JPH0455484B2 - - Google Patents
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- JPH0455484B2 JPH0455484B2 JP63171429A JP17142988A JPH0455484B2 JP H0455484 B2 JPH0455484 B2 JP H0455484B2 JP 63171429 A JP63171429 A JP 63171429A JP 17142988 A JP17142988 A JP 17142988A JP H0455484 B2 JPH0455484 B2 JP H0455484B2
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- liquid crystal
- crystal layer
- spatial phase
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- phase modulation
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H2001/0208—Individual components other than the hologram
- G03H2001/0224—Active addressable light modulator, i.e. Spatial Light Modulator [SLM]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は光の空間位相分布を制御する光空間
位相変調方法及びそれに使用する光空間位相変調
装置に関するものである。
位相変調方法及びそれに使用する光空間位相変調
装置に関するものである。
［従来の技術］
光の空間位相分布を制御する技術は各方面に応
用されて使用されている。例えば、高精度の表面
形状測定、特に球面や非球面の表面形状を持つ物
品の表面形状測定、光学機器を使用した伝送方式
を採用したパターン認識システム用のマツチド空
間フイルタ（Matched spatial filter）関連の製
造、または大気のような不定形で乱れ易い媒体中
で作動する光学系を使用した記録画像の修正すな
わちそのような媒体に起因する収差の直接修正に
利用される。
用されて使用されている。例えば、高精度の表面
形状測定、特に球面や非球面の表面形状を持つ物
品の表面形状測定、光学機器を使用した伝送方式
を採用したパターン認識システム用のマツチド空
間フイルタ（Matched spatial filter）関連の製
造、または大気のような不定形で乱れ易い媒体中
で作動する光学系を使用した記録画像の修正すな
わちそのような媒体に起因する収差の直接修正に
利用される。
このような空間位相分布を制御する技術として
は、従来、それぞれ微小のアクチユエータによつ
て駆動され若しくは変形される鏡または可撓膜を
使用し、鏡または可撓膜の反射面を変形させ、入
射する光の反射光の空間的位相分布を制御するも
の、電場を印加することにより屈折率が変化する
電気視覚用結晶を用い、その屈折率の変化により
その結晶を透過する光の空間位相分布を制御する
もの、或いは、電場を印加することにより変形可
能なゲルまたは油の層を用い、そのゲルまたは油
の層の変形により、そこを通過する光の空間位相
分布を制御するもの等がある。
は、従来、それぞれ微小のアクチユエータによつ
て駆動され若しくは変形される鏡または可撓膜を
使用し、鏡または可撓膜の反射面を変形させ、入
射する光の反射光の空間的位相分布を制御するも
の、電場を印加することにより屈折率が変化する
電気視覚用結晶を用い、その屈折率の変化により
その結晶を透過する光の空間位相分布を制御する
もの、或いは、電場を印加することにより変形可
能なゲルまたは油の層を用い、そのゲルまたは油
の層の変形により、そこを通過する光の空間位相
分布を制御するもの等がある。
［発明が解決しようとする課題］
しかるに、従来の技術は分解能が低く、応答速
度が遅く、かつ高価であるという問題点があり、
これらの問題点を解決した技術の開発が望まれて
いる。
度が遅く、かつ高価であるという問題点があり、
これらの問題点を解決した技術の開発が望まれて
いる。
の発明は上記の如き事情に鑑みてなされたもの
であつて、分離能が高く、応答速度が早く、かつ
廉価に実施することができる光空間位相変調方法
及びそこで使用する光空間位相変調装置を提供す
ることを目的とするものである。
であつて、分離能が高く、応答速度が早く、かつ
廉価に実施することができる光空間位相変調方法
及びそこで使用する光空間位相変調装置を提供す
ることを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
この目的に対応して、この発明の光空間位相変
調方法は、位相変調すべき単一波長を有するコー
ヒレントな光の光路中に一層の液晶層を配置し、
前記液晶層を電場を、前記液晶層の空間領域に対
して、規則的に分けられた分割領域ごとに印加し
て電場の空間分布を制御することによつて前記液
晶層の屈折率の空間分布を制御し、これによつて
前記光束の空間位相を変調することを特徴として
いる。
調方法は、位相変調すべき単一波長を有するコー
ヒレントな光の光路中に一層の液晶層を配置し、
前記液晶層を電場を、前記液晶層の空間領域に対
して、規則的に分けられた分割領域ごとに印加し
て電場の空間分布を制御することによつて前記液
晶層の屈折率の空間分布を制御し、これによつて
前記光束の空間位相を変調することを特徴として
いる。
また、この発明の光空間位相変調装置は、位相
変調すべき単一波長を有するコーヒレントな光の
光路中に光空間位相変調素子を配置し、前記光空
間位相変調素子は一層の液晶層と、前記液晶層の
両側に位置していて前記液晶層を横断する電場を
形成し得る２つの電極とを有し、前記２つの電極
のうちの少なくとも一方の電極は前記液晶層に沿
つて規則的に分布しかつそれぞれ独立して電圧を
変化させ得る複数の小電極からなることを特徴と
している。
変調すべき単一波長を有するコーヒレントな光の
光路中に光空間位相変調素子を配置し、前記光空
間位相変調素子は一層の液晶層と、前記液晶層の
両側に位置していて前記液晶層を横断する電場を
形成し得る２つの電極とを有し、前記２つの電極
のうちの少なくとも一方の電極は前記液晶層に沿
つて規則的に分布しかつそれぞれ独立して電圧を
変化させ得る複数の小電極からなることを特徴と
している。
［作用］
２つの電極に挟まれた液晶層を横切る電場を印
加することにより前記液晶層内の分子の列が変
り、液晶層の屈折率が変化し、その液晶層を通過
する光の位相が変調する。
加することにより前記液晶層内の分子の列が変
り、液晶層の屈折率が変化し、その液晶層を通過
する光の位相が変調する。
また、電極の一方若しくは両方を多数の小電極
にしてマトリツクスに配列し、各小電極のポテン
シヤルを個別に制御可能に構成することにより、
前記液晶層を横切る電場の空間的分布を変え、こ
れによつて前記液晶層を通過していく光の空間位
相分布を変調する。
にしてマトリツクスに配列し、各小電極のポテン
シヤルを個別に制御可能に構成することにより、
前記液晶層を横切る電場の空間的分布を変え、こ
れによつて前記液晶層を通過していく光の空間位
相分布を変調する。
［実施例］
以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面に
ついて説明する。
ついて説明する。
第４図において、１０は光空間位相変調装置で
あり、光空間位相変調装置１０は光空間位相変調
素子１、光源１３、対物鏡Ｍ、ピンホールF1、
レンズL1，L2，L3，L4，L5，L6，L7，L8，L9、
鏡M1，M2，M3，M4、フイルタF2、ホログラム
Ｈ、画像センサＣ、コンピユータCO、画像処理
装置ID、モニター装置Ｄを備えている。
あり、光空間位相変調装置１０は光空間位相変調
素子１、光源１３、対物鏡Ｍ、ピンホールF1、
レンズL1，L2，L3，L4，L5，L6，L7，L8，L9、
鏡M1，M2，M3，M4、フイルタF2、ホログラム
Ｈ、画像センサＣ、コンピユータCO、画像処理
装置ID、モニター装置Ｄを備えている。
光空間位相変調素子１は光の空間的位相分布を
変調するために変調の対象である光源１３からの
光束の光路中に配置されて使用される。この光空
間位相変調素子１は２つのガラス板２，３の間に
挟まれた液晶層４（約6μｍ厚）からなつている。
これらのガラス板２，３には各々電極５，６が設
けられてあつて、一方のガラス板３の電極６は小
電極からなつており、各小電極の電圧は個別に可
変である。各小電極６は第２図に示すように多数
マトリツクス状に密に配列されて、走査電極駆動
回路７、信号電極駆動回路８によつて個別に電場
が印加され得る。これらの小電極６は長方形に整
別した160×120個のピクセルの中に置かれ、それ
ぞれ電子回路（走査電極駆動回路７、信号電極駆
動回路８）は、前記液晶層４を横切る電場分布を
外部ビデオ信号に従つて変調可能なように設備さ
れている。前記各ガラス板２，３の内面は０〜
360゜のねじれでねじれたネマチイツクモードにな
るように処理されている。前記ガラス板２，３の
表面における分子の整列は第３図に示されてい
る。
変調するために変調の対象である光源１３からの
光束の光路中に配置されて使用される。この光空
間位相変調素子１は２つのガラス板２，３の間に
挟まれた液晶層４（約6μｍ厚）からなつている。
これらのガラス板２，３には各々電極５，６が設
けられてあつて、一方のガラス板３の電極６は小
電極からなつており、各小電極の電圧は個別に可
変である。各小電極６は第２図に示すように多数
マトリツクス状に密に配列されて、走査電極駆動
回路７、信号電極駆動回路８によつて個別に電場
が印加され得る。これらの小電極６は長方形に整
別した160×120個のピクセルの中に置かれ、それ
ぞれ電子回路（走査電極駆動回路７、信号電極駆
動回路８）は、前記液晶層４を横切る電場分布を
外部ビデオ信号に従つて変調可能なように設備さ
れている。前記各ガラス板２，３の内面は０〜
360゜のねじれでねじれたネマチイツクモードにな
るように処理されている。前記ガラス板２，３の
表面における分子の整列は第３図に示されてい
る。
第３図は液晶層４における液晶の分子による入
射光の偏光の配向状態を示す説明図である。
射光の偏光の配向状態を示す説明図である。
図中、２１は液晶層４の前表面における液晶分
子の配向の方向を示している。
子の配向の方向を示している。
２２は液晶層４の後表面における液晶分子の配
向の方向を示している。
向の方向を示している。
２３は液晶層４の前表面から入射した光の電場
ベクトルの配向の方向を示しいる。
ベクトルの配向の方向を示しいる。
２４は液晶層４の後表面から出射する光の電場
ベクトルの配向の方向を示している（液晶層４を
横断する電場は閾値に設定してある）。
ベクトルの配向の方向を示している（液晶層４を
横断する電場は閾値に設定してある）。
この光空間位相変調素子１は光空間位相変調装
置１０を構成する第４図に示す変調光学装置１４
の中に置かれている。ヘリウム・ネオンレーザ光
源等の光源１３からの偏光させられた光は顕微鏡
の対鏡Ｍによつ拡げられ、ピンホールF1によつ
て空間的に濾過され、レンズL1によつて平行光
にされた後に鏡M1によつて変調光学装置１４に
向けられる。光源１３からの濾過された光はレン
ズL2とL3によつて更に拡げられた後液晶を用い
た光空間位相変調素子１を透過する。光空間位相
変調素子１に入射する光の電場ベクトルは、最初
のガラス板２の表面の液晶分子の長軸と平行に整
列される。光空間位相変調素子１は、ねじれたネ
マチツク層の始めのレベルにごく近くで作用させ
られるので前記光の偏光は液晶層４を透過すると
きにほとんど０〜360゜回転する。光空間位相変調
素子１から出た光は光レンズL4によつて集光さ
れ、レンズL5を経鏡M2へ進む。レンズL4とL5は
鏡M2上に光空間位相変調素子１面の像を作るか
ら、鏡M2は実際上は前記液晶層の平面内になる
如くである。鏡M2からの反射光はレンズL5，L4
及び液晶層４を通つて戻る。液晶層を通つて戻る
とき前記偏光は再びほぼ０〜360゜ねじり戻される
ので、前記光空間位相変調素子１を２回透過後の
光の偏光状態は本質的に変つていない液晶層４の
状態と無関係なことになる。レンズL4とL5及び
鏡M2は次の場合は除き得る。すなわち、光空間
位相変調素子１の後方の電極が、前記光が該光空
間位相変調素子１を透過することなく液晶層４を
通つて直接に反射して戻されるように考えられて
いる場合である。
置１０を構成する第４図に示す変調光学装置１４
の中に置かれている。ヘリウム・ネオンレーザ光
源等の光源１３からの偏光させられた光は顕微鏡
の対鏡Ｍによつ拡げられ、ピンホールF1によつ
て空間的に濾過され、レンズL1によつて平行光
にされた後に鏡M1によつて変調光学装置１４に
向けられる。光源１３からの濾過された光はレン
ズL2とL3によつて更に拡げられた後液晶を用い
た光空間位相変調素子１を透過する。光空間位相
変調素子１に入射する光の電場ベクトルは、最初
のガラス板２の表面の液晶分子の長軸と平行に整
列される。光空間位相変調素子１は、ねじれたネ
マチツク層の始めのレベルにごく近くで作用させ
られるので前記光の偏光は液晶層４を透過すると
きにほとんど０〜360゜回転する。光空間位相変調
素子１から出た光は光レンズL4によつて集光さ
れ、レンズL5を経鏡M2へ進む。レンズL4とL5は
鏡M2上に光空間位相変調素子１面の像を作るか
ら、鏡M2は実際上は前記液晶層の平面内になる
如くである。鏡M2からの反射光はレンズL5，L4
及び液晶層４を通つて戻る。液晶層を通つて戻る
とき前記偏光は再びほぼ０〜360゜ねじり戻される
ので、前記光空間位相変調素子１を２回透過後の
光の偏光状態は本質的に変つていない液晶層４の
状態と無関係なことになる。レンズL4とL5及び
鏡M2は次の場合は除き得る。すなわち、光空間
位相変調素子１の後方の電極が、前記光が該光空
間位相変調素子１を透過することなく液晶層４を
通つて直接に反射して戻されるように考えられて
いる場合である。
さて前記鏡M2で反射して戻る光は鏡M3に集め
られてレンズL6に向けられ、レンズL6はその平
行光にする。そこからその光はレンズL7を通り、
レンズL7はその光をフイルタF2の平面内にある
レンズL7の焦点に集める。フイルタF2は光空間
位相変調素子１の小電極６のピクセル構造のうち
変化のなかつたものからの不用な回析結果を除去
する。その後レンズL8はその光を平行光として
ホログラムＨに向ける。このホログラムＨを必要
に応じて使用されるものである。液晶を用いた光
空間位相変調素子１を通る光路長を一定に保つこ
とは困難であり、なお装置を低コストで製造する
ことは困難である。このため、前記液晶装置によ
つて持ち込まれた収差はかなり大きくなりがちで
あり、従つて前記ホログラムの目的はこれらの収
差を補正して前記液晶装置からの質の良い出力光
を作ることである。
られてレンズL6に向けられ、レンズL6はその平
行光にする。そこからその光はレンズL7を通り、
レンズL7はその光をフイルタF2の平面内にある
レンズL7の焦点に集める。フイルタF2は光空間
位相変調素子１の小電極６のピクセル構造のうち
変化のなかつたものからの不用な回析結果を除去
する。その後レンズL8はその光を平行光として
ホログラムＨに向ける。このホログラムＨを必要
に応じて使用されるものである。液晶を用いた光
空間位相変調素子１を通る光路長を一定に保つこ
とは困難であり、なお装置を低コストで製造する
ことは困難である。このため、前記液晶装置によ
つて持ち込まれた収差はかなり大きくなりがちで
あり、従つて前記ホログラムの目的はこれらの収
差を補正して前記液晶装置からの質の良い出力光
を作ることである。
ホログラムＨから回折された補正済みの光は鏡
M4によつてフーリエ変換レンズL9に向けられ、
フーリエ平面内の光分布は画像センサーＣによつ
て検出されかつモニター装置Ｄの上に表示され
る。レンズL3，L6，L7及びL8は、フーリエ変換
レンズL9液晶層の平面内の光分布のフーリエ変
換を形成するように配列される。液晶層内の屈折
率分布はコンピユータCOによつて制御された画
像処理装置IDからのビデオ信号によつて制御さ
れる。
M4によつてフーリエ変換レンズL9に向けられ、
フーリエ平面内の光分布は画像センサーＣによつ
て検出されかつモニター装置Ｄの上に表示され
る。レンズL3，L6，L7及びL8は、フーリエ変換
レンズL9液晶層の平面内の光分布のフーリエ変
換を形成するように配列される。液晶層内の屈折
率分布はコンピユータCOによつて制御された画
像処理装置IDからのビデオ信号によつて制御さ
れる。
［発明の効果］
この発明の光空間位相変調方法及び光空間位相
変調装置では分解能が高く、かつ応答速度を高く
することができる。
変調装置では分解能が高く、かつ応答速度を高く
することができる。
光空間位相変調素子１の空間位相変調能力を実
証するために、簡単な直線の格子が液晶装置の上
に書かれ、レンズL9のフーリエ平面内の回折パ
ターンを調べ。第５図は、８本の線をもつ１つの
格子が液晶装置に書き込まれたときにその液晶層
を二重に通過した結果として得られたおおよその
位相分布を示す。第６図はレンズL9のフーリエ
平面内強度分布の測定結果を示す。格子構造から
の回折のＯ次回折光と２次回折光が明瞭に見られ
る。第７図は液晶平面において測定された強度分
布を示す。格子構造は全然明白に見えず、この観
察された回折効果は液晶変調素子によつて持ち込
まれた空間位相分布からのみ来たものだとうこと
を示している。第８図は光空間位相変調素子の上
に16本の線をもつ格子が書かれたときレンズL9
のフーリエ平面に生じた強さ分布を示す。回折次
数は第６図（８本の線で得られた）におけるより
も間隔が２倍あり、見られる結果は液晶層内で生
じた位相格子での正しい回析であることを示して
いる。
証するために、簡単な直線の格子が液晶装置の上
に書かれ、レンズL9のフーリエ平面内の回折パ
ターンを調べ。第５図は、８本の線をもつ１つの
格子が液晶装置に書き込まれたときにその液晶層
を二重に通過した結果として得られたおおよその
位相分布を示す。第６図はレンズL9のフーリエ
平面内強度分布の測定結果を示す。格子構造から
の回折のＯ次回折光と２次回折光が明瞭に見られ
る。第７図は液晶平面において測定された強度分
布を示す。格子構造は全然明白に見えず、この観
察された回折効果は液晶変調素子によつて持ち込
まれた空間位相分布からのみ来たものだとうこと
を示している。第８図は光空間位相変調素子の上
に16本の線をもつ格子が書かれたときレンズL9
のフーリエ平面に生じた強さ分布を示す。回折次
数は第６図（８本の線で得られた）におけるより
も間隔が２倍あり、見られる結果は液晶層内で生
じた位相格子での正しい回析であることを示して
いる。
第１図は光空間位相変調素子の断面概略説明
図、第２図は光空間位相変調素子の平面概略説明
図、第３図は光空間位相変調素子へ入射した入射
光の偏光の配向を示す説明図、第４図は光空間位
相変調装置を示す構成説明図、第５図は変調され
た位相分布を示す説明図、第６図はフーリエ平面
内強度分布を示す説明図、第７図は液晶平面内強
度分布を示す説明図、及び第８図はフーリエ平面
内強度分布を示す説明図である。 １……光空間位相変調素子、２，３……ガラス
板、４……液晶層、５……電極、６……小電極、
７……走査電極駆動回路、８……信号電極駆動回
路、１０……空間変調装置、１３……光源、１４
……変調光学装置、L1〜L9……レンズ、M1〜M4
……鏡、Ｈ……ホログラム。
図、第２図は光空間位相変調素子の平面概略説明
図、第３図は光空間位相変調素子へ入射した入射
光の偏光の配向を示す説明図、第４図は光空間位
相変調装置を示す構成説明図、第５図は変調され
た位相分布を示す説明図、第６図はフーリエ平面
内強度分布を示す説明図、第７図は液晶平面内強
度分布を示す説明図、及び第８図はフーリエ平面
内強度分布を示す説明図である。 １……光空間位相変調素子、２，３……ガラス
板、４……液晶層、５……電極、６……小電極、
７……走査電極駆動回路、８……信号電極駆動回
路、１０……空間変調装置、１３……光源、１４
……変調光学装置、L1〜L9……レンズ、M1〜M4
……鏡、Ｈ……ホログラム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 位相変調すべき単一波長を有するコーヒレン
トな光の光路中に一層の液晶層を配置し、前記液
晶層を横断する電場を、前記液晶層の空間領域に
対して、規則的に分けられた分割領域ごとに印加
して電場の空間分布を制御することによつて前記
液晶層の屈折率の空間分布を制御し、これによつ
て前記光束の空間位相を変調することを特徴とす
る光空間位相変調方法。 ２ 位相変調すべき単一波長を有するコーヒレン
トな光の光路中に光空間位相変調素子を配置し、
前記光空間位相変調素子は一層の液晶層と、前記
液晶層の両側に位置していて前記液晶層を横断す
る電場を形成し得る２つの電極とを有し、前記２
つの電極のうちの少なくとも一方の電極は前記液
晶層に沿つて規則的に分布しかつそれぞれ独立し
て電圧を変化させ得る複数の小電極からなること
を特徴とする光空間位相変調装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17142988A JPH0220823A (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 光空間位相変調方法及び光空間位相変調装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17142988A JPH0220823A (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 光空間位相変調方法及び光空間位相変調装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0220823A JPH0220823A (ja) | 1990-01-24 |
| JPH0455484B2 true JPH0455484B2 (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=15922968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17142988A Granted JPH0220823A (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 光空間位相変調方法及び光空間位相変調装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0220823A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992021050A1 (en) * | 1991-05-21 | 1992-11-26 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
| JP2018136567A (ja) * | 2018-04-23 | 2018-08-30 | レイセオン カンパニー | 蛇行抵抗器を有する適応光学液晶アレイデバイス |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57138616A (en) * | 1981-02-20 | 1982-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | Optical correlation processing device |
| JPS57198490A (en) * | 1981-06-01 | 1982-12-06 | Keiji Iimura | Matrix type electro-optical device |
| JPS61110119A (ja) * | 1984-11-05 | 1986-05-28 | Canon Inc | 光学位相フイルタ |
-
1988
- 1988-07-08 JP JP17142988A patent/JPH0220823A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57138616A (en) * | 1981-02-20 | 1982-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | Optical correlation processing device |
| JPS57198490A (en) * | 1981-06-01 | 1982-12-06 | Keiji Iimura | Matrix type electro-optical device |
| JPS61110119A (ja) * | 1984-11-05 | 1986-05-28 | Canon Inc | 光学位相フイルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0220823A (ja) | 1990-01-24 |
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