って磁気ディスク面に記録されるビット単位が著しく縮
小されて再生信号が微弱となることから、該磁気ディス
ク面に対して磁気ヘントスライダを低浮上化させて記録
トラックにできるだけ近接させることが要求される。こ
のため、そのような低浮上で動作させる磁気ヘッドスラ
イダの浮上レールのレール面を常に清浄に保ち、かつ円
滑な浮上動作を維持し得る加工法が必要とされる。
従来の磁気ヘッドスライダは例えば第８図に媒体対向面
を上向きにして示すようにスライダ本体１の媒体対向面
に気流流入側から流出側に向かって、傾斜面４と平坦面
５とからなる浮上力発生用のレール面３を存する一対の
浮上レール２が平行に設けられ、その各浮上レール２の
気流流出側の端面に薄膜磁気ヘッド素子６がＡｆｆｉ２
０２等からなる絶縁性保護膜７により被覆された状態で
一体に付設された構成からなる。
を上向きにして示すようにスライダ本体１の媒体対向面
に気流流入側から流出側に向かって、傾斜面４と平坦面
５とからなる浮上力発生用のレール面３を存する一対の
浮上レール２が平行に設けられ、その各浮上レール２の
気流流出側の端面に薄膜磁気ヘッド素子６がＡｆｆｉ２
０２等からなる絶縁性保護膜７により被覆された状態で
一体に付設された構成からなる。
そしてかかる磁気ヘントスライダの浮上レール２の傾斜
面４と平坦面５とからなる浮上力発生用のレール面３は
、磁気ディスクに対する低浮上化に伴って微細な砥粒を
用いた平面研磨法等により高い平面度で加工して平滑な
平坦面に仕上げている。
面４と平坦面５とからなる浮上力発生用のレール面３は
、磁気ディスクに対する低浮上化に伴って微細な砥粒を
用いた平面研磨法等により高い平面度で加工して平滑な
平坦面に仕上げている。
ところで上記したような従来の磁気ヘッドスライダ１１
は第９図に示すように回転する磁気ディスク１２上にお
いて、前記一対の浮上レール２の各レール面３における
傾斜面４に沿って該磁気ディスク１２との間に流入する
空気流の楔効果により発生する浮上刃によって浮上させ
ているが、その浮上間隙間に流入する空気流により生じ
る空気圧が、該傾斜面４と平坦面５とが交差する稜部分
Ａでの勾配の象、変により急激に変化し、断熱圧縮や膨
張等によって空気流中に飛散する潤滑剤等の有機物や塵
埃等の異物が前記二つの面が交差する稜部分への近傍に
付着し、堆積し易くなるので浮上安定性が悪くなる傾向
にある。
は第９図に示すように回転する磁気ディスク１２上にお
いて、前記一対の浮上レール２の各レール面３における
傾斜面４に沿って該磁気ディスク１２との間に流入する
空気流の楔効果により発生する浮上刃によって浮上させ
ているが、その浮上間隙間に流入する空気流により生じ
る空気圧が、該傾斜面４と平坦面５とが交差する稜部分
Ａでの勾配の象、変により急激に変化し、断熱圧縮や膨
張等によって空気流中に飛散する潤滑剤等の有機物や塵
埃等の異物が前記二つの面が交差する稜部分への近傍に
付着し、堆積し易くなるので浮上安定性が悪くなる傾向
にある。
また、前記レール面３での二つの面が交差する稜部分Ａ
に堆積した異物は次第に成長肥大し、これが磁気ディス
ク１２面上に脱落した際にヘッドクラッシュを招（とい
う危険性が生じる問題があった。
に堆積した異物は次第に成長肥大し、これが磁気ディス
ク１２面上に脱落した際にヘッドクラッシュを招（とい
う危険性が生じる問題があった。
本発明は上記した従来の問題点に鑑み、浮上レールにお
ける傾斜面と平坦面とが交差する稜部分での勾配の２、
変を円滑化することにより、その部分での磁気ディスク
との浮上間隙間に流入する空気流により生じる空気圧の
２、変を緩和して異物の付着・堆積を低減するようにし
た新規な磁気ヘッドスライダの製造方法を提供すること
を目的とするものである。
ける傾斜面と平坦面とが交差する稜部分での勾配の２、
変を円滑化することにより、その部分での磁気ディスク
との浮上間隙間に流入する空気流により生じる空気圧の
２、変を緩和して異物の付着・堆積を低減するようにし
た新規な磁気ヘッドスライダの製造方法を提供すること
を目的とするものである。
本発明は上記した目的を達成するため、傾斜面と平坦面
の連続した浮上レールを備える磁気ヘッドスライダの製
造方法において、前記浮上レールの傾斜面と平坦面とが
交差する稜部分を、ＥｌａｓｔｉｃＥｎ＋１ｓｓｉｏｎ
Ｍａｃｈｉｎｉｎｇ（Ｅ Ｅ Ｍ）加工法により曲面
化するように構成する。
の連続した浮上レールを備える磁気ヘッドスライダの製
造方法において、前記浮上レールの傾斜面と平坦面とが
交差する稜部分を、ＥｌａｓｔｉｃＥｎ＋１ｓｓｉｏｎ
Ｍａｃｈｉｎｉｎｇ（Ｅ Ｅ Ｍ）加工法により曲面
化するように構成する。
また、前記ＥＥＭ加工法に用いる回転加工子をローラー
形状にして、横方向に配列した多数の前記磁気ヘッドス
ライダの浮上レールにおける稜部分を同時に曲面化する
ように構成する。
形状にして、横方向に配列した多数の前記磁気ヘッドス
ライダの浮上レールにおける稜部分を同時に曲面化する
ように構成する。
本発明では磁気へ２トスライダにおける浮上レールの浮
上力発生用のレール面における傾斜面と平坦面とが交差
する稜部分を曲面化することにより、その部分での磁気
ディスクとの浮上間隙間に流入する空気流により生じる
空気圧の急変が緩和されて異物の付着・堆積を低減する
ことができる。
上力発生用のレール面における傾斜面と平坦面とが交差
する稜部分を曲面化することにより、その部分での磁気
ディスクとの浮上間隙間に流入する空気流により生じる
空気圧の急変が緩和されて異物の付着・堆積を低減する
ことができる。
しかし、従来の研磨加工法では前記レール面における傾
斜面と平坦面が交差する稜部分を円滑に曲面化すること
が困難であった。それ故に前記傾斜面と平坦面とが交差
する稜部分を回転加工子の回転により加工液中の微細な
砥粒を加速して極微少ラッピングを行うＥｌａｓｔｉｃ
Ｅｎ＋１ｓｓｉｏｎ Ｍａｃｈｉｎｉｎｇ（Ｅ Ｅ
Ｍ）加工法によって円滑に曲面化することができる。
斜面と平坦面が交差する稜部分を円滑に曲面化すること
が困難であった。それ故に前記傾斜面と平坦面とが交差
する稜部分を回転加工子の回転により加工液中の微細な
砥粒を加速して極微少ラッピングを行うＥｌａｓｔｉｃ
Ｅｎ＋１ｓｓｉｏｎ Ｍａｃｈｉｎｉｎｇ（Ｅ Ｅ
Ｍ）加工法によって円滑に曲面化することができる。
即ち、前記曲面化に用いるＥＥＭ加工法は、第３図に示
すように所定の微細な砥粒を一様に分散した加工液３３
中で、被加工物２１の表面に高速で回転する、例えばポ
リウレタンからなる球状の回転加工子３８を所定の圧力
Ｇで押し付けることによって、この際に生じる加工液３
３の流体軸受的流れにより １μ閘程度の間隔で近接さ
れると共に、その間隙間に流れる該加工液３３中の微細
な砥粒が前記被加工物２１の表面に高速で衝突し滑走す
る。このような作用により前記被加工物２１表面の任意
の微小領域に対する極微少ラッピング加工が可能となる
。
すように所定の微細な砥粒を一様に分散した加工液３３
中で、被加工物２１の表面に高速で回転する、例えばポ
リウレタンからなる球状の回転加工子３８を所定の圧力
Ｇで押し付けることによって、この際に生じる加工液３
３の流体軸受的流れにより １μ閘程度の間隔で近接さ
れると共に、その間隙間に流れる該加工液３３中の微細
な砥粒が前記被加工物２１の表面に高速で衝突し滑走す
る。このような作用により前記被加工物２１表面の任意
の微小領域に対する極微少ラッピング加工が可能となる
。
従って、かかるＥＥＭ加工法により前記回転加工子３８
の回転速度及び該回転加工子３８に対する被加工物２１
の送り速度等を任意に調整して、磁気ヘッドスライダの
浮上レールのレール面における傾斜面と平坦面とが交差
する稜部分を選択的に極微少ラッピング加工を施すこと
によって円滑な曲面化が容易に実現できる。
の回転速度及び該回転加工子３８に対する被加工物２１
の送り速度等を任意に調整して、磁気ヘッドスライダの
浮上レールのレール面における傾斜面と平坦面とが交差
する稜部分を選択的に極微少ラッピング加工を施すこと
によって円滑な曲面化が容易に実現できる。
また前記回転加工子３８をローラー形状にして、横列に
配置した多数の前記磁気ヘッドスライダの浮上レールの
レール面における各傾斜面と平坦面とが交差する稜部分
に選択的に極微少ラッピング加工を施すことにより、各
稜部分を同時に曲面化することが可能となり、その曲面
加工を効率良く行うことができる。
配置した多数の前記磁気ヘッドスライダの浮上レールの
レール面における各傾斜面と平坦面とが交差する稜部分
に選択的に極微少ラッピング加工を施すことにより、各
稜部分を同時に曲面化することが可能となり、その曲面
加工を効率良く行うことができる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの製造方法に
おける浮上レール面の一部を曲面化する一実施例を説明
するための斜視図、第２図は浮上レール面の一部の曲面
化に適用するＥＥＭ加工機を示す概略構成図である。
おける浮上レール面の一部を曲面化する一実施例を説明
するための斜視図、第２図は浮上レール面の一部の曲面
化に適用するＥＥＭ加工機を示す概略構成図である。
本実施例では第１図に示すように薄膜磁気ヘッド素子２
７が形成され、かつＡ ｌ ｚＯｓ等からなる絶縁性保
護膜２８により被覆された状態に付設された例えばＮｉ
−Ｚｎフライト等からなるスライダ用ブロックをスライ
ダ形成工程により、スライダ本体２２の媒体対向面に気
流流入側より流出側に傾斜面２５と平坦面２６とからな
る浮上力発生用のレール面２４を有する一対の浮上レー
ル２３を平行に形成した従来と同様な磁気ヘッドスライ
ダ２１を、第２図に示すＥＥＭ加工機における例えばＸ
軸方向（矢印方向）に移動可能な可動テーブル３１上の
加工容器３２内にその浮上レール２３のレール面２４を
上向きにして固定配置すると共に、例えば０．０５μ爾
程度の粒径のＳｉＯ□等からなる微細な砥粒の適量を水
等の分散媒に一様に分散したコロイダルシリカなどから
なる加工液３３を充満する。
７が形成され、かつＡ ｌ ｚＯｓ等からなる絶縁性保
護膜２８により被覆された状態に付設された例えばＮｉ
−Ｚｎフライト等からなるスライダ用ブロックをスライ
ダ形成工程により、スライダ本体２２の媒体対向面に気
流流入側より流出側に傾斜面２５と平坦面２６とからな
る浮上力発生用のレール面２４を有する一対の浮上レー
ル２３を平行に形成した従来と同様な磁気ヘッドスライ
ダ２１を、第２図に示すＥＥＭ加工機における例えばＸ
軸方向（矢印方向）に移動可能な可動テーブル３１上の
加工容器３２内にその浮上レール２３のレール面２４を
上向きにして固定配置すると共に、例えば０．０５μ爾
程度の粒径のＳｉＯ□等からなる微細な砥粒の適量を水
等の分散媒に一様に分散したコロイダルシリカなどから
なる加工液３３を充満する。
また、該加工液３３中の前記磁気ヘッドスライダ２１に
おける浮上レール２３のレール面２４を構成する傾斜面
２５と平坦面２６とが交差する稜部分Ａ上に、Ｙ軸方向
（図面に垂直な方向）に移動可能な支持体３４に支持ば
ね３５を介して支持された回転モータ３６の回転軸３７
に取付けられ、かつ１１０００ｒｐの回転速度で回転さ
せた例えば直径が６０１１Ｉ１１のポリウレタン球から
なる回転加工子３８を５０ｇｒの荷重を付加した状態で
押しつけて３０〜６０秒間の極微少ラッピング加工を行
う。
おける浮上レール２３のレール面２４を構成する傾斜面
２５と平坦面２６とが交差する稜部分Ａ上に、Ｙ軸方向
（図面に垂直な方向）に移動可能な支持体３４に支持ば
ね３５を介して支持された回転モータ３６の回転軸３７
に取付けられ、かつ１１０００ｒｐの回転速度で回転さ
せた例えば直径が６０１１Ｉ１１のポリウレタン球から
なる回転加工子３８を５０ｇｒの荷重を付加した状態で
押しつけて３０〜６０秒間の極微少ラッピング加工を行
う。
この時、前記レール面２４を構成する傾斜面２５と平坦
面２６とが交差する稜部分Ａは、第４図に示すように回
転する回転加工子３８と前記レール面２４における傾斜
面２５と平坦面２６とが交差する稜部分Ａ間に生しる前
記加工液３３の流体軸受的流れによって該加工液３３中
の微細な砥粒が前記稜部分Ａに高速で衝突し、滑走する
作用により極微少ラッピングが行われる。
面２６とが交差する稜部分Ａは、第４図に示すように回
転する回転加工子３８と前記レール面２４における傾斜
面２５と平坦面２６とが交差する稜部分Ａ間に生しる前
記加工液３３の流体軸受的流れによって該加工液３３中
の微細な砥粒が前記稜部分Ａに高速で衝突し、滑走する
作用により極微少ラッピングが行われる。
また、前記回転加工子３８に対する荷重を、前記稜部分
Ａでは多く、その近傍では少なく付加することにより、
第５図に誇張拡大して示すように前記レール面２４にお
ける傾斜面２５と平坦面２６とが交差する該稜部分Ａを
中心とした近傍の加工領域では平均して約０．１５μＩ
程度にラップ加工され、該稜部分Ａでは０．３〜０．５
μ鶴程度にラップ加工されて前記稜部分ＡがＢで示され
るように円滑な曲面状に容易に形成することができる。
Ａでは多く、その近傍では少なく付加することにより、
第５図に誇張拡大して示すように前記レール面２４にお
ける傾斜面２５と平坦面２６とが交差する該稜部分Ａを
中心とした近傍の加工領域では平均して約０．１５μＩ
程度にラップ加工され、該稜部分Ａでは０．３〜０．５
μ鶴程度にラップ加工されて前記稜部分ＡがＢで示され
るように円滑な曲面状に容易に形成することができる。
従って、第６図に示すように各浮上レール２３のレール
面２４における傾斜面２５と平坦面２６との交差部分Ｂ
が曲面化され、その曲面化により該交差部分Ｂへの異物
の付着が低減された磁気ヘッドスライダ３０を得ること
が可能となる。
面２４における傾斜面２５と平坦面２６との交差部分Ｂ
が曲面化され、その曲面化により該交差部分Ｂへの異物
の付着が低減された磁気ヘッドスライダ３０を得ること
が可能となる。
なお、以上の実施例では単数の磁気ヘッドスライダ２１
を前記第２図に示すＥＥＭ加工機に取付けて、その各浮
上レールのレール面における傾斜面と平坦面との交差部
分を球状の回転加工子を用いて曲面化した場合の例につ
いて説明したが、本発明はこのような例に限定されるも
のではなく、例えば第７図に示すように複数個の磁気ヘ
ッドスライダ４１をＥＥＭ加工機における可動テーブル
上の加工容器内の取付は部４２に横列に配置し、該加工
容器内に加工液を充満した状態で前記ローラー状の回転
加工子４３により各浮上レールのレール面における傾斜
面と平坦面との交差部分を同時に極微少ラッピングを行
って曲面化することも可能であり、効率の良い曲面加工
が実現できる。
を前記第２図に示すＥＥＭ加工機に取付けて、その各浮
上レールのレール面における傾斜面と平坦面との交差部
分を球状の回転加工子を用いて曲面化した場合の例につ
いて説明したが、本発明はこのような例に限定されるも
のではなく、例えば第７図に示すように複数個の磁気ヘ
ッドスライダ４１をＥＥＭ加工機における可動テーブル
上の加工容器内の取付は部４２に横列に配置し、該加工
容器内に加工液を充満した状態で前記ローラー状の回転
加工子４３により各浮上レールのレール面における傾斜
面と平坦面との交差部分を同時に極微少ラッピングを行
って曲面化することも可能であり、効率の良い曲面加工
が実現できる。
更に上記した実施例ではＥＥＭ加工法による曲面加工を
容易にするため、浮上レールのレール面を傾斜面と平坦
面に研削加工を行った後、その傾斜面と平坦面との交差
部分をＥＥＭ加工法により曲面化しているが、例えば浮
上レールのレール面を平坦面にし、傾斜面及び平坦面と
の交差部分を研削加工により粗画面化し、その粗画面化
部分をＥＥＭ加工法により円滑な曲面状に仕上げるよう
にする等、種々変形した方法により実施可能なことはい
うまでもない。
容易にするため、浮上レールのレール面を傾斜面と平坦
面に研削加工を行った後、その傾斜面と平坦面との交差
部分をＥＥＭ加工法により曲面化しているが、例えば浮
上レールのレール面を平坦面にし、傾斜面及び平坦面と
の交差部分を研削加工により粗画面化し、その粗画面化
部分をＥＥＭ加工法により円滑な曲面状に仕上げるよう
にする等、種々変形した方法により実施可能なことはい
うまでもない。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る磁気ヘッ
ドスライダの製造方法によれば、ＥＥＭ加工法により各
浮上レールのレール面における傾斜面と平坦面との交差
部分を容易に曲面化することが可能となる利点を有し、
また前記レール面における傾斜面と平坦面との交差部分
を曲面状とすることにより、磁気ディスク面上に浮上し
た際の浮上間隙間に流入する空気流により生じる空気圧
の変化が減少し、前記傾斜面と平坦面との交差部分での
異物の付着・堆積が低減されるので、浮上動作の安定性
が向上すると共に、ヘッドクラッシュが発生する危険性
が著しく低減するという優れた効果が得られる。
ドスライダの製造方法によれば、ＥＥＭ加工法により各
浮上レールのレール面における傾斜面と平坦面との交差
部分を容易に曲面化することが可能となる利点を有し、
また前記レール面における傾斜面と平坦面との交差部分
を曲面状とすることにより、磁気ディスク面上に浮上し
た際の浮上間隙間に流入する空気流により生じる空気圧
の変化が減少し、前記傾斜面と平坦面との交差部分での
異物の付着・堆積が低減されるので、浮上動作の安定性
が向上すると共に、ヘッドクラッシュが発生する危険性
が著しく低減するという優れた効果が得られる。
第１図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの製造方法に
おける浮上レール面の一部を 曲面化する一実施例を説明するための 斜視図、 第２図は浮上レール面の一部の曲面化に適用するＥＥＭ
加工機を示す概略構成図、 第３図はＥＥＭ加工法の原理を説明するための図、 第４図は本発明のＥＥＭ加工法による浮上レール面の一
部の曲面加工を説明する図、 第５図は本発明のＥＥＭ加工法による浮上レール面の一
部の曲面化を説明するための 部分拡大断面図、 第６図は本発明の製造方法によって得られた磁気ヘッド
スライダを示す斜視図、 第７図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの製造方法に
おける浮上レール面の一部を 曲面化する他の実施例を説明するため の斜視図、 第８図は従来の磁気ヘッドスライダを説明するための斜
視図、 第９図は従来の磁気ヘッドスライダの問題点を説明する
ための図である。 第１図〜第７図において、 ２１、３０は磁気ヘッドスライダ、２２はスライダ本体
、２３は浮上レール、２４はレール面、２５は傾斜面、
２６は平坦面、２７は薄膜磁気ヘッド素子、２８は絶縁
性保護膜、３１は可動テーブル、３２は加工容器、３３
は加工液、３４は支持体、３５は支持ばね、３６は回転
モーター、３７は回転軸、３８は回転加圧子、 ４１は複数個の磁気ヘラ ドスライダ、 ４２は取付は部、 ４３はローラー状の回転前 圧子をそれぞれ示す。 ＥＥＭ’１ＤＩ５Ｆ、ｔｐ＋ｌ＆ＺＹ警ｆｌ明ＴＪＩＩ
ａ１３図 籐 ４図 ＃ＱＲｒＥＥＭ１８ｒｋ＋ｔｓ＃ｋＬ−Ｌｌｈｌｌ−％
ａｈｃＧ ＴＩＱＱ７ｊ １ワシラ１４２２１；＃（ｆ
ｎ（ｆｊ！Ｊ第５図 籐 図 第 ｗＪ ソト劣き所＾蓮Ｎｌｔ：ｔｙｇう〕中本ｂλへＪスフｆ
九不１糾ネｒｍ第６１Ｉ！ ｚ１≠ｒＧｆｆ 、梧ハツトＺラヂ７゛４製蓮尤五＾ｐ
？の突）１例を；【０月り軒Ｆ！’５０第 ７ Ｍ
おける浮上レール面の一部を 曲面化する一実施例を説明するための 斜視図、 第２図は浮上レール面の一部の曲面化に適用するＥＥＭ
加工機を示す概略構成図、 第３図はＥＥＭ加工法の原理を説明するための図、 第４図は本発明のＥＥＭ加工法による浮上レール面の一
部の曲面加工を説明する図、 第５図は本発明のＥＥＭ加工法による浮上レール面の一
部の曲面化を説明するための 部分拡大断面図、 第６図は本発明の製造方法によって得られた磁気ヘッド
スライダを示す斜視図、 第７図は本発明に係る磁気ヘッドスライダの製造方法に
おける浮上レール面の一部を 曲面化する他の実施例を説明するため の斜視図、 第８図は従来の磁気ヘッドスライダを説明するための斜
視図、 第９図は従来の磁気ヘッドスライダの問題点を説明する
ための図である。 第１図〜第７図において、 ２１、３０は磁気ヘッドスライダ、２２はスライダ本体
、２３は浮上レール、２４はレール面、２５は傾斜面、
２６は平坦面、２７は薄膜磁気ヘッド素子、２８は絶縁
性保護膜、３１は可動テーブル、３２は加工容器、３３
は加工液、３４は支持体、３５は支持ばね、３６は回転
モーター、３７は回転軸、３８は回転加圧子、 ４１は複数個の磁気ヘラ ドスライダ、 ４２は取付は部、 ４３はローラー状の回転前 圧子をそれぞれ示す。 ＥＥＭ’１ＤＩ５Ｆ、ｔｐ＋ｌ＆ＺＹ警ｆｌ明ＴＪＩＩ
ａ１３図 籐 ４図 ＃ＱＲｒＥＥＭ１８ｒｋ＋ｔｓ＃ｋＬ−Ｌｌｈｌｌ−％
ａｈｃＧ ＴＩＱＱ７ｊ １ワシラ１４２２１；＃（ｆ
ｎ（ｆｊ！Ｊ第５図 籐 図 第 ｗＪ ソト劣き所＾蓮Ｎｌｔ：ｔｙｇう〕中本ｂλへＪスフｆ
九不１糾ネｒｍ第６１Ｉ！ ｚ１≠ｒＧｆｆ 、梧ハツトＺラヂ７゛４製蓮尤五＾ｐ
？の突）１例を；【０月り軒Ｆ！’５０第 ７ Ｍ
Claims (2)
- （１）傾斜面（２５）と平坦面（２６）の連続した浮上
レール（２３）を備える磁気ヘッドスライダの製造方法
において、 前記浮上レール（２３）の傾斜面（２５）と平坦面（２
６）が交差する稜部分を、ＥｌａｓｔｉｃＥｍｉｓｓｉ
ｏｎＭａｃｈｉｎｉｎｇ（ＥＥＭ）加工法により曲面化
することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。 - （２）前記ＥＥＭ加工法に用いる回転加工子（４３）を
ローラー形状にして、横方向に配列した多数の前記磁気
ヘッドスライダ（４１）の浮上レールにおける稜部分を
同時に曲面化することを特徴とする請求項１記載の磁気
ヘッドスライダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2165088A JPH0457259A (ja) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | 磁気ヘッドスライダの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2165088A JPH0457259A (ja) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | 磁気ヘッドスライダの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0457259A true JPH0457259A (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=15805656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2165088A Pending JPH0457259A (ja) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | 磁気ヘッドスライダの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0457259A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5894379A (en) * | 1995-03-17 | 1999-04-13 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider with rail leading portions increasing in thickness over rail portions which widen and narrow |
| CN105563271A (zh) * | 2015-12-21 | 2016-05-11 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种用于弹性发射加工的工具轮 |
-
1990
- 1990-06-22 JP JP2165088A patent/JPH0457259A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5894379A (en) * | 1995-03-17 | 1999-04-13 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider with rail leading portions increasing in thickness over rail portions which widen and narrow |
| CN105563271A (zh) * | 2015-12-21 | 2016-05-11 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种用于弹性发射加工的工具轮 |
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