JPH04372740A - 光記録媒体用スタンパの製造方法および光記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光を用いて情報の記録、
再生または消去を行なう光記録媒体およびその製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光記録媒体は以下のようにして作
成されていた。まず、ガラス製の原盤の上に、ポジ型の
レジストを塗布し、レーザー光を用いて露光した後、ア
ルカリ溶液によりレジストを現像する。そしてその現像
部分をニッケルを真空成膜することにより導体化し、そ
の導体化部分を電極にしてニッケルを電鋳してガラス原
盤から剥離してスタンパを形成する。そのスタンパを用
いて基板を成形し、その基板に記録層を成膜することに
よって光記録媒体を作成していた。このとき露光に用い
られるレーザーはヘリウムカドミウムレーザーなど４０
０ナノメートル台の波長のもので、描ける最も細い線で
０．４マイクロメートル程度であり、それより細い線を
引くことができなかった。従って、溝の幅は０．４マイ
クロメートル程度でトラックピッチ１．６マイクロメー
トル程度であった。そして、光記録媒体の記録再生には
８００ナノメートル程度の波長のレーザーを用いていた
。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術で
はヘリウムカドミウムレーザーを用いてトラッキング用
の溝やピットを形成していたため、ヘリウムカドミウム
レーザーの波長に対応したカッティングしかできず、実
質的に０．４マイクロメートルより細い溝やピットは形
成できなかったので、ＳＨＧ素子などを用いて短波長化
したレーザー光を用いた記録再生用の基板は存在せず、
自ずと高密度記録には限界があるという課題を有してい
た。

【０００４】そこで本発明はこのような課題を解決する
もので、その目的とするところはヘリウムカドミウムレ
ーザーの波長に対応した溝やピットより細い溝やピット
を形成するため、ＳＨＧ素子を用いて短波長化されたレ
ーザー光などを用いた高密度記録可能な光ディスクを提
供するというところにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の光記録媒体およ
びその製造方法は、無機物からなる表面が平滑な原盤の
上に、ポジ型のレジストを塗布し、レーザー光を用いて
露光した後、アルカリ水溶液で前述のレジストを現像し
た後、金属膜で表面を導体化し、その導体化部分を電極
にして電鋳し前述の原盤から剥離してスタンパを形成し
、そのスタンパを用いて基板を作成し、その基板に記録
層を成膜する光記録媒体において、前述のレジストの上
に光退色性を有し、前述のレジストの感光波長で透明な
水溶性樹脂を塗布した後に、前述のレーザー光を用いて
露光することを特徴とする。

【０００６】

【実施例】本発明について図面に基づいて詳細に説明す
る。図１は本発明の光記録媒体を作成するための概念図
である。１はガラス原盤、２はポジ型のレジスト層、３
は光退色性樹脂を混合した水溶性樹脂層で、これの水溶
性樹脂は２のレジストの感光波長で透明でなければなら
ない。４は露光部分、５はパターン、６はニッケル膜、
７はニッケル層、８はスタンパ、９は非晶性ポリオレフ
ィンの基板、１０は記録層である。

【０００７】１のガラス原盤の表面を清浄化し、ヘキサ
メチルジシラザンによりレジストとの密着性を良くする
。次に２のポジ型のレジストを塗布し、ポストベークに
よりレジストの溶剤を取り除く。そして３のレジストの
感光波長で透明な水溶性樹脂と光退色性樹脂を混合した
ものを水に溶かして塗布し乾燥させる。ここで用いる水
溶性樹脂の例としてはポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドンなど水溶性であり、レジストの感光波長で
余分な吸収がないものが適当である。この場合、２のレ
ジスト層と３の水溶性樹脂層は接着してはならないので
、３の水溶性樹脂を塗布するまえに、２のレジスト層と
３の水溶性樹脂層の密着を確保するためにシランカップ
リング剤などで表面を処理するとよい。水溶性樹脂の数
平均分子量は作業性や光退色性樹脂との混合性などを考
慮して１０００から１０００００程度のものが好ましい
。３の水溶性樹脂として、アミン基、アミド基、カルボ
キシル基、ＯＨ基を含有するものは好ましくなく、レジ
ストの適切な現像を妨げる。従って、これらの極性の大
きな基を多く含まないものを選択し、溶剤にはジオキサ
ン、エーテル類などで極性が弱いものを用いる必要があ
る。また、この光退色性樹脂の例としては水溶性樹脂と
の混合がよく、レーザーの感光波長で明確な光退色性を
示すニトロンまたはジアゾニウム塩からなるものを選ぶ
とよい。

【０００８】次に、４の部分をヘリウムカドミウムレー
ザーを用いて露光し、現像して５のパターンを形成する
。現像はアルカリ液によるが、まず水洗して３のレジス
トの感光波長で透明な水溶性樹脂と光退色性樹脂を混合
した層を除去した後の方が好ましい。その後、６のニッ
ケル膜を真空成膜によって１０００オングストローム成
膜して、その成膜部分を電極にして７のニッケル層を０
．３ミリメートル電鋳する。６のニッケル膜を形成する
まえに、スタンパの表面を清浄化するために、白金や白
金合金のように真空成膜したときのグレインサイズの小
さいものを成膜するのもよい。そして１ガラス原盤から
剥離して内外径を加工して８のスタンパを形成する。 そして８のスタンパを用いて非晶性ポリオレフィンによ
り９の基板を成形する。この９の基板はポリカーボネー
ト樹脂を用いた射出圧縮成形によるものでも構わない。 さらに、９の基板に１０の記録層を成膜して光ディスク
を作成する。この場合の記録層としては希土類金属と遷
移金属の合金よりなる光磁気記録膜、テルルと酸化テル
ルの混合になる光相変化型あるいはシアニンなどの色素
を用いたものなど様々なものを用いることが可能である
。

【０００９】次に、２のレジストについて説明する。２
のポジ型のレジスト層はナフトキノンジアジド、フェノ
ールノボラック樹脂をセルソルブアセテートに溶解した
ものを用いるが、露光に用いる光で高感度のものが好ま
しい。すなわち、ヘルウムカドミウムレーザーの波長で
高感度のものを用いる。レジストの解像度を向上させる
ため、フェノールノボラック樹脂の分子量の分散（重量
平均分子量／数平均分子量）は３未満になるように合成
されたものを用いることが好ましい。より好ましくは２
未満である。現像はアルカリ液によって行なうが、ケイ
酸ナトリウム、燐酸ナトリウム水酸化第４アルキルアン
モニウムなどが用いられる。アルカリ金属を含まない有
機アルカリや弱酸と強アルカリからなるアルカリ緩衝液
を用いるのもよい。

【００１０】また、この現像液には現像の均一性をはか
るため界面活性剤を添加した方がよい。添加する界面活
性剤は現像の阻害効果の少なく、アルカリとの相性のよ
いアニオン界面活性剤が好ましく、アニオン界面活性剤
のなかでも現像液との相溶性や安定性などを考慮して分
子量が比較的大きく浸透性が高く安定なものがよい。そ
の例としてはアルキルスルホカルボン酸塩、α−オレフ
ィンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル酢酸塩、Ｎーアシルアミノ酸およびその塩、Ｎーアシ
ルメチルタウリン塩、アルキル硫酸塩ポリオキシアルキ
ルエーテル硫酸塩、アルキル硫酸塩ポリオキシエチレン
アルキルエーテル燐酸塩、ロジン酸石鹸、ヒマシ油硫酸
エステル塩、ラウリルアルコール硫酸エステル塩、アル
キルフェノール型燐酸エステル、アルキル型燐酸エステ
ル、アルキルアリルスルホン酸塩などが挙げられる。

【００１１】次に本発明になる方法により作成した光記
録媒体用の基板を用いて、本発明になる光記録媒体を作
製した場合について説明する。

【００１２】まず本実施例に示したようにして従来より
トラックピッチとピットのピッチが半分になるようにレ
ーザーカッティングマシンを用いて露光する。従来はト
ラックピッチが１．６マイクロメートルであったのでこ
れを０．８マイクロメートルにする。ピット列も同様に
間隔を半分にする。そして現像を行なって、本実施例に
示した方法により基板を作製する。この結果作成された
基板を走査型電子顕微鏡で観察したところ、０．２マイ
クロメートル幅の溝およびピット列が形成できたことが
確認できた。その基板を用いて、記録層として白金とコ
バルトからなる多層膜を成膜した光ディスクを用いて、
８３０ナノメートルの波長のレーザーをＳＨＧ素子で４
１５ナノメートルの波長にした光学系で記録再生を行な
ったところ従来の４倍の高密度化が可能であった。

【００１３】尚、本発明はこれらの実施例に限定される
と考えるべきではなく、本発明の主旨を逸脱しない限り
種々の変更は可能である。

【００１４】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば従来不
可能であったヘリウムカドミウムレーザーの波長に対応
した溝やピットより細い溝やピットを形成するため、Ｓ
ＨＧ素子を用いて短波長化されたレーザー光などを用い
た高密度記録可能な光記録媒体を提供できるという効果
を有する。しかも従来から用いられているヘリウムカド
ミウムレーザーを用いたレーザーカッティング装置がそ
のまま使用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体の作製方法を示す図である
。

【符号の説明】

１　　ガラス原盤 ２　　ポジ型のレジスト層 ３　　水溶性樹脂と光退色性樹脂を混合した層４　　露
光部分 ５　　パターン ６　　ニッケル膜 ７　　ニッケル層 ８　　スタンパ ９　　非晶性ポリオレフィンの基板 １０　　記録層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】無機物からなる表面が平滑な原盤の上に、
   ポジ型のレジストを塗布し、レーザー光を用いて露光し
   た後、アルカリ水溶液で前記レジストを現像した後、金
   属膜で表面を導体化し、該導体化部分を電極にして電鋳
   し前記原盤から剥離してスタンパを形成し、該スタンパ
   を用いて基板を作成し、該基板に記録層を成膜する光記
   録媒体において、前記レジストの上に光退色性を有し、
   レジストの感光波長で透明な水溶性樹脂を塗布した後に
   、前記レーザー光を用いて露光することを特徴とする光
   記録媒体及びその製造方法。