JPH04501890A - パルプの連続処理のための装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 バルブの連続処理のための装置 本発明は、ガス相での活性化学物質、好ましくは二酸化窒素及び酸素含有ガスに よるバルブの処理に係わり、さらにこの処理を実行するためのＩＩに係わる。

バルブは、アルカリ性′ｃ酸素ガスによる脱リグニンを行なう前に予備処理どし て二酸化窒素及び酸素ガスによって処理される。その場合に二酸化窒素及び酸素 の供給は、バルブ中に幾つかの異なった化学反応を引き起こすことが認められて いる。これらの反応から積極的な効果を得るためには、処理は少なくとも２つの 段階に分けられるべきである。第１の段階では１．：ｌＩ化窒素はバルブと酸素 の存在なしに反応するだろう。しかし第２の段階では、反応は酸素の存在下で実 施されて酸素はｔｋ酸素又は酸素含有ガスと１ノて供給されるだろう。

このタイプの処理についでは、例えばスエーデン特許（ＳＥ−ＰＳ）第４２１９ ３８号及び第４５１０２３号に開示されている。

その処理において要求される条件は、装置が非常に多くの要件に合致したもので なければならない。

次のような反応容器の使用、即ち容器に対して二酸化窒素はバルブが供給される その端部において供給され、またＳ累はその排出端部に供給されるものは知られ でいる。しかしこの場合は知られているように、共通のガススペースが形成され て反応が最適化しない。

２つの段階を分離するためには、２つの隔離した容器であって且つその場合にバ ルブの搬送手段を設けた容器を使用する必要があった。これによると確かに最適 仕様で処理を行なうことは可能であろうが、設備は複雑化してより大きなスペー スを必要とする。

本発明によると、バルブの二酸化窒素及び酸素ガスによる処理が単一の気密容器 中で最適条件で得ることができる。

本発明の特徴が付記したクレームにおいて定義角りられるだろう。

本発明は以下において、本発明の好適実施例を示す添付の第１図を参照してより 詳しく述べられる。

図示の装置は気密容器１を含み、該容器はその上方部にバルブの気密内部送給用 の供給装置２を備えている。装置２は好ましくはスクリュー３であって、これを 通ってバルブが気密のプラグ（ｐｌｕｇｌの形で供給される。容器１への入口に Ｊ３いてのバルブの破壊と離解の目的で、特別な装置４が具備されている。容器 １の底部には、バルブの気密ＩＪ［出用の排出装置５が位置している。この排出 装置は好ましくは容器１に直接的に接続したタンク６を有し、タンク６の中では 希釈帯域が液体レベル以下の出ロアによっ゛Ｃ保持されている。

容器１はさらに上方部分８と上方部分９とに分かれている。

これら２つの部分は同じ直径を持っていても、又は下部部分の直径がより大きく てもよい。下方部分の直径は好ましくは、下方部分の直径よりも１０〜４０％及 び好適には２０〜３０％大きい。

上方部分８は、混合帯域１０及び反応帯域１１を含む。反応帯域中のバルブレベ ルはレベル伝達器１２によって指示される。二酸化窒素供給用の導管１３が、容 器１の頂部で混合帯ｂ１１０に接続されている。

ガスの循環用の導管１４が、排出装置５と容器１との間に結合されていて上方部 分８と下方部分９との遷移部へ至っている。

ガスは好ましくは容器の周縁の周りで対称的に供給される。導管１４には）７７ ン１５がガス流の保証のため設けられている。酸素ガス供給用の導管１６が前記 循環用の導管１４に接続されている。

酸素ガスは、純酸素又は酸素を含むガスとして供給される。

容器１は排出装置５のタンク６内へと上方に延伸している。

従っＣスペース１７が、稀釈帯域のＦで■つ容器１の壁とタンク６の壁との間に 形成されている。ガスの循環用導管１４が前記スペース１１に接続されでいる。

容器１の底部には周囲全体に伸びる間口１８が位置し、処理されたバルブがこれ を通って回転式スクレーパ装置１９を介して取巻きのタンク６へと排出される。

この代わりに底部全体がその上に全バルブ床を載置する回転式円錐ディスクを設 計してもよい。その場合には排出はディスクの周縁において実行される。

タンク６は容器１からのバルブを受取るように配置されており、また複数の稀釈 ノズル２０を備えている。ノズルは、稀釈作用と共にバルブへ回転を同時に与え るように接線方向で配置されている。タンクはまた、出口１に向って下へ方向付 けられたスクリュー型導通路の形にも形成され得る。

容器１の後には別個の事後反応容器２１を設けることができ、ポンプ２２がバル ブを容器１から前記別個の容器２１ヘポンプ配送するために設けられている。

本発明の装置で処理されたバルブは化学的に処理されるであろうし、好ましくは 硫酸塩バルブ、しかし他の化学バルブもまた用いることができる。

濃度２０〜３５％のバルブが供給装置２を介して容器１へ供給されるが、ガスが 洩出しないようにして行なわれる。同時に空気もまたバルブと共に容器１の中へ 流れ込むのが防止されている。

容器１に入ったバルブは装＠４によって離解され、続いて容器１の上方部分８内 の混合帯域１０を通って落下する。導管１３を通って供給される二酸化窒素が１ ０〜２０に９／１１−ンバルブの割合で混合される。容器１内のバルブ床のレベ ルはレベル伝達器１２を用いて決定される。−６酸化窒素とバルブとの間の反応 が反応帯域１１内で開始する。この帯域Ｃはバルブ及びガスは連続的に下方へ実 質的に同じ速度で移動され、即ちバルブ中に含まれる二酸化窒素はバルブに関連 して移動づることはない。

容器１の上方部分８内の反応帯域１１の後では、バルブは容器の下方部分９に入 って行く。ここで導＠１４を通してガスが送ら留ガスに酸素が混ったものから成 る。酸素ガスは導管１６を通して５〜１０Ｋｇ／ｌｔ−ンパルプの割合Ｃ送給さ れる。容器１において上方部分８と下方部分９との遷移部で直径が増しておれば 、導管１４を通してのガス供給と全バルブ床でのガス流分配とが促進される。

導管１４内でのガス循環によって、容器１の下方部分９を通るガス流れが制御で きる。フ１ン１５はガスとバルブとの間で下方向流量に勾配を実現し、容器１の この部分にわたってガス速度はバルブ速度を上回ねるだろう。その速度勾配は容 器の下方部分９内のバルブ床にわたって圧力降下を起こさせるに十分なほど大き く、全体のバルブ床内での良好なガス流れ分配を生じさせる。

バルブは、回転式スクレーバ装＠１９を介して容器１の底から周囲のタンク６へ と排出される。バルブは、そこで稀釈ノズル２０によって好ましくは３〜５％の 低濃度に稀釈を受ける。同時にノズルはバルブに対して、出ロアへとスクリュー 型導通路に沿った回転を付与する。出口を通しての流れは、タンク６内の液体レ ベルが気密排出の保証目的で維持されるように制御を受ける。

バルブと反応しなかったガスの主要部分はタンク６内に現れる。このガスはスペ ース１１を介して導管１４へと排出されるが、この部分の寸法はバルブ及び液体 がガス流に乗って運ばれないような太ささである。

処理されたバルブはその後で、次の処理スデツプにある連続処理へと輸送される 。事後反応はおそらくは必要とされるものであり、それは別個の容器２１で行な われる。この容器を通して残留ガス成分を持ったバルブが連続的に通過し、バル ブには反応が完結するに必要な滞留時間が与えられる。

無論のこと本発明は前記の実施例によって限定されるものではなく、本発明の主 旨の範囲ぐ変更され得るものである。

国際調査報告 国際調査報告 ＰＣＴ／Ｓε８９１００６５０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．ガス相での活性化学物質、好ましくは二酸化窒素及び酸素によるバルブの連 続処理のための気密容器（１）を含む装置であって、さらに装置が次のようなも のの組合わせ、即ち（ａ）パルプの気密内部供給のための、容器（１）の頂部に ある内部供給装置（２）と、処理されたパルプの気密排出のための、底部にある 排出装置（５）と、 （ｂ）内部供給位置でのバルブのための離解装置（４）と、（ｃ）容器（１）の 頂部への二酸化窒素ガス供給用の導管（１３）と、（ｄ）パルプ及び二酸化窒素 のための混合帯域（１０）及び反応帯域（１１）を備えた容器（１）の上方部分 （８）と、（ｅ）その直径が上方部分（８）の直径に等しいか又はより大きく、 適当には１０〜４０％、好ましくは２０〜３０％だけ大きい、容器（１）の下方 部分（９）と、 （ｆ）排出装置（５）から容器上方部分（８）と容器下方部分（９）との間の遷 移部へガスを循環するためのファン（１５）付き導管（１４）であって、該ファ ン（１５）が、ガスとパルプとの間に下方向流量内に勾配を生じさせるために配 置されている該導管（１４）と、（ｇ）容器下方部分（９）への酸素ガス供給用 の導管（１６）であって、排出装置（５）からのガス循環用導管（１４）に接続 されている該導管（１６）と を含んでいる装置。 ２．排出装置（５）が容器（１）の下方部分（９）と直接的に接続されたタンク （６）を含み、該タンク（６）が液体レベル以下にある出口（７）を備えた稀釈 帯域を有する請求項１に記載の装置。 ３．タンク（６）が稀釈帯域の上方にスペース（１７）を含み、該スペースには 実質的にパルプが存在せず、またガス循環用の導管（１４）が該スペース（１７ ）に接続されている請求項２に記載の装置。 ４．スクレーパ装置がタンク（６）ヘパルプを半径方向で転送するために容器（ １）の底部に配置されている請求項２又は３に記載の装置。 ５．容器（１）の後に別個の事後反応容器（２１）が配置され、ボンブ（２２） が容器（１）から該別個の容器（２１）ヘパルプを直接にポンプ輸送するために 設けられている請求項２又は３に記載の装置。