JPH0439653Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0439653Y2 JPH0439653Y2 JP11436185U JP11436185U JPH0439653Y2 JP H0439653 Y2 JPH0439653 Y2 JP H0439653Y2 JP 11436185 U JP11436185 U JP 11436185U JP 11436185 U JP11436185 U JP 11436185U JP H0439653 Y2 JPH0439653 Y2 JP H0439653Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- standard
- analyzed
- segments
- cylindrical base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 claims description 6
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000004125 X-ray microanalysis Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
イ 技術の利用分野
本考案は、Ｘ線マイクロアナリシス等の表面分
析に適した試料ホルダに関する。
析に適した試料ホルダに関する。
ロ 従来技術
表面分析は、分析すべき試料と検出すべき成分
を既知量含んだ標準試料を真空容器内に収容して
電子線やＸ線等の高いエネルギービームを照射
し、放出されたエネルギー線を検出することによ
り行なわれている。この試料から放出されたエネ
ルギー線の検量に際しては、被分析試料によつて
は数十個という多数の標準試料を必要とする。
を既知量含んだ標準試料を真空容器内に収容して
電子線やＸ線等の高いエネルギービームを照射
し、放出されたエネルギー線を検出することによ
り行なわれている。この試料から放出されたエネ
ルギー線の検量に際しては、被分析試料によつて
は数十個という多数の標準試料を必要とする。
このため、分析に先立つて行なわれる標準試料
のホルダへのセツテイング作業が煩雑であるとい
う問題があつた。
のホルダへのセツテイング作業が煩雑であるとい
う問題があつた。
ハ 目的
本考案はこのような問題に鑑み、標準試料のセ
ツテイング作業の簡素化を図ることができる試料
ホルダを提供することを目的とする。
ツテイング作業の簡素化を図ることができる試料
ホルダを提供することを目的とする。
ニ 考案の構成
すなわち、本考案が特徴とするところは、一方
の開口近傍に台座が形成された円筒状基体と、複
数の標準試料を保持する標準試料挿入孔を有する
と共に前記円筒状基体の台座に保持されてリング
を形成する複数の扇型セグメントとによりホルダ
ーを構成し、前記リングで形成された中央部の通
孔に被分析試料を、また周囲に標準試料を配置可
能とした点にある。
の開口近傍に台座が形成された円筒状基体と、複
数の標準試料を保持する標準試料挿入孔を有する
と共に前記円筒状基体の台座に保持されてリング
を形成する複数の扇型セグメントとによりホルダ
ーを構成し、前記リングで形成された中央部の通
孔に被分析試料を、また周囲に標準試料を配置可
能とした点にある。
ホ 実施例
そこで、以下に本考案の詳細を図示した実施例
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
第１図イ，ロは、本考案の一実施例を示すもの
であつて、図中符号１は、表面分析装置の試料台
に係合可能な円筒状基体で、一側寄りに後述する
標準試料保持体をなすセグメント３，３，３……
を受け止める台座１ａを設ける一方、中央部に形
成された孔２で被分析試料を保持するように構成
されている。３，３，３……は、前述した標準試
料保持体をなす扇型セグメントで、各セグメント
には多数の標準試料保持用の孔４，４，４……が
穿設されており、円筒状基体１に組込んだときに
リング状になつて中央部に被分析試料が挿通可能
な通孔５を形成するように構成されている。な
お、図中符号６，６は、被分析試料を固定するネ
ジを、また７はセグメント３，３，３……を固定
するネジを示す。
であつて、図中符号１は、表面分析装置の試料台
に係合可能な円筒状基体で、一側寄りに後述する
標準試料保持体をなすセグメント３，３，３……
を受け止める台座１ａを設ける一方、中央部に形
成された孔２で被分析試料を保持するように構成
されている。３，３，３……は、前述した標準試
料保持体をなす扇型セグメントで、各セグメント
には多数の標準試料保持用の孔４，４，４……が
穿設されており、円筒状基体１に組込んだときに
リング状になつて中央部に被分析試料が挿通可能
な通孔５を形成するように構成されている。な
お、図中符号６，６は、被分析試料を固定するネ
ジを、また７はセグメント３，３，３……を固定
するネジを示す。
この実施例において、被分析試料Taを円筒状
基体１の孔２に挿入してネジ６，６により円筒状
基体１に固定し、また必要とする標準試料Tsを
扇型セグメント３，３，３……の孔４，４，４…
…に挿入した後、セグメント３，３，３……を円
筒状基体１の台座２ａにリング状配置してネジ６
により固定する（第２図）。
基体１の孔２に挿入してネジ６，６により円筒状
基体１に固定し、また必要とする標準試料Tsを
扇型セグメント３，３，３……の孔４，４，４…
…に挿入した後、セグメント３，３，３……を円
筒状基体１の台座２ａにリング状配置してネジ６
により固定する（第２図）。
このようにして全ての試料をセツトして試料ホ
ルダに組上げたもを表面分析装置に収容すると、
被分析試料Taの周囲を取囲むように多数の標準
試料Ts，Tsが配置されているため、少ない距離
の移動により被分析試料及び標準試料を分析用ビ
ーム照射域に移動させることができて分析を迅速
ならしめる。また、性質や、分析目的等に対応さ
せて予めセグメント単位にまとめて収容しておく
ことにより、セグメントを選択するだけで多数の
標準試料を極めて短時間にセツトすることができ
る。
ルダに組上げたもを表面分析装置に収容すると、
被分析試料Taの周囲を取囲むように多数の標準
試料Ts，Tsが配置されているため、少ない距離
の移動により被分析試料及び標準試料を分析用ビ
ーム照射域に移動させることができて分析を迅速
ならしめる。また、性質や、分析目的等に対応さ
せて予めセグメント単位にまとめて収容しておく
ことにより、セグメントを選択するだけで多数の
標準試料を極めて短時間にセツトすることができ
る。
また、新たな標準試料の作成に際しては、扇型
セグメント３の孔４，４，４……に挿入可能な程
度に粗加工された素材を硬度等の性質の似かよつ
たもの同士同一の扇型セグメントに配列し、これ
を円筒状基体１に固定してパフ等により表面研磨
すると、多数の試料を一度に加工できるばかりで
なく、性質が似かよつたものが集合しているため
に試料相互間に加工度のバラツキを生じることが
ない。このようにして加工が終了したものを表面
分析装置に装填すれば、直ちに分析に供すること
ができる。
セグメント３の孔４，４，４……に挿入可能な程
度に粗加工された素材を硬度等の性質の似かよつ
たもの同士同一の扇型セグメントに配列し、これ
を円筒状基体１に固定してパフ等により表面研磨
すると、多数の試料を一度に加工できるばかりで
なく、性質が似かよつたものが集合しているため
に試料相互間に加工度のバラツキを生じることが
ない。このようにして加工が終了したものを表面
分析装置に装填すれば、直ちに分析に供すること
ができる。
また、小数の標準試料を研磨する場合には、粗
加工した標準試料を各セグメント３，３，３……
に分散させて配設し、残りの孔にそれぞれの標準
試料と同一もしくは性質の似かよつた材料からな
るダミー材を挿入して研磨することにより、目的
とする標準試料の表面を均一研磨することができ
る。
加工した標準試料を各セグメント３，３，３……
に分散させて配設し、残りの孔にそれぞれの標準
試料と同一もしくは性質の似かよつた材料からな
るダミー材を挿入して研磨することにより、目的
とする標準試料の表面を均一研磨することができ
る。
なお、この実施例においては、４個の扇型セグ
メントにより標準試料保持体を形成しているが、
２個以上のセグメントにより構成すれば同様の作
用を奏することは明らかである。
メントにより標準試料保持体を形成しているが、
２個以上のセグメントにより構成すれば同様の作
用を奏することは明らかである。
ヘ 効果
以上、説明したように本考案によれば、孔を複
数穿設してリング状に集合されるセグメントに標
準試料を固定するようにしたので、中央部に被分
析試料を、またこれの周囲に標準試料を配設する
ことができて、分析用ビーム領域への移動量を可
及的に小さくして測定サイクルを短縮できる。ま
た標準試料保持体を複数の扇型セグメントにより
形成したので、予じめ物理的、化学的性質の類似
した標準試料をセグメント単位にまとめて整理し
ておくことができて、被分析試料に応じてセグメ
ントを選択配置するだけで多数の標準試料をホル
ダに簡単にセツトすることができるばかりでな
く、標準試料研磨時には粗加工されたものを分散
配置して研磨装置に均一な負荷を掛けて均一な研
磨を行なうことができる。
数穿設してリング状に集合されるセグメントに標
準試料を固定するようにしたので、中央部に被分
析試料を、またこれの周囲に標準試料を配設する
ことができて、分析用ビーム領域への移動量を可
及的に小さくして測定サイクルを短縮できる。ま
た標準試料保持体を複数の扇型セグメントにより
形成したので、予じめ物理的、化学的性質の類似
した標準試料をセグメント単位にまとめて整理し
ておくことができて、被分析試料に応じてセグメ
ントを選択配置するだけで多数の標準試料をホル
ダに簡単にセツトすることができるばかりでな
く、標準試料研磨時には粗加工されたものを分散
配置して研磨装置に均一な負荷を掛けて均一な研
磨を行なうことができる。
第１図は、イ，ロはそれぞれ本考案の一実施例
を示す斜視図と断面図、第２図はその使用状態を
示す斜視図である。 １……円筒状基体、１ａ……台座、３……扇型
セグメント、４……標準試料挿入孔。
を示す斜視図と断面図、第２図はその使用状態を
示す斜視図である。 １……円筒状基体、１ａ……台座、３……扇型
セグメント、４……標準試料挿入孔。
Claims (1)
- 一方の開口近傍に台座が形成された円筒状基体
と、複数の標準試料を保持する標準試料挿入孔を
有し、前記円筒状基体の台座に保持されてリング
を形成する複数の扇型セグメントとからなり、前
記リングで形成された中央部の通孔に被分析試料
を挿通させる表面分析用試料ホルダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11436185U JPH0439653Y2 (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11436185U JPH0439653Y2 (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6224470U JPS6224470U (ja) | 1987-02-14 |
| JPH0439653Y2 true JPH0439653Y2 (ja) | 1992-09-17 |
Family
ID=30997031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11436185U Expired JPH0439653Y2 (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0439653Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-07-24 JP JP11436185U patent/JPH0439653Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6224470U (ja) | 1987-02-14 |
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