JPH0445573A - Master slice type semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Master slice type semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH0445573A
JPH0445573A JP15436290A JP15436290A JPH0445573A JP H0445573 A JPH0445573 A JP H0445573A JP 15436290 A JP15436290 A JP 15436290A JP 15436290 A JP15436290 A JP 15436290A JP H0445573 A JPH0445573 A JP H0445573A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
input terminal
potential
pch
input
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15436290A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Oguchi
泰弘 小口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP15436290A priority Critical patent/JPH0445573A/en
Publication of JPH0445573A publication Critical patent/JPH0445573A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/10Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
    • H01L27/118Masterslice integrated circuits
    • H01L27/11803Masterslice integrated circuits using field effect technology
    • H01L27/11807CMOS gate arrays

Abstract

PURPOSE:To change the resistance value by the wiring process alone by fixing the source region of a Pch transistor to vdd potential, and connecting the drain regions of one or more Pch transistors with an input terminal electrically. CONSTITUTION:The signal inputted from outside a chip is inputted from an input terminal 104 to the gate electrode of Pch transistor 102 and the gate electrode of an Nch transistor 103, and is connected to the following stage from a terminal 105. For a Pch transistor for pull-up, in the condition that the source diffusion area is fixed to high potential vdd and that the gate electrode is fixed to low potential vss, the drain diffusion area is electrically connected to the input terminal. Accordingly, the resistance value of a transistor for pull up is constant. Thereupon, in the logical circuit based the potential vss, in the case that there is no input signal, the resistance value, which makes the potential vdd into potential vss, can be changed by wiring process alone according to the quantity of the currents of the input signal of the circuit, while maintaining the potential of the input terminal always at vdd. Moreover, by the arrangement structure of the transistor by this invention, the resistance value can be changed with no influence on the wiring of other logical constitution.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、マスタスライス型集積回路に係わり、プルア
ップ抵抗用トランジスタの構成に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a master slice integrated circuit, and more particularly to the configuration of a pull-up resistor transistor.

(従来の技術) 配線工程のみの変更により専用論理回路を実現するマス
タスライス型ゲートアレイに於いて、実現した専用論理
回路がvs5の電位を基準にして動作する回路の場合、
該回路への入力電位が固定しない入力端子に於いて該回
路の動作に関係しない固定入力電圧を入力するため入力
端子にチップ外部に存在する抵抗またはチップ内部に存
在する固定の抵抗または固定のトランジスタを1個のみ
使用して電気的にvddの電位を供給する方法が存在す
る。
(Prior Art) In a master slice type gate array that realizes a dedicated logic circuit by changing only the wiring process, if the realized dedicated logic circuit is a circuit that operates based on the potential of vs5,
In order to input a fixed input voltage unrelated to the operation of the circuit at an input terminal where the input potential to the circuit is not fixed, a resistor existing outside the chip or a fixed resistor or a fixed transistor existing inside the chip is used at the input terminal. There is a method of electrically supplying the potential of vdd using only one.

(発明が解決しようとする課M) しかし、従来の技術に於ける方法でチップ外部の抵抗を
前記入力端子に電気的に接続する場合チップ周辺の配線
が複雑になりチップを含めた実装、効率が低下する。ま
た、チップ内部に存在する抵抗及びトランジスタを1個
のみ使用して前記入力端子に電気的に接続する場合前記
入力端子に接続する抵抗またはトランジスタの有する抵
抗値をマスタスライス型ゲートアレイで専用論理回路を
実現する場合の配線工程のみで変更することは困難であ
るという問題点を有する。
(Problem M to be solved by the invention) However, when a resistor external to the chip is electrically connected to the input terminal using the conventional method, the wiring around the chip becomes complicated, and the mounting efficiency including the chip becomes difficult. decreases. In addition, when electrically connecting to the input terminal using only one resistor and transistor existing inside the chip, the resistance value of the resistor or transistor connected to the input terminal can be determined by a dedicated logic circuit using a master slice type gate array. The problem is that it is difficult to change only the wiring process when realizing this.

そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、其
の目的とするところは、マスタスライス型ゲートアレイ
で専用論理回路を実現する場合の配線工程のみで抵抗値
を変更することができるトランジスタ構成を提供するこ
とが目的である。
The present invention is intended to solve these problems, and its purpose is to provide a transistor whose resistance value can be changed only by the wiring process when realizing a dedicated logic circuit with a master slice type gate array. The purpose is to provide configuration.

(課題を解決するための手段) 本発明のマスタスライス型半導体集積回路装置は、 a)論理を構成する基本セル及び入出力論理を構成する
基本セルが規則的に配置されるマスタスライス方式のゲ
ートアレイに於ける前記入出力論理を構成する基本セル
内に、 b)チップ外部からの信号が入力される入力端子とゲー
ト電極が金属配線により電気的に接続するPch l−
ランジスタ及びNch トランジスタと、 C)電気的に分離されたソース拡散領域及び電気的に分
離されたドレイン拡散領域を有しゲート電極がvssの
電位に固定されたPchトランジスタを複数個有し、 d)前記Pch トランジスタのチャネル方向が前記入
力端子と前記ゲート電極を電気的に接続する前記金属配
線の方向と平行な配置関係にあり、 e)ゲート電極をvssに固定された複数個の前記Pc
h トランジスタのうち1個以上−の前記Pch トラ
ンジスタのソース領域をvddの電位に固定し、1個以
上のPchトランジスタのドレイン領域と前記入力端子
を電気的に接続することを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) A master slice type semiconductor integrated circuit device of the present invention includes: a) a master slice type gate in which basic cells configuring logic and basic cells configuring input/output logic are regularly arranged; In the basic cells constituting the input/output logic in the array, b) a Pch l- whose input terminal, into which a signal from outside the chip is input, and a gate electrode are electrically connected by metal wiring;
C) a plurality of Pch transistors each having an electrically isolated source diffusion region and an electrically isolated drain diffusion region and whose gate electrode is fixed at the potential of vss; d) the channel direction of the Pch transistor is arranged parallel to the direction of the metal wiring electrically connecting the input terminal and the gate electrode; e) a plurality of the Pch transistors with gate electrodes fixed at vss;
The source region of at least one of the Pch transistors among the h transistors is fixed at a potential of vdd, and the drain region of the at least one Pch transistor is electrically connected to the input terminal.

(実施例) 第1図に従来の構造によるプルアップ用トランジスタと
入力端子及び該入力端子と電気的に接続するトランジス
タの論理回路図を示す。チップ外部から入力される信号
は前記入力端子104がらPch)ランジスタ102の
ゲート電極及びNChトランジスタ103のゲートti
へ入力さb vddに固定、ゲート電極を電位vssに固定された状
態に於いてドレイン拡散領域を入力端子に電気的に接続
される。従って、プルアップ用トランジスタの抵抗値は
一定である。
(Embodiment) FIG. 1 shows a logic circuit diagram of a conventional structure of a pull-up transistor, an input terminal, and a transistor electrically connected to the input terminal. Signals input from outside the chip are input from the input terminal 104 to the gate electrode of the Pch transistor 102 and the gate ti of the Nch transistor 103.
The drain diffusion region is electrically connected to the input terminal while the input voltage is fixed at b vdd and the gate electrode is fixed at the potential vss. Therefore, the resistance value of the pull-up transistor is constant.

第2図に本発明のプルアップ用トランジスタの論理回路
図を示し、第3図に本発明のプル7ツグ用トランジスタ
の配置図を示す、第2図の201は202.204.2
05の複数個のプルアップ用トランジスタ全体を示す*
  P c h )ランジスタ202の電位vddは第
3図のと7308と金属配線309により拡散領域30
7のソース領域に接続されるvdd、207は第3図中
の拡散領域307のドレイン領域に相当する。各ぐ第2
図に於ける203.206.208.209の端子は第
3図の拡散領域306.305のソース領域またはドレ
イン領域に相当する。また、第3図に於いてゲート電極
302.303.304はvssの電位を供給されてい
る0本発明では前記入力端子と前記Pch トランジス
タのゲート電極及び前記Nchトランジスタのゲート電
極の接続用金属配線301(以下、入力金属配線層)に
対して前記Pch トランジスタの拡散領域305.3
06.307はチャネル方向が平行となる方向に配置さ
れる。また、第3図では前記拡散領域307のソース領
域をvddの電位に固定する例である。
FIG. 2 shows a logic circuit diagram of the pull-up transistor of the present invention, and FIG. 3 shows a layout diagram of the pull-up transistor of the present invention. 201 in FIG. 2 is 202.204.2.
Shows the entire multiple pull-up transistors of 05*
P c h ) The potential vdd of the transistor 202 is
Vdd 207 connected to the source region 7 corresponds to the drain region of the diffusion region 307 in FIG. Each second
Terminals 203.206.208.209 in the figure correspond to the source or drain regions of the diffusion regions 306.305 in FIG. In addition, in FIG. 3, gate electrodes 302, 303, and 304 are supplied with a potential of vss. In the present invention, metal wiring for connecting the input terminal, the gate electrode of the Pch transistor, and the gate electrode of the Nch transistor 301 (hereinafter referred to as input metal wiring layer), the diffusion region 305.3 of the Pch transistor
06.307 is arranged in a direction in which the channel directions are parallel. Further, FIG. 3 shows an example in which the source region of the diffusion region 307 is fixed at the potential of vdd.

第4図に本発明による2個のPch トランジスタの直
列接続のレイアウト例、また第5図に本発明による2個
のPch トランジスタの並列接続のレイアウト例を示
す。第4図に於いてゲート電極402.403及び拡散
領域404.405から構成される2個の前記Pch 
トランジスタは該チャネル方向が前記入力金属配$40
1に対して平行に配置される。また406は金属配線、
407はとアを示し、第5図中の501,5021.9
゜507は第4図の401.4022.、.407に相
当する。第4図に於いて2個のPch トランジスタは
とア、金属配線から構成される409のパターンにより
拡散領#5405のドレイン領域と拡散領域404のソ
ース領域が接続されビア、金属配線から構成される40
8のパターンにより拡散領域404のドレイン領域は前
記入力金属配線401に接続される。Pchトランジス
タは抵抗を有する素子であるため直列接続によりvdd
の電位を有する拡散領域と前配入力金属配1I401の
抵抗値は該Pch トランジスタの有する抵抗値の2倍
になる。第5図に於いては2個のPch トランジスタ
はとア、及び金属配線から構成される508のパターン
により拡散領域505のソース領域と拡散領域504の
ソース領域が接続さ枳ビア、金属配線から構成される5
09のパターンにより拡散領域505のドレイン領域、
拡散領域504のドレイン領域は前記入力金属配!ll
1501に接続される。並列接続によりvddの電位を
有する拡散領域と前記入力金属配線層501の間の抵抗
価は該Pchトランジスタの有する抵抗値の172倍に
なる。
FIG. 4 shows a layout example of two Pch transistors connected in series according to the invention, and FIG. 5 shows a layout example of two Pch transistors connected in parallel according to the invention. In FIG.
The transistor has its channel direction aligned with the input metal wiring.
1. Also, 406 is metal wiring,
407 indicates a, and 501, 5021.9 in Figure 5
゜507 is 401.4022. in Figure 4. ,.. Corresponds to 407. In Figure 4, the two Pch transistors are connected by a pattern 409 consisting of metal wiring, connecting the drain region of diffusion region #5405 and the source region of diffusion region 404, and consisting of vias and metal wiring. 40
The drain region of the diffusion region 404 is connected to the input metal wiring 401 by the pattern No. 8. Since the Pch transistor is an element with resistance, by connecting it in series, Vdd
The resistance value of the diffusion region and the front input metal interconnection 1I401 having a potential of is twice the resistance value of the Pch transistor. In FIG. 5, the source region of the diffusion region 505 and the source region of the diffusion region 504 are connected by a pattern 508 composed of two Pch transistors and a metal wiring. be done 5
The drain region of the diffusion region 505 according to the pattern 09,
The drain region of the diffusion region 504 is connected to the input metal layer! ll
1501. Due to the parallel connection, the resistance value between the diffusion region having the potential of vdd and the input metal wiring layer 501 becomes 172 times the resistance value of the Pch transistor.

前記408.409.508.509のパターンはマス
タスライス型半導体集積回路装置に於いて配線工程のみ
で製造できる。また、該パターンは前記入力金属配線層
に対して垂直方向のみの単純パターンであり他の論理を
構成する配線に対して影響することなく抵抗値を変更す
ることが可能である。
The pattern 408, 409, 508, 509 can be manufactured by only a wiring process in a master slice type semiconductor integrated circuit device. Further, the pattern is a simple pattern extending only in the direction perpendicular to the input metal wiring layer, so that the resistance value can be changed without affecting the wiring constituting other logics.

(発明の効果) 以上記したように本発明によれば、電位V−S Sを基
準にした論理回路に於いて入力信号のない場合常に入力
端子の電位をvddに保ち、回路の入力信号の′R流量
に応じて電位vddを電位vssにする抵抗値を配線工
程のみで変更することができる。また、本発明のトラン
ジスタの配置構造により他の論理構成の配線に対して影
響なく前記抵抗価を変更できるという効果を有する。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, when there is no input signal in a logic circuit based on the potential V-SS, the potential of the input terminal is always kept at Vdd, and the input signal of the circuit is The resistance value for changing the potential vdd to the potential vss can be changed only by the wiring process in accordance with the 'R flow rate. Further, the arrangement structure of the transistor of the present invention has the effect that the resistance value can be changed without affecting the wiring of other logic configurations.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の構造によるプルアップ用トランジスタと
入力端子及び該入力端子と電気的に接続するトランジス
タの論理回路図である。第2図は本発明のプルアップ用
トランジスタの論理回路図であり、第3図は本発明のプ
ルアップ用トランジスタの配置図である。第4図は本発
明による2個のPchトランジスタの直列接続のレイア
ウト例を示す図、第5図は本発明による2個のPchト
ランジスタの並列接続のレイアウト例を示す図である。 101.202.204.205  、、  プルアッ
プ用Pch トランジスタ 104  、、  入力端子 105  、、  出力端子 102  、、  入力信号受けPchトランジスタ 103  、  、 入力信号受けNchl−ランジス
タ 203、206、207、208、209プルアツプ用
Pch トランジスタソース領域及び拡散領域端子 301.401.501  、、  入力金属配線30
2.303.304.402.403.502.503
  、、  プルアップ用Pchトランジスタゲートa
i 305、306、307、404、405.504.5
05  、、  プルアップ用Pch トランジスタ拡
散領域 308.407.507 309.310.311. 506  、、  金属配線 408.409.508、 並列接続用配線パターン 、ビア 312、406、 直列、 以  上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木喜三部 化1名 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図
FIG. 1 is a logic circuit diagram of a conventional pull-up transistor, an input terminal, and a transistor electrically connected to the input terminal. FIG. 2 is a logic circuit diagram of the pull-up transistor of the present invention, and FIG. 3 is a layout diagram of the pull-up transistor of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing a layout example of two Pch transistors connected in series according to the present invention, and FIG. 5 is a diagram showing a layout example of two Pch transistors connected in parallel according to the present invention. 101.202.204.205 , , Pull-up Pch transistor 104 , , Input terminal 105 , , Output terminal 102 , , Input signal receiving Pch transistor 103 , , Input signal receiving Nchl-transistor 203, 206, 207, 208, 209 Pch transistor source region and diffusion region terminal for pull-up 301.401.501 , Input metal wiring 30
2.303.304.402.403.502.503
,, Pch transistor gate a for pull-up
i 305, 306, 307, 404, 405.504.5
05 ,, Pull-up Pch transistor diffusion region 308.407.507 309.310.311. 506, Metal wiring 408.409.508, Wiring pattern for parallel connection, Via 312, 406, Series, Applicant Seiko Epson Corporation Representative Patent attorney Kizobe Suzuki 1 person Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】 a)論理を構成する基本セル及び入出力論理を構成する
基本セルが規則的に配置されるマスタスライス方式のゲ
ートアレイに於ける前記入出力論理を構成する基本セル
内に、 b)チップ外部からの信号が入力される入力端子とゲー
ト電極が金属配線により電気的に接続するPchトラン
ジスタ及びNchトランジスタと、 c)電気的に分離されたソース拡散領域及び電気的に分
離されたドレイン拡散領域を有しゲート電極がvssの
電位に固定されたPchトランジスタを複数個有し、 d)前記Pchトランジスタのチャネル方向が前記入力
端子と前記ゲート電極を電気的に接続する前記金属配線
の方向と平行な配置関係にあり、 e)ゲート電極をvssに固定された複数個の前記Pc
hトランジスタのうち1個以上の前記Pchトランジス
タのソース領域をvddの電位に固定し、1個以上のP
chトランジスタのドレイン領域と前記入力端子を電気
的に接続することを特徴とするマスタスライス型半導体
集積回路装置。
[Claims] a) In a basic cell forming the input/output logic in a master slice type gate array in which basic cells forming the logic and basic cells forming the input/output logic are arranged regularly. b) Pch transistors and Nch transistors in which an input terminal into which a signal from outside the chip is input and a gate electrode are electrically connected by metal wiring, and c) an electrically isolated source diffusion region and an electrically isolated source diffusion region. d) a plurality of Pch transistors each having a drain diffusion region with a gate electrode fixed at a potential of vss, and d) a channel direction of the Pch transistor electrically connecting the input terminal and the gate electrode; e) a plurality of the Pcs whose gate electrodes are fixed at vss;
The source region of one or more of the Pch transistors among the h transistors is fixed to the potential of vdd, and one or more of the Pch transistors
A master slice type semiconductor integrated circuit device, characterized in that a drain region of a channel transistor and the input terminal are electrically connected.
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