JPH0438080B2 - - Google Patents

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JPH0438080B2
JPH0438080B2 JP6053482A JP6053482A JPH0438080B2 JP H0438080 B2 JPH0438080 B2 JP H0438080B2 JP 6053482 A JP6053482 A JP 6053482A JP 6053482 A JP6053482 A JP 6053482A JP H0438080 B2 JPH0438080 B2 JP H0438080B2
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flip
circuit
memory cell
flop
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JP6053482A
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Japanese (ja)
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JPS58177599A (en
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Hiroshi Iwahashi
Kyobumi Ochii
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • G11C29/83Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with reduced power consumption

Abstract

PURPOSE:To eliminate the need to flow a current to a nonvolatile storage element normally and to improve the reliability of a device, by connecting the nonvolatile storage element which varies nonvolatile variation in impedance and a capacitor to the output terminal of a flip-flop, and varying the stable state of the flip-flop in power-on operation. CONSTITUTION:When C1>C2 with regard to capacity relation in a figure, an output N1' is charged more speedily than an output N1 when a current VD is fed, so the potential of the output N1' becomes higher than that of the N1. Consequently, a transistor (TR)QE1 turns on and a QE2 turns off to stabilize the flip-flop FL1 when N1=''0'' and N1'=''1''. At this time, the output N1 serves as said switching control signal and a stand-by circuit (stand-by memory cell) is not used because N1=''0''. At this time, a polysilicon fuse F is in a low impedance state. Therefore when the stand-by circuit is in use, the polysilicon fuse F is blown by, for example, a laser. In this case, the polysilicon fuse F corresponds to a high impedance state.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は正規の回路を予備の回路に切り換える
際などに用いて好適する半導体集積回路装置に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device suitable for use when switching a regular circuit to a spare circuit.

〔発明の技術的背景〕[Technical background of the invention]

最近、半導体集積回路装置特に半導体メモリー
においては、正規のメモリーセル回路と予備のメ
モリーセル回路を形成しておき、製造時に正規の
メモリーセル回路内に不良ビツトがあつた場合に
は、この不良ビツト部分を予備のメモリーセル回
路に置き換えて使用するような冗長性機能をもつ
たものが増加している。これは、正規のメモリー
セル回路にわずか1ビツトの不良セルがあつても
メモリー全体としては不具合なため、このような
メモリーは不良品として捨てられるからである。
即ちメモリー容量が増大するのに伴ない、不良メ
モリーセルが発生する確率が高くなつてきてお
り、不良が発生しているメモリーを捨てていたの
では、製品のコストが極めて高価なものとなつて
しまう。従つて全体の歩留り向上のために予備の
メモリーセル回路を形成し、正規のメモリーセル
回路の一部が不良の場合に、これを切り換えて使
う方法が採用されてきたのである。
Recently, in semiconductor integrated circuit devices, especially semiconductor memories, a regular memory cell circuit and a spare memory cell circuit are formed, and if a defective bit is found in the regular memory cell circuit during manufacturing, this defective bit can be removed. The number of devices with redundancy functions, such as replacing parts with spare memory cell circuits, is increasing. This is because even if a normal memory cell circuit has just one defective cell, the memory as a whole is defective, and such a memory is discarded as a defective product.
In other words, as memory capacity increases, the probability of defective memory cells is increasing, and if defective memory is thrown away, the cost of the product becomes extremely high. Put it away. Therefore, in order to improve the overall yield, a method has been adopted in which a spare memory cell circuit is formed and used by switching it when a part of the regular memory cell circuit is defective.

第1図は、上記予備のメモリーセル回路が形成
されている半導体メモリーのブロツク構成図であ
る。図中1はアドレス信号が与えられるアドレス
バツフアであり、このアドレスバツフア1からの
出力は正規のアドレスデコーダ2および予備のア
ドレスデコーダ3に並列的に与えられる。正規の
アドレスデコーダ2のデコード出力は正規のメモ
リーセル回路4に与えられ、このデコード出力に
よつて正規のメモリーセル回路4内の1つ行線が
選択され、その後この選択された行線に接続され
たメモリーセルにデータが記憶されたり、データ
が読み出されたりする。また正規のアドレスデコ
ーダ2は予備のアドレスデコーダ3からの出力に
よつて、そのデコード動作が制御される。予備の
アドレスデコーダ3のデコード出力は予備のメモ
リーセル回路5に与えられ、このデコード出力に
よつて予備のメモリーセル回路5内のメモリーセ
ルが選択され、その後この選択されたメモリーセ
ルにデータが記憶されたり、データが読み出され
たりする。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory in which the above-mentioned spare memory cell circuit is formed. In the figure, 1 is an address buffer to which an address signal is applied, and the output from this address buffer 1 is applied to a regular address decoder 2 and a spare address decoder 3 in parallel. The decoded output of the regular address decoder 2 is given to the regular memory cell circuit 4, one row line in the regular memory cell circuit 4 is selected by this decoded output, and then connected to this selected row line. Data is stored in and read from memory cells that have been stored. Further, the decoding operation of the regular address decoder 2 is controlled by the output from the spare address decoder 3. The decoded output of the spare address decoder 3 is given to the spare memory cell circuit 5, a memory cell in the spare memory cell circuit 5 is selected by this decoded output, and data is then stored in the selected memory cell. data is read.

一方、上記予備のアドレスデコーダ3は、その
構成によつては、正規のメモリーセル回路4内に
不良ビツトがあり、この不良部分を予備のメモリ
ーセル回路5内のメモリーセルと交換する際に、
メモリーセル交換のための情報が予め不揮発性記
憶素子に書き込まれている交換制御信号発生部6
から出力される交換制御信号によつて制御するこ
ともできる。即ちこのような構成の半導体メモリ
ーにおいては、正規のメモリーーセル回路4に不
良ビツトがなければ交換制御信号は出力されず、
正規のアドレスデコーダ2のみが動作して正規の
メモリーセル回路4内のメモリーセルがアクセス
される。一方、正規のメモリー回路4内に不良ビ
ツトがあれば、この不良ビツトを含む行あるいは
列アドレスに相当するデコード出力が得られるよ
うに予め予備のアドレスデコーダ3をプログラム
しておくとともに、交換制御信号発生部6から
“1”レベルまたは“0”レベルの交換制御信号
が得られるように、前記不揮発性記憶素子をプロ
グラムしておく。従つていまアドレスバツフア1
で正規のメモリーセル回路4の不良ビツトを含む
行または列アドレスに対応する出力が得られる
と、予備のアドレスデコーダ3によつて予備のメ
モリーセル回路5内のメモリーセルが選択され
る。更にこの時の予備のアドレスデコーダ3のデ
コード出力によつて正規のアドレスデコーダ2の
デコード動作が停止され、正規のメモリーセル回
路4はアクセスされない。このような作によつ
て、正規のメモリーセル回路4内の不良部分が予
備のメモリーセル回路5と交換されるものであ
る。
On the other hand, depending on the configuration of the spare address decoder 3, there may be a defective bit in the regular memory cell circuit 4, and when replacing this defective part with a memory cell in the spare memory cell circuit 5,
Exchange control signal generator 6 in which information for memory cell exchange is written in advance in the nonvolatile memory element
It can also be controlled by an exchange control signal output from. That is, in a semiconductor memory having such a configuration, if there is no defective bit in the normal memory cell circuit 4, the exchange control signal will not be output.
Only the regular address decoder 2 operates and the memory cells in the regular memory cell circuit 4 are accessed. On the other hand, if there is a defective bit in the regular memory circuit 4, the spare address decoder 3 is programmed in advance so as to obtain a decode output corresponding to the row or column address including the defective bit, and the replacement control signal is The nonvolatile memory element is programmed so that an exchange control signal of "1" level or "0" level can be obtained from the generating section 6. Therefore, now address buffer 1
When an output corresponding to the row or column address containing the defective bit of the regular memory cell circuit 4 is obtained, the spare address decoder 3 selects a memory cell in the spare memory cell circuit 5. Further, the decoding output of the spare address decoder 3 at this time stops the decoding operation of the regular address decoder 2, and the regular memory cell circuit 4 is not accessed. Through such operations, a defective portion in the regular memory cell circuit 4 is replaced with a spare memory cell circuit 5.

第2図a,bは上記交換制御信号発生部6の従
来の構成を示す回路図である。第2図aに示す回
路は、電源VD印加点と出力端子Outとの間に不
揮発性記憶素子の一つであるポリシリコン等によ
つて構成されたフユーズ素子Fを挿入し、出力端
子Outとアース点との間にプログラム用のエンハ
ンスメントモードのMOSトランジスタQEを挿入
し、かつ出力端子Outとアース点との間にデプレ
ツシヨンモードのMOSトランジスタQDを挿入
し、MOSトランジスタQEのゲートにはプログラ
ム信号Pを与えるとともに、MOSトランジスタ
QDのゲートはアース点に接続したものである。
また第2図bに示す回路は、電源VD印加点と出
力端子Outとの間にプログラム用のエンハンスメ
ントモードのMOSトランジスタQEを挿入し、同
様に電源VD印加点と出力端子Outとの間にデプ
レツシヨンモードのMOSトランジスタQDを挿入
し、かつ出力端子とアース点との間にフユーズ素
子Fを挿入し、MOSトランジスタQEのゲートに
はプログラム信号Pを与えるとともに、MOSト
ランジスタQDのゲートは出力端子Outに接続する
ようにしたものである。
FIGS. 2a and 2b are circuit diagrams showing the conventional configuration of the exchange control signal generating section 6. FIG. The circuit shown in Fig. 2a has a fuse element F made of polysilicon, which is a type of nonvolatile memory element, inserted between the power supply VD application point and the output terminal Out. An enhancement mode MOS transistor Q E for programming is inserted between the ground point and a depletion mode MOS transistor Q D is inserted between the output terminal Out and the ground point, and the gate of the MOS transistor Q E is inserted. At the same time, the program signal P is applied to the MOS transistor.
The gate of Q D is connected to the ground point.
In addition, the circuit shown in Figure 2b has an enhancement mode MOS transistor Q E for programming inserted between the power supply VD application point and the output terminal Out, and similarly between the power supply VD application point and the output terminal Out. A depletion mode MOS transistor Q D is inserted, a fuse element F is inserted between the output terminal and the ground point, a program signal P is applied to the gate of the MOS transistor Q E , and a program signal P is applied to the gate of the MOS transistor Q D. The gate is connected to the output terminal Out.

第2図aの回路において、フユーズ素子Fが溶
断されていないとき、出力端子Outのレベルは
MOSトランジスタQDとフユーズ素子Fとの抵抗
比によつて“1”レベルに保たれている。一方、
MOSトランジスタQEのゲートに“1”レベルの
プログラム信号Pを与えると、このトランジスタ
QEがオンしてフユーズ素子Fに大きな電流が流
れ、このとき発生するジユール熱によつてフユー
ズ素子Fが溶断される。フユーズ素子Fが溶断さ
れると、信号Pは再び“0”レベルとなつてトラ
ンジスタQEはカツトオフし、今度はトランジス
タQDを介して出力端Outが“0”レベルに放電さ
れる。そして上記出力端子Outの信号、即ち前記
交換制御信号のレベルが例えば“1”レベルのと
きには、予備のアドレスデコーダ3のデコード動
作は停止され、例えば“0”レベルのときにデコ
ード動作が行なわれる。
In the circuit of Figure 2a, when fuse element F is not blown, the level of output terminal Out is
It is maintained at the "1" level by the resistance ratio between the MOS transistor Q D and the fuse element F. on the other hand,
When a “1” level program signal P is applied to the gate of the MOS transistor QE , this transistor
When QE is turned on, a large current flows through fuse element F, and fuse element F is blown out by the Joule heat generated at this time. When the fuse element F is blown, the signal P becomes the "0" level again, the transistor QE is cut off, and the output terminal Out is discharged to the "0" level via the transistor QD . When the level of the signal at the output terminal Out, that is, the exchange control signal, is, for example, "1" level, the decoding operation of the spare address decoder 3 is stopped, and when it is, for example, "0" level, the decoding operation is performed.

第2図bの回路では、第2図aの回路とは反対
にフユーズ素子Fが溶断されていないとき、出力
端子OutのレベルはMOSトランジスタQDとフユ
ーズ素子Fとの抵抗比によつて“0”レベルに保
たれている。そしてトランジスタQEのゲートに
“1”レベルのプログラム信号Pを与えると、上
記と同様にフユーズ素子Fが溶断され、その後出
力端子OutはトランジスタQDを介して“1”レベ
ルに充電される。この場合には出力端子Outの信
号、即ち交換制御信号のレベルが例えば“0”レ
ベルのときには、予備のアドレスデコーダ3のデ
コード動作は停止され、例えば“1”レベルのと
きにデコード動作が行なわれる。
In the circuit of FIG. 2b, contrary to the circuit of FIG. 2a, when the fuse element F is not blown, the level of the output terminal Out depends on the resistance ratio of the MOS transistor Q D and the fuse element F. It is maintained at the 0" level. When the program signal P at the "1" level is applied to the gate of the transistor QE , the fuse element F is blown out in the same manner as described above, and then the output terminal Out is charged to the "1" level via the transistor QD . In this case, when the level of the signal at the output terminal Out, that is, the exchange control signal, is, for example, "0" level, the decoding operation of the spare address decoder 3 is stopped, and when it is, for example, "1" level, the decoding operation is performed. .

第3図は上記交換制御信号発生部6を用いない
場合における予備のアドレスデコーダ3の一つの
デコード回路の構成例を示す。この回路は、負荷
用のデプレツシヨンモードのトランジスタQLD
と、前記アドレスバツフア1から出力される各ア
ドレス信号A00,A11…をゲート入力
とする駆動用の複数のエンハンスメントモードの
トランジスタQDRとトランジスタQLDとの間に挿
入される複数のフユーズ素子FBとから構成され
る。
FIG. 3 shows an example of the configuration of one decoding circuit of the spare address decoder 3 when the exchange control signal generating section 6 is not used. This circuit uses a depletion mode transistor Q LD for the load
and a plurality of drive enhancement mode transistors Q DR and transistors Q LD , each of which receives address signals A 0 , 0 , A 1 , 1 . . . output from the address buffer 1 as gate inputs. It is composed of a plurality of fuse elements FB .

このようなデコード回路では、前記正規のメモ
リーセル回路4のメモリーセルうち、例えばアド
レスA0=A1=…An=0に対応するものが不良の
場合には、このアドレスに相当するデコード出力
が得られるように各フユーズ素子FBがプログラ
ム、即ち01,…をゲート入力とするトラ
ンジスタQDRに接続されているフユーズ素子FB
溶断される。このためA0=A1=…=An=0の場
合、そのアドレスの予備メモリーセルがアクセス
されるものである。
In such a decoding circuit, if one of the memory cells of the regular memory cell circuit 4 corresponding to, for example, address A 0 =A 1 =...An=0 is defective, the decoding output corresponding to this address is Each fuse element F B is programmed so that the fuse element F B connected to the transistor Q DR whose gate input is 0 , 1 , . . . is blown. Therefore, when A 0 =A 1 =...=An=0, the spare memory cell at that address is accessed.

〔背景技術の問題点〕[Problems with background technology]

ところで第2図a,bに示す従来の交換制御信
号発生部あるいは、第3図に示す従来の予備デコ
ーダにあつては、フユーズ素子Fが溶断されてい
ないときは、常に電流が流れた状態になつてい
る。一方、フユーズ素子Fは溶断されやすくする
ために、そのパターン形状の幅が極めて細く作ら
れている。このためフユーズ素子Fに定常的に電
流を流すことは、信頼性上好ましくない。例えば
何らかの原因によつて電源VDにノイズがのつた
り、誤まつて電源電圧を高くしてしまつたような
場合には、フユーズ素子Fに異常電流が流れ、誤
まつて溶断される恐れがある。
By the way, in the conventional exchange control signal generator shown in FIGS. 2a and 2b or the conventional spare decoder shown in FIG. 3, when the fuse element F is not blown, current is always flowing. It's summery. On the other hand, the width of the pattern shape of the fuse element F is made extremely narrow so that it can be easily blown out. For this reason, it is not preferable in terms of reliability to constantly supply current to the fuse element F. For example, if noise is applied to the power supply VD for some reason, or if the power supply voltage is increased by mistake, an abnormal current will flow to the fuse element F, and there is a risk that it will be blown out by mistake. .

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、不
揮発性記憶素子(フユーズ素子)に常時電流を流
すことなく、希望する二値の出力を得ることがで
き、以つて信頼性の高い半導体集積回路装置を提
供しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a highly reliable semiconductor integrated circuit that can obtain a desired binary output without constantly flowing current to a nonvolatile memory element (fuse element). The aim is to provide equipment.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、フリツプフロツプの出力端に、イン
ピーダンスが不揮発的に変化する不揮発性記憶素
子と容量とを接続し、上記フリツプフロツプ二つ
の出力端に各々接続されている容量の比を、上記
不揮発性記憶素子のインピーダンス状態を変化さ
せることにより変え、これにより電源投入時、フ
リツプフロツプの安定状態を変化できるように
し、以つて上記不揮発性記憶素子に常時電流を流
す必要性をなくし、装置の信頼性を高くしたもの
である。
The present invention connects a non-volatile memory element whose impedance changes in a non-volatile manner and a capacitor to the output terminal of a flip-flop, and calculates the ratio of the capacitances connected to the two output terminals of the flip-flop to the non-volatile memory element. By changing the impedance state of the flip-flop, the stable state of the flip-flop can be changed when the power is turned on, thereby eliminating the need for constant current to flow through the nonvolatile memory element and increasing the reliability of the device. It is something.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下図面を参照して本発明の一実施例を説明す
る。第4図に示される如くエンハンスメントモー
ドMOSトランジスタQE1,QE2、デプレツシヨン
モードMOSトランジスタQD1,QD2で構成される
フリツプフロツプFL1の出力N1には、不揮発性記
憶素子となるポリシリコンフユーズFを介して容
量C1が接続される。一方、フリツプフロツプFL1
の他方の出力1には、容量C2が接続される。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 4, the output N1 of the flip-flop FL1 , which is composed of enhancement mode MOS transistors Q E1 and Q E2 and depletion mode MOS transistors Q D1 and Q D2 , is connected to a polysilicon film that serves as a nonvolatile memory element. Capacitor C 1 is connected via fuse F. On the other hand, flipflop FL 1
Capacitor C 2 is connected to the other output 1 of .

第4図において容量関係がC1>C2とすれば、
電流VD投入時、出力1がN1に比べより早く充
電されるため、出力1の電位がN1の電位より高
くなり、このためトランジスタQE1がオン、QE2
がオフし、フリツプフロツプFL1はN1=“0”,
N1=“1”に安定する。この時出力N1が前述の
交換制御信号となり、この時N1=“0”のため予
備回路(予備メモリーセル)は使用されない。ま
たこの時、ポリシリコンフユーズFは低インピー
ダンス状態である。しかして予備回路使用時は、
ポリシリコンフユーズFを例えばレーザで溶断す
る。この時は、ポリシリコンフユーズFが高イン
ピーダンス状態に相当する。このため容量C1
出力N1から切り離され、今度は電源投入時、出
力N11に比べより早く高電位になるため、ト
ランジスタQE2がオン,QE1がオフし、出力N1
“1”,1=“0”となり、前記交換制御信号とな
る出力N1により、予備回路は動作状態となる。
If the capacitance relationship in Figure 4 is C 1 > C 2 , then
When the current VD is applied, output 1 is charged faster than N 1 , so the potential of output 1 becomes higher than the potential of N 1 , so transistor Q E1 turns on, Q E2
turns off, flip-flop FL 1 becomes N 1 = “0”,
N 1 becomes stable at “1”. At this time, the output N 1 becomes the above-mentioned exchange control signal, and since N 1 = "0" at this time, the spare circuit (spare memory cell) is not used. Also, at this time, the polysilicon fuse F is in a low impedance state. However, when using the reserve circuit,
The polysilicon fuse F is fused with, for example, a laser. At this time, the polysilicon fuse F corresponds to a high impedance state. Therefore, the capacitor C 1 is disconnected from the output N 1 , and when the power is turned on, the output N 1 reaches a high potential more quickly than 1 , so the transistor Q E2 turns on and Q E1 turns off, and the output N 1 =
"1", 1 = "0", and the output N1 , which becomes the exchange control signal, puts the backup circuit into an operating state.

このように本実施例によれば、ポリシリコンフ
ユーズFに定常的に電流が流れることはない。ま
たポリシリコンフユーズFが低インピーダンス状
態の時は、出力N1は“0”レベルのため電源投
入後、容量C1の充電のほんの一瞬だけ、ポリシ
リコンフユーズFに電流が流れるだけで済む。
As described above, according to this embodiment, no current constantly flows through the polysilicon fuse F. Furthermore, when the polysilicon fuse F is in a low impedance state, the output N 1 is at the “0” level, so after the power is turned on, current only flows through the polysilicon fuse F for a moment to charge the capacitor C 1 . .

第5図は本発明の他の実施例で、第4図のポリ
シリコンフユーズFの代わりに高抵抗ポリシリコ
ンRを用いている。通常このRは高抵抗で、レー
ザアニールで低抵抗となる。このようにして低抵
抗化するのは、予備回路使用時である。即ち容量
関係がC1>C2のため、ポリシリコンRが低抵抗
化された時は、出力N1が“0”レベル、1
“1”レベルとなり、この時は1が交換制御信号
となる。この場合も第4図の場合と同じ信号を供
給することができる。
FIG. 5 shows another embodiment of the present invention, in which a high resistance polysilicon R is used in place of the polysilicon fuse F in FIG. Normally, this R has a high resistance, but it becomes low resistance by laser annealing. The resistance is reduced in this way when the backup circuit is used. In other words, since the capacitance relationship is C 1 > C 2 , when the resistance of polysilicon R is reduced, the output N 1 becomes “0” level and 1 becomes “1” level, and at this time, 1 becomes the exchange control signal. Become. In this case as well, the same signals as in the case of FIG. 4 can be supplied.

第6図は本発明を予備デコーダに適用した具体
例である。エンハンスメントモードMOSトラン
ジスタQ′E1,Q′E2、デプレツシヨンモードMOSト
ランジスタQD1,QD2により構成されるフリツプ
フロツプFL2は、その出力N22それぞれにポ
リシリコンフユーズF1,F2を介し、容量C3が接
続される。そして不良のアドレスに応じて、ポリ
シリコンフユーズF1,F2のいずれかが切断され
る。フリツプフロツプFL2の出力N22にエン
ハンスメントモードMOSトランジスタQE3,QE4
が接続され、これらトランジスタのゲートには信
1が入力される。アドレス信号Axの供給端と
信号A′xの供給端間には、エンハンスメントモー
ドMOSトランジスタQE5が介挿され、アドレス信
号の供給端と信号A′xの供給端間には、エン
ハンスメントモードMOSトランジスタQE6が介挿
されている。上記トランジスタQE5のゲートはフ
リツプフロツプFL2の出力2に接続され、トラン
ジスタQE6のゲートは出力N2に接続される。予備
デコーダはエンハンスメントモードMOSトラン
ジスタQEX,QEX1,QEX2,…QE7,QE8、デプレツ
シヨンモードMOSトランジスタQD3で構成され、
トランジスタQEX,QEX1,QEX2,…QE7,QE8のゲ
ートには、信号A′x,A′x1,A′x2,…1,N1
供給され、この予備デコーダの出力端は、バツフ
アBuを介して予備メモリーセルに接続される。
FIG. 6 shows a specific example in which the present invention is applied to a preliminary decoder. Flip-flop FL 2 , which is composed of enhancement mode MOS transistors Q' E1 , Q' E2 and depletion mode MOS transistors Q D1 , Q D2 , connects polysilicon fuses F 1 and F 2 to its outputs N 2 and 2, respectively. A capacitor C3 is connected through the capacitor C3. Then, depending on the defective address, either polysilicon fuse F 1 or F 2 is cut. Enhancement mode MOS transistors Q E3 , Q E4 are connected to the outputs N 2 and 2 of flip-flop FL 2 .
are connected, and signal 1 is input to the gates of these transistors. An enhancement mode MOS transistor Q E5 is inserted between the address signal Ax supply end and the signal A′x supply end, and an enhancement mode MOS transistor Q E5 is inserted between the address signal supply end and the signal A′x supply end. Q E6 is inserted. The gate of the transistor Q E5 is connected to the output 2 of the flip-flop FL 2 , and the gate of the transistor Q E6 is connected to the output N 2 . The spare decoder consists of enhancement mode MOS transistors Q EX , Q EX1 , Q EX2 ,...Q E7 , Q E8 and depletion mode MOS transistor Q D3 .
The gates of the transistors Q EX , Q EX1 , Q EX2 , ...Q E7 , Q E8 are supplied with signals A′x, A′x 1 , A′x 2 , ... 1 , N 1 and the output of this preliminary decoder The end is connected to the spare memory cell via the buffer Bu.

第6図においてアドレス信号Ax=“0”,=
“1”の番地に不良メモリーセルがあつたとする
と、ポリシリコンフユーズF2が切断される。こ
のためフリツプフロツプFL2では、出力2の容量
2より大きくなり、従つて電源VDの投入時に
N2=“0”,2=“1”となり、トランジスタQE5
がオン、QE6がオフし、アドレス信号Axがトラン
ジスタQE5を介してA′xとなり、トランジスタQEx
のゲートに伝達される。同様にトランジスタ
QEX1,QEX2,…のゲートには、他のアドレス入力
からの信号A′x1,A′x2,…が入力される。これ
ら信号は、第6図のフリツプフロツプ系と同様の
構成で不良アドレスに応じてフユーズF1,F2
いずれかが切断され、出力されたものである。そ
して信号A′x,A′x1,A′x2,…のすべてが“0”
レベルとなつた時、予備メモリーが選択されるこ
とになる。一方、予備メモリーセルを使用しない
時は、信号N1=“0”,1=“1”レベルのため
トランジスタQE3,QE4,QE7がオン、QE8がオフ
し、予備メモリーセルも出力信号が“0”レベル
のため、選択されることはないものである。
In FIG. 6, address signal Ax="0", =
If there is a defective memory cell at address "1", polysilicon fuse F2 is cut. Therefore, in flip-flop FL 2 , the capacitance of output 2 is larger than 2 , and therefore when the power supply VD is turned on,
N 2 = “0”, 2 = “1”, transistor Q E5
turns on, Q E6 turns off, address signal Ax becomes A′x via transistor Q E5 , and transistor Q Ex
is transmitted to the gate. Similarly transistor
Signals A'x 1 , A'x 2 , ... from other address inputs are input to the gates of Q EX1 , Q EX2 , .... These signals are output when either fuse F 1 or F 2 is disconnected depending on the defective address in a structure similar to that of the flip-flop system shown in FIG. And all of the signals A′x, A′x 1 , A′x 2 , … are “0”
When the level is reached, the spare memory will be selected. On the other hand, when the spare memory cell is not used, the signals N 1 = "0", 1 = "1" level turn on transistors Q E3 , Q E4 , Q E7 and turn off Q E8 , and the spare memory cell also outputs. Since the signal is at the "0" level, it will never be selected.

なお本発明は実施例のみに限られることなく、
種々の応用が可能である。例えば第7図に示され
る如く、本発明をCMOS回路に適用した場合に
特に効果を発揮する。なぜなら図示される如くP
チヤネル型トランジスタQP11,QP12,Nチヤネル
型QN11,QN12を用いたフリツプフロツプ回路を用
いると、不揮発性記憶素子Fに定常的に電流が流
れないばかりでなく、第7図の交換制御信号発生
回路自体に流れる電流も零となるからである。
Note that the present invention is not limited to the examples only,
Various applications are possible. For example, as shown in FIG. 7, the present invention is particularly effective when applied to a CMOS circuit. Because as shown in the diagram, P
When using a flip-flop circuit using channel type transistors Q P11 , Q P12 , and N channel type transistors Q N11 , Q N12 , not only does a current not constantly flow through the nonvolatile memory element F, but also the exchange control signal shown in FIG. This is because the current flowing through the generation circuit itself also becomes zero.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明した如く本発明によれば、不揮発性記
憶素子に定常的に電流が流れることがないため、
電源ノイズ等により誤つてデータが書き込まれる
ことがなく、信頼性の高い半導体集積回路装置が
提供できるものである。
As explained above, according to the present invention, since current does not constantly flow through the nonvolatile memory element,
It is possible to provide a highly reliable semiconductor integrated circuit device in which data is not erroneously written due to power supply noise or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は予備メモリーセル回路が形成された半
導体メモリーのブロツク構成図、第2図、第3図
は同構成の一部詳細回路図、第4図、第5図は本
発明の各実施例の回路図、第6図は本発明を予備
デコーダに適用した場合の回路図、第7図は本発
明の他の実施例の回路図である。 FL1…フリツプフロツプ回路、C1,C2…容量、
N11…出力端、F…ポリシリコンフユーズ、
R…高抵抗ポリシリコン。
FIG. 1 is a block configuration diagram of a semiconductor memory in which a spare memory cell circuit is formed, FIGS. 2 and 3 are partial detailed circuit diagrams of the same configuration, and FIGS. 4 and 5 are each embodiment of the present invention. FIG. 6 is a circuit diagram when the present invention is applied to a preliminary decoder, and FIG. 7 is a circuit diagram of another embodiment of the present invention. FL 1 ... flip-flop circuit, C 1 , C 2 ... capacitance,
N 1 , 1 ...output end, F...polysilicon fuse,
R...High resistance polysilicon.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 フリツプフロツプ回路と、このフリツプフロ
ツプ回路の第1の出力端に接続された容量と、前
記フリツプフロツプ回路の第2の出力端に接続さ
れた容量と、この容量に直列接続された不揮発制
記憶素子の記憶データに応じて前記第1、第2の
出力端間の容量比を変化させる手段とを具備し、
前記不揮発性記憶素子と該素子に直列の容量には
定常的な電流が流れないようにしたことを特徴と
する半導体集積回路装置。 2 前記フリツプフロツプ回路は、その出力状態
により予備メモリセル領域を使用するか否かを決
めるものであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の半導体集積回路装置。 3 フリツプフロツプ回路と、このフリツプフロ
ツプ回路の第1の出力端に接続された容量と、前
記フリツプフロツプ回路の第2の出力端に接続さ
れた容量と、前記各容量にそれぞれ直列接続され
た不揮発制記憶素子の記憶データに応じて前記第
1、第2の出力端間の容量比を変化させる手段と
を具備し、前記不揮発性記憶素子と該素子に直列
の容量には定常的な電流が流れないようにしたこ
とを特徴とする半導体集積回路装置。 4 前記フリツプフロツプ回路は、その出力状態
により予備メモリセル領域を使用するか否かを決
めるものであることを特徴とする特許請求の範囲
第3項に記載の半導体集積回路装置。
[Claims] 1. A flip-flop circuit, a capacitor connected to a first output terminal of the flip-flop circuit, a capacitor connected to a second output terminal of the flip-flop circuit, and a capacitor connected in series to this capacitor. means for changing the capacitance ratio between the first and second output terminals according to the data stored in the non-volatile storage element,
A semiconductor integrated circuit device characterized in that a steady current does not flow through the nonvolatile memory element and a capacitor connected in series with the element. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the flip-flop circuit determines whether or not to use a spare memory cell area depending on its output state. 3. A flip-flop circuit, a capacitor connected to a first output terminal of the flip-flop circuit, a capacitor connected to a second output terminal of the flip-flop circuit, and a non-volatile memory element connected in series to each of the capacitors. means for changing the capacitance ratio between the first and second output terminals according to the stored data, so that no steady current flows through the nonvolatile memory element and the capacitance connected in series with the element. A semiconductor integrated circuit device characterized by: 4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 3, wherein the flip-flop circuit determines whether or not to use a spare memory cell area depending on its output state.
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