JPH045480A - ゲツターポンプ装置 - Google Patents
ゲツターポンプ装置Info
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- JPH045480A JPH045480A JP10638590A JP10638590A JPH045480A JP H045480 A JPH045480 A JP H045480A JP 10638590 A JP10638590 A JP 10638590A JP 10638590 A JP10638590 A JP 10638590A JP H045480 A JPH045480 A JP H045480A
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- Japan
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- getter
- fins
- getter pump
- cooling
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野］
本発明は、ゲッターポンプ装置に関するものである。
〔従来の技術及びその課題］
ゲッターポンプ装置は、超真空ポンプの一種であり、フ
ィンの表面にゲッタ材料（例えば、ＡｌＺｒ合金）を固
着してカートリッジ状に組み立てた構造を有し、表面に
強いゲッタ作用があると共に、表面に捕獲吸着した気体
分子を拡散過程によって内部に吸収する。このため表面
積光たりの気体の吸着量は大きいが、従来、室温以上の
温度範囲にて運転され、吸着分子の拡散速度を増大させ
てゲッタ作用を増大させるために、加熱装置にて通常４
００°Ｃ程度以上に昇温させて使用されている。
ィンの表面にゲッタ材料（例えば、ＡｌＺｒ合金）を固
着してカートリッジ状に組み立てた構造を有し、表面に
強いゲッタ作用があると共に、表面に捕獲吸着した気体
分子を拡散過程によって内部に吸収する。このため表面
積光たりの気体の吸着量は大きいが、従来、室温以上の
温度範囲にて運転され、吸着分子の拡散速度を増大させ
てゲッタ作用を増大させるために、加熱装置にて通常４
００°Ｃ程度以上に昇温させて使用されている。
しかして、従来のゲッターポンプ装置にあっては、低温
の超高真空を形成する場合に適さないと共に、温度上昇
に伴って真空容器付近の壁材料等からのガスの放出を生
し、超高真空の形成が阻害されるという技術的課題があ
る。
の超高真空を形成する場合に適さないと共に、温度上昇
に伴って真空容器付近の壁材料等からのガスの放出を生
し、超高真空の形成が阻害されるという技術的課題があ
る。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、そ
の構成は、有底筒状をなし、内部空間を有するゲッター
ポンプ本体と、咳ゲッターポンプ本体の外側面に固着し
た複数個のフィンと、該フインの表面に薄層をなすよう
に固着され、室温以下の温度にて水素吸収性能を有する
ゲッタ材料と、該ゲッターポンプ本体の内部空間に付属
され、該フィンを冷却する冷却装置とを有するゲッター
ポンプ装置であり、冷却装置には、加熱装置を付属させ
ることができる。なお、上記のゲッタ材料には、水素貯
蔵合金を含むものである。
の構成は、有底筒状をなし、内部空間を有するゲッター
ポンプ本体と、咳ゲッターポンプ本体の外側面に固着し
た複数個のフィンと、該フインの表面に薄層をなすよう
に固着され、室温以下の温度にて水素吸収性能を有する
ゲッタ材料と、該ゲッターポンプ本体の内部空間に付属
され、該フィンを冷却する冷却装置とを有するゲッター
ポンプ装置であり、冷却装置には、加熱装置を付属させ
ることができる。なお、上記のゲッタ材料には、水素貯
蔵合金を含むものである。
このようなゲッターポンプ装置は、真寛容器にターボ分
子ポンプ又はクライオポンプと共に装備される。ターボ
分子ポンプ又はクライオポンプを運転し、真空容器内に
超高真空を作る際、同時にゲッターポンプ装置を運転す
る。この運転に際しては、冷却装置に冷却媒体を流通さ
せ、ゲッターポンプ本体の内部を冷却する。冷却温度は
、室温以下であり、必要に応して７７に程度にまで冷却
する。これにより、ゲッターポンプ本体に固設したフィ
ン上の室温以下の温度での吸収性能に優れるゲッタ材料
（例えば、ＺｒＶ２系、ＺｒＮｉ系のゲッタ材料又は水
素貯蔵合金）によって、特にＨ，−（及びＨ２Ｏ）を吸
収でき、ターボ分子ポンプ又はクライオポンプの能力不
足を補うことができる。また、ゲッターポンプ装置が低
温にて運転されるので、真空容器又は周辺機器の壁材料
等からのガスの放出を抑制することができる。このよう
に、ゲッターポンプ装置によって特にＨ２が吸着される
ので、クライオポンプにＨ２吸着用として備えた吸着材
の機能を補うことが可能であり、或いはこの吸着材を省
略することもできる。なお、Ｈ２Ｏは、大略１７３に以
下の温度でゲッタ材料に凝集して、吸収される。
子ポンプ又はクライオポンプと共に装備される。ターボ
分子ポンプ又はクライオポンプを運転し、真空容器内に
超高真空を作る際、同時にゲッターポンプ装置を運転す
る。この運転に際しては、冷却装置に冷却媒体を流通さ
せ、ゲッターポンプ本体の内部を冷却する。冷却温度は
、室温以下であり、必要に応して７７に程度にまで冷却
する。これにより、ゲッターポンプ本体に固設したフィ
ン上の室温以下の温度での吸収性能に優れるゲッタ材料
（例えば、ＺｒＶ２系、ＺｒＮｉ系のゲッタ材料又は水
素貯蔵合金）によって、特にＨ，−（及びＨ２Ｏ）を吸
収でき、ターボ分子ポンプ又はクライオポンプの能力不
足を補うことができる。また、ゲッターポンプ装置が低
温にて運転されるので、真空容器又は周辺機器の壁材料
等からのガスの放出を抑制することができる。このよう
に、ゲッターポンプ装置によって特にＨ２が吸着される
ので、クライオポンプにＨ２吸着用として備えた吸着材
の機能を補うことが可能であり、或いはこの吸着材を省
略することもできる。なお、Ｈ２Ｏは、大略１７３に以
下の温度でゲッタ材料に凝集して、吸収される。
加熱装置を備えた場合には、真空容器内の超高真空状態
が解除された際、フィン及びゲッタ材料を加熱し、ゲッ
タ材料に吸収されたＨ２及びＨ２Ｏを排出して次の使用
に備える。
が解除された際、フィン及びゲッタ材料を加熱し、ゲッ
タ材料に吸収されたＨ２及びＨ２Ｏを排出して次の使用
に備える。
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１〜４図は、１実施例を示す。図中において符号１は
、内部空間１ａを有して有底筒状をなすゲッターポンプ
本体を示し、開口部１ｂ周縁にフランジ部１ｃを有し、
このフランジ部ＩＣには、取付は用の環状部材４が複数
個の押えボルト５によって固着されている。このゲッタ
ーポンプ本体ｌの外周面には、環状をなすフィン２が軸
線方向に所定間隔を与えて複数個固設されている。この
ような各フィン２は、銅又はアルミニウムにて形成され
、表面に室温以下の低温での吸収性能に優れるゲッタ材
料（例えば、ＺｒＶ、系、ＺｒＮｉ系のゲッタ材料又は
水素貯蔵合金）３を薄膜をなすように固着しである。こ
のＺｒＶｚ系、ＺｒＮｉ系のゲッタ材料又は水素貯蔵合
金は、室温以下の低温において、特に水素吸収性能に優
れることが知られている。各フィン２に、このようなゲ
ッタ材料３を固着する手段としては、溶射、圧着、焼結
等がある。
、内部空間１ａを有して有底筒状をなすゲッターポンプ
本体を示し、開口部１ｂ周縁にフランジ部１ｃを有し、
このフランジ部ＩＣには、取付は用の環状部材４が複数
個の押えボルト５によって固着されている。このゲッタ
ーポンプ本体ｌの外周面には、環状をなすフィン２が軸
線方向に所定間隔を与えて複数個固設されている。この
ような各フィン２は、銅又はアルミニウムにて形成され
、表面に室温以下の低温での吸収性能に優れるゲッタ材
料（例えば、ＺｒＶ、系、ＺｒＮｉ系のゲッタ材料又は
水素貯蔵合金）３を薄膜をなすように固着しである。こ
のＺｒＶｚ系、ＺｒＮｉ系のゲッタ材料又は水素貯蔵合
金は、室温以下の低温において、特に水素吸収性能に優
れることが知られている。各フィン２に、このようなゲ
ッタ材料３を固着する手段としては、溶射、圧着、焼結
等がある。
このようなゲッターポンプ本体１の内部に、加熱装置６
及び冷却装置７を内蔵する。加熱装置６は、例えばタン
グステンフィラメントに通電してゲッターポンプ本体１
及び各フィン２を加熱するものである。冷却装置７は、
加熱装置６の外周に冷却用バイブ７ａを螺旋状に巻き付
けて構成され、冷却用バイブ７ａに冷却水等の冷却媒体
を通すことによってゲッターポンプ本体１及び各フィン
２を冷却するものである。
及び冷却装置７を内蔵する。加熱装置６は、例えばタン
グステンフィラメントに通電してゲッターポンプ本体１
及び各フィン２を加熱するものである。冷却装置７は、
加熱装置６の外周に冷却用バイブ７ａを螺旋状に巻き付
けて構成され、冷却用バイブ７ａに冷却水等の冷却媒体
を通すことによってゲッターポンプ本体１及び各フィン
２を冷却するものである。
上記構造のゲッターポンプ装置１０は、加速器、半導体
製造装置の分子線エビタキンー形成装置、宇宙実験室等
の真空容器に備えられ、第３図に示すように真空容器１
１に公知のターボ分子ポンプ１２又はクライオポンプ１
３と共に装備される。ターボ分子ポンプ１２は、高速回
転する回転翼と静止する固定翼との間を、熱運動速度で
通過する気体分子を一方向に多く通過させてポンプ作用
を得る構造であり、１Ｏ−９Ｔｏｒｒ程度の到達圧力が
得られるが、水素等の軽い気体の吸気側と排気側との圧
力比に若干劣る。また、クライオポンプ１３は、超低温
での平ｉＩ′ｉ蒸気圧が一般に極めて低いことを利用し
、超低温面（２０に程度）に大気成分のガスを凝結させ
ることによって排気作用を行う構造であるが、還元性か
つ不活性である水素を超高真空領域において凝結させる
能力に劣る。
製造装置の分子線エビタキンー形成装置、宇宙実験室等
の真空容器に備えられ、第３図に示すように真空容器１
１に公知のターボ分子ポンプ１２又はクライオポンプ１
３と共に装備される。ターボ分子ポンプ１２は、高速回
転する回転翼と静止する固定翼との間を、熱運動速度で
通過する気体分子を一方向に多く通過させてポンプ作用
を得る構造であり、１Ｏ−９Ｔｏｒｒ程度の到達圧力が
得られるが、水素等の軽い気体の吸気側と排気側との圧
力比に若干劣る。また、クライオポンプ１３は、超低温
での平ｉＩ′ｉ蒸気圧が一般に極めて低いことを利用し
、超低温面（２０に程度）に大気成分のガスを凝結させ
ることによって排気作用を行う構造であるが、還元性か
つ不活性である水素を超高真空領域において凝結させる
能力に劣る。
第４図に、ゲッターポンプ装置１０の具体的取付は状態
を示す。ゲッターポンプ本体１は、環状部材４の通孔４
ａに通した回外のボルトナツトによって真空容器１１に
取付けられる。１４はサーモカップル取付は部、１５は
真空計取付は部、１６は冷却装置、１７は覗き窓である
。
を示す。ゲッターポンプ本体１は、環状部材４の通孔４
ａに通した回外のボルトナツトによって真空容器１１に
取付けられる。１４はサーモカップル取付は部、１５は
真空計取付は部、１６は冷却装置、１７は覗き窓である
。
次に、作用について説明する。
第３区に示す真空容器１１において、ターボ分子ポンプ
１２又はクライオポンプ１３を運転し、真空容器１１内
に超高真空を作る。その際、同時にゲッターポンプ装置
１０を運転する。この運転に際しては、冷却用パイプ７
ａに冷却媒体を流通させ、ゲッターポンプ本体１の内部
を冷却する。
１２又はクライオポンプ１３を運転し、真空容器１１内
に超高真空を作る。その際、同時にゲッターポンプ装置
１０を運転する。この運転に際しては、冷却用パイプ７
ａに冷却媒体を流通させ、ゲッターポンプ本体１の内部
を冷却する。
冷却温度は、室温以下であり、必要に応して７７に程度
にまで冷却する。これにより、ゲッターポンプ本体１に
固設したフィン２上の室温以下の温度にて水素吸収性能
を有するゲッタ材料（例えば、ＺｒＶｚ系、ＺｒＮｉ系
のゲッタ材料又は水素貯蔵合金）３によって、特にＨ２
（及びＨ２Ｏ）を吸収でき、ターボ分子ポンプ１２又は
クライオポンプ１３の能力不足を補うことができる。ま
た、ゲッターポンプ装置１０が低温にて運転されるので
、真空容器１１又は周辺機器の壁材料等からのガスの放
出を抑制しつつ超高真空を作ることができる。このよう
に、ゲッターポンプ装置１０によって特にＨ２が吸着さ
れるので、クライオポンプ１３にＨ２吸着用として一般
に備えられる吸着材の機能を補うことが可能であり、或
いはこの吸着材を省略することもできる。なお、Ｈ，Ｏ
は、大略１７３に以下の温度でゲッタ材料３に凝集して
、吸収される。
にまで冷却する。これにより、ゲッターポンプ本体１に
固設したフィン２上の室温以下の温度にて水素吸収性能
を有するゲッタ材料（例えば、ＺｒＶｚ系、ＺｒＮｉ系
のゲッタ材料又は水素貯蔵合金）３によって、特にＨ２
（及びＨ２Ｏ）を吸収でき、ターボ分子ポンプ１２又は
クライオポンプ１３の能力不足を補うことができる。ま
た、ゲッターポンプ装置１０が低温にて運転されるので
、真空容器１１又は周辺機器の壁材料等からのガスの放
出を抑制しつつ超高真空を作ることができる。このよう
に、ゲッターポンプ装置１０によって特にＨ２が吸着さ
れるので、クライオポンプ１３にＨ２吸着用として一般
に備えられる吸着材の機能を補うことが可能であり、或
いはこの吸着材を省略することもできる。なお、Ｈ，Ｏ
は、大略１７３に以下の温度でゲッタ材料３に凝集して
、吸収される。
真空容器１１内の超高真空状態が解除されたなら、加熱
装置６によ・ってフィン２及びゲッタ材料３を室温以上
の温度に加熱し、吸収したＨ、及びＨ，０を排出して次
の使用に備える。
装置６によ・ってフィン２及びゲッタ材料３を室温以上
の温度に加熱し、吸収したＨ、及びＨ，０を排出して次
の使用に備える。
第５．６図には、ゲッターポンプ装置１ｏの他の構造例
を示し、前記実施例と実質的に同一部分には同一符号を
付しである。この構造例にあっては、ゲッターポンプ本
体１に固設するフィン２２は、帯板状をなし、ゲッター
ポンプ本体１の外周面に軸線方向に延在させて放射状に
固設してあり、各フィン２２には上記実施例と同様のゲ
ッタ材料３が固着されている。また、ゲッターポンプ本
体１のフランジ部１ｃに押えボルト５によって固着した
環状部材４には、両端部にフランジ部１８ａ、１８ｂを
有する外筒部材１８の一方のフランジ部１８ａが複数個
のボルト・ナツト１９によって固着され、この外筒部材
１８によって各フィン２２が覆われている。２１は、外
筒部材１８に形成した冷却装置であり、環状空間２１ａ
内に冷却媒体を循環させ、各２イン２２の周囲が充分に
冷却されるように考慮しである。このようなゲッターポ
ンプ装置１０は、外筒部材１８の他方のフランジ部１８
ｂを真空容器１１の開口部周縁に着脱自在に固着して装
備される。この構造例によっても、上記実施例とは真空
容器１１への取付は状態に相違があるのみであり、Ｈ２
の吸収等に関し、実質的に同様の作用が得られる。
を示し、前記実施例と実質的に同一部分には同一符号を
付しである。この構造例にあっては、ゲッターポンプ本
体１に固設するフィン２２は、帯板状をなし、ゲッター
ポンプ本体１の外周面に軸線方向に延在させて放射状に
固設してあり、各フィン２２には上記実施例と同様のゲ
ッタ材料３が固着されている。また、ゲッターポンプ本
体１のフランジ部１ｃに押えボルト５によって固着した
環状部材４には、両端部にフランジ部１８ａ、１８ｂを
有する外筒部材１８の一方のフランジ部１８ａが複数個
のボルト・ナツト１９によって固着され、この外筒部材
１８によって各フィン２２が覆われている。２１は、外
筒部材１８に形成した冷却装置であり、環状空間２１ａ
内に冷却媒体を循環させ、各２イン２２の周囲が充分に
冷却されるように考慮しである。このようなゲッターポ
ンプ装置１０は、外筒部材１８の他方のフランジ部１８
ｂを真空容器１１の開口部周縁に着脱自在に固着して装
備される。この構造例によっても、上記実施例とは真空
容器１１への取付は状態に相違があるのみであり、Ｈ２
の吸収等に関し、実質的に同様の作用が得られる。
以上の説明によって理解されるように、本発明によれば
、次の効果が得られる。
、次の効果が得られる。
■、ゲックーポンプ装置は、室温以下の温度にて水素吸
収性能を有するゲッタ材料を備え、冷却装置によって室
温以下の温度に冷却して使用ムこ供されるため、低温に
てＨ２のみならずＨ２Ｏをも吸収でき、真空容器内に低
温の超高真空状態を形成する上で有効であると共に、真
空容器付近の壁材料等からの有害ガスの放出を抑制する
ことができ、良好な超高真空を形成することができる。
収性能を有するゲッタ材料を備え、冷却装置によって室
温以下の温度に冷却して使用ムこ供されるため、低温に
てＨ２のみならずＨ２Ｏをも吸収でき、真空容器内に低
温の超高真空状態を形成する上で有効であると共に、真
空容器付近の壁材料等からの有害ガスの放出を抑制する
ことができ、良好な超高真空を形成することができる。
■、ゲックーポンプ装置は、室温以下の温度で使用され
るため、特に、低温にて使用されるクライオポンプとの
併用により、クライオポンプにて除去し難いＨ２をゲッ
ターポンプ装置によって除去でき、低温の超高真空状態
を容易に形成することができる。
るため、特に、低温にて使用されるクライオポンプとの
併用により、クライオポンプにて除去し難いＨ２をゲッ
ターポンプ装置によって除去でき、低温の超高真空状態
を容易に形成することができる。
第１〜４図は本発明の１実施例を示し、第１図はゲッタ
ーポンプ装置を断面にて示す正面図、第２図は同しく平
面図、第３図は真空容器を示す概略図、第４図は真空容
器を示す断面図、第５図はゲッターポンプ装置の他の構
造例を断面にて示す正面図、第６図は同しく平面図であ
る。 ｌニゲツク−ポンプ本体、ｌａ・内部空間、２２２：フ
イン、３ニゲツタ材料、６：加熱装置７：冷却装置、１
０ ダンク−ポンプ装置。１１：真空容器、１２：ター
ボ分子ポンプ１１３：クライオボンブ、１８：外筒部材
、２１：冷却装置。 代理人 弁理士 前 １）宏 之 第２図 第６図 第１ 第５図
ーポンプ装置を断面にて示す正面図、第２図は同しく平
面図、第３図は真空容器を示す概略図、第４図は真空容
器を示す断面図、第５図はゲッターポンプ装置の他の構
造例を断面にて示す正面図、第６図は同しく平面図であ
る。 ｌニゲツク−ポンプ本体、ｌａ・内部空間、２２２：フ
イン、３ニゲツタ材料、６：加熱装置７：冷却装置、１
０ ダンク−ポンプ装置。１１：真空容器、１２：ター
ボ分子ポンプ１１３：クライオボンブ、１８：外筒部材
、２１：冷却装置。 代理人 弁理士 前 １）宏 之 第２図 第６図 第１ 第５図
Claims (2)
- （１）、有底筒状をなし、内部空間を有するゲツターポ
ンプ本体と、該ゲツターポンプ本体の外側面に固着した
複数個のフィンと、該フィンの表面に薄層をなすように
固着され、室温以下の温度にて水素吸収性能を有するゲ
ツタ材料と、該ゲツターポンプ本体の内部空間に付属さ
れ、該フィンを冷却する冷却装置とを有することを特徴
とするゲッターポンプ装置。 - （２）、冷却装置に加熱装置が付属された請求項（１）
記載のゲツターポンプ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10638590A JP2967785B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ゲツターポンプ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10638590A JP2967785B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ゲツターポンプ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH045480A true JPH045480A (ja) | 1992-01-09 |
| JP2967785B2 JP2967785B2 (ja) | 1999-10-25 |
Family
ID=14432239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10638590A Expired - Fee Related JP2967785B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ゲツターポンプ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2967785B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5772404A (en) * | 1995-07-10 | 1998-06-30 | Saes Getters S.P.A. | Compact getter pump with nested thermally insulating shields |
| WO1998037325A1 (en) | 1997-02-24 | 1998-08-27 | Saes Getters S.P.A. | Getter pump with one-piece supporting framework of a plurality of non-evaporable getter elements mutually parallel |
| JP2001503830A (ja) * | 1996-06-19 | 2001-03-21 | オルガニザーション ユーロペーヌ プール ラ ルシェルシュ ニュークレール | 非蒸発性ゲッターによるポンプ装置およびこのゲッターの使用法 |
| JP2012180846A (ja) * | 2004-09-24 | 2012-09-20 | Brooks Automation Inc | 第３種の気体の排気用高コンダクタンス・クライオポンプ |
| WO2014009388A1 (de) * | 2012-07-09 | 2014-01-16 | Saint-Gobain Glass France | Vorrichtung und verfahren zum wärmebehandeln eines gegenstands |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP10638590A patent/JP2967785B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5772404A (en) * | 1995-07-10 | 1998-06-30 | Saes Getters S.P.A. | Compact getter pump with nested thermally insulating shields |
| JP2001503830A (ja) * | 1996-06-19 | 2001-03-21 | オルガニザーション ユーロペーヌ プール ラ ルシェルシュ ニュークレール | 非蒸発性ゲッターによるポンプ装置およびこのゲッターの使用法 |
| WO1998037325A1 (en) | 1997-02-24 | 1998-08-27 | Saes Getters S.P.A. | Getter pump with one-piece supporting framework of a plurality of non-evaporable getter elements mutually parallel |
| US6106237A (en) * | 1997-02-24 | 2000-08-22 | Saes Getters, S.P.A. | Getter pump with one-piece frame supporting nonevaporable getter elements |
| JP2012180846A (ja) * | 2004-09-24 | 2012-09-20 | Brooks Automation Inc | 第３種の気体の排気用高コンダクタンス・クライオポンプ |
| WO2014009388A1 (de) * | 2012-07-09 | 2014-01-16 | Saint-Gobain Glass France | Vorrichtung und verfahren zum wärmebehandeln eines gegenstands |
| US10163670B2 (en) | 2012-07-09 | 2018-12-25 | Bengbu Design & Research Institute For Glass Industry | Device and method for heat treating an object |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2967785B2 (ja) | 1999-10-25 |
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