JPH0439886B2 - - Google Patents
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- JPH0439886B2 JPH0439886B2 JP3584186A JP3584186A JPH0439886B2 JP H0439886 B2 JPH0439886 B2 JP H0439886B2 JP 3584186 A JP3584186 A JP 3584186A JP 3584186 A JP3584186 A JP 3584186A JP H0439886 B2 JPH0439886 B2 JP H0439886B2
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 発明の目的
［産業上の利用分野］
この発明はシアリング干渉コントラスト法を利
用した膜厚測定装置に関するものである。
用した膜厚測定装置に関するものである。
［従来の技術］
レンズ等の表面にコーテイングした極薄膜を測
定する場合に、従来は、例えば第４図に示すよう
な、触針を使用した膜厚測定装置を使用し、第４
図ａに示すようなダイヤモンド触針２０１とスキ
ツド２０２の先端を、第４図ｂに示すようなガラ
ス面２０３に接触させ、これを移動して膜２０４
上を横断させ、変化を電気的に増幅して検出する
ものであり、例えば試料上の膜直径をl0とすると
第４図ｃのように測定結果を得るものである。
定する場合に、従来は、例えば第４図に示すよう
な、触針を使用した膜厚測定装置を使用し、第４
図ａに示すようなダイヤモンド触針２０１とスキ
ツド２０２の先端を、第４図ｂに示すようなガラ
ス面２０３に接触させ、これを移動して膜２０４
上を横断させ、変化を電気的に増幅して検出する
ものであり、例えば試料上の膜直径をl0とすると
第４図ｃのように測定結果を得るものである。
しかしながら、この様な機械電気的方法は必ず
しも高精度の測定が容易でなく、この様なことか
ら極薄膜の膜厚測定技術の開発が望まれていた。
しも高精度の測定が容易でなく、この様なことか
ら極薄膜の膜厚測定技術の開発が望まれていた。
そこでこの発明の発明者は先に極薄膜の膜厚の
測定を高精度にかつ非接触で容易に測定すること
ができる膜厚測定装置を提案した（昭和58年特許
出願第155945号参照）。
測定を高精度にかつ非接触で容易に測定すること
ができる膜厚測定装置を提案した（昭和58年特許
出願第155945号参照）。
この新たに提案されたシアリング・コントラス
ト法膜厚測定装置は、第５図に示すように、レー
ザ光を対物レンズ１１３、ピンホール１１４及び
コリメータレンズ１１５によつて平行光とし、被
測定物１１０を照明し、前記被測定物１１０から
の光を平行平面板１１６でシアし、前記シアした
２波面を受光器１２４ａ，１２４ｂで検出し、位
相を変化させた時の干渉縞の強度変化を測定する
ように構成し、かつ前記コリメータレンズ１１５
を前記レーザ光光学系の光軸に直角な方向に移動
させることによつて前記２波面に位相差を与える
ように構成したものである。
ト法膜厚測定装置は、第５図に示すように、レー
ザ光を対物レンズ１１３、ピンホール１１４及び
コリメータレンズ１１５によつて平行光とし、被
測定物１１０を照明し、前記被測定物１１０から
の光を平行平面板１１６でシアし、前記シアした
２波面を受光器１２４ａ，１２４ｂで検出し、位
相を変化させた時の干渉縞の強度変化を測定する
ように構成し、かつ前記コリメータレンズ１１５
を前記レーザ光光学系の光軸に直角な方向に移動
させることによつて前記２波面に位相差を与える
ように構成したものである。
［発明が解決しようとする問題点］
この新たに提案されたコントラスト法膜厚測定
装置は極薄膜厚の測定を高精度にかつ非接触で容
易に測定することができる顕著な特徴を有する
が、良好な平行度を持つ平行光を形成するために
は、コリメータレンズとして収差のないレンズを
準備することは相当に困難なので、代替品として
長焦点レンズを使用することになるが、その場合
には光学系が大きくなり、装置が大型化するだけ
でなく、空気のゆらぎの影響が無視できないもの
になる。
装置は極薄膜厚の測定を高精度にかつ非接触で容
易に測定することができる顕著な特徴を有する
が、良好な平行度を持つ平行光を形成するために
は、コリメータレンズとして収差のないレンズを
準備することは相当に困難なので、代替品として
長焦点レンズを使用することになるが、その場合
には光学系が大きくなり、装置が大型化するだけ
でなく、空気のゆらぎの影響が無視できないもの
になる。
この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたも
のであつて、ホログラムを利用することによつて
良好な平行度を持つ平行光を得ることができ、従
つて極薄膜の測定を高精度にかつ非接触で容易に
測定することが可能で、更に、光学系の長さを小
さくすることができ、空気のゆらぎの影響が小さ
く、装置の小型化が可能なシアリング干渉コント
ラスト法膜厚側装置を提供することを目的とする
ものである。
のであつて、ホログラムを利用することによつて
良好な平行度を持つ平行光を得ることができ、従
つて極薄膜の測定を高精度にかつ非接触で容易に
測定することが可能で、更に、光学系の長さを小
さくすることができ、空気のゆらぎの影響が小さ
く、装置の小型化が可能なシアリング干渉コント
ラスト法膜厚側装置を提供することを目的とする
ものである。
(ロ) 発明の構成
［問題点を解決するための手段］
この目的に対応して、この発明のシアリング干
渉コントラスト法膜厚測定装置は、レーザ光を対
物レンズ及びコリメータレンズによつて平行光と
しかつ前記平行光をシアして形成した２液面を参
照光として他の平行光を記録したホログラムを備
え、前記２波面を被測定物に照明した後に前記ホ
ログラムを証明し、前記ホログラムの再生光の２
波面を受光器で検出し、位相を変化させた時の干
渉縞の強度変化を測定するように構成し、かつ前
記ホログラムを光軸方向に垂直な方向に移動させ
ることによつて前記２波面に位相差を与えるよう
に構成したことを特徴としている。
渉コントラスト法膜厚測定装置は、レーザ光を対
物レンズ及びコリメータレンズによつて平行光と
しかつ前記平行光をシアして形成した２液面を参
照光として他の平行光を記録したホログラムを備
え、前記２波面を被測定物に照明した後に前記ホ
ログラムを証明し、前記ホログラムの再生光の２
波面を受光器で検出し、位相を変化させた時の干
渉縞の強度変化を測定するように構成し、かつ前
記ホログラムを光軸方向に垂直な方向に移動させ
ることによつて前記２波面に位相差を与えるよう
に構成したことを特徴としている。
以下、この発明の詳細を一実施例について説明
する。
する。
第１図において、１は膜厚測定装置である。膜
厚測定装置１はHe−Neレーザ光源１１を有し、
He−Neレーザ光源１１から発生するレーザビー
ムの光路に沿つて、ミラー１２、ミラー１３、ビ
ームスプリツタ１４、ミラー１５を有する。ビー
ムスプリツタ１４の反射側には物体光光学系１６
が位置し、また、ビームスプリツタ１４の透過側
には参照光光学系１７が位置する。
厚測定装置１はHe−Neレーザ光源１１を有し、
He−Neレーザ光源１１から発生するレーザビー
ムの光路に沿つて、ミラー１２、ミラー１３、ビ
ームスプリツタ１４、ミラー１５を有する。ビー
ムスプリツタ１４の反射側には物体光光学系１６
が位置し、また、ビームスプリツタ１４の透過側
には参照光光学系１７が位置する。
物体光光学系１６は顕微鏡対物レンズ２１、ピ
ンホール２２、コリメータレンズ２３、ミラー２
４を備えている。参照光光学系１７は顕微鏡対物
レンズ２５、ピンホール２６、コリメータレンズ
２７、光学ウエツジ２８を備えている。光学ウエ
ツジ２８は参照光学系１７の波面を２分割するも
のであつて、後述するホログラム３１として高次
回折光が再生しない理想的なホログラムを使用す
ることができれば、光学ウエツジに代替して平行
平面板を使用することができるが、ホログラム３
１が高次回折光を再生するものである場合には、
再生した高次回折光を１次回折光から分離するた
めに光学ウエツジ２８を使用してホログラムから
再生する光に傾きを与えることが有利である。
ンホール２２、コリメータレンズ２３、ミラー２
４を備えている。参照光光学系１７は顕微鏡対物
レンズ２５、ピンホール２６、コリメータレンズ
２７、光学ウエツジ２８を備えている。光学ウエ
ツジ２８は参照光学系１７の波面を２分割するも
のであつて、後述するホログラム３１として高次
回折光が再生しない理想的なホログラムを使用す
ることができれば、光学ウエツジに代替して平行
平面板を使用することができるが、ホログラム３
１が高次回折光を再生するものである場合には、
再生した高次回折光を１次回折光から分離するた
めに光学ウエツジ２８を使用してホログラムから
再生する光に傾きを与えることが有利である。
参照光光学系１７の出口側には被測定物１０、
パルスステージ３０に支持されたホログラム３
１、集光レンズ３２、ミラー３３、ピンホール３
４、コリメータレンズ３５、ピンホール３６，３
７、ミラー３８、フオトデイテクタ４１，４２が
配置されている。
パルスステージ３０に支持されたホログラム３
１、集光レンズ３２、ミラー３３、ピンホール３
４、コリメータレンズ３５、ピンホール３６，３
７、ミラー３８、フオトデイテクタ４１，４２が
配置されている。
フオトデイテクタ４１，４２は処理系４３に接
続し、処理系４３は増幅器４４、マルルチメータ
４５、オシロスコープ４６、コンピユータ４７、
パルスステージコントローラ４８を備えている。
続し、処理系４３は増幅器４４、マルルチメータ
４５、オシロスコープ４６、コンピユータ４７、
パルスステージコントローラ４８を備えている。
［作用」
次にこのように構成された膜厚測定装置１の作
用について説明する。
用について説明する。
まず、シアリング干渉コントラスト法の原理を
述べれば、シアリング干渉を利用したコントラス
ト法は、物体の波面を２分割して、互いに横方向
にシアさせ、２波面間に適当な位相差を与えて干
渉させて観察するものである。
述べれば、シアリング干渉を利用したコントラス
ト法は、物体の波面を２分割して、互いに横方向
にシアさせ、２波面間に適当な位相差を与えて干
渉させて観察するものである。
He−Neレーザ光源１１からのビームはミラー
１２，１３で光路変更させたのち、ビームスプリ
ツタ１４にて２分割される。
１２，１３で光路変更させたのち、ビームスプリ
ツタ１４にて２分割される。
まずホログラム３１を作製する場合について示
す。バームスプリツタ１４で反射したビームは物
体光光学系１６の顕微鏡対物レンズ２１、ピンホ
ール２２及びコリメータレンズ２３にて平行光に
されたのちミラー２４にて光路変更し、光学ウエ
ツジ２８を通過後ホログラム３１を照明する。一
方ビームスプリツタ１４を透過したビームはミラ
ー１５にて光路変更したのち、顕微鏡対物レンズ
２５、ピンホール２６及びコリメータレンズ２７
にて平行光にされたのち光学ウエツジ２８を照明
する。光学ウエツジ２８の表面と裏面とで反射し
て２波面O1、O2に分割した両波面はホログラム
３１上に照射される。コリメータレンズ２３から
の光とコリメータレンズ２７からの光はホログラ
ム３１上で干渉し、干渉縞がホログラム３１に形
成され記録される。この場合、被測定物１０は除
去しておく。
す。バームスプリツタ１４で反射したビームは物
体光光学系１６の顕微鏡対物レンズ２１、ピンホ
ール２２及びコリメータレンズ２３にて平行光に
されたのちミラー２４にて光路変更し、光学ウエ
ツジ２８を通過後ホログラム３１を照明する。一
方ビームスプリツタ１４を透過したビームはミラ
ー１５にて光路変更したのち、顕微鏡対物レンズ
２５、ピンホール２６及びコリメータレンズ２７
にて平行光にされたのち光学ウエツジ２８を照明
する。光学ウエツジ２８の表面と裏面とで反射し
て２波面O1、O2に分割した両波面はホログラム
３１上に照射される。コリメータレンズ２３から
の光とコリメータレンズ２７からの光はホログラ
ム３１上で干渉し、干渉縞がホログラム３１に形
成され記録される。この場合、被測定物１０は除
去しておく。
次に再生について示す。ホログラム３１を現
像、リバーサルブリーチ処理し、処理後のホログ
ラム３１をもとの位置にセツトし、コリメータレ
ンズ２３からの光はカツトしてコリメータレンズ
２７からの光にてホログラム３１を照明する。再
生光をピンホール３４にてフイルタリングし、被
測定物１０の結像位置にて観測する。このときの
波面は第６図Ａに示すように、光学ウエツジ２８
で分割された２光束はａに示すようにずれていて
シア量は光路上の位置によつて変化し、被測定物
１０上ではｂに示すように一致し、ホログラム３
１の再生光ではシア量ΔSは、ｃ示すように、２
光束の角度θと被測定物１０とホログラム３１の
距離ｌとの積、ΔS＝ｌ・Δθで一定である。ピン
ホール３６，３７にてフイルタリングした光はフ
オトデイテクター４１，４２にて検出し、増幅器
４４を通してデータ集録マルチメータ４５、オシ
ロスコープ４６に入力し、データ集録、波形観測
を行なう。ここで２波面間に位相差を与えるため
に、パルスステージ３０をコントローラ４８で制
御してホログラム３１を横移動させる。光軸に垂
直方向へのホログラム３１の横移動量をΔxとす
ると再生光の発生する位置の変化ΔdはΔd＝
Δx・sinθとなり位相差ΔδはΔδ＝Δd／λ＝（Δx／
λ）sinθ（λは波長）となつて、Δδだけ位相が進
む、通常はθ及びΔxは小さくとる。
像、リバーサルブリーチ処理し、処理後のホログ
ラム３１をもとの位置にセツトし、コリメータレ
ンズ２３からの光はカツトしてコリメータレンズ
２７からの光にてホログラム３１を照明する。再
生光をピンホール３４にてフイルタリングし、被
測定物１０の結像位置にて観測する。このときの
波面は第６図Ａに示すように、光学ウエツジ２８
で分割された２光束はａに示すようにずれていて
シア量は光路上の位置によつて変化し、被測定物
１０上ではｂに示すように一致し、ホログラム３
１の再生光ではシア量ΔSは、ｃ示すように、２
光束の角度θと被測定物１０とホログラム３１の
距離ｌとの積、ΔS＝ｌ・Δθで一定である。ピン
ホール３６，３７にてフイルタリングした光はフ
オトデイテクター４１，４２にて検出し、増幅器
４４を通してデータ集録マルチメータ４５、オシ
ロスコープ４６に入力し、データ集録、波形観測
を行なう。ここで２波面間に位相差を与えるため
に、パルスステージ３０をコントローラ４８で制
御してホログラム３１を横移動させる。光軸に垂
直方向へのホログラム３１の横移動量をΔxとす
ると再生光の発生する位置の変化ΔdはΔd＝
Δx・sinθとなり位相差ΔδはΔδ＝Δd／λ＝（Δx／
λ）sinθ（λは波長）となつて、Δδだけ位相が進
む、通常はθ及びΔxは小さくとる。
次にシアリング干渉コントラスト法の原理につ
いて述べる。
いて述べる。
２波面O1、O2の間の位相差をπ／２、シア量
をΔS、物体の位相の大きさをδとする。被測定
物１０を通つた後の２波面間の位相分布は第２図
のようになる。簡単化のための第２図では位相変
化δをもつた位相物体を用いている。まず波面
O1、O2で位相物体を照明し２波面に分割する。
これら波面はΔSのシア量で互いに横方向にシア
され、ピンホール３６，３７でフイルタリングし
た後観測するとシア量と位相差が均一となつた項
だけがとりだされ、第２図ａに示した値で与えら
れる。第２図ｃは位相と干渉縞の強度分布を示し
ており、曲線は位相を強度に変換したものを示し
ている。ここでΔは位相変化Δに対する強度変
化を示している。被測定物を通過後のO1、O2の
干渉波面から得られる光の強度分布が第２図ｂの
ようになることは、第２図ｃから容易に理解でき
る。ここで位相コントラスト像は明強度（0.5＋
Δ、第２図ｃ）、暗強度（0.5−Δ、第２図
ｃ）の相対する勾配に変換して観察される。
をΔS、物体の位相の大きさをδとする。被測定
物１０を通つた後の２波面間の位相分布は第２図
のようになる。簡単化のための第２図では位相変
化δをもつた位相物体を用いている。まず波面
O1、O2で位相物体を照明し２波面に分割する。
これら波面はΔSのシア量で互いに横方向にシア
され、ピンホール３６，３７でフイルタリングし
た後観測するとシア量と位相差が均一となつた項
だけがとりだされ、第２図ａに示した値で与えら
れる。第２図ｃは位相と干渉縞の強度分布を示し
ており、曲線は位相を強度に変換したものを示し
ている。ここでΔは位相変化Δに対する強度変
化を示している。被測定物を通過後のO1、O2の
干渉波面から得られる光の強度分布が第２図ｂの
ようになることは、第２図ｃから容易に理解でき
る。ここで位相コントラスト像は明強度（0.5＋
Δ、第２図ｃ）、暗強度（0.5−Δ、第２図
ｃ）の相対する勾配に変換して観察される。
次にシアリング干渉コントラスト法による膜厚
の求め方を述べる。
の求め方を述べる。
被測定物をセツトし観測面で観測される２波面
の各々強度をA、Bとすると、強度は ＝（１／２） ×〔１＋cos｛（2π／Ｔ）ｘ＋ψ｝〕 ……(1) で表わされる。ここで、Ｔは周期、ｘはホログラ
ムの移動量、ψは位相を表わす。
の各々強度をA、Bとすると、強度は ＝（１／２） ×〔１＋cos｛（2π／Ｔ）ｘ＋ψ｝〕 ……(1) で表わされる。ここで、Ｔは周期、ｘはホログラ
ムの移動量、ψは位相を表わす。
各々の波面O1、O2について２点求める場合
周期Ｔ、位相ψは(2)式、(3)式のように表わされ
る。
周期Ｔ、位相ψは(2)式、(3)式のように表わされ
る。
Ｔ＝｛2π（X1−X2）｝／｛cos-1（２1−１）
−cos-1（２2−１）｝……(2) ψ＝cos-1（２1−１）−（2π／Ｔ）×1 ……(3) よつて膜厚は Δψ＝（ψA−ψB）／２ ……(4) であるから ｄ＝｛（ψA−ψB）λ｝／｛4π（ｎ−１）｝ ……(5) により求まる。ここでｎは被測定膜の屈折率を表
わす。これは（π／２）＋δと（π／２）−δの波
面より求めたが、π／２と（π／２）＋δまたは
（π／２）−δとの波面からも求めることもでき
る。この場合には ｄ＝｛（ψA−ψB）λ｝／｛2π（ｎ−１）｝ ……(6) により求まる。
−cos-1（２2−１）｝……(2) ψ＝cos-1（２1−１）−（2π／Ｔ）×1 ……(3) よつて膜厚は Δψ＝（ψA−ψB）／２ ……(4) であるから ｄ＝｛（ψA−ψB）λ｝／｛4π（ｎ−１）｝ ……(5) により求まる。ここでｎは被測定膜の屈折率を表
わす。これは（π／２）＋δと（π／２）−δの波
面より求めたが、π／２と（π／２）＋δまたは
（π／２）−δとの波面からも求めることもでき
る。この場合には ｄ＝｛（ψA−ψB）λ｝／｛2π（ｎ−１）｝ ……(6) により求まる。
各々の波面O1、O2について１点求める場合
今までは２波面の各々について求めた２点か
ら周期Ｔ、位相ψを求めたが、次に各々の波面
について１点求めて膜厚を導出する方法につい
て示す。
ら周期Ｔ、位相ψを求めたが、次に各々の波面
について１点求めて膜厚を導出する方法につい
て示す。
(1)式において原点をＸ＝０にとる。A
＝OA、B＝OBとすると各々の位相ψOA、
ψOBは、第３図に示すように、 ψOA＝cos-1（２OA−１） ……(7) ψOB＝cos-1（２OB−１） ……(8) と表わされる。
ψOBは、第３図に示すように、 ψOA＝cos-1（２OA−１） ……(7) ψOB＝cos-1（２OB−１） ……(8) と表わされる。
従つて膜厚ｄは
ｄ＝｛（ψOA−ψOB）λ｝／｛4π（ｎ−１）｝……(9)
により求まる。
このように一般に干渉縞は位相が変化すると光
の強度が正弦波的に変化するので、PD1４１、
PD2４２における光の強度差を位相差に換算し
て、(6)式または(9)より位相物体の厚みを求める。
の強度が正弦波的に変化するので、PD1４１、
PD2４２における光の強度差を位相差に換算し
て、(6)式または(9)より位相物体の厚みを求める。
［実施例］
位相物体としてここでは、平面度の良いガラス
基板を用いて５種類の膜厚にフツ化マグネシウム
（MgF2）を直径５mmの円形状にコーテイングし
たものを用いた。次にそのうちの１つの試料につ
いて実施例を示す。
基板を用いて５種類の膜厚にフツ化マグネシウム
（MgF2）を直径５mmの円形状にコーテイングし
たものを用いた。次にそのうちの１つの試料につ
いて実施例を示す。
位相を変化させながら、IA、IBを測定し、２波
面の干渉縞曲線をプロツトし、そのπ／２の位置
におけるIA、IBより(9)式から膜厚を求めたところ
1329Åが得られた。
面の干渉縞曲線をプロツトし、そのπ／２の位置
におけるIA、IBより(9)式から膜厚を求めたところ
1329Åが得られた。
この試料を触針式表面粗さ測定器で測定したと
ころ、約1300Åの膜厚が得られており、両者は良
く一致していることがわかる。
ころ、約1300Åの膜厚が得られており、両者は良
く一致していることがわかる。
(ハ) 発明の効果
この発明では平行光をホログラムに記録し、か
つその平行光をホログラムから再生させるのであ
り、従つて、ホログラムの作成時に平行度の高い
平行光を形成し得る物体光光学系１６、特にその
収差のない若しくは長焦点のコリメータレンズ２
３を使用すれば、ホログラムの再生時に作成時と
同じ参照光光学系１７を使用する限り、参照光光
学系１７のコリメータレンズ２７に収差があつて
も、ホログラムからは平行度の高い平行光を再生
することができ、これにより、膜厚の高精度の測
定を可能とするとともに、参照光光学系の長さを
小さくすることができ、空気のゆらぎの影響を小
さくすることができる。
つその平行光をホログラムから再生させるのであ
り、従つて、ホログラムの作成時に平行度の高い
平行光を形成し得る物体光光学系１６、特にその
収差のない若しくは長焦点のコリメータレンズ２
３を使用すれば、ホログラムの再生時に作成時と
同じ参照光光学系１７を使用する限り、参照光光
学系１７のコリメータレンズ２７に収差があつて
も、ホログラムからは平行度の高い平行光を再生
することができ、これにより、膜厚の高精度の測
定を可能とするとともに、参照光光学系の長さを
小さくすることができ、空気のゆらぎの影響を小
さくすることができる。
第１図は膜厚測定装置を示す構成説明図、第２
図は２波面の位相と強度を示すグラフ、第３図は
２波面の強度を示すグラフ、第４図は従来の触針
式膜厚測定装置を示す説明図、第５図は従来の他
の膜厚測定装置を示す構成説明図、及び第６図は
光束を示す説明図である。 １……膜厚測定装置、１０……被測定物、１１
……He−Neレーザ光源、１２……ミラー、１３
……ミラー、１４……ビームスプリツタ、１５…
…ミラー、１６……物体光光学系、１７……参照
光光学系、２１……顕微鏡対物レンズ、２２……
ピンホール、２３……コリメータレンズ、２４…
…ミラー、２５……顕微鏡対物レンズ、２６……
ピンホール、２７……コリメータレンズ、２８…
…光学ウエツジ、３０……パルスステージ、３１
……ホログラム、３２……集光レンズ、３３……
ミラー、３４……ピンホール、３５……コリメー
タレンズ、３６……ピンホール、３７……ピンホ
ール、３８……ミラー、４１……フオトデイテク
ター、４２……フオトデイテクター、４３……処
理系、４４……増幅器、４５……マルチメータ、
４６……オシロスコープ、４７……コンピユー
タ、４８……パルスステージコントローラ。
図は２波面の位相と強度を示すグラフ、第３図は
２波面の強度を示すグラフ、第４図は従来の触針
式膜厚測定装置を示す説明図、第５図は従来の他
の膜厚測定装置を示す構成説明図、及び第６図は
光束を示す説明図である。 １……膜厚測定装置、１０……被測定物、１１
……He−Neレーザ光源、１２……ミラー、１３
……ミラー、１４……ビームスプリツタ、１５…
…ミラー、１６……物体光光学系、１７……参照
光光学系、２１……顕微鏡対物レンズ、２２……
ピンホール、２３……コリメータレンズ、２４…
…ミラー、２５……顕微鏡対物レンズ、２６……
ピンホール、２７……コリメータレンズ、２８…
…光学ウエツジ、３０……パルスステージ、３１
……ホログラム、３２……集光レンズ、３３……
ミラー、３４……ピンホール、３５……コリメー
タレンズ、３６……ピンホール、３７……ピンホ
ール、３８……ミラー、４１……フオトデイテク
ター、４２……フオトデイテクター、４３……処
理系、４４……増幅器、４５……マルチメータ、
４６……オシロスコープ、４７……コンピユー
タ、４８……パルスステージコントローラ。
Claims (1)
- １ レーザ光を対物レンズ及びコリメータレンズ
によつて平行光としかつ前記平行光をシアして形
成した２波面を参照光として他の平行光を記録し
たホログラムを備え、前記２波面を被測定物に照
明した後に前記ホログラムを照明し、前記ホログ
ラムの再生光の２波面を受光器で検出し、位相を
変化させた時の干渉縞の強度変化を測定するよう
に構成し、かつ前記ホログラムを光軸方向に垂直
な方向に移動させることによつて前記２波面に位
相差を与えるように構成したことを特徴とするシ
アリング干渉コントラスト法膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3584186A JPS62192604A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | シアリング干渉コントラスト法膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3584186A JPS62192604A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | シアリング干渉コントラスト法膜厚測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62192604A JPS62192604A (ja) | 1987-08-24 |
| JPH0439886B2 true JPH0439886B2 (ja) | 1992-07-01 |
Family
ID=12453200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3584186A Granted JPS62192604A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | シアリング干渉コントラスト法膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62192604A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0781818B2 (ja) * | 1991-12-11 | 1995-09-06 | 工業技術院長 | レンズ横収差測定用シアリング干渉計 |
| WO2018038064A1 (ja) | 2016-08-24 | 2018-03-01 | 公立大学法人兵庫県立大学 | エリプソメトリ装置およびエリプソメトリ方法 |
-
1986
- 1986-02-20 JP JP3584186A patent/JPS62192604A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62192604A (ja) | 1987-08-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |