JPH0448087A - Etching and developing method - Google Patents

Etching and developing method

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JPH0448087A
JPH0448087A JP15800390A JP15800390A JPH0448087A JP H0448087 A JPH0448087 A JP H0448087A JP 15800390 A JP15800390 A JP 15800390A JP 15800390 A JP15800390 A JP 15800390A JP H0448087 A JPH0448087 A JP H0448087A
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JP
Japan
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air
substrate
nozzle
air nozzle
etching
Prior art date
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Pending
Application number
JP15800390A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaharu Ishikawa
正治 石川
Yoshiharu Kasai
笠井 与志治
Hiroyuki Shiraki
啓之 白木
Junji Kaneko
兼子 醇治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/068Apparatus for etching printed circuits

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To etch or develop the entire surface of a substrate by moving the substrate placed on a conveyor, oscillating a liq. chemical pipeline having a nozzle and an air pipeline having a nozzle and simultaneously injecting the chemical and air. CONSTITUTION:A liq. chemical pipeline 1 having plural nozzles 2 is arranged in plural columns in the traveling direction (to the (a) direction in the figure) of a conveyor 5 for a substrate 4. An air pipeline 6 having nozzles 7 is arranged in plural columns A-F in parallel with the chemical pipeline 1. The chemical pipeline 1 and the air pipeline 6 are oscillated, and the chemical and air are simultaneously injected on the substrate 4 respectively from the nozzles 2 and 7. Consequently, the entire surface of the substrate is uniformly etched or developed.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は印刷配線板等で薬液噴霧によりエツチングする
方法並びに現像する方法(現像についてはエツチングと
同様に適用できるが、以下説明を省略して主にエツチン
グについて述べる)に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of etching printed wiring boards, etc. by spraying a chemical solution, and a method of developing (development can be applied in the same manner as etching, but the explanation will be omitted below. It mainly deals with etching.

[従来の技術] 一般に印刷配線板等のエツチングでは、特開昭49−4
4944号公報に見られるように、薬液を噴霧する際、
ノズル配管を揺動させて均一なエツチングを実現しよう
としている。つまりノズル配管の振動により基板(生産
物)上に滞留する老化した薬液を新しい薬液と交換して
均一なエツチングを試みている。第11図(a)(b)
はエツチング状態を示し、1はノズル配管、2はノズル
、3は薬液の溜まり、4は被エツチング物である基板、
5は搬送コンベアである。
[Prior art] Generally, in the etching of printed wiring boards, etc., Japanese Patent Laid-Open No. 49-4
As seen in Publication No. 4944, when spraying a chemical solution,
They are trying to achieve uniform etching by swinging the nozzle piping. In other words, uniform etching is attempted by replacing old chemical solution that accumulates on the substrate (product) with new chemical solution due to the vibration of the nozzle piping. Figure 11(a)(b)
indicates the etching state, 1 is the nozzle piping, 2 is the nozzle, 3 is the reservoir of chemical solution, 4 is the substrate to be etched,
5 is a conveyor.

[発明が解決しようとする課題] しかし基板4の上面においては、基板4の寸法が大きく
なると、第11図(a)に示すように基板4の上面に当
たった薬液は基板4の表面を伝って基板4の端部から落
下するので、中央部は老化した薬液が溜まりやすく、端
部は新しい薬液との液交換が容易である。そのため端部
のエツチングが敏速であるが、中央部のエツチングが遅
く、不均一なエツチングになる。また基板4の下面にお
いては、第11図(b)に示すように基板4に当たりた
薬液は端部からだけでなく、中央部からも自然(重力)
落下するので、反対に端部に老化した薬液が溜まりやす
く、端部のエツチングが遅く、中央部のエツチングが敏
速であるため不均一なエツチングとなる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, as the size of the substrate 4 increases, the chemical liquid that hits the top surface of the substrate 4 will be transmitted along the surface of the substrate 4, as shown in FIG. 11(a). Since the chemical liquid falls from the edge of the substrate 4, aged chemical liquid tends to accumulate in the central part, and it is easy to replace the chemical liquid with new chemical liquid at the end part. Therefore, etching at the edges is rapid, but etching at the center is slow, resulting in non-uniform etching. Furthermore, on the lower surface of the substrate 4, as shown in FIG.
Since it falls, the aged chemical solution tends to accumulate at the edges, and etching at the edges is slow and etching at the center is rapid, resulting in uneven etching.

本発明は叙述の点に鑑みてなされたものであって、本発
明の目的とするところは基板全面に亘って均一なエツチ
ングや現像ができるエツチング並びに現像方法を提供す
るにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide an etching and developing method that enables uniform etching and development over the entire surface of a substrate.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明エッチング並びに現像方
法は、エツチング装置または現像装置の搬送コンベアに
基板を載せて薬液ノズルからエツチング液または現像液
の薬液を噴射しながら基板を移動してエツチングまたは
現像をする方法において、薬液を噴射する薬液ノズルを
有する薬液配管と、エアを噴射するエアーノズルを有す
るエアー配管とを揺動しながら薬液ノズル及びエアーノ
ズルから薬液とエアーを同時に噴射することを特徴とす
る。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the etching and developing method of the present invention includes placing a substrate on a conveyor of an etching device or a developing device, and spraying a chemical solution such as an etching solution or a developer from a chemical solution nozzle. In a method of moving a substrate for etching or development, a chemical liquid pipe having a chemical liquid nozzle for spraying a chemical liquid and an air pipe having an air nozzle for spraying air are oscillated, and the chemical liquid and air are supplied from the chemical liquid nozzle and the air nozzle. It is characterized by injecting simultaneously.

また基板の上面側では搬送コンベアの駆動方向と直交す
る方向の端部から中央部に近付く程、エアーノズルのス
プレー口と基板表面との距離を短くしたり、エアーノズ
ル分布密度を高くしたり、エアーノズルのスプレー圧力
を大きくしたり、流量の大きいエアーノズルを使用した
りしてエアーが強く或は多量に基板に当たる条件で噴射
することを特徴とすることも好ましい。
In addition, on the upper surface side of the substrate, the distance between the air nozzle spray port and the substrate surface is shortened, and the air nozzle distribution density is increased as you approach the center from the end in the direction perpendicular to the driving direction of the conveyor. It is also preferable that the spray pressure of the air nozzle is increased or that an air nozzle with a large flow rate is used to spray the air strongly or in large quantities to the substrate.

基板の上面側においてエアーが強く或は多量に基板に当
たるようにする手段を列挙すると次の通りである。
The following is a list of means for making air hit the substrate strongly or in large quantities on the upper surface side of the substrate.

■エアーノズルのスプレー口と基板表面との距離を短く
する。
■ Shorten the distance between the air nozzle spray port and the substrate surface.

■エアーノズル分布密度を高くする。■Increase air nozzle distribution density.

■エアーノズルのスプレー圧力を大きくする。■Increase the spray pressure of the air nozzle.

■流量の大きいエアーノズルを使用する。■Use an air nozzle with a large flow rate.

■上記■と■を組み合わせる。■Combine ■ and ■ above.

■上記■と■を組み合わせる。■Combine ■ and ■ above.

これら以外の組み合わせでもよい。Combinations other than these may also be used.

さらに基板の下面側では搬送コンベアの駆動方向と直交
する方向の端部から中央部に近付く程、エアーノズルの
スプレー口と基板表面と距離を長くしたり、エアーノズ
ル分布密度を低くしたり、エアーノズルのスプレー圧力
を小さくしたり、流量の小さいエアーノズルを使用した
りしてエアーが弱く或は少量で基板に当たる条件で噴射
することを特徴とすることも好ましい。
Furthermore, on the bottom side of the substrate, the closer you get from the edge in the direction perpendicular to the driving direction of the conveyor to the center, the longer the distance between the air nozzle spray port and the substrate surface, the lower the air nozzle distribution density, and the closer the air nozzle is to the center. It is also preferable to reduce the spray pressure of the nozzle or use an air nozzle with a small flow rate so that a weak or small amount of air hits the substrate.

基板の下面側においてエアーが弱く或は少量で基板に当
たるようにする手段を列挙する次の通りである。
The following is a list of means for making air weakly or in a small amount hit the substrate on the lower surface side of the substrate.

■′エアーノズルのスプレー口と基板表面との距離を長
くする。
■' Increase the distance between the air nozzle spray port and the substrate surface.

■′エアーノズル分布密度を低くする。■'Lower the air nozzle distribution density.

■′エアーノズルのスプレー圧力を小さくする。■'Reduce the spray pressure of the air nozzle.

■′液流量小さいエアーノズルを使用する。■'Use an air nozzle with a small liquid flow rate.

■′上記■′と■′を組み合わせる。■′Combine ■′ and ■′ above.

■′上記■′と■′を組み合わせる。■′Combine ■′ and ■′ above.

[作用コ 薬液と一緒にエアーを揺動させて噴射することによりエ
アーで薬液の溜まりを吹き飛ばし、薬液の交換を促進し
て全面に亘って均一にエツチングや現像ができる。
[Operation: By swinging and spraying air together with the chemical solution, the air blows away the accumulation of the chemical solution, promotes exchange of the chemical solution, and enables uniform etching and development over the entire surface.

また基板の上面では端部に比べて中央部にエアーを強く
或は多量に当てて中央部の薬液の交換を促進し、基板の
上面全面に亘って均一にエツチングや現像ができる。
Furthermore, on the upper surface of the substrate, air is applied more strongly or in a larger amount to the center than at the edges to promote exchange of the chemical solution in the center, allowing uniform etching and development over the entire upper surface of the substrate.

また基板の下面では中央部に比べて端部にエアーを強く
或は多量に当てて端部の薬液の交換を促進し、基板の下
面全面に亘ってエツチングや現像を促進できる。
Furthermore, on the lower surface of the substrate, air is applied more strongly or in a larger amount to the edges than to the center to promote exchange of the chemical solution at the edges, thereby promoting etching and development over the entire lower surface of the substrate.

[実施例] 犬見舅ユ これは基板4の上面側の条件を■とし、基板4の下面側
の条件を■′としたものである。つまり、基板4の上面
側では端部から中央部に近付く程、エアーノズル7のス
プレー口と基板4表面との距離を短くしてあり、基板4
の下面側では端部から中央部に近付く程、エアーノズル
7のスプレー口と基板4表面との距離を長くしである。
[Example] Yu Inumi In this example, the conditions on the upper surface side of the substrate 4 are set as ■, and the conditions on the lower surface side of the substrate 4 are set as ■'. In other words, on the upper surface side of the substrate 4, the distance between the spray port of the air nozzle 7 and the surface of the substrate 4 is shortened as you approach the center from the edge.
On the lower surface side, the distance between the spray port of the air nozzle 7 and the surface of the substrate 4 is made longer as the distance from the end portion to the center portion approaches.

第1図に示す複数個の薬液ノズル2を有する薬液配管1
は搬送コンベア5の搬送方向(第1図矢印イ方向)を向
いており、薬液配管1を複数列(本実施例の場合6列)
並べである。エアーノズル7を有するエアー配管6は薬
液配管1と平行になるように複数列(本実施例の場合符
号A〜Fに示す6列)並べである。この薬液配管1及び
エアー配管6は揺動しながら薬液ノズル2及びエアーノ
ズル7から薬液やエアーを噴射するようになっている。
Chemical liquid piping 1 having a plurality of chemical liquid nozzles 2 shown in FIG.
is facing the conveyance direction of the conveyor 5 (direction of arrow A in Figure 1), and has multiple rows of chemical liquid piping 1 (six rows in this example).
They are lined up. The air pipes 6 having the air nozzles 7 are arranged in a plurality of rows (in the case of this embodiment, six rows indicated by symbols A to F) so as to be parallel to the chemical liquid pipe 1. The chemical liquid pipe 1 and the air pipe 6 are configured to inject chemical liquid and air from the chemical liquid nozzle 2 and the air nozzle 7 while swinging.

基板4の上面側では符号A、Fで示すエアー配管6のエ
アーノズル7の長さは第2図(a)に示すように短く、
エアーノズル7のスプレー口と基板4の表面との間の距
離がll(例えば150mm)と長くなっている。符号
B、Eで示すエアー配管6のエアーノズル7の長さは第
2図(b)に示すように中間の長さになっており、エア
ーノズル7のスプレー口を基板4表面との距離がli(
例えば120mm)と中間の長さになっている。このエ
アーノズル7は中間の長さのノズル延長用パイプ8aを
介して設けである。符号C,Dにエアー配管6のエアー
ノズル7の長さは第2図(C)に示すように長くなって
おり、エアーノズル7のスプレー口と基板4表面との距
離l、が(例えば90mm)と短くなっている。このエ
アーノズル7は長いノズル延長パイプ8bを介して設け
である。
On the upper surface side of the substrate 4, the lengths of the air nozzles 7 of the air piping 6 indicated by symbols A and F are short as shown in FIG. 2(a).
The distance between the spray port of the air nozzle 7 and the surface of the substrate 4 is as long as 11 (for example, 150 mm). The lengths of the air nozzles 7 of the air piping 6 indicated by symbols B and E are intermediate lengths as shown in FIG. li(
For example, it has an intermediate length (120 mm). This air nozzle 7 is provided via a nozzle extension pipe 8a of intermediate length. The lengths of the air nozzles 7 of the air piping 6 at symbols C and D are long as shown in FIG. ) is shorter. This air nozzle 7 is provided via a long nozzle extension pipe 8b.

また基板4の下面側では符号A、Fに示すエアー配管6
では第2図(c)に示すようにエアーノズル7と基板4
表面との距離がl、と短く、符号BEで示すエアー配管
6では第2図(b)に示すようにエアーノズル7と基板
4の表面層距離が12と中間の長さで、符号C,Dに示
すエアー配管6では第2図(a)に示すようにエアーノ
ズル7と基板4表面との距離は!、と長い。
Also, on the lower surface side of the board 4, air piping 6 shown by symbols A and F is provided.
Now, as shown in FIG. 2(c), the air nozzle 7 and the substrate 4 are connected.
In the case of the air piping 6, which has a short distance to the surface of l, and is designated by the symbol BE, the distance between the air nozzle 7 and the surface layer of the substrate 4 is 12, which is an intermediate length, as shown in FIG. In the air piping 6 shown in D, the distance between the air nozzle 7 and the surface of the substrate 4 as shown in FIG. 2(a) is ! , and long.

しかして薬液配管1とエアー配管6を揺動させて薬液ノ
ズル2及びエアーノズル7から薬液とエアーを噴射する
とき、基板4の上面側では端部がら中央に近付く程、エ
アーノズル7から噴射するエアーが強く当たり、基板4
の下面側では中央から端部に近付く程、エアーノズル7
から噴射するエアーが強く当たり、基板4の上面側でも
下面側でも薬液の溜まりやすい部分程エアーが強く当た
つて老化した薬液と新しい薬液との交換が均一に行われ
て全面に亘って均一にエツチングが行われる。
Therefore, when the chemical liquid piping 1 and the air piping 6 are oscillated and the chemical liquid and air are injected from the chemical liquid nozzle 2 and the air nozzle 7, on the upper surface side of the substrate 4, the closer to the center from the edge, the more the air nozzle 7 injects the liquid. The air hits the board 4
On the bottom side, the closer you get from the center to the end, the more air nozzle 7
The air sprayed from the base plate 4 is strongly hit, and the areas where the chemical solution tends to accumulate, both on the top and bottom sides of the substrate 4, are strongly hit by the air, and the aged chemical solution is evenly replaced with new chemical solution, so that the chemical solution is evenly exchanged over the entire surface. Etching is performed.

K隻男1 これは基板4の上面側の条件を■とし、基板4の下面側
の条件を■′とじたものである。つまり、基板4の上面
側では端部から中央部に近付く程、エアーノズル7の分
布密度を高くしてあり、基板4の下面側では端部から中
央部に近付く程、エアーノズル7の分布密度を低くしで
ある。
K Mitsuo 1 In this case, the condition on the upper surface side of the substrate 4 is ``■'', and the condition on the lower surface side of the substrate 4 is ``■''. In other words, on the upper surface side of the substrate 4, the distribution density of the air nozzles 7 increases as you approach the center from the edge, and on the lower surface side of the substrate 4, the distribution density of the air nozzles 7 increases as you approach the center from the edge. It is lower.

第3図は基板4の上面側のエアーノズル7の配置を示す
ものである。符号A、Fで示すエアー配管6のエアーノ
ズル7を設けるピッチが大きく、符号B、Eに示すエア
ー配管6のエアーノズル7を設けるピッチが中間で、符
号C,Dで示すエアー配管6のエアーノズル7を設ける
ピッチが小さい。
FIG. 3 shows the arrangement of the air nozzles 7 on the upper surface side of the substrate 4. As shown in FIG. The air nozzles 7 of the air piping 6 indicated by symbols A and F are arranged at a large pitch, the air nozzles 7 of the air piping 6 indicated by symbols B and E are arranged at an intermediate pitch, and the air piping 6 indicated by symbols C and D are arranged at a large pitch. The pitch at which the nozzles 7 are provided is small.

第4図は基板4の下面側のエアーノズル7の配置を示す
ものである。符号A、Fで示すエアー配管6のエアーノ
ズル7を設けるピッチが小さく、符号B、Hに示すエア
ー配管6のエアーノズル7を設けるピッチが中間で、符
号C,Dで示すエアー配管6のエアーノズル7を設ける
ピッチが大きい しかして薬液配管1とエアー配管6を揺動させて薬液ノ
ズル2及びエアーノズル7から薬液とエアーを噴射する
とき、基板4の上面側では端部から中央に近付く程、エ
アーノズル7から噴射するエアーが集中して当たり、基
板4の下面側では中央から端部に近付く程、エアーノズ
ル7がら噴射するエアーが集中して当たり、基板4の上
面側でも下面側でも老化した薬液と新しい薬液との交換
が均一に行われて全面に亘って均一にエツチングが行わ
れる。
FIG. 4 shows the arrangement of the air nozzles 7 on the lower surface side of the substrate 4. As shown in FIG. The air nozzles 7 of the air piping 6 indicated by symbols A and F are arranged at a small pitch, the air piping 6 indicated by symbols B and H have an intermediate pitch of air nozzles 7, and the air piping 6 indicated by symbols C and D are arranged at a small pitch. The pitch of the nozzles 7 is large. Therefore, when the chemical liquid piping 1 and the air piping 6 are oscillated and the chemical liquid and air are injected from the chemical liquid nozzle 2 and the air nozzle 7, the pitch of the nozzles 7 is large. , the air jetted from the air nozzle 7 concentrates on the bottom surface of the substrate 4, and the closer it gets from the center to the edge, the more the air jets from the air nozzle 7 hits the bottom surface of the substrate 4. The aged chemical solution is uniformly replaced with a new chemical solution, and etching is performed uniformly over the entire surface.

K胤1 これは基板4の上面側の条件を■とし、基板4の下面側
の条件を■′とじたものである。つまり、基板4の上面
側では端部から中央部に近付く程、エアーノズル7のス
プレー圧力を大きくしてあり、基板4の下面側では端部
から中央部に近付く程、エアーノズル7のスプレー圧力
を小さくしである。
K Seed 1 In this case, the condition on the upper surface side of the substrate 4 is ``■'', and the condition on the lower surface side of the substrate 4 is ``■''. That is, on the upper surface side of the substrate 4, the spray pressure of the air nozzle 7 is increased as you approach the center from the edge, and on the lower surface side of the substrate 4, the spray pressure of the air nozzle 7 increases as you approach the center from the edge. It is smaller.

基板4の上面側では第5図の符号C,Dに示すエアー配
管6のエアーノズル7からのスプレー圧力は高く、例え
ば8 K g / c m 2である。符号B。
On the upper surface side of the substrate 4, the spray pressure from the air nozzle 7 of the air pipe 6 shown by symbols C and D in FIG. 5 is high, for example, 8 kg/cm2. Code B.

Eに示すエアー配管6のエアーノズル7からのスプレー
圧力は中間で、例えば4 K g / c m 2であ
る。符号A、Fで示すエアー配管6のエアーノズル7か
らのスプレー圧力は低く、例えば2K g、、/cm2
である。
The spray pressure from the air nozzle 7 of the air line 6 shown in E is intermediate, for example 4 K g/cm 2 . The spray pressure from the air nozzle 7 of the air pipe 6 indicated by symbols A and F is low, for example, 2K g, /cm2.
It is.

基板4の下面側では符号A、Fで示すエアー配管6のエ
アーノズル7の圧力が高く、例えば6Kg / c m
 2である。符号B、Eで示すエアー配管6のエアーノ
ズル7の圧力が中間で、例えば4Kg / c m 2
である。符号C,Dに示すエアー配管6のエアーノズル
7の圧力が低く、例えば2 K g/ c m 2であ
る。
On the lower surface side of the substrate 4, the pressure of the air nozzle 7 of the air pipe 6 indicated by symbols A and F is high, for example, 6 kg/cm
It is 2. The pressure of the air nozzle 7 of the air pipe 6 indicated by symbols B and E is intermediate, for example, 4Kg / cm 2
It is. The pressure of the air nozzle 7 of the air pipe 6 shown by symbols C and D is low, for example, 2 K g/cm 2 .

しかして薬液配管1とエアー配管6を揺動させて薬液ノ
ズル2及びエアーノズル7がら薬液とエアーを噴射する
とき、基板4の上面側では端部がら中央に近付く程、エ
アーノズル7がら噴射するエアーが強く当たり、基板4
の下面側では中央がら端部に近付く程、エアーノズル7
から噴射するエアーが強く当たり、基板4の上面側でも
下面側でも老化した薬液と新しい薬液との交換が均一に
行われて全面に亘って均一にエツチングが行われる。
Therefore, when the chemical liquid piping 1 and the air piping 6 are oscillated to inject the chemical liquid and air from the chemical liquid nozzle 2 and the air nozzle 7, on the upper surface side of the substrate 4, the closer to the center from the edge, the more the air nozzle 7 injects the liquid. The air hits the board 4
On the bottom side of the air nozzle 7
The air sprayed from the substrate 4 is strongly hit, and the aged chemical solution is uniformly replaced with a new chemical solution on both the upper and lower surfaces of the substrate 4, and etching is performed uniformly over the entire surface.

K胤IL これは基板4の上面側の条件を■とし、基板4の下面側
の条件を■′とじたものである。つまり、基板4の上面
側では端部から中央部に近付く程、流量の大きいエアー
ノズル7を使用しており、基板4の下面側では端部から
中央部に近付く程、流量の小さいエアーノズル7を使用
している。
K-tane IL This is the condition where the condition on the upper surface side of the substrate 4 is set to ``■'' and the condition on the lower surface side of the substrate 4 is set to ``■''. In other words, air nozzles 7 with larger flow rates are used on the upper surface side of the substrate 4 as they approach the center from the edges, and air nozzles 7 with smaller flow rates are used on the lower surface side of the substrate 4 as they approach the center from the edges. are using.

基板4の上面側では第6図の符号C,Dに示すエアー配
管6のエアーノズル7の流量が多く、例えば101/m
inである。符号B、Eに示すエアー配管6のエアーノ
ズル7の流量が中間で、例えば61/minである。符
号A、Fで示すエアー配管6のエアーノズル7の流量は
少なく、例えば2//minである。
On the upper surface side of the substrate 4, the flow rate of the air nozzle 7 of the air pipe 6 shown by symbols C and D in FIG. 6 is large, for example, 101/m.
It is in. The flow rate of the air nozzle 7 of the air pipe 6 shown by symbols B and E is intermediate, for example, 61/min. The flow rate of the air nozzle 7 of the air pipe 6 indicated by symbols A and F is small, for example, 2//min.

基板4の下面側では符号A、Fに示すエアー配管6のエ
アーノズル7の流量は多く、例えば81、y m i 
nである。符号B、Eで示すエアー配管6のエアーノズ
ル7の流量は中間で、例えば51/m i nである。
On the lower surface side of the substrate 4, the air nozzles 7 of the air piping 6 indicated by symbols A and F have a large flow rate, for example, 81, y m i
It is n. The flow rate of the air nozzle 7 of the air pipe 6 indicated by symbols B and E is intermediate, for example, 51/min.

符号C,Dで示すエアー配管6のエアーノズル7の流量
は少なく、例えば21/minである。
The flow rate of the air nozzle 7 of the air pipe 6 indicated by symbols C and D is small, for example, 21/min.

しかして薬液配管1とエアー配管6を揺動させて薬液ノ
ズル2及びエアーノズル7がら薬液とエアーを噴射する
とき、基板4の上面側では端部がら中央に近付く程、エ
アーノズル7がら噴射するエアーが多く当たり、基板4
の下面側では中央がら端部に近付く程、エアーノズル7
がら噴射するエアーが多く当たり、基板4の上面側でも
下面側でも老化した薬液と新しい薬液との交換が均一に
行われて全面に亘って均一にエツチングが行われる。
Therefore, when the chemical liquid piping 1 and the air piping 6 are oscillated and the chemical liquid and air are injected from the chemical liquid nozzle 2 and the air nozzle 7, on the upper surface side of the substrate 4, the closer the ends are to the center, the more the air nozzle 7 is injecting the liquid. A lot of air hits the board 4.
On the bottom side of the air nozzle 7
A large amount of air is sprayed, and the aged chemical solution is uniformly replaced with a new chemical solution on both the upper and lower surfaces of the substrate 4, and etching is performed uniformly over the entire surface.

K施■5 これは基板4の上面側の条件を■とし、基板4の下面側
の条件を■′とじたものである。つまり、基板4の上面
側では端部がら中央部に近付く程、エアーノズル7のス
プレー口と基板4表面との距離を短くすると共にエアー
ノズル7の分布密度を高くしており、基板4の下面側で
は端部から中央部に近付く程、エアーノズル7のスプレ
ー口と基板4表面との距離を長くすると共にエアーノズ
ル7の分布密度を低くしている。
5. In this case, the condition on the upper surface of the substrate 4 is ``■'', and the condition on the lower surface side of the substrate 4 is ``■''. In other words, on the upper surface side of the substrate 4, as the end approaches the center, the distance between the spray port of the air nozzle 7 and the surface of the substrate 4 is shortened, and the distribution density of the air nozzle 7 is increased. On the side, the distance between the spray port of the air nozzle 7 and the surface of the substrate 4 is increased and the distribution density of the air nozzle 7 is decreased as the distance from the end portion to the center portion approaches.

基板4の上面側では第7図(a)に示すように端部のエ
アー配管6から中央部のエアー配管6に向けてエアーノ
ズル7を設けるピッチが小さくなっている。しかも符号
A、Fに示すエアー配管6のエアーノズル7のスプレー
口と基板4との間の距離は第8図(a)に示すように1
1と長く、符号B。
On the upper surface side of the substrate 4, as shown in FIG. 7(a), the pitch at which the air nozzles 7 are provided becomes smaller from the air piping 6 at the end to the air piping 6 at the center. Moreover, the distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air piping 6 shown by symbols A and F and the substrate 4 is 1 as shown in FIG. 8(a).
1 and long, code B.

Eに示すエアー配管6のエアーノズル7のスプレー口と
基板4との距離は第8図(b)に示すように12と中間
の長さで、符号C,Dに示すエアー配管6のエアーノズ
ル7のスプレー口と基板4との距離は第8図<c)に示
すように13と短い、具体的には11が140mm、1
2が120mm、t)、が100mmである。
The distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air piping 6 shown in E and the substrate 4 is a length between 12 and the air nozzle of the air piping 6 shown in C and D as shown in FIG. The distance between the spray port 7 and the substrate 4 is as short as 13, as shown in Fig. 8<c).
2 is 120 mm, and t) is 100 mm.

基板4の下面側では第7図(b)に示すように端部のノ
ズル配管1から中央部のノズル配管1に向けてノズル2
を設けるピッチが大きくなっている。
On the lower surface side of the substrate 4, as shown in FIG.
The pitch at which these are provided is getting larger.

しかも符号C,Dに示すエアー配管6のエアーノズル7
のスプレー口と基板4との閏の距離は第8図(a)に示
すように1.と長く、符号B、Hに示すエアー配管6の
エアーノズル7のスプレー口と基板4との距離は第8図
(b)に示すように12と中間の長さで、符号A、Fに
示すエアー配管6のエアーノズル7のスプレー口と基板
4との距離は第8図(c)に示すように!、と短い。
Moreover, the air nozzles 7 of the air piping 6 shown by symbols C and D
The distance between the spray nozzle and the substrate 4 is 1. as shown in FIG. 8(a). The distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air piping 6 and the substrate 4 shown by symbols B and H is 12 as shown in FIG. The distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air pipe 6 and the substrate 4 is as shown in FIG. 8(c)! , and short.

しかして薬液配管1とエアー配管6を揺動させて薬液ノ
ズル2及びエアーノズル7がら薬液とエアーを噴射する
とき、基板4の上面側では端部がら中央に近付く程、エ
アーノズル7がら噴射する薬液が強く当たると共に集中
して当たり、基板4の下面側では中央から端部に近付く
程、エアーノズル7から噴射する薬液が強く当たると共
に集中して当たり、基板4の上面側でも下面側でも老化
した薬液と新しい薬液との交換が均一に行われて全面に
亘って均一にエツチングが行われる。
Therefore, when the chemical liquid piping 1 and the air piping 6 are oscillated and the chemical liquid and air are injected from the chemical liquid nozzle 2 and the air nozzle 7, on the upper surface side of the substrate 4, the closer the ends are to the center, the more the air nozzle 7 is injecting the liquid. The chemical solution hits the substrate 4 more strongly and in a concentrated manner, and the closer it gets from the center to the edge on the bottom side of the substrate 4, the stronger and more concentrated the chemical solution sprayed from the air nozzle 7 hits, causing aging on both the top and bottom sides of the substrate 4. The used chemical solution is uniformly replaced with a new chemical solution, and etching is performed uniformly over the entire surface.

大1自九互 これは基板4の上面側の条件を■とし、基板4の下面側
の条件を■′としたものである。つまり、基板4の上面
側では端部から中央部に近付く程、エアーノズル7のス
プレー口と基板4表面との距離を短くすると共にエアー
ノズル7のスプレー圧力を大きくしており、基板4の下
面側では端部がら中央部に近付く程、エアーノズル7の
スプレー口と基板4表面との距離を長くすると共にエア
ーノズル7のスプレー圧力を小さくしている。
In this case, the conditions for the upper surface of the substrate 4 are set as ■, and the conditions for the lower surface of the substrate 4 are set as ■'. In other words, on the upper surface side of the substrate 4, the distance between the spray port of the air nozzle 7 and the surface of the substrate 4 is shortened and the spray pressure of the air nozzle 7 is increased as you approach the center from the edge, and the lower surface of the substrate 4 On the sides, the distance between the spray port of the air nozzle 7 and the surface of the substrate 4 is increased and the spray pressure of the air nozzle 7 is decreased as the end portion approaches the center.

基板4の上面側では第9図の符号A、Fに示すエアー配
管6のエアーノズル7のスプレー口と基板4との閏の距
離は第10図(a)に示すようにlと長く、符号B、H
に示すエアー配管6のエアーノズル7のスプレー口と基
板4との距離は第10図(b)に示すように12と中間
の長さで、符号C1Dに示すエアー配管6のエアーノズ
ル7のスプレー口と基板4との距離は第10図(e)に
示すようにe3と短い。具体的には11が150mm、
1.が120mm、13が90mmである。しがも符号
A。
On the upper surface side of the substrate 4, the distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air piping 6 shown by symbols A and F in FIG. 9 and the substrate 4 is as long as l as shown in FIG. B,H
The distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air piping 6 shown in FIG. The distance between the mouth and the substrate 4 is as short as e3, as shown in FIG. 10(e). Specifically, 11 is 150mm,
1. is 120 mm, and 13 is 90 mm. Shigamo code A.

Fに示すエアー配管6のエアーノズル7がらのスプレー
圧力は小さく、具体的にはIKg/cm”であり、符号
B、Eに示すエアー配管6のエアーノズル7からのスプ
レー圧力は中間で、具体的には2Kg/crn2であり
、符号C,Dに示すエアー配管6のエアーノズル7がら
のスプレー圧力は高く、具体的には4 K g 、/ 
c m 2である。
The spray pressure from the air nozzle 7 of the air piping 6 shown in F is small, specifically IKg/cm", and the spray pressure from the air nozzle 7 of the air piping 6 shown in symbols B and E is intermediate, specifically IKg/cm". Specifically, the spray pressure from the air nozzle 7 of the air piping 6 shown by symbols C and D is high, specifically 4 Kg/crn2.
cm2.

基板4の下面側では第9図の符号C,Dに示すエアー配
管6のエアーノズル7のスプレー口と基板4との間の距
離は第10図(a)に示すようにlと長く、符号B、E
に示すエアー配管6のエアーノズル7のスプレー口と基
板4との距離は第10図(b)に示すように12と中間
の長さで、符号A。
On the lower surface side of the substrate 4, the distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air pipe 6 shown by symbols C and D in FIG. 9 and the substrate 4 is as long as l as shown in FIG. B,E
The distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air piping 6 and the substrate 4 shown in FIG.

Fに示すエアー配管1のエアーノズル7のスプレー口と
基板4との距離は第10図(c)に示すようにl、と短
い、しがも符号C,Dに示すエアー配管6のエアーノズ
ル7からのスプレー圧力は小さく、具体的にはI K 
g / c m ”であり、符号B、Eに示すエアー配
管6のエアーノズル7からのスプレー圧力は中間で、具
体的には2Kg/cm2であリ、符号A、Fに示すエア
ー配管6のエアーノズル7からのスプレー圧力は高く、
具体的には3Kg / c m 2である。
The distance between the spray port of the air nozzle 7 of the air piping 1 shown in F and the substrate 4 is as short as 1, as shown in FIG. 10(c). The spray pressure from 7 is small, specifically I K
g/cm2, and the spray pressure from the air nozzle 7 of the air piping 6 shown by symbols B and E is intermediate, specifically 2 kg/cm2, and the spray pressure from the air nozzle 7 of the air piping 6 shown by symbols A and F is intermediate. The spray pressure from air nozzle 7 is high;
Specifically, it is 3Kg/cm2.

しかして薬液配管1とエアー配管6を揺動させて薬液ノ
ズル2及びエアーノズル7から薬液とエアーを噴射する
とき、基板4の上面側では端部から中央に近付く程、エ
アーノズル7から噴射するエアーが強く当たり、基板4
の下面側では中央から端部に近付く程、エアーノズル7
から噴射するエアーが強く当たり、基板4の上面側でも
下面側でも老化した薬液と新しい薬液との交換が均一に
行われて全面に亘って均一にエツチングが行われる。
Therefore, when the chemical liquid piping 1 and the air piping 6 are oscillated and the chemical liquid and air are injected from the chemical liquid nozzle 2 and the air nozzle 7, on the upper surface side of the substrate 4, the closer to the center from the edge, the more the air nozzle 7 injects the liquid. The air hits the board 4
On the bottom side, the closer you get from the center to the end, the more air nozzle 7
The air jetted from the substrate 4 is strongly hit, and the aged chemical solution is uniformly replaced with a new chemical solution on both the upper and lower surfaces of the substrate 4, and etching is performed uniformly over the entire surface.

[発明の効果] 本発明は叙述の如く薬液を噴射する薬液ノズルを有する
薬液配管と、エアを噴射するエアーノズルを有するエア
ー配管とを揺動しながら薬液ノズル及びエアーノズルか
ら薬液とエアーを同時に噴射するので、基板の表面に溜
まる薬液がエアーで吹き飛ばされ、老化した薬液と新し
い薬液との交換が促進され、エツチングや現像が基板の
全面に亘って促進されて均一なエツチングや現像ができ
るものである。
[Effects of the Invention] As described above, the present invention is capable of simultaneously supplying a chemical liquid and air from a chemical liquid nozzle and an air nozzle while swinging a chemical liquid piping having a chemical liquid nozzle that injects a chemical liquid and an air piping having an air nozzle that injects air. Since it is sprayed, the chemical solution that accumulates on the surface of the substrate is blown away by air, promoting the exchange of aged chemical solution with new chemical solution, and promoting etching and development over the entire surface of the substrate, allowing for uniform etching and development. It is.

また本発明の請求項2記載の発明にあっては、基板の上
面側では搬送コンベアの駆動方向と直交する方向の端部
から中央部に近付く程、エアーノズルのスプレー口と基
板表面との距離を短くしたり、エアーノズル分布密度を
高くしたり、エアーノズルのスプレー圧力を大きくした
り、流量の大きいエアーノズルを使用したりしてエアー
が強く或は多量に基板に当たる条件で噴射するので、基
板の上面の薬液の溜まりやすい部分程エアーを強く或は
多く当てて基板の上面での薬液の交換を均一にし、基板
上面でのエツチングや現像のばらつきがなく全面に亘っ
て均一にできるものである。
In addition, in the invention according to claim 2 of the present invention, on the upper surface side of the substrate, the distance between the spray port of the air nozzle and the substrate surface increases as the distance from the end in the direction perpendicular to the driving direction of the conveyor approaches the center. By shortening the air nozzle, increasing the air nozzle distribution density, increasing the air nozzle spray pressure, or using an air nozzle with a large flow rate, the air can be sprayed under conditions where the air hits the substrate strongly or in large quantities. The more air is applied to the areas on the upper surface of the substrate where the chemical solution tends to accumulate, the stronger or more air is applied to ensure uniform exchange of the chemical solution on the upper surface of the substrate, and the etching and development can be made uniform over the entire surface without unevenness on the upper surface of the substrate. be.

さらに本発明の請求項3記載の発明にあっては、基板の
下面側では搬送コンベアの駆動方向と直交する方向の端
部から中央部に近付く程、エアーノズルのスプレー口と
基板表面と距離を長くしたり、エアーノズル分布密度を
低くしたり、エアーノズルのスプレー圧力を小さくした
り、流量の小さいエアーノズルを使用したりしてエアー
が弱く或は少量で基板に当たる条件で噴射するので、基
板の下面の薬液の溜まりやすい部分程エアーを強く或は
多く当てて基板の下面での薬液の交換を均一にし、基板
下面でのエツチングや現像が全面に亘ってばらつきなく
均一に行われるものである。
Furthermore, in the invention according to claim 3 of the present invention, on the lower surface side of the substrate, the distance between the spray port of the air nozzle and the substrate surface increases as the distance from the end in the direction perpendicular to the driving direction of the conveyor approaches the center. By making the air nozzle longer, lowering the air nozzle distribution density, lowering the spray pressure of the air nozzle, or using an air nozzle with a lower flow rate, the air is sprayed under conditions where weak or small amounts of air hit the substrate. The more air is applied to the lower surface of the substrate where the chemical solution tends to accumulate, the stronger or more air is applied to ensure uniform exchange of the chemical solution on the lower surface of the substrate, and the etching and development on the lower surface of the substrate is performed uniformly over the entire surface without variation. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の実施例1を説明する平面図、第2図(
i)(bHe)は同上のエアーノズルのスプレー口と基
板の距離を説明する正面図、第3図は同上の実施例2の
基板上面側のノズル配置を示す平面図、第4図は同上の
実施例2の基板下面側のノズル配置を示す平面図、第5
図は同上の実施例3を説明する平面図、第6図は同上の
実施例4を説明する平面図、第7図(a)は同上の実施
例5の基板上面側のノズル配置を示す平面図、第7図(
b)は同上の実施例5の基板下面側のノズル配置を示す
平面図、第8図(a)(b) (c)は同上の実施例5
のエアーノズルのスプレー口と基板の距離を説明する正
面図、第9図は同上の実施例6を説明する平面図、第1
0図(a) (b) (c)は同上の実施例6のエアー
ノズルのスプレー口と基板の距離を説明する正面図、第
11図(a)(b)は従来例の問題を説明する断面図で
あって、1は薬液配管、2は薬液ノズル、4は基板、6
はエアー配管、7はエアーノズルである。 代理人 弁理士 石 1)長 七 第2 図 第5図 第6図 薬液配管 (a) 第3図 第4 図 第7図 第8図 (b) 第9図 第10図 第11図 (b)
FIG. 1 is a plan view explaining Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 (
i) (bHe) is a front view illustrating the distance between the spray port of the air nozzle and the substrate as above, FIG. 5th plan view showing the nozzle arrangement on the lower surface side of the substrate in Example 2;
The figure is a plan view for explaining Example 3 of the same as above, FIG. 6 is a plan view for explaining Example 4 of same as above, and FIG. Figure, Figure 7 (
b) is a plan view showing the nozzle arrangement on the lower surface side of the substrate in Example 5 same as above, and FIGS. 8(a), (b), and (c) are Example 5 same as above.
FIG. 9 is a front view illustrating the distance between the spray port of the air nozzle and the substrate; FIG. 9 is a plan view illustrating the sixth embodiment of the same;
Figures 0 (a), (b), and (c) are front views illustrating the distance between the air nozzle spray port and the substrate in Example 6, and Figures 11 (a) and 11 (b) illustrate the problems of the conventional example. 1 is a cross-sectional view, 1 is a chemical liquid pipe, 2 is a chemical liquid nozzle, 4 is a substrate, and 6 is a cross-sectional view.
is an air pipe, and 7 is an air nozzle. Agent Patent Attorney Ishi 1) Head 7 2 Figure 5 Figure 6 Chemical liquid piping (a) Figure 3 Figure 4 Figure 7 Figure 8 (b) Figure 9 Figure 10 Figure 11 (b)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 [1]エッチング装置または現像装置の搬送コンベアに
基板を載せて薬液ノズルからエッチング液または現像液
の薬液を噴射しながら基板を移動してエッチングまたは
現像をする方法において、薬液を噴射する薬液ノズルを
有する薬液配管と、エアを噴射するエアーノズルを有す
るエアー配管とを揺動しながら薬液ノズル及びエアーノ
ズルから薬液とエアーを同時に噴射することを特徴とす
るエッチング並びに現像方法。 [2]基板の上面側では搬送コンベアの駆動方向こ直交
する方向の端部から中央部に近付く程、エアーノズルの
スプレー口と基板表面との距離を短くしたり、エアーノ
ズル分布密度を高くしたり、エアーノズルのスプレー圧
力を大きくしたり、流量の大きいエアーノズルを使用し
たりしてエアーが強く或は多量に基板に当たる条件で噴
射することを特徴とする請求項1記載のエッチング並び
に現像方法。 [3]基板の下面側では搬送コンベアの駆動方向と直交
する方向の端部から中央部に近付く程、エアーノズルの
スプレー口と基板表面と距離を長くしたり、エアーノズ
ル分布密度を低くしたり、エアーノズルのスプレー圧力
を小さくしたり、流量の小さいエアーノズルを使用した
りしてエアーが弱く或は少量で基板に当たる条件で噴射
することを特徴とする請求項1記載のエッチング並びに
現像方法。
[Scope of Claims] [1] A method of etching or developing by placing a substrate on a conveyor of an etching device or a developing device and moving the substrate while spraying a chemical solution of an etching solution or a developer from a chemical solution nozzle. An etching and developing method characterized in that a chemical solution and air are simultaneously injected from a chemical solution nozzle and an air nozzle while swinging a chemical solution piping having a chemical solution nozzle that injects chemical solution and an air pipe having an air nozzle that injects air. [2] On the upper surface side of the substrate, the distance between the air nozzle spray port and the substrate surface is shortened, and the air nozzle distribution density is increased as you approach the center from the edge in the direction perpendicular to the driving direction of the conveyor. The etching and developing method according to claim 1, characterized in that the air is sprayed under conditions such that the air hits the substrate strongly or in large quantities by increasing the spray pressure of the air nozzle or using an air nozzle with a large flow rate. . [3] On the bottom side of the substrate, the distance between the air nozzle spray port and the substrate surface is made longer and the air nozzle distribution density is made lower as the distance from the edge in the direction perpendicular to the driving direction of the conveyor approaches the center. 2. The etching and developing method according to claim 1, wherein the air is sprayed under conditions such that a weak or small amount of air hits the substrate by reducing the spray pressure of the air nozzle or using an air nozzle with a small flow rate.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4331914A1 (en) * 1992-09-22 1994-03-24 Nissan Motor Etching appts. - with the nitrite ion concentration in the etchant controlled on the basis of the potential difference between two submerged electrodes
SG91927A1 (en) * 2000-05-31 2002-10-15 Sony Corp Method and apparatus for surface processing of printed wiring board

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