JPH0450602A - Xyステージ - Google Patents

Xyステージ

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Publication number
JPH0450602A
JPH0450602A JP15357190A JP15357190A JPH0450602A JP H0450602 A JPH0450602 A JP H0450602A JP 15357190 A JP15357190 A JP 15357190A JP 15357190 A JP15357190 A JP 15357190A JP H0450602 A JPH0450602 A JP H0450602A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
recess
base
light
mirrors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15357190A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirohisa Fujimoto
洋久 藤本
Yukio Eda
幸夫 江田
Hiroshi Yugawa
湯川 浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP15357190A priority Critical patent/JPH0450602A/ja
Publication of JPH0450602A publication Critical patent/JPH0450602A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は測定顕微鏡やステッパー等に使用されるステ
ージ、特に互いに直交する方向に移動可能な2つのステ
ージを備えるXYXステージ関する。
[従来の技術] 近年のマイクロエレクトロニクスの発展に伴い、半導体
製造装置や検査装置においては、非常に高い精度での位
置決めが要求されるようになり、レーザー測長器を用い
て位置計測されるXYXステージ使用されるに至ってい
る。このようなXYXステージは、その−例が特開平第
2−37709号に開示されるように、試料が載置され
るステージには、ステージの外側を向き、移動(X及び
Y)方向の各々に直交する2つの反射面を設けである。
また、X及びY方向の位置を計測するための2つのレー
ザー測長器が、反射面に対向するようにステージから離
されて配置される。さらに、特開平第2−37709号
には開示されていないが、レーザー光が通過する空間の
屈折率により測定誤差が生じるため、屈折率補正用のエ
アセンサーが各レーザー測長器の近くに設けられる。
[発明が解決しようとする課題] このようなXYXステージは、レーザー測長器か試料を
載せるステージから離されて配置されるため、その構成
が大きなものになる。このため、装置の取り扱い、移動
、セツティングなどの際に不便かあった。
この発明の目的は、レーザー測長器を具備する小型化さ
れたXYXステージ提供することである。
[課題を解決するための手段] この発明のXYXステージ、ベースと、ベース上をX方
向に沿って移動可能なXステージと、Xステージ上をX
方向とは異なるY方向に移動可能で、凹所を規定する面
、X方向と交わる第1の反射面、及び、Y方向と交わる
第2の反射面を有するYステージと、ベースに固定され
ると共にYステージの凹所内に配置され、第1及び第2
の反射面に光を照射し、反射された光を受光してベース
に対するYステージの位置を計測する光学式測長器とを
備える。
[作用コ この発明によるXYXステージは、光学式副長器はベー
スに固定されるとともに、試料か載置されるYステージ
に設けられた凹所内に配置される。
この光学式測長器は、X及びY方向に光ビームを照射し
、第1及び第2の反射面で反射された光を受光して、測
長器から反射面までの距離、すなわち、試料の相対的な
位置を計測する。第1及び第2の反射面は凹所を規定す
る面の一部に設けられてもよい。
光学式測長器では、射出される光ビームの波長が空気の
温度変化等に伴う屈折率変化に敏感に反応し変化するた
め、測長器の周囲環境は安定していることか望ましい。
この発明では、光学式M]長器か配置される凹所内の空
気の温度は安定しており、これにより精度の良い測定結
果が得られる。
さらに、各光ビームが伝搬する光路の近傍に屈折率補正
用のエアーセンサーが設けられるか、凹所内の環境はほ
ぼ一様であるため、ただ1つのエアーセンサーを設ける
だけでよい。
[実施例] 以下、図面を参照しながら、この発明にょるXYXステ
ージ一実施例について説明する。
第1図及び第2図に示されるように、XYXステージ1
0、固定されたベース12の上を所定の方向(X方向)
に沿って移動可能なXステージ14を備える。このXス
テージ14は、■アンドフラット案内によりベース12
に対してX方向に正確に移動可能である。さらに、XY
Xステージ10、Xステーシュ4の上をX方向と直交す
るY方向に沿って移動可能なYステージ16を備える。
Yステージ16もXステージ14と同様に■アンドフラ
ット案内によりXステージ14に対してY方向に正確に
移動可能である。Xステージ14は、ベース12に固定
されたモーター等の駆動装置20の回転操作により、駆
動装置2oに設けであるビニオン21とXステージ14
に取り付けられたラッ゛り]−5の作用によって、ベー
ス12の上をX方向に移動される。また、Yステージ1
6は、Xステージ14に固定されたモーター等の駆動装
置180回転操作により、駆動装置18に設けであるピ
ニオン(図示しない)とYステージ16に取り付けられ
たラック17の作用によって、Xステージ14の上をY
方向に移動される。
Yステージ16は、第2図に示されるように、コ字状の
断面を有し、その内面によって矩形の凹所22か定めら
れる。さらに、Yステージ16は、凹所22を規定する
側面の中のX方向に直交する一側面に第1の反射面、例
えばミラー24を、Y方向に直交する一側面に第2の反
射面、例えばミラー26を備える。凹所22の内部には
光学式測長器、例えばレーザー干渉計28が、ベース1
2に固定され、Xステージ14のほぼ中央に設けられた
X方向に延びる略楕円形の開口部30を通って延びる部
材32によって支持固定される。さらに、干渉計28か
ら射出される光ビームの波長は、周囲の空気の屈折率に
敏感に反応して変化し、測定結果に影響を与えるので、
これを補正するためのエアーセンサー34が凹所22の
内部、例えばミラー26に対向する面に設置固定される
レーザー干渉計28は、互いに直交する方向に光ビーム
を射出する2つの発光部を持ち、これらの発光部の各々
がミラー24及び26に対向するように配置される。各
発光部から射出された光ビームはそれぞれミラー24及
び26で反射されて戻り、発光部近傍に設けられた受光
部で受信される。これにより、各ミラー24及び26と
これに対向する各発光部の間の距離、すなわち、Xステ
ージ16の相対的な位置が検出される。
以上に説明したように、この実施例のXXステージでは
、レーザー干渉計28が凹所22の内部に配置されるの
で、XXステージ10の構成が小型になる。また、凹所
22の内部では空気の対流や温度変化等が少なく環境が
安定しているため、安定した波長の光ビームが干渉計2
8から射出されるようになり、測定の精度および信頼性
が向上する。さらに、干渉計を用いる光学的な測定では
各光ビームの近傍に屈折率補正用のエアーセンサーが設
けられるが、凹所22の内部の屈折率がほぼ一様である
ため、設置するエアーセンサーは1つで済むという利点
もある。
この発明は上述の実施例に限定されることなく、種々多
くの修正や変更が可能である。
例えば、この実施例では各ミラーをXステージの凹所を
規定する面の側面に設けたが、Xステージの側面を透明
部材で構成し、ミラーを外側から取り付けてもよい。
また、別の例としては、上述の実施例ではレーザー干渉
形の内部に発光素子および受光素子を設けたが、これら
をベースに設け、下から中空にした部材中を光学系を介
して光ビームを上方に伝え、ビーム偏向部材により光ビ
ームの進行方向を2方向に変えてミラーに向かって放出
し、反射した先ビームは再び光学系を通り受光素子へ導
かれるように構成しても良い。この場合にはレーサー干
渉計としてXステージ内に位置する部分か小型化できる
また、ここではY方向に駆動されるXステージにミラー
を設けであるが、直接駆動されるステージの上に観察用
ステージを別に設ける場合には、この観察用ステージに
ミラーを設けてもよい。この観察用ステージはXステー
ジに対してはY方向に移動可能であり、ベースに対して
の位置を計測することになり、本発明の範鴫であること
は明がである。この様に観察用ステージを使用する場合
には、このステージが試料に一番近いので、その位置を
計測する方が正確な位置計測となる。
また更にXステージに設けた開口部は略楕円形に構成し
であるが、ステージ下方から透過照明を行う装置に使用
する場合には、光通過路として開口を円形その他の形状
にすることも可能である。
[発明の効果] この発明のXXステージによれば、光学式測長器はステ
ージの凹所内に配置されるので構成が小型になる。また
、凹所内の空気の温度は安定しているので、光ビームの
波長が安定し、これにより測定精度が向上する。さらに
、凹所内の空気の屈折率はほぼ一様であるため、屈折率
補正用に設けられるエアーセンサーが1つで済む。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明のXXステージの一実施例の斜視図
、 第2図は、第1図に図示されるXXステージの■−■断
面図である。 12・・・ベース、14・・・Xステージ、16・・・
Xステージ、24.26・・・ミラー 28・・・レー
ザー干渉計。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ベースと、 ベース上をX方向に沿って移動可能なXステージと、 Xステージ上をX方向とは異なるY方向に移動可能で、
    凹所を規定する面、X方向と交わる第1の反射面、及び
    、Y方向と交わる第2の反射面を有するYステージと、 ベースに固定されると共にYステージの凹所内に配置さ
    れ、第1及び第2の反射面に光を照射し、反射された光
    を受光してベースに対するYステージの位置を計測する
    光学式測長器とを備えるXYステージ。
JP15357190A 1990-06-12 1990-06-12 Xyステージ Pending JPH0450602A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15357190A JPH0450602A (ja) 1990-06-12 1990-06-12 Xyステージ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15357190A JPH0450602A (ja) 1990-06-12 1990-06-12 Xyステージ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0450602A true JPH0450602A (ja) 1992-02-19

Family

ID=15565406

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15357190A Pending JPH0450602A (ja) 1990-06-12 1990-06-12 Xyステージ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0450602A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015046331A (ja) * 2013-08-29 2015-03-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ ステージ装置および荷電粒子線装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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