JPH0438767B2 - - Google Patents

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JPH0438767B2
JPH0438767B2 JP56144055A JP14405581A JPH0438767B2 JP H0438767 B2 JPH0438767 B2 JP H0438767B2 JP 56144055 A JP56144055 A JP 56144055A JP 14405581 A JP14405581 A JP 14405581A JP H0438767 B2 JPH0438767 B2 JP H0438767B2
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formula
group
polyamide
polyimide
solution
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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

この発明はポリアミド−ポリイミドブロツクコ
ポリマー又はポリアミド−ポリイミドコポリマー
でコーテイングした銅箔からなる柔軟性基材を用
いることを特徴とする柔軟性のある印刷回路の製
造方法に関する。 柔軟性のある印刷回路は周知のように硬い印刷
回路に比べて多くの工業上の利点を有する。その
ような印刷回路は実際上電気的な構成単位として
あらゆる形態でシステムに適合させられ、従つて
電子的装置内で少ないスペースしか必要でなく、
また振動に対して強いので取扱いが容易である。 絶縁材料を積層した、印刷回路の製造に使用さ
れる柔軟性基材には当然高い要求が設定される。
被覆する層は金属箔に対し極めて良好な接着性を
持たねばならず、印刷回路製造時の処理工程は無
害なものでなければならない。即ち被覆する層は
ハンダ浴安定性が良好で、印刷回路板の技術で用
いられる溶剤に対し安定性のよいものでなければ
ならない。柔軟性基材は更に被覆層に裂目を生ず
ることなく曲げたり、巻いたり、捩つたり、また
折たたんだりできるものでなければならない。 ポリイミドフイルムを結合剤で処理した銅箔上
に被覆することによつて金属箔をポリイミドフイ
ルムで被覆することが知られている。この方法で
製造された結合剤層を有するラミネートは全ての
点で前記の要求を充たすものではない。特に電気
的特性の改善が望まれている。 また、米国特許第3682960号により、金属をポ
リアミド酸およびアミドによつて改質したポリア
ミド酸の混合物でコーテイングすることが知られ
ている。加熱後に金属上に得られたポリイミドと
ポリアミドイミドからなる層は、しかし十分な柔
軟性がなく、曲げられた時に容易に金属箔の縁か
らはがれる。 この欠点を回避するために、米国特許第
4148969号ではポリパラバン酸で積層した金属箔
からなるラミネートを使用することが提案され、
そこでは使用するポリパラバン酸はジフエニルメ
タンジイソシアナートとシアン化水素との反応生
成物の加水分解によつて製造されている。使用す
るポリパラバン酸の製造が複雑であることは別に
して、第一の工程で特別に注意を要する操作を行
わねばならないシアン化水素を取扱う必要があ
る。 又、特開昭49−51559号では、特定の芳香族ポ
リアミドイミドと金属板とを直接接着せしめてな
るプリント配線板用基板が提供され、銅箔とポリ
アミドイミドフイルム間の剥離角180゜での剥離強
度は6.5Kg/cmであつたことが示されている。 ここに銅箔をポリアミド−ポリアミド酸ブロツ
クコポリマー又はポリアミド−ポリアミド酸コポ
リマーからなる有機溶媒溶液でコーテイングし
て、金属のコーテイング体を加熱し有機溶媒を蒸
発させポリアミド−ポリイミドブロツクコポリマ
ー又はポリアミド−ポリイミドコポリマーに変換
して、銅箔上に中間層を設けずに堅固に接着した
ポリマーフイルムを有する柔軟性基材が柔軟性印
刷回路の製造に用い得ることが見出された。 すなわち、本発明は、中間層を設けずにポリマ
ーを積層した銅箔からなる柔軟性のある印刷回路
の製造方法において、ポリマー層が式 [―(A)―(E)]o―― () (式中、nは1〜500の整数を表わし、Aは式
または で表わされる構成単位を有するポリアミドブロツ
クを表わし、Eはまた で表わされる構成単位を有するポリイミドブロツ
クを表わす。)で示される繰返し構成単位を有す
るポリアミド−ポリイミドブロツクコポリマー、
又は式a若しくはa で示されるポリアミド酸を式XI で示されるジカルボン酸ジクロリドおよび式XII H2N−R2−NH2 (XII) で示されるジアミンと反応させ、得られたポリア
ミド−ポリアミド酸コポリマーを次に環化するこ
とによつて得られるポリアミド−ポリイミドコポ
リマー[上記の式中、a及びbは互いに独立した
ものであつて、2〜100の整数を表わし、R2及び
R4は互いに独立したものであつて、場合によつ
てはハロゲン原子、C−原子数が各々1〜4のア
ルキル又はアルコキシ基によつて置換されていて
もよい単環性芳香族基、場合によつてはハロゲン
原子、C−原子数が各々1〜4のアルキル又はア
ルコキシ基によつて置換されていてもよい、芳香
核が−O−,−CH2−又は−SO2−を介して互い
に結合している非縮合系の二環性芳香族基、ヘテ
ロ環基、C−原子数が2〜12のアルキレン基又は
ジシクロヘキシルメタン基を表わし、R1は芳香
族基若しくはヘテロ環基又はC−原子数が2〜8
のアルキレン基を表わし、このときカルボニル基
は異なる炭素原子に結合し、R3は5−又は6−
員環のシクロアルキル基、ベンゼン環又は芳香核
が−O−,−CO−又は−CONH−の架橋基を介
して結合し、かつカルボニル基が対を成して隣接
している異なる環のC−原子に結合した非縮合系
の二環性芳香族基を表わす。]からなる柔軟性基
材を用いることを特徴とする柔軟性印刷回路の製
造方法である。 銅箔上に接着するポリアミド−ポリイミドブロ
ツクコポリマーからなる層は、式においてnが
1〜500の整数を表わし、Aが式又はのポリ
アミドブロツクを表わし、Eが式又はのポリ
イミドブロツクを表わし、a及びbは互いに独立
したものであつて、2〜100の整数を表わし、R2
及びR4が互いに独立したものであつて、場合に
よつてはハロゲン原子、C−原子数が各々1〜4
のアルキル又はアルコキシ基によつて置換されて
いてもよい単環性芳香族基、場合によつてはハロ
ゲン原子、C−原子数が各々1〜4のアルキル又
はアルコキシ基によつて置換されていてもよい、
芳香核が−O−,−CH2−又は−SO2−を介して
互いに結合している非縮合系の二環性芳香族基、
又はヘテロ環基を表わし、R1は芳香族基又はヘ
テロ環基を表わし、このときカルボニル基は異な
る炭素原子に結合し、R3はベンゼン環又は芳香
族核が−O−,−CO−又は−CONH−の架橋基
を介して互いに結合している非縮合系の二環性芳
香族基を表わし、このときカルボニル基は対をな
して隣接している異なる環の炭素原子と結合して
いる、ブロツクコポリマーからなるものが好まし
い。 特にこれらの層はAが式のポリアミドブロツ
クを表わし、Eが式のポリイミドブロツクを表
わし、aが2〜50の整数でbが2〜50、特に10〜
50の整数を表わす式のポリアミド−ポリイミド
ブロツクコポリマーから構成される。 好ましい実施態様においては、これらの層はA
が式のポリアミドブロツクを表わし、Eが式
のポリイミドブロツクを表わし、aが2〜50の整
数で、bが10〜50の整数を表わし、R1が1,3
−フエニレン基、R2が4,4′−ジフエニルエーテ
ル−、ジフエニルメタン−又は1,3−フエニレ
ン基を表わし、R3がベンゼン環又はベンゾフエ
ノン環系を表わし、R4が4,4′−ジフエニルエー
テル−、4,4′−ジフエニルメタン−、1,3−
又は1,4−フエニレン基を表わす式のポリア
ミド−ポリイミドブロツクコポリマーからなる。 更に好ましい実施態様においては、銅箔上に接
着される層は式a又はaのポリアミド酸を式
11のジカルボン酸ジクロリド及び式12のジアミン
[式中、bは2〜50の整数を表わし、R1は (―CH2――又は1,3−フエニレン基、好まし
くは1,3−フエニレン基を表わし、R2は1,
3−フエニレン又は4,4′−ジフエニルエーテル
基を表わし、R3はベンゼン環又はベンゾフエノ
ン環系を表わし、R4は1,3−又は1,4−フ
エニレン、4,4′−ジフエニルエーテル又は4,
4′−ジフエニルメタン基を表わし]と反応させ、
得られたポリアミド−ポリアミド酸コポリマーを
次に環化することによつて得られるポリアミド−
ポリイミドコポリマーからなる。 本発明で用いられる柔軟性基材は銅箔を、式 [(――A1)(――E1)]o―― () (式中、A1は平均分子量が350〜20000で式
又は で示される構成単位を有するポリアミドブロツク
を表わし、E1は式又は で表わされる構成単位を有するポリイミドブロツ
クを表わす。)で示される繰返し構成単位を有す
るポリアミド−ポリアミド酸ブロツクコポリマー
の有機溶媒溶液、又は式a又はa で示されるポリアミド酸を式XI で示されるジカルボン酸ジクロリドおよび式XII H2N−R2−NH2 (XII) で示されるジアミンと反応させて得られるポリア
ミド−ポリアミド酸コポリマーの有機溶媒溶液
[上記の式中、Xは各々水素原子又はC−原子数
1〜4のアルキル基を表わし、n,a,b,R1
R2,R3及びR4は式〜の場合と同じ意味を表
わす。]でコーテイングし、次いでコーテイング
された銅箔を少なくとも粘着性でない層が得られ
るまで50〜300℃の温度で加熱することによつて
製造される。 ポリアミド−ポリアミド酸ブロツクコポリマー
のポリアミド−ポリイミドブロツクコポリマーへ
の環化、又はポリアミド−ポリアミド酸コポリマ
ーのポリアミド−ポリイミドコポリマーへの環化
は各々採用する積層方法、温度及び加熱時間によ
つて多かれ少なかれ十分に行われる。最適の特性
を得るためには層材料を所望により更に数時間、
例えば300℃で加熱する。 銅箔の積層に用いられるポリアミド−ポリアミ
ド酸ブロツクコポリマーは公知であり、例えばド
イツ公開公報第2342464号に記載されている方法
に従い、式a で示されるポリアミドを式a で示されるポリアミド酸二無水物と、又は式a で示されるポリアミドを式a で示されるポリアミド酸と反応させることによつ
て製造される(式中、a,b,R1,R2,R3及び
R4は式〜の場合と同じ意味を表わし、式
aの末端無水物基は各々R3の隣接する環のC−
原子に結合している)。 式a〜aのポリアミド及びポリアミド酸の
製造もドイツ公開公報第2342464号に記載されて
いる。更に式a又はaのポリアミド酸ブロツ
クを含む。銅箔のコーテイングに使用されるポリ
アミド−ポリアミド酸コポリマーはドイツ公開公
報第2342454号により知られている。 更に上述のドイツ公開公報類には、ポリアミド
−ポリアミド酸ブロツクコポリマー乃至ポリアミ
ド−ポリアミド酸コポリマーが金属、ポリマー又
はセルロース材料のような種々の物質のコーテイ
ングや固着に適していることが開示されている
が、ポリアミド−ポリイミドブロツクポリマー乃
至ポリアミド−ポリイミドコポリマーをコーテイ
ングした銅箔が極めて柔軟であること、即ちポリ
マーフイルム内に裂目を形成させずに繰返し曲げ
たり、折畳んだりできること、更に良好なハンダ
浴安定性と印刷回路板技術において用いられる溶
媒に対して良好な安定性を示すことを何ら示唆し
ていない。 本発明により使用されるポリアミド−ポリアミ
ド酸ブロツクコポリマー及びポリアミド−ポリア
ミド酸コポリマーは一般に固有粘度が0.5〜25乃
至0.1〜2.5、特に0.8〜1.5である。測定がポリマ
ーの分子量について行われる固有粘度ηinhは次式
により計算される。 ηinh=lnη/ηo/C 式中、リツトルn=自然対数 η=溶液(適当な溶媒、例えばN,N−ジ
メチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、N−メチルピロリドン、
濃硫酸中、ポリマーの0.5重量%)の粘
度、 ηo=溶媒の粘度、 C=ポリマー溶液の濃度 (ポリマーg/溶媒100ml)。 粘度の測定は25℃で行う。 好ましくは無水の有機溶媒中で、かつ湿気を排
除して製造されるポリアミド−ポリアミド酸ブロ
ツクコポリマー乃至ポリアミド−ポリアミド酸コ
ポリマーは有機溶媒溶液の状態で処理するるのが
有利である。適当な有機溶媒はN,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルメトキシアセトアミド、N−メチル−2−ピロ
リドン、N−アセチル−2−ピロリドン、N−メ
チル−ε−カプロラクタム、ヘキサメチルリン酸
トリアミド(ヘキサメタポール)、N,N,N′,
N′−テトラメチル尿素、テトラヒドロチオフエ
ンジオキシド(スルホラン)及びジメチルスルホ
キシドである。 これらに溶媒の混合物を使用することもでき
る。一方、これらの好ましい溶媒系を芳香族、脂
環式または脂肪族炭化水素また塩素化炭化水素、
例えばベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘ
キサン、ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、メ
チレンクロリド、テトラヒドロフラン、シクロヘ
キサノン及びジオキサンによつて希釈することも
できる。 ポリアミド−ポリアミド酸ブロツクコポリマー
乃至ポリアミド−ポリアミド酸コポリマーの有機
溶媒溶液の貯蔵安定性を高めるために、例えばモ
レキユラーシーブのような水吸収性物質を溶液に
添加するとよい。モレキユラーシーブは有機溶媒
溶液量に対して約10重量%の量で加えるのが好ま
しい。モレキユラーシーブは、例えばメルク社の
製品のような市販品を入手することができる。 更に、驚くべきことにより高い温度若しくは機
械的に、取扱われる有機コーテイング溶液は、処
理に先立つて流動調整剤(Fliessmittel)、例えば
“Modaflow”(モンサント社の製品)“FC430”
若しくは“FC170”(3M社の製品)、又は
“Lodyne S107”(チバガイギー社の製品)を添
加すると好都合であることが見出された。流動調
整剤(Verlaufmittelとも呼ばれる)は公知の物
質であり、溶液の表面張力を低下させる。銅箔の
有機ポリマー溶液によるコーテイングは手作業に
よつても、コーテイング装置によつても行うこと
ができる。垂直型のコーテイング装置を使用する
こともできる。積層材料は所望によつて巻上げら
れるので、機械的なコーテイングでは銅箔上で粘
着性でないコーテイング層の得られることが重要
である。最適な特性を得るために、これらの積層
材料は更に一層高い温度で、例えば180℃で4時
間及び210℃で2時間加熱する。これによりポリ
アミド−ポリアミド酸ブロツクコポリマー乃至ポ
リアミド−ポリアミド酸コポリマーの対応するポ
リアミド−ポリイミドブロツクコポリマー乃至ポ
リアミド−ポリイミドコポリマーへの実際上完全
な環化が起る。このようにしてコーテイングされ
た銅箔は、金属面に写真ラツカーを塗布したフイ
ルムを写真マスクを介して露光し、露光した銅箔
を周知のようにして現像することによつて、直接
印刷回路の製造に使用することができる。これに
よつて柔軟性のある印刷回路が得られる。 実施例 1 A 末端アミノ基を有するポリアミドブロツクの
製造 撹拌器、内部温度計、滴下用濾斗、窒素ガス導
入管及び圧力調整器を備えたスルホン化フラスコ
中で、窒素雰囲気下にてm−フエニレンジアミン
7.786g(0.072mol)を無水のN,N−ジメチル
アセトアミド100gにかきまぜながら完全に溶解
させ−15℃に冷却する。−15℃〜−10℃でイソフ
タル酸ジクロリドを固体の状態で少しずつ30分か
けて加える。次に反応混合物を1時間0℃にて反
応させる。次いでトリメチルアミン12.952gを30
分間で0℃〜5℃にて滴下し、溶液を更に1時間
5〜10℃で撹拌する。沈殿するトリエチルアミン
塩酸塩をガラスフイルターで吸引濾過し、濾過ケ
ーキを無水のN,N−ジメチルアセトアミド40g
で洗浄する。 B 末端に無水物基を有するポリアミド酸ブロツ
クの製造 Aに記載した装置で、窒素雰囲気下にてピロメ
リツト酸ジ無水物34.9g(0.16mol)を無水のN,
N−ジメチルアセトアミド100gにかきまぜなが
ら懸濁させる。懸濁液をかきまぜながら−15℃に
冷却する。次に4,4−ジアミノジフエニルエー
テル30.436g(0.152mol)をN,N−ジメチルア
セトアミド140gにかきまぜながら完全に溶かし、
この溶液を−15℃〜−10℃で1時間かけて懸濁液
に滴下すると、ピロメリツト酸ジ無水物は徐々に
溶解する。反応混合物は粘稠かつ透明になる。次
いで更に1時間0℃〜5℃で反応させる。 C ポリアミド−ポリイミドブロツクコポリマー
の製造 Bで得られた末端に無水物基を有するポリアミ
ド酸の粘稠溶液に、窒素雰囲気下で激しく撹拌し
ながらAで得られた末端にアミノ基を有するポリ
アミドの溶液を5分以内で0℃〜5℃にて滴下す
る。無水のN,N−ジメチルアセトアミド100g
で滴下用濾斗を洗い、この溶液を反応混合物に加
える。かきまぜて均一に混合し、1時間10℃〜15
℃で反応させる。 透明で粘稠な、固有粘度が1.08dl/g(C=
0.5% N,N−ジメチルアセトアミド溶液)の
淡黄色ポリアミド−ポリアミド酸ブロツクコポリ
マーが得られる。この溶液は銅箔の積層に直接用
いることができる。 D 銅箔のコーテイング ブロツクコポリマー溶液を均一に銅箔上に塗布
し、70℃〜150℃/20ミリバールで7時間予備乾
燥して溶媒を除去する。積層された銅箔を次に10
時間200℃〜250℃/0.1ミリバールで加熱処理す
るとポリアミド酸ブロツクは環化してポリイミド
ブロツクになる。接着性に優れた、柔軟で透明
で、かつ平滑な積層が銅箔上に得られる。この積
層は優れた電気的特性を示す。 塗布銅箔の塩素化炭化水素中での室温における
安定性
The present invention relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit, characterized in that it uses a flexible substrate consisting of a polyamide-polyimide block copolymer or a copper foil coated with a polyamide-polyimide copolymer. Flexible printed circuits are known to have many industrial advantages over rigid printed circuits. Such printed circuits can be practically fitted into systems in any form as electrical building blocks and therefore require less space in electronic equipment;
Moreover, it is easy to handle because it is resistant to vibration. High demands are naturally placed on flexible substrates laminated with insulating materials and used in the production of printed circuits.
The coating layer must have very good adhesion to the metal foil and the processing steps during printed circuit production must be harmless. That is, the coating layer must have good solder bath stability and be stable to the solvents used in printed circuit board technology. The flexible substrate must also be capable of being bent, rolled, twisted, and folded without tearing the coating layer. It is known to coat metal foil with polyimide film by coating the polyimide film onto copper foil treated with a binder. Laminates with a binder layer produced in this way do not meet the above requirements in all respects. In particular, improvement of electrical characteristics is desired. It is also known from US Pat. No. 3,682,960 to coat metals with polyamic acids and mixtures of polyamic acids modified with amide. The layer of polyimide and polyamideimide obtained on the metal after heating, however, is not sufficiently flexible and easily peels off from the edges of the metal foil when bent. To avoid this drawback, U.S. Patent No.
No. 4148969 proposed the use of a laminate consisting of metal foil laminated with polyparabanic acid,
The polyparabanic acid used therein is produced by hydrolysis of the reaction product of diphenylmethane diisocyanate and hydrogen cyanide. Apart from the complexity of producing the polyparabanic acid used, it is necessary to handle hydrogen cyanide in the first step, which requires special handling. Furthermore, JP-A No. 49-51559 provides a printed wiring board substrate made by directly adhering a specific aromatic polyamide-imide and a metal plate. The peel strength was shown to be 6.5 kg/cm. Here, the copper foil is coated with an organic solvent solution consisting of a polyamide-polyamic acid block copolymer or a polyamide-polyamic acid copolymer, and the metal coating is heated to evaporate the organic solvent to form a polyamide-polyimide block copolymer or a polyamide-polyimide copolymer. In contrast, it has been found that a flexible substrate having a polymer film firmly adhered to a copper foil without an intermediate layer can be used for the production of flexible printed circuits. That is, the present invention provides a method for manufacturing a flexible printed circuit made of copper foil laminated with a polymer without providing an intermediate layer, in which the polymer layer has the formula [-(A)-(E)] o -- () (In the formula, n represents an integer from 1 to 500, and A is a formula or represents a polyamide block having a structural unit represented by This represents a polyimide block having a structural unit represented by: ) A polyamide-polyimide block copolymer having a repeating structural unit represented by
or formula a or a The polyamic acid represented by formula XI A polyamide obtained by reacting a dicarboxylic acid dichloride represented by the formula XII with a diamine represented by the formula - Polyimide copolymer [in the above formula, a and b are independent of each other and represent an integer of 2 to 100, R 2 and
R 4 are independent of each other and are optionally a monocyclic aromatic group optionally substituted with a halogen atom, an alkyl or alkoxy group each having 1 to 4 carbon atoms; Depending on the case, the aromatic nucleus may be substituted by a halogen atom, an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, respectively, via -O-, -CH 2 - or -SO 2 -. Represents a non-fused bicyclic aromatic group, a heterocyclic group, an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms or a dicyclohexylmethane group bonded to each other, and R 1 is an aromatic group or a heterocyclic group or a C -Number of atoms is 2 to 8
represents an alkylene group in which the carbonyl groups are bonded to different carbon atoms and R 3 is 5- or 6-
C of different rings in which a cycloalkyl group, a benzene ring or an aromatic nucleus of a member ring is bonded via a bridging group of -O-, -CO- or -CONH-, and carbonyl groups are adjacent in pairs. - Represents a non-fused bicyclic aromatic group bonded to an atom. ] This is a method for manufacturing a flexible printed circuit, characterized by using a flexible base material comprising: The layer consisting of a polyamide-polyimide block copolymer adhered to the copper foil has the following formula: n represents an integer from 1 to 500, A represents a polyamide block of the formula or, E represents a polyimide block of the formula or, a and b are mutually independent, represent an integer from 2 to 100, and R 2
and R 4 are independent of each other, and in some cases, the number of halogen atoms and C atoms is 1 to 4, respectively.
a monocyclic aromatic group which may be substituted with an alkyl or alkoxy group, optionally substituted with a halogen atom, an alkyl or alkoxy group each having 1 to 4 carbon atoms; Good too,
A non-fused bicyclic aromatic group in which aromatic nuclei are bonded to each other via -O-, -CH2- or -SO2- ,
or a heterocyclic group, R 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group, in which case the carbonyl group is bonded to a different carbon atom, and R 3 is a benzene ring or an aromatic nucleus is -O-, -CO- or Represents a non-fused bicyclic aromatic group that is bonded to each other via a -CONH- bridging group, in which the carbonyl group is bonded to carbon atoms of different adjacent rings in pairs. , a block copolymer is preferred. In particular, these layers are such that A represents a polyamide block of the formula, E represents a polyimide block of the formula, a is an integer from 2 to 50, and b is an integer from 2 to 50, especially from 10 to
It is composed of a polyamide-polyimide block copolymer having a formula representing an integer of 50. In a preferred embodiment, these layers are A
represents a polyamide block of the formula, E represents a polyimide block of the formula, a is an integer of 2 to 50, b is an integer of 10 to 50, and R 1 is 1,3
-phenylene group, R 2 represents 4,4'-diphenyl ether-, diphenylmethane- or 1,3-phenylene group, R 3 represents a benzene ring or benzophenone ring system, and R 4 represents 4,4'-diphenyl ether-, diphenylmethane- or 1,3-phenylene group; enyl ether-, 4,4'-diphenylmethane-, 1,3-
or a polyamide-polyimide block copolymer of the formula representing a 1,4-phenylene group. In a further preferred embodiment, the layer adhered onto the copper foil comprises a polyamic acid of formula a or a.
dicarboxylic acid dichloride of formula 11 and diamine of formula 12 [wherein b represents an integer of 2 to 50, R 1 is (-CH 2 ) 4 -- or 1,3-phenylene group, preferably 1,3-phenylene] represents a group, R 2 is 1,
3-phenylene or 4,4'-diphenyl ether group, R 3 represents a benzene ring or benzophenone ring system, R 4 represents 1,3- or 1,4-phenylene, 4,4'-diphenyl ether or 4,
4′-diphenylmethane group],
A polyamide obtained by subsequently cyclizing the obtained polyamide-polyamic acid copolymer.
Made of polyimide copolymer. The flexible base material used in the present invention is a copper foil having the formula [(--A 1 ) (--E 1 )] o -- () (wherein A 1 has an average molecular weight of 350 to 20,000 and has the formula or represents a polyamide block having a structural unit represented by the formula or This represents a polyimide block having a structural unit represented by: ), or an organic solvent solution of a polyamide-polyamic acid block copolymer having a repeating structural unit represented by formula a or a The polyamic acid represented by formula XI An organic solvent solution of a polyamide- polyamic acid copolymer obtained by reacting a dicarboxylic acid dichloride represented by Represents an atom or an alkyl group having 1 to 4 C atoms, n, a, b, R 1 ,
R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as in the formulas. ] and then heating the coated copper foil at a temperature of 50 to 300°C until at least a non-tacky layer is obtained. The cyclization of a polyamide-polyamic acid block copolymer to a polyamide-polyimide block copolymer or a polyamide-polyamic acid copolymer to a polyamide-polyimide copolymer can each be more or less satisfactorily depending on the lamination method, temperature and heating time employed. It will be done. To obtain optimum properties, the layer material may be heated for several additional hours, if desired.
For example, heat at 300℃. Polyamide-polyamic acid block copolymers used for laminating copper foils are known, for example, according to the method described in DE 2342464, and can be prepared by formula The polyamide represented by the formula a or a polyamic acid dianhydride represented by formula a The polyamide represented by the formula a It is produced by reacting with a polyamic acid represented by (where a, b, R 1 , R 2 , R 3 and
R 4 represents the same meaning as in formula ~, and the terminal anhydride group of formula a is the C--
bonded to an atom). The preparation of polyamides and polyamic acids of the formulas a to a is also described in DE-A-2342464. It further includes a polyamic acid block of formula a or a. Polyamide-polyamic acid copolymers used for coating copper foils are known from DE 23 42 454 A1. Furthermore, the above-mentioned German publications disclose that polyamide-polyamic acid block copolymers or polyamide-polyamic acid copolymers are suitable for coating and fixing various materials such as metals, polymers or cellulosic materials. , the copper foil coated with polyamide-polyimide block polymer or polyamide-polyimide copolymer is extremely flexible, i.e. can be repeatedly bent and folded without forming tears in the polymer film, and has good solder bath stability. There is no suggestion that it exhibits good stability towards the solvents used in chemical and printed circuit board technology. The polyamide-polyamic acid block copolymers and polyamide-polyamic acid copolymers used according to the invention generally have an intrinsic viscosity of from 0.5 to 25 to 0.1 to 2.5, in particular from 0.8 to 1.5. The intrinsic viscosity ηinh, where measurements are made on the molecular weight of the polymer, is calculated by the following formula: ηinh=lnη/ηo/C where Little n=natural logarithm η=solution (appropriate solvent, e.g. N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone,
0.5% by weight of the polymer in concentrated sulfuric acid), ηo = viscosity of the solvent, C = concentration of the polymer solution (g polymer/100 ml of solvent). Viscosity measurements are carried out at 25°C. Polyamide-polyamic acid block copolymers or polyamide-polyamic acid copolymers which are preferably produced in anhydrous organic solvents and with exclusion of moisture are advantageously processed in organic solvent solution. Suitable organic solvents include N,N-dimethylacetamide, N,N-diethylacetamide,
N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylmethoxyacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-acetyl-2-pyrrolidone, N-methyl-ε-caprolactam, hexamethylphosphate triamide (hexametapol), N, N, N′,
N'-tetramethylurea, tetrahydrothiophene dioxide (sulfolane) and dimethyl sulfoxide. It is also possible to use mixtures of solvents. On the other hand, these preferred solvent systems include aromatic, cycloaliphatic or aliphatic hydrocarbons or chlorinated hydrocarbons,
Dilutions can also be made, for example, with benzene, toluene, xylene, cyclohexane, pentane, hexane, petroleum ether, methylene chloride, tetrahydrofuran, cyclohexanone and dioxane. In order to increase the storage stability of a solution of a polyamide-polyamic acid block copolymer or polyamide-polyamic acid copolymer in an organic solvent, a water-absorbing substance such as a molecular sieve may be added to the solution. Preferably, the molecular sieve is added in an amount of about 10% by weight based on the amount of organic solvent solution. Molecular sieves are commercially available, such as those manufactured by Merck. Furthermore, organic coating solutions that are surprisingly handled at higher temperatures or mechanically are treated with flow modifiers (Fliessmittel), such as "Modaflow" (product of Monsanto) "FC430" prior to processing.
It has been found advantageous to add FC170 (product of 3M Company) or "Lodyne S107" (product of Ciba Geigy Company). Flow modifiers (also called Verlaufmittel) are known substances that reduce the surface tension of solutions. Coating the copper foil with an organic polymer solution can be carried out both manually and with a coating device. Vertical coating equipment can also be used. Since the laminated material is rolled up as desired, it is important for mechanical coating to obtain a non-tacky coating layer on the copper foil. To obtain optimal properties, these laminated materials are heated at even higher temperatures, for example 180° C. for 4 hours and 210° C. for 2 hours. This results in virtually complete cyclization of the polyamide-polyamic acid block copolymer or polyamide-polyamic acid block copolymer to the corresponding polyamide-polyimide block copolymer or polyamide-polyimide copolymer. Copper foil coated in this manner can be directly used as a printed circuit by exposing a film coated with a photographic lacquer to the metal surface through a photographic mask and developing the exposed copper foil in a well-known manner. Can be used for manufacturing. This results in a flexible printed circuit. Example 1 A. Preparation of a polyamide block with terminal amino groups. nylene diamine
Completely dissolve 7.786 g (0.072 mol) in 100 g of anhydrous N,N-dimethylacetamide with stirring and cool to -15°C. Add isophthalic acid dichloride in solid form little by little over 30 minutes at -15°C to -10°C. The reaction mixture is then allowed to react for 1 hour at 0°C. Next, add 12.952 g of trimethylamine to 30
Add dropwise at 0°-5°C for 1 hour and stir the solution for an additional hour at 5-10°C. The precipitated triethylamine hydrochloride was suction filtered through a glass filter, and the filter cake was mixed with 40 g of anhydrous N,N-dimethylacetamide.
Wash with B. Production of a polyamic acid block having an anhydride group at the terminal In the apparatus described in A, 34.9 g (0.16 mol) of pyromellitic dianhydride was mixed with anhydrous N,
Suspend in 100 g of N-dimethylacetamide with stirring. Cool the suspension to −15° C. with stirring. Next, 30.436 g (0.152 mol) of 4,4-diaminodiphenyl ether was completely dissolved in 140 g of N,N-dimethylacetamide while stirring.
When this solution is added dropwise to the suspension at -15°C to -10°C over 1 hour, the pyromellitic dianhydride gradually dissolves. The reaction mixture becomes viscous and clear. The reaction is then continued for an additional hour at 0°C to 5°C. C Production of polyamide-polyimide block copolymer A solution of the polyamide obtained in A and having an amino group at the end is added to the viscous solution of the polyamic acid having an anhydride group at the end obtained in B with vigorous stirring under a nitrogen atmosphere. is added dropwise within 5 minutes at 0°C to 5°C. 100g of anhydrous N,N-dimethylacetamide
Wash the addition funnel with water and add this solution to the reaction mixture. Stir to mix evenly and heat at 10°C to 15°C for 1 hour.
React at ℃. Transparent and viscous, with an intrinsic viscosity of 1.08 dl/g (C=
A pale yellow polyamide-polyamic acid block copolymer of 0.5% N,N-dimethylacetamide solution is obtained. This solution can be used directly for copper foil lamination. D. Coating of copper foil The block copolymer solution is uniformly applied onto the copper foil and the solvent is removed by pre-drying at 70° C. to 150° C./20 mbar for 7 hours. Laminated copper foil then 10
Upon heat treatment for a time of 200 DEG C. to 250 DEG C./0.1 mbar, the polyamic acid block cyclizes into a polyimide block. A flexible, transparent, and smooth laminate with excellent adhesion is obtained on copper foil. This stack exhibits excellent electrical properties. Stability of coated copper foil in chlorinated hydrocarbons at room temperature

【表】【table】

【表】 腐食なし;フイルム:柔軟性.
印刷回路を製造するためにラミネートのCu−
面に感光塗料をコーテイングし、写真マスクを介
して露光して、塩素化溶媒中で現像し、FeCl3
でのエツチングさせた。接着性に優れた導体通路
を有する、柔軟性印刷回路が得られた。 実施例 2 実施例1と同様にして、m−フエニレンジアミ
ン15.572g(0.144mol)、イソフタル酸ジクロリ
ド25.988g(0.128mol)、トリエチルアミン
25.904g(0.256mol)及びN−メチルピロリドン
195gを用いてトリアミドブロツクを、又ピロメ
リツト酸無水物69.800g(0.32mol)、4,4′−ジ
アミノジフエニルエーテル60.872g(0.304mol)
及びN−メチルピロリドン615gからポリアミド
酸ブロツクを製造する。二つの溶液を実施例1と
同様に混合して反応させる。得られたポリアミド
−ポリイミド酸ブロツクコポリマーの溶液は固有
粘度が0.98dl/g(N−メチルピロリドンの0.5
%溶液で測定)である。このコポリマー溶液をラ
ツケル(Rachel)(スリツト幅500μ)を用いて、
TW−処理した35μ厚の銅箔(ルクセンブルグの
Yater社の製品)上に一様に塗布した。塗装した
箔を空気循環炉中に水平に置いて加熱する。この
時温度を徐々に70〜170℃に上昇させ、次にこの
温度に2時間保つ。この処理で溶剤は蒸発し、銅
箔上に引離せないポリアミド−ポリイミドフイル
ムが生成する。この層材料は全体の厚みが60〜
63μである。しかし、このものは優れた熱安定性
を有する。即ち260℃の熱ハンダ浴中に5分間何
らの損傷を受けることなく浸すことができる。こ
のことは柔軟性のある印刷回路がハンダ付プロセ
スで損なわれないものでなければならないことか
ら重要である。 更に積層材料は特に印刷回路の技術で用いられ
る溶媒に対して顕著な溶剤安定性を有する。下記
の表2は、ブロツクコポリマーと銅とから形成さ
れた積層材料を溶媒中に25℃で15時間浸したとき
の重量増加率を示すものである。
[Table] No corrosion; Film: Flexible.
Laminating Cu− to produce printed circuits
The surface was coated with photosensitive paint, exposed through a photographic mask, developed in a chlorinated solvent, and etched in FeCl 3 . A flexible printed circuit with conductor paths with excellent adhesion was obtained. Example 2 In the same manner as in Example 1, m-phenylenediamine 15.572 g (0.144 mol), isophthalic acid dichloride 25.988 g (0.128 mol), triethylamine
25.904g (0.256mol) and N-methylpyrrolidone
195 g of triamide block, pyromellitic anhydride 69.800 g (0.32 mol), 4,4'-diaminodiphenyl ether 60.872 g (0.304 mol)
and 615 g of N-methylpyrrolidone to produce a polyamic acid block. The two solutions are mixed and reacted in the same manner as in Example 1. The resulting polyamide-polyimide acid block copolymer solution had an intrinsic viscosity of 0.98 dl/g (0.5 dl/g of N-methylpyrrolidone).
% solution). This copolymer solution was mixed using a Rachel (slit width 500μ).
TW - treated 35μ thick copper foil (Luxembourg)
Yater's product). The painted foil is placed horizontally in a circulating air oven and heated. At this time the temperature is gradually increased to 70-170°C and then kept at this temperature for 2 hours. This process evaporates the solvent and forms an inseparable polyamide-polyimide film on the copper foil. This layer material has a total thickness of 60~
It is 63μ. However, it has excellent thermal stability. That is, it can be immersed in a hot solder bath at 260°C for 5 minutes without any damage. This is important because the flexible printed circuit must not be damaged by the soldering process. Furthermore, the laminate material has a remarkable solvent stability, especially towards the solvents used in printed circuit technology. Table 2 below shows the percentage weight gain of a laminate made of block copolymer and copper when immersed in a solvent for 15 hours at 25°C.

【表】 実施例1の表1の溶媒中で、積層材料を60日間
貯蔵することによつても損傷は認められなかつ
た。 FeCl3中でのエツチング試験:時間15分間;腐
食なし;フイルム:柔軟性。 実施例 3 実施例2と同様にして、溶媒としてN−メチル
ピロリドンの代りにN,N−ジメチルアセトアミ
ド195gを用いてポリアミドブロツクを、そして
ピロメリツト酸無水物69.800g(0.32mol)、4,
4′−ジアミノジフエニルメタン61.600g
(0.31mol)及びN,N−ジメチルアセトアミド
615gからポリアミド酸ブロツクを製造する。二
つの溶液を実施例1のように混合して反応させ
る。0.5%溶液で測定したブロツクコポリマーの
固有粘度は0.8dl/gである。 このブロツクコポリマー溶液の一部に流動調整
剤の“Modaflow”(モンサント社の製品)を固
型分含量に対して0.2重量部加え、残りの溶液に
はこの製品を添加しない。 両方の溶液を実施例2で述べたようにラツケル
により銅箔の粗面に一様に塗布する。塗布した箔
を炉の中に水平において130℃に加熱する。溶媒
は蒸発し、粘着性でないコーテイングが生成す
る。総計で積層材料は130℃で1時間、170℃で2
時間加熱した。 “Modaflow”を含有する溶液からは、平滑で
全く均一な、銅に良好に固着されたポリアミド−
ポリイミド層が得られた。これに対して、
“Modaflow”を含有しない溶液からは、この製
造条件での不均一なポリアミド−ポリイミド層が
得られた。 満足すべき外観を有する柔軟性基材の総厚は
62μである。銅箔とブロツクコポリマーフイルム
は互いに非常に堅固に接着される;折り曲げや圧
搾を繰返しても損傷は受けない。ハンダ浴安定性
(260℃)は5分間以上である。 高い温度においても、すぐれた電気特性を持つ
ので(表3参照)、この積層材料は温度安定性の
大きい柔軟性印刷回路の製造に適している。
[Table] No damage was observed even when the laminated material was stored for 60 days in the solvents shown in Table 1 of Example 1. Etching test in FeCl 3 : time 15 minutes; no corrosion; film: flexibility. Example 3 In the same manner as in Example 2, a polyamide block was prepared using 195 g of N,N-dimethylacetamide instead of N-methylpyrrolidone as the solvent, and 69.800 g (0.32 mol) of pyromellitic anhydride, 4.
4′-diaminodiphenylmethane 61.600g
(0.31mol) and N,N-dimethylacetamide
Manufacture polyamic acid block from 615g. The two solutions are mixed and reacted as in Example 1. The intrinsic viscosity of the block copolymer, measured in a 0.5% solution, is 0.8 dl/g. 0.2 parts by weight of the flow modifier "Modaflow" (a product of Monsanto) based on the solids content is added to a portion of the block copolymer solution, and this product is not added to the remaining solution. Both solutions are applied uniformly to the rough surface of the copper foil using a lacquer as described in Example 2. The coated foil is placed horizontally in a furnace and heated to 130°C. The solvent evaporates and a non-tacky coating forms. In total, the laminated material was heated to 130°C for 1 hour and 170°C for 2 hours.
heated for an hour. The solution containing “Modaflow” produces a smooth, perfectly uniform polyamide with good adhesion to the copper.
A polyimide layer was obtained. On the contrary,
Solutions without "Modaflow" resulted in non-uniform polyamide-polyimide layers at this manufacturing condition. The total thickness of the flexible substrate with a satisfactory appearance is
It is 62μ. Copper foil and block copolymer film adhere very tightly to each other; repeated bending and squeezing will not cause damage. Solder bath stability (260°C) is 5 minutes or more. Due to its excellent electrical properties even at high temperatures (see Table 3), this laminate material is suitable for the production of flexible printed circuits with high temperature stability.

【表】 すぐれた誘電特性は誘電損率の周波数依存性が
非常に少ないことから明らかである(表4参照)。
[Table] The excellent dielectric properties are evident from the extremely low frequency dependence of the dielectric loss factor (see Table 4).

【表】 積層材料は、特に印刷回路板技術で用いられる
溶媒に対して非常に良好な溶媒安定性を有する。
表5は積層材料を溶媒中に25℃で16時間浸したと
きの重量増加を示す。
Table: The laminate material has very good solvent stability, especially towards solvents used in printed circuit board technology.
Table 5 shows the weight gain when the laminate material was soaked in solvent for 16 hours at 25°C.

【表】 実施例1に記載した表1の溶媒中で60日間浸し
たところ損傷は受けなかつた。 FeCl3中でのエツチング試験:時間15分間;腐
食なし;フイルム:柔軟性。 実施例 4 実施例1と同様に、m−フエニレンジアミン
187.0g(1.73mol)、イソフタル酸ジクロリド
312.0g(1.5367mol)、トリエチルアミン310.9g
(3.0724mol)をN,N−ジメチルアセトアミド
2820g中で用いてポリアミドブロツクを製造し、
ピロメリツト酸ジ無水物837.6g(3.84mol)、4,
4′−ジアミノジフエニルエーテル730.5g
(3.648mol)をN,N−ジメチルアセトアミド中
で用いてポリアミド酸ブロツクを製造する。両方
の溶液を実施例1と同様にして互いに混合し反応
させる。得られたポリアミド−ポリアミド酸ブロ
ツクコポリマーの溶液は0.5%溶液で測定した固
有粘度が1.1756dl/gである。この溶液に
“Modaflow”を0.2重量%(ポリアミド−ポリア
ミド酸ブロツクコポリマーの固型分含量に対し
て)加える。積層材料は以下のようにして製造し
た:35μ厚の銅箔をロールから一定速度で引離
し、炉の中へ水平に通して、炉から出た後再び巻
上げる。炉内に入れる前に塗布装置によつてポリ
アミド−ポリアミド酸ブロツクコポリマーの溶液
を所望の厚さ(例えば400μ)にコーテイングす
る。炉内で溶媒が蒸発し、銅に粘着性でない固着
フイルムが得られる。積層体は炉を通過後再び問
題なく巻上げられる。銅箔テープの速度及び炉の
温度は、非粘着性の積層材料が炉から出てくるよ
うに選定される。最適な特性を得るためには積層
材料を更に、例えば180℃で4時間及び210℃で2
時間加熱する。 このようにして得られた積層材料は損傷するこ
となく強く圧搾することができる;この材料は優
れた電気的特性を有する。表5は誘電損率tgδと
温度の関係を、市販の積層材料“Contiflex”
GT7510”(この製品はポリイミドフイルムを銅
箔に貼付して製造される。)と比較して示したも
のである。
[Table] No damage was observed when immersed for 60 days in the solvents listed in Table 1 described in Example 1. Etching test in FeCl 3 : time 15 minutes; no corrosion; film: flexibility. Example 4 Similar to Example 1, m-phenylenediamine
187.0g (1.73mol), isophthalic acid dichloride
312.0g (1.5367mol), triethylamine 310.9g
(3.0724mol) in N,N-dimethylacetamide
Used in 2820g to produce polyamide blocks,
Pyromellitic dianhydride 837.6g (3.84mol), 4,
4′-diaminodiphenyl ether 730.5g
(3.648 mol) in N,N-dimethylacetamide to prepare a polyamic acid block. Both solutions are mixed and reacted with each other analogously to Example 1. The resulting polyamide-polyamic acid block copolymer solution has an intrinsic viscosity of 1.1756 dl/g, measured as a 0.5% solution. 0.2% by weight (based on the solids content of the polyamide-polyamic acid block copolymer) of "Modaflow" is added to this solution. The laminate material was produced as follows: a 35μ thick copper foil was pulled off the roll at a constant speed, passed horizontally into the furnace and wound up again after exiting the furnace. Before entering the furnace, a solution of polyamide-polyamic acid block copolymer is coated to the desired thickness (for example, 400 microns) using a coating device. In the oven the solvent evaporates and a non-tacky fixed film is obtained on the copper. After passing through the furnace, the laminate can be rolled up again without problems. The speed of the copper foil tape and the temperature of the oven are selected such that non-stick laminate material emerges from the oven. To obtain optimal properties, the laminated material may be further heated, for example at 180°C for 4 hours and at 210°C for 2 hours.
Heat for an hour. The laminated material thus obtained can be strongly squeezed without damage; this material has excellent electrical properties. Table 5 shows the relationship between dielectric loss factor tgδ and temperature using the commercially available laminated material “Contiflex”.
This is a comparison with ``GT7510'' (this product is manufactured by pasting polyimide film on copper foil).

【表】 表6から、市販製品“Contiflex”の誘電損率
tgδは温度依存性が大きすぎて、好ましくないこ
とが明らかである。 実施例1の表1に記載した溶媒中で室温で60日
間浸した後、本発明の積層材料は損傷がみられな
い。ハンダ浴安定性は260℃で5分間以上である。 実施例 5 実施例1と同様にして、4,4′−ジアミノジフ
エニルメタン17.844g(0.09mol)、イソフタル酸
ジクロリド16.242g(0.08mol)及びトリエチル
アミン16.19g(0.16mol)からジメチルアセトア
ミド180g中でポリアミドブロツクを調製し、ま
たピロメリツト酸ジ無水物58.892g(0.27mol)
及び4,4′−ジアミノジフエニルメタン51.550g
(0.26mol)からジメチルアセトアミド600g中で
ポリアミド酸ブロツクを調製する。 両液を実施例1のように互いに混合し反応させ
る。得られたポリアミド−ポリアミド酸ブロツク
コポリマーの溶液は固有粘度が1.246dl/g(ジ
メチルアセトアミドの0.5%溶液;20℃)である。
この溶液740gに“Modaflow”0.22gを加える。
この混合液をラツケル(スリツト幅500μm)を用
いて35μm厚の銅箔の粗面に塗布し、空気循環式
乾燥炉に水平において130℃で1時間、180℃で2
時間、210℃で3時間そして240℃で3時間加熱す
る。銅に固着した均一なポリアミド−ポリイミド
フイルムが生成する。その誘電試験データを表7
に示す。 実施例 6 ピロメリツト酸二無水物56.71g(0.26mol)を
N−メチルピロリドン(NMP)500g中に0℃
で懸濁させる;4,4′−ジアミノジフエニルメタ
ン53.53g(0.27mol)をNMP400gに溶かした溶
液をかきまぜながら0〜5℃で懸濁液に滴下す
る。生成した透明溶液を0〜5℃で1時間かきま
ぜた後、4,4′−ジアミノジフエニルメタン
15.86g(0.08mol)をNMP300gに溶かした溶液
を加える。次にイソフタル酸ジクロリド18.27g
(0.09mol)を0〜5℃で少しずつ加えて、30分
間反応させ、次いでプロピレンオキシド10.45g
(0.18mol)を滴下し、更に約60分間反応させた
後、“Modaflow”0.3gを透明溶液に加える。こ
の溶液は固有粘度が1.72dl/gである(0.5%
NMP溶液)。 実施例5に記載したように銅箔のコーテイング
にこの溶液を使用する。最後に更に3時間240℃
で加熱する。積層銅箔の誘電試験の値を表7に示
す。コーテイングは表面に欠陥のないものであ
り、塗膜は剥離することができないものであつ
た。 実施例 7 実施例6のようにして、NMP500g中に懸濁
したピロメリツト酸二無水物56.71g(0.26mol)
及びNMP400gに溶かした4,4′−ジアミノジフ
エニルメタン53.53g(0.27mol)からポリアミド
酸ブロツクの溶液を調製し、この溶液に
NMP200gにm−フエニレンジアミン8.65gを溶
かした溶液、NMP100gにイソフタル酸ジクロ
リド18.25g(0.09mol)を溶かした溶液、上記溶
液にプロピレンオキシド10.45g(0.18mol)を添
加し、最後に“Modaflow”0.3gを加える。溶
液の固有粘度は1.48dl/g(0.5%NMP溶液)で
ある。 実施例5に記載したように、この銅箔の積層を
使用して、最後に更に3時間で240℃加熱する。
誘電試験のデータを表7に記す。コーテイングは
表面に欠陥のないものである。 実施例 8 実施例6のようにしてNMP500gに懸濁した
ピロメリツト酸ジ無水物56.71g(0.26mol)と
NMP400gに溶かした4,4′−ジアミノジフエニ
ルメタン53.53g(0.27mol)からポリアミド酸ブ
ロツクの溶液を調製し、この溶液にNMP200g
に溶かしたm−フエニレンジアミン4.325g
(0.04mol)と4,4′−ジアミノジフエニルメタン
7.93g(0.04mol)、NMP100gに溶かしたイソフ
タル酸ジクロリド18.25g(0.09mol)、プロピレ
ンオキシド10.45g及び最後に“Modaflow”0.3
gを加える。溶液の固有粘度は1.24dl/g(0.5
%NMP溶液)である。 実施例5に記載したようにして、この溶液を銅
箔のコーテイングに使用し、最後に更に3時間
240℃で加熱する。誘電試験のデータを表7に示
す;コーテイングは表面に欠陥が認められない。 実施例 9 実施例1と同様にしてm−フエニレンジアミン
28.08g(0.26mol)、イソフタル酸ジクロリド
50.75g(0.25mol)及びトリエチルアミン25.25
g(0.25mol)からジメチルアセトアミド350g
中でポリアミドブロツクを調製し、またピロメリ
ツト酸二無水物34.88g(0.16mol)と4,4′−ジ
アミノジフエニルメタン29.70g(0.15mol)から
ジメチルアセトアミド300g中でポリアミド酸ブ
ロツクを調製する。二つの透明な溶液を混合して
1時間反応させる。溶液の固有粘度は0.90dl/g
(0.5%ジメチルアセトアミド溶液、20℃)であ
る。 この溶液に“Modaflow”を0.2重量%添加し、
次いで実施例5と同様にしてこの溶液の銅箔のコ
ーテイングに使用する。溶媒の蒸発後、130℃で
1時間、180℃で4時間、210℃で3時間加熱して
固着したポリアミド−ポリイミドフイルムを得
る。その誘電特性を表7に示す。コーテイングは
均一であり、いわゆるクレーターやはだはみられ
ない。 実施例 10 実施例7と同一の方法で固有粘度が1.65dl/g
(0.5%NMP溶液,20℃)のポリアミド−ポリア
ミド酸ブロツクコポリマーの溶液を製造する。 この溶液150gにそれぞれ市販の流動調整剤
“FC−170C”および“FC−430”(3M社の製品)、
または“Lodyne S 107”(チバガイギー社の製
品)を0.1重量%加える。この溶液の各々を銅箔
のコーテイングに使用する。約120℃で溶媒を蒸
発させた後、積層フイルムを240℃に加熱し、こ
の温度に2時間保つ。これによつて銅箔は均一な
ポリアミド−ポリイミドの層でコーテイングされ
る。 これらの流動調整剤を添加しないと、コーテイ
ングが不均一となる(クレーターやオレンジはだ
が形成する)危険がある。
[Table] From Table 6, the dielectric loss factor of the commercial product “Contiflex”
It is clear that tgδ is too temperature dependent to be preferred. After soaking for 60 days at room temperature in the solvents listed in Table 1 of Example 1, the laminate material of the invention shows no damage. Solder bath stability is at least 5 minutes at 260°C. Example 5 Analogously to Example 1, 17.844 g (0.09 mol) of 4,4'-diaminodiphenylmethane, 16.242 g (0.08 mol) of isophthalic acid dichloride and 16.19 g (0.16 mol) of triethylamine were prepared in 180 g of dimethylacetamide. A polyamide block was prepared and 58.892 g (0.27 mol) of pyromellitic dianhydride was prepared.
and 51.550 g of 4,4'-diaminodiphenylmethane
(0.26 mol) in 600 g of dimethylacetamide. Both solutions are mixed together and reacted as in Example 1. The resulting polyamide-polyamic acid block copolymer solution has an intrinsic viscosity of 1.246 dl/g (0.5% solution in dimethylacetamide; 20 DEG C.).
Add 0.22 g of "Modaflow" to 740 g of this solution.
This mixed solution was applied to the rough surface of a 35 μm thick copper foil using a lacquer (slit width 500 μm), and placed horizontally in an air circulation drying oven at 130°C for 1 hour and at 180°C for 2 hours.
Heat at 210°C for 3 hours and at 240°C for 3 hours. A uniform polyamide-polyimide film adhered to the copper is produced. Table 7 shows the dielectric test data.
Shown below. Example 6 56.71 g (0.26 mol) of pyromellitic dianhydride was added to 500 g of N-methylpyrrolidone (NMP) at 0°C.
A solution of 53.53 g (0.27 mol) of 4,4'-diaminodiphenylmethane dissolved in 400 g of NMP is added dropwise to the suspension at 0-5° C. with stirring. After stirring the resulting clear solution at 0-5°C for 1 hour, 4,4'-diaminodiphenylmethane
Add a solution of 15.86g (0.08mol) dissolved in 300g of NMP. Next, 18.27g of isophthalic acid dichloride
(0.09 mol) was added little by little at 0-5℃ and reacted for 30 minutes, then 10.45 g of propylene oxide
(0.18 mol) dropwise and after further reaction for about 60 minutes, 0.3 g of "Modaflow" is added to the clear solution. This solution has an intrinsic viscosity of 1.72 dl/g (0.5%
NMP solution). This solution is used for coating copper foil as described in Example 5. Finally, 240℃ for another 3 hours
Heat it up. Table 7 shows the dielectric test values of the laminated copper foil. The coating was free of surface defects and could not be peeled off. Example 7 56.71 g (0.26 mol) of pyromellitic dianhydride suspended in 500 g of NMP as in Example 6
A solution of polyamic acid block was prepared from 53.53 g (0.27 mol) of 4,4'-diaminodiphenylmethane dissolved in 400 g of NMP, and added to this solution.
A solution of 8.65 g of m-phenylenediamine dissolved in 200 g of NMP, a solution of 18.25 g (0.09 mol) of isophthalic acid dichloride dissolved in 100 g of NMP, 10.45 g (0.18 mol) of propylene oxide was added to the above solution, and finally “Modaflow” Add 0.3g. The intrinsic viscosity of the solution is 1.48 dl/g (0.5% NMP solution). As described in Example 5, this copper foil laminate is used and finally heated to 240° C. for an additional 3 hours.
The dielectric test data is listed in Table 7. The coating is free of surface defects. Example 8 56.71 g (0.26 mol) of pyromellitic dianhydride suspended in 500 g of NMP as in Example 6
A solution of polyamic acid block was prepared from 53.53 g (0.27 mol) of 4,4'-diaminodiphenylmethane dissolved in 400 g of NMP, and 200 g of NMP was added to this solution.
4.325 g of m-phenylenediamine dissolved in
(0.04mol) and 4,4'-diaminodiphenylmethane
7.93 g (0.04 mol), 18.25 g (0.09 mol) of isophthalic acid dichloride dissolved in 100 g of NMP, 10.45 g of propylene oxide and finally 0.3 “Modaflow”
Add g. The intrinsic viscosity of the solution is 1.24 dl/g (0.5
%NMP solution). This solution was used for coating copper foil as described in Example 5, and finally for an additional 3 hours.
Heat at 240℃. The dielectric test data is shown in Table 7; the coating shows no surface defects. Example 9 m-phenylenediamine was prepared in the same manner as in Example 1.
28.08g (0.26mol), isophthalic acid dichloride
50.75g (0.25mol) and triethylamine 25.25
g (0.25 mol) to 350 g of dimethylacetamide
A polyamide block is prepared in 300 g of dimethylacetamide from 34.88 g (0.16 mol) of pyromellitic dianhydride and 29.70 g (0.15 mol) of 4,4'-diaminodiphenylmethane. Mix the two clear solutions and allow to react for 1 hour. The intrinsic viscosity of the solution is 0.90dl/g
(0.5% dimethylacetamide solution, 20°C). Add 0.2% by weight of “Modaflow” to this solution,
This solution is then used to coat copper foil in the same manner as in Example 5. After evaporation of the solvent, the mixture is heated at 130°C for 1 hour, 180°C for 4 hours, and 210°C for 3 hours to obtain a fixed polyamide-polyimide film. Its dielectric properties are shown in Table 7. The coating is uniform, with no visible craters or patches. Example 10 Same method as Example 7 with intrinsic viscosity of 1.65 dl/g
A solution of polyamide-polyamic acid block copolymer (0.5% NMP solution, 20°C) is prepared. Add 150 g of this solution to commercially available fluidity regulators “FC-170C” and “FC-430” (products of 3M Company), respectively.
Or add 0.1% by weight of “Lodyne S 107” (product of Ciba Geigy). Each of these solutions is used for coating copper foil. After evaporating the solvent at about 120°C, the laminated film is heated to 240°C and kept at this temperature for 2 hours. The copper foil is thereby coated with a uniform polyamide-polyimide layer. If these flow modifiers are not added, there is a risk that the coating will be non-uniform (craters and orange flakes form).

【表】【table】

【表】 表7は本発明による柔軟性ラミネートの誘電特
性が表6に掲げた市販製品に比べて測定温度依存
性がなく好ましいことを示している。 実施例 11 銅箔上の塗膜の製造:(パート1) NMP4000g中にピロメリツト酸二無水物の
850.65g(3.90モル)を窒素雰囲気下に0〜5℃
で懸濁させた。NMP3000g中の4,4′−ジアミ
ノジフエニルメタン802.95g(4.05mol)のA溶
液を撹拌下に0〜5℃で該懸濁液に滴下した。生
成した透明溶液を1時間0〜5℃でかきまぜたの
ち、m−フエニレンジアミンの129.75g
(1.20mol)を1500gのNMPに溶解した溶液を5
分以内で添加した。次にイソフタル酸ジクロリド
の274.5g(1.35mol)を1500gのNMPに溶解し
た溶液を0〜5℃で少しづつ添加し、反応を撹拌
下に0〜15℃で60分間継続し、次いでプロピレン
オキシドの156.75g(2.69モル)を滴下し、更に
約60分間反応させた後、“Modaflow”4.0gを
200gのNMPに溶解した液を透明溶液に加える。 この溶液もドクターブレード(ギヤツプ幅
500μm)を利用して35μmの厚みの銅箔上に塗装
し、銅箔を水平位置として空気循環乾燥室で240
℃、1時間半乾燥した。溶剤に対する銅箔の塗装
安定性を調べ、これらの結果を次表に示した。 比較用塗膜の製造:(パート2) (米国特許第3682960号実施例1の記載方法に
よる銅箔上の塗膜の製造) “AMOCO”なる商標名で市販されているポ
リアミド−ポリイミド(単量体組成はトリメリツ
トオ酸無水物とメチレンジアニリン)をジメチル
アセトアミド中に15重量%溶解した。この溶液の
粘度は23℃で50cpであつた。 B溶液 ポリアミド酸溶液をピロメリツト酸二無水物と
4,4′−ジアミノフエニルエーテルの等モル混合
物からジメチルアセトアミド中で調製した。 重合は重合体の100ml中0.5g濃度、ジメチルア
セトアミド中25℃における固有粘度が1.64となる
まで継続した。展性を向上させるために、シリコ
ン液(ユニオンカーバイトL−520の商標名で市
販されている)からなる流動調節剤の0.25%がこ
の溶液に添加された。この溶液の最終固形分濃度
は15%とした。 銅箔上の塗膜を製造するために溶液Aと溶液B
の2つの異なる混合物を溶液Aの70部と溶液Bの
30部または溶液A20部と溶液Bの80部を混合する
ことによつてそれぞれ調整した。 該混合物のそれぞれを銅箔上に前記と同様に施
し、塗膜を評価し、表8に結果を示した。 表8の結果は、塗装した銅箔を下記溶剤中に
16.5時間貯蔵した後の重量増加を%で示したもの
である。
Table 7 shows that the dielectric properties of the flexible laminate according to the invention are favorable compared to the commercial products listed in Table 6, as they are independent of the measured temperature. Example 11 Production of coating film on copper foil: (Part 1) Pyromellitic dianhydride in 4000 g of NMP
850.65g (3.90mol) under nitrogen atmosphere at 0-5℃
It was suspended with A solution of 802.95 g (4.05 mol) of 4,4'-diaminodiphenylmethane in 3000 g of NMP was added dropwise to the suspension at 0-5° C. with stirring. After stirring the resulting clear solution for 1 hour at 0-5°C, 129.75 g of m-phenylenediamine
(1.20mol) dissolved in 1500g of NMP
Added within minutes. A solution of 274.5 g (1.35 mol) of isophthalic acid dichloride in 1500 g of NMP is then added in portions at 0-5 °C, and the reaction is continued for 60 min at 0-15 °C under stirring, followed by addition of propylene oxide. After dropping 156.75g (2.69mol) and reacting for about 60 minutes, 4.0g of “Modaflow” was added.
Add 200 g of NMP dissolved in the clear solution. This solution also has a doctor blade (gap width)
500 μm) onto a 35 μm thick copper foil, and dried at 240 μm in an air circulation drying room with the copper foil in a horizontal position.
It was dried at ℃ for 1.5 hours. The coating stability of copper foil against solvents was investigated and the results are shown in the table below. Preparation of comparative coatings: (Part 2) (Preparation of coatings on copper foil according to the method described in Example 1 of U.S. Pat. No. 3,682,960) Polyamide-polyimide (monomeric Body composition was obtained by dissolving 15% by weight of trimellisthoic anhydride and methylene dianiline in dimethylacetamide. The viscosity of this solution was 50 cp at 23°C. Solution B A polyamic acid solution was prepared in dimethylacetamide from an equimolar mixture of pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminophenyl ether. Polymerization was continued until the polymer had a concentration of 0.5 g in 100 ml and an intrinsic viscosity of 1.64 at 25° C. in dimethylacetamide. To improve malleability, 0.25% of a flow control agent consisting of silicone liquid (sold under the trade name Union Carbide L-520) was added to this solution. The final solids concentration of this solution was 15%. Solution A and Solution B to produce a coating on copper foil
Two different mixtures of 70 parts of solution A and solution B
30 parts or by mixing 20 parts of solution A and 80 parts of solution B, respectively. Each of the mixtures was applied onto copper foil in the same manner as above, and the coating films were evaluated, and the results are shown in Table 8. The results in Table 8 show that the painted copper foil was placed in the following solvent.
Weight gain in % after storage for 16.5 hours.

【表】 表8の結果から、本発明の方法によつて製造し
た塗装銅箔は比較試験におけるものに対して優れ
た溶剤安定性を有することが明らかである。 実施例 12 実施例11で得られた重合体溶液をドクターブレ
ード(ギヤツプ幅500μm)を利用して35μmの厚
みの銅箔上に塗装しものについての接着強度を以
下のように調べた。 最初に、銅箔の端部が遊離するように銅箔上に
塗膜を特別に調製し、塗膜フイルムの引きはがし
強度を調べたところ、塗膜フイルムは銅箔から剥
離されることなく引裂けてしまつた。それ故、こ
の場合の銅箔に対する塗膜の接着強度は塗膜フイ
ルムの抗張力よりも大きいと言うことができる。 そこで塗膜フイルムの抗張力を調べたところ試
験片の抗張力は605〜749Kg/cm2であり、この時の
引張りの力は260〜306Kg/cmであつた。したがつ
て、前記した特開昭49−51559号発明に開示され
ている剥離角180゜での剥離強度6.5Kg/cmとは、
異なる測定方法による結果に基づくものであるこ
とから、直接対比することは困難であるけれど
も、少なくとも40倍近い接着強度を有するものの
ように測定された。
Table 8 It is clear from the results in Table 8 that the coated copper foils produced by the method of the invention have superior solvent stability compared to those in the comparative tests. Example 12 The polymer solution obtained in Example 11 was coated onto a 35 μm thick copper foil using a doctor blade (gap width 500 μm) and the adhesive strength was examined as follows. First, a coating film was specially prepared on copper foil so that the edges of the copper foil were released, and the peel strength of the coating film was examined. It was torn. Therefore, it can be said that the adhesive strength of the coating film to the copper foil in this case is greater than the tensile strength of the coating film. When the tensile strength of the coating film was examined, the tensile strength of the test piece was 605 to 749 kg/cm 2 and the tensile force at this time was 260 to 306 kg/cm. Therefore, the peel strength of 6.5 Kg/cm at a peel angle of 180° disclosed in the invention of JP-A-49-51559 mentioned above is,
Although it is difficult to directly compare the results because the results were based on different measurement methods, it was determined that the adhesive strength was at least 40 times as strong.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 中間層を設けずにポリマーを積層した銅箔か
らなる柔軟性のある印刷回路の製造方法におい
て、ポリマー層が式 [―(A)―(E)]o―― () (式中、nは1〜500の整数を表わし、Aは式
または で表わされる構成単位を有するポリアミドブロツ
クを表わし、Eはまたは で表わされる構成単位を有するポリイミドブロツ
クを表わす。)で示される繰返し構成単位を有す
るポリアミド−ポリイミドブロツクコポリマー、
又は式a若しくはa で示されるポリアミド酸を式XI で示されるジカルボン酸ジクロリドおよび式XII H2N−R2−NH2 (XII) で示されるジアミンと反応させ、得られたポリア
ミド−ポリアミド酸コポリマーを次に環化するこ
とによつて得られるポリアミド−ポリイミドコポ
リマー[上記の式中、a及びbは互いに独立した
ものであつて、2〜100の整数を表わし、R2及び
R4は互いに独立したものであつて、場合によつ
てはハロゲン原子、C−原子数が各々1〜4のア
ルキル又はアルコキシ基によつて置換されていて
もよい単環性芳香族基、場合によつてはハロゲン
原子、C−原子数が各々1〜4のアルキル又はア
ルコキシ基によつて置換されていてもよい、芳香
核が−O−,−CH2−又は−SO2−を介して互い
に結合している非縮合系の二環性芳香族基、ヘテ
ロ環基、C−原子数が2〜12のアルキレン基又は
ジシクロヘキシルメタン基を表わし、R1は芳香
族基若しくはヘテロ環基又はC−原子数が2〜8
のアルキレン基を表わし、このときカルボニル基
は異なる炭素原子に結合し、R3は5−又は6−
員環のシクロアルキル基、ベンゼン環又は芳香核
が−O−,−CO−又は−CONH−の架橋基を介
して互いに結合し、かつカルボニル基が対を成し
て隣接している異なる環のC−原子に結合した非
縮合系の二環性芳香族基を表わす。]からなる柔
軟性基材を用いることを特徴とする柔軟性印刷回
路の製造方法。 2 nが1〜500の整数を表わし、Aが式又は
のポリアミドブロツクを表わし、Eが式又は
のポリイミドブロツクを表わし、a及びbは互
いに独立したものであつて、2〜100の整数を表
わし、R2及びR4は互いに独立したものであつて、
場合によつてはハロゲン原子、C−原子数が各々
1〜4のアルキル又はアルコキシ基によつて置換
されていてもよい単環性芳香族基、場合によつて
はハロゲン原子、C−原子が各々1〜4のアルキ
ル又はアルコキシ基によつて置換されていてもよ
い、芳香族核が−O−,−CH2−又は−SO2−を
介して互いに結合している非縮合系の二環性芳香
族基、又はヘテロ環基を表わし、R1は芳香族基
又はヘテロ環基を表わし、このときカルボニル基
は異なる炭素原子に結合し、R3はベンゼン環、
又は芳香族核が−O−,−CO−又は−CONH−
の架橋基で互いに結合した非縮合系の二環性芳香
族基を表わし、このときカルボニル基が対をなし
て隣接している異なる環の炭素原子と結合してい
る、式のポリアミド−ポリイミドブロツクコポ
リマーからポリマー層がなる特許請求の範囲第1
項記載の柔軟性印刷回路の製造方法。 3 Aが式のポリアミドブロツクを表わし、E
が式のポリイミドブロツクを表わし、aが2〜
50の整数でbが2〜50、特に10〜50の整数を表わ
す式のポリアミド−ポリイミドブロツクコポリ
マーからポリマー層がなる特許請求の範囲第1項
記載の柔軟性印刷回路の製造方法。 4 Aが式のポリアミドブロツクを表わし、E
が式のポリイミドブロツクを表わし、aが2〜
50の整数で、bが10〜50の整数を表わし、R1
1,3−フエニレン基を表わし、R2が4,4′−ジ
フエニルエチル−、ジフエニルメタン−又は1,
3−フエニレン基を表わし、R3がベンゼン環又
はベンゾフエノン環系を表わし、そしてR4が4,
4′−ジフエニルエチル−、4,4′−ジフエニルメ
タン−、1,3−又は1,4−フエニレン基を表
わす式のポリアミド−ポリイミドブロツクコポ
リマーからポリマー層がなる特許請求の範囲第1
項記載の柔軟性印刷回路の製造方法。 5 ポリマー層が、式a又はaのポリアミド
酸を式のジカルボン酸ジクロリド及び式12のジ
アミンと反応させ(式中、bは2〜50の整数を表
わし、R1は(―CH2――又は1,3−フエニレン
基を表わし、R2は1,3−フエニレン又は4,
4′−ジフエニルエーテル基を表わし、R3はベンゼ
ン環又はベンゾフエノン環系を表わし、そして
R4は1,3−若しくは1,4−フエニレン基、
4,4′−ジフエニルエーテル若しくは4,4′−ジ
フエニルメタン基を表わす)、得られたポリアミ
ド−ポリアミド酸コポリマーを次に環化すること
により得られるポリアミド−ポリイミドコポリマ
ーからなる特許請求の範囲第1項記載の柔軟性印
刷回路の製造方法。
[Claims] 1. In a method for manufacturing a flexible printed circuit made of copper foil laminated with a polymer without providing an intermediate layer, the polymer layer has the formula [-(A)-(E)] o -- ( ) (In the formula, n represents an integer from 1 to 500, and A is a formula or represents a polyamide block having a structural unit represented by This represents a polyimide block having a structural unit represented by: ) A polyamide-polyimide block copolymer having a repeating structural unit represented by
or formula a or a The polyamic acid represented by formula XI A polyamide obtained by reacting a dicarboxylic acid dichloride represented by the formula XII with a diamine represented by the formula - Polyimide copolymer [in the above formula, a and b are independent of each other and represent an integer of 2 to 100, R 2 and
R 4 are independent of each other and are optionally a monocyclic aromatic group optionally substituted with a halogen atom, an alkyl or alkoxy group each having 1 to 4 carbon atoms; Depending on the case, the aromatic nucleus may be substituted by a halogen atom, an alkyl or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, respectively, via -O-, -CH 2 - or -SO 2 -. Represents a non-fused bicyclic aromatic group, a heterocyclic group, an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms or a dicyclohexylmethane group bonded to each other, and R 1 is an aromatic group or a heterocyclic group or a C -Number of atoms is 2 to 8
represents an alkylene group in which the carbonyl groups are bonded to different carbon atoms and R 3 is 5- or 6-
Cycloalkyl groups, benzene rings or aromatic nuclei of member rings are bonded to each other via a bridging group of -O-, -CO- or -CONH-, and carbonyl groups of different rings are adjacent in pairs. Represents a non-fused bicyclic aromatic group bonded to a C-atom. ] A method for manufacturing a flexible printed circuit, characterized by using a flexible base material comprising: 2 n represents an integer from 1 to 500, A represents a polyamide block of the formula or , E represents a polyimide block of the formula or , R 2 and R 4 are independent of each other,
In some cases, a monocyclic aromatic group in which a halogen atom or a C-atom may be substituted by an alkyl or alkoxy group each having 1 to 4 atoms; A non-fused bicyclic ring in which aromatic nuclei are bonded to each other via -O-, -CH2- or -SO2- , each optionally substituted by 1 to 4 alkyl or alkoxy groups R 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group, in which the carbonyl groups are bonded to different carbon atoms, and R 3 is a benzene ring,
or the aromatic nucleus is -O-, -CO- or -CONH-
represents a non-fused bicyclic aromatic group bonded to each other by a bridging group, in which carbonyl groups are bonded in pairs to carbon atoms of different adjacent rings, a polyamide-polyimide block of the formula Claim 1 in which the polymer layer is made of a copolymer
A method for manufacturing a flexible printed circuit as described in Section 1. 3 A represents a polyamide block of the formula, E
represents a polyimide block of the formula, and a is 2 to
2. A method for producing a flexible printed circuit according to claim 1, wherein the polymer layer consists of a polyamide-polyimide block copolymer of the formula in which b is an integer from 2 to 50, in particular from 10 to 50. 4 A represents a polyamide block of the formula, E
represents a polyimide block of the formula, and a is 2 to
an integer of 50, b represents an integer of 10 to 50, R 1 represents a 1,3-phenylene group, and R 2 represents 4,4'-diphenylethyl-, diphenylmethane- or 1,
represents a 3-phenylene group, R 3 represents a benzene ring or benzophenone ring system, and R 4 represents 4,
Claim 1, wherein the polymer layer consists of a polyamide-polyimide block copolymer of the formula representing 4'-diphenylethyl, 4,4'-diphenylmethane, 1,3- or 1,4-phenylene groups.
A method for manufacturing a flexible printed circuit as described in Section 1. 5. The polymer layer is formed by reacting a polyamic acid of formula a or a with a dicarboxylic acid dichloride of formula and a diamine of formula 12, where b represents an integer from 2 to 50, and R 1 is (—CH 2 ) 4 — - or 1,3-phenylene group, R 2 is 1,3-phenylene or 4,
represents a 4′-diphenyl ether group, R 3 represents a benzene ring or benzophenone ring system, and
R 4 is a 1,3- or 1,4-phenylene group,
4,4'-diphenyl ether or 4,4'-diphenylmethane group), the polyamide-polyimide copolymer obtained by subsequently cyclizing the obtained polyamide-polyamic acid copolymer. A method for manufacturing a flexible printed circuit as described in Section 1.
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