JPH04370103A - ポリプロピレンの製造方法 - Google Patents

ポリプロピレンの製造方法

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JPH04370103A
JPH04370103A JP3146177A JP14617791A JPH04370103A JP H04370103 A JPH04370103 A JP H04370103A JP 3146177 A JP3146177 A JP 3146177A JP 14617791 A JP14617791 A JP 14617791A JP H04370103 A JPH04370103 A JP H04370103A
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JP
Japan
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ome
acid
minutes
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stage
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Pending
Application number
JP3146177A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroo Saito
斉藤 博夫
Takeshi Ishihara
毅 石原
Satoshi Ueki
植木 ▲聡▼
Kunihiko Imanishi
邦彦 今西
Noriyuki Taki
敬之 滝
Tomoko Aoki
倫子 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Tonen Corp
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリプロピレンの製造
方法に関し、より詳しくは、特定の重合触媒を用いて、
プロピレンを単独で多段階にて重合し、加工性と剛性に
優れたポリプロピレンを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】マグネシウム,チタン,塩素及び電子供
与性化合物を含有する触媒成分を用いてポリα−オレフ
ィンを製造する場合、有機アルミニウム化合物と共にS
i−O−C結合を有する、或いは一般式SiR1 R2
n (OR3 )3−n (n=0〜2)で表わされる
有機珪素化合物を用いると、生成するポリマーの立体規
則性が向上することが知られている(例えば、特開昭5
4−94690号、同56−36203号、同57−6
3310号、同58−83016号、同62−1170
5号等公報)。
【0003】しかしながら、立体規則性の向上に反して
、重合活性が有機珪素化合物を用いない場合に比べ半分
以下に低下することがあり、立体規則性の向上と、重合
活性の低下の関係は、有機珪素化合物の種類に依存する
。一方、重合方法に関しては、ポリマーの物性バランス
を改良するなど、付加価値を高めることを目的として、
重合を多段階に分けて行う多段階重合方法が知られてい
る。この方法は、最初の段階での重合終了後、使用した
触媒が未だ活性を有する状態であるうちに引き続き次の
段階の重合を行わせるものであり、エチレン−プロピレ
ンブロック共重合体の製造等に用いられている。さらに
この方法をプロピレンの単独重合に利用し、プロピレン
の単独多段階重合を行うことにより、加工性に優れたポ
リプロピレンを得ることも知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の多
段階重合方法では、後段になるほど触媒の活性が低下し
、あまり重合をしなくなるという問題があった。前述し
たように、従来の有機珪素化合物を用いた場合では、最
初の重合段階においてすでに活性が低下してしまい、後
段ではほとんど重合しないといった問題が生じることも
あった。さらに、従来のプロピレンの単独多段階重合方
法で得られたポリプロピレンは、加工性は改良されたも
のの、剛性に関しては未だ不十分であった。本発明は、
プロピレンの単独多段階重合により加工性のよいポリプ
ロピレンを得るに際して、後段でも触媒の失活が著しく
少なく、かつ高剛性のポリプロピレンを得る方法を提供
することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を行った結果、特定の重合触媒を用いてプロピレンの多
段階重合を行うことにより、本発明の目的が達成し得る
ことを見出して本発明を完成した。
【0006】発明の要旨 すなわち、本発明の要旨は、(A)マグネシウム,チタ
ン,ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分とする固
体触媒成分、(B)有機金属化合物及び(C)一般式

化2】 〔但し、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂
環式炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の脂肪族若
しくは脂環式炭化水素基又はR4 O、R3 はメチル
基若しくはエチル基であり、xは1若しくは2、yは0
若しくは1、zは2若しくは3、x+y+z=4、R4
 はR1 と同意義である。〕の有機珪素化合物とから
なる重合触媒の存在下、プロピレンを多段階で重合する
ことからなり、各段階において生成するポリプロピレン
成分のメルトフローレート(MFR)を、最も高分子量
の成分を生成する段階では0.0001g/10分〜1
0g/10分未満、最も低分子量の成分を生成する段階
では10g/10分〜1000g/10分の範囲内とし
、かつ各段階において生成するポリプロピレンのMFR
を異なるものとすることからなるポリプロピレンの製造
方法にある。
【0007】固体触媒成分 本発明で用いられる触媒(以下本発明の触媒という)の
一成分である固体触媒成分(以下、成分Aという)は、
マグネシウム,チタン,ハロゲン及び電子供与性化合物
を必須成分とするが、このような成分は通常マグネシウ
ム化合物、チタン化合物及び電子供与性化合物、更に前
記各化合物がハロゲンを有しない化合物の場合は、ハロ
ゲン含有化合物を、それぞれ接触することにより調製さ
れる。
【0008】(1)マグネシウム化合物マグネシウム化
合物は、一般式MgR1 R2 で表わされる。式にお
いて、R1 及びR2 は同一か異なる炭化水素基、O
R基(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。 より詳細には、R1 及びR2 の炭化水素基としては
、炭素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルアルキル基が、OR基としては、Rが
炭素数1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩
素、臭素、ヨウ素、弗素等である。
【0009】それら化合物の具体例を下記に示すが、化
学式において、Me:メチル、Et:エチル、Pr :
プロピル、Bu:ブチル、He:ヘキシル、Oct:オ
クチル、Ph:フェニル、cyHe:シクロヘキシルを
それぞれ示す。MgMe2 ,MgEt2 , Mgi
−Pr2 ,MgBu2 ,MgHe2 ,MgOct
2 ,MgEtBu,MgPh2 ,MgcyHe2 
,Mg(OMe)2 ,Mg(OEt)2 ,Mg(O
Bu)2 ,Mg(OHe)2 ,Mg(OOct)2
 ,Mg(OPh)2 ,Mg(OcyHe)2 , 
EtMgCl,BuMgCl,HeMgCl,i−Bu
MgCl,t−BuMgCl,PhMgCl,PhCH
2 MgCl,EtMgBr,BuMgBr,PhMg
Br,BuMgI,EtMgCl,BuOMgCl,H
eOMgCl,PhOMgCl,EtOMgBr,Bu
OMgBr,EtOMgI,MgCl2 ,MgBr2
 ,MgI2 。
【0010】上記マグネシウム化合物は、成分Aを調製
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例として
、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式X
n M(OR) m−n のアルコキシ基含有化合物〔
式において、Xは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1
〜20個の炭化水素基、Mは硼素、炭素、アルミニウム
、珪素又は燐原子、Rは炭素数1〜20個の炭化水素基
、mはMの原子価、m>n≧0を示す。〕を接触させる
方法が挙げられる。該アルコキシ基含有化合物の一般式
のX及びRの炭化水素基としては、メチル(Me)、エ
チル(Et) 、プロピル、(Pr)、i−プロピル(
i−Pr) 、ブチル(Bu) 、i−ブチル(i−B
u) 、ヘキシル(He)、オクチル(Oct)等のア
ルキル基、シクロヘキシル(cyHe) 、メチルシク
ロヘキシル等のシクロアルキル基、アリル、プロペニル
、ブテニル等のアルケニル基、フェニル(Ph) 、ト
リル、キシリル基のアリール基、フェネチル、3−フェ
ニルプロピル等のアルアルキル等が挙げられる。これら
の中でも、特に炭素数1〜10個のアルキル基が望まし
い。以下、アルコキシ基含有化合物の具体例を挙げる。
【0011】■Mが炭素の場合の化合物式  C(OR
)4 に含まれるC(OMe)4 ,C(OEt)4 
, C(OPr)4 , C(OBu)4 , C(O
i−Bu)4 ,C(OHe)4 , C(OOct)
4 :式  XC(OR)3 に含まれるHC(OMe
)3 , HC(OEt)3 ,HC(OPr)3 ,
 HC(OBu)3 ,HC(OHe)3 , HC(
OPh)3 ;MeC(OMe)3 , MeC(OE
t)3 ,EtC(OMe)3  ,EtC(OEt)
3 ,cyHeC(OEt)3 , PhC(OMe)
3 ,PhC(OEt)3 ,CH2 ClC(OEt
)3 ,MeCHBrC(OEt)3 , MeCHC
lC(OEt)3 ;ClC(OMe)3 ,ClC(
OEt)3 ,ClC(Oi−Bu)3 ,BrC(O
Et)3 ;式  X2 C(OR)2 に含まれるM
eCH(OMe)2 ,MeCH(OEt)2 , C
H2 (OMe)2 , CH2 (OEt)2 ,C
H2 ClCH(OEt)2 ,CHCl2 CH(O
Et)2 ,CCl3 CH(OEt)2 ,CH2 
BrCH(OEt)2 ,PhCH(OEt)2 。
【0012】■Mが珪素の場合の化合物式  Si(O
R)4 に含まれるSi(OMe)4 ,Si(OEt
)4 ,Si(OBu)4 ,Si(Oi−Bu)4 
,Si(OHe)4 ,Si(OOct)4 ,Si(
OPh)4 :式  XSi(OR)3 に含まれるH
Si(OEt)3 ,HSi(OBu)3 ,HSi(
OHe)3 ,HSi(OPh)3 ;MeSi(OM
e)3 ,MeSi(OEt)3 ,MeSi(OBu
)3 ,EtSi(OEt)3 ,PhSi(OEt)
3 ,EtSi(OPh)3 ;ClSi(OMe)3
 ,ClSi(OEt)3 ,ClSi(OBu)3 
,ClSi(OPh)3 ,BrSi(OEt)3 ;
式  X2 Si(OR)2 に含まれるMe2 Si
(OMe)2 ,Me2 Si(OEt)2 ,Et2
 Si(OEt)2 ;MeClSi(OEt)2 ;
CHCl2 SiH(OEt)2 ;CCl3 SiH
(OEt)2 ;MeBeSi(OEt)2 :X3 
SiORに含まれるMe3 SiOMe,Me3 Si
OEt,Me3 SiOBu,Me3 SiOPh,E
t3 SiOEt,Ph3 SiOEt。
【0013】■Mが硼素の場合の化合物式  B(OR
)3 に含まれるB(OEt)3 ,B(OBu)3 
, B(OHe)3 ,B(OPh)3 。
【0014】■Mがアルミニウムの場合の化合物式  
Al(OR)3 に含まれるAl(OMe)3 ,Al
(OEt)3 ,Al(OPr)3 ,Al(Oi−P
r)3 ,Al(OBu)3 ,Al(Ot−Bu)3
 ,Al(OHe)3 ,Al(OPh)3 。
【0015】■Mが燐の場合の化合物 式  P(OR)3 に含まれるP(OMe)3 , 
P(OEt)3 , P(OBu)3 ,P(OHe)
3,P(OPh)3 。
【0016】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第II族又は第 IIIa族金属(M)の有機化合物と
の錯体も使用することができる。該錯体は一般式  M
gR1 R2 ・n(MR3 m ) で表わされる。 該金属としては、アルミニウム、亜鉛、カルシウム等で
あり、R3 は炭素数1〜12個のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アルアルキル基である。又、
mは金属Mの原子価を、nは0.1〜10の数を示す。 MR3 m で表わされる化合物の具体例としては、A
lMe3 , AlEt3 ,Ali−Bu3 ,Al
Ph3 ,ZnMe2 ,ZnEt2 ,ZnBu2 
,ZnPh2 ,CaEt2 ,CaPh2 等が挙げ
られる。
【0017】(3)チタン化合物 チタン化合物は、二価、三価及び四価のチタンの化合物
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
【0018】(4)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート類
、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ素
およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエーテ
ル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられる。 これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カルボン
酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコール類
、エーテル類が好ましく用いられる。
【0019】カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢酸
、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸
、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸
等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グル
タル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル
酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカ
ルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキ
センモノカルボン酸、シス−1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、シス−4−メチルシクロヘキセン−1,2
−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、トル
イル酸、アニス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフト
エ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメリト
酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、メリ
ト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カルボ
ン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水物が
使用し得る。
【0020】カルボン酸エステルとしては、上記のカル
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することができ
、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピバ
リン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、
マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク酸ジ
エチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グ
ルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジ
イソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブ
チル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエチル、
マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、フマル
酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソブチ
ル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジイソブ
チル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチ
ル、安息香酸エチル、p−トルイル酸メチル、p−第三
級ブチル安息香酸エチル、p−アニス酸エチル、α−ナ
フトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケイ皮酸
エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘ
キシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エチルヘ
キシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニル、イソ
フタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフ
タル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジ
エチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸トリエチル
、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テトラメチル
、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸テトラブチ
ル等が挙げられる。
【0021】カルボン酸ハロゲン化物としては、上記の
カルボン酸類の酸ハロゲン化物が使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリド
、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリル
酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸ク
ロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオダ
イド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン
酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、グ
ルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸ク
ロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、セ
バシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸ブ
ロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石酸
クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン酸
クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、1−シ
クロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチルシ
クロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチルシ
クロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、臭
化ベンゾイル、p−トルイル酸クロリド、p−トルイル
酸ブロミド、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸ブロ
ミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケ
イ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロ
ミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミ
ド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが
挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マレ
イン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルクロ
リド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸の
モノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
【0022】アルコール類は、一般式  ROHで表わ
される。式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、
アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキル
である。その具体例としては、メタノール、エタノール
、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソ
ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、ク
レゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロ
ピルフェノール、p−ターシャリーブチルフェノール、
n−オクチルフェノール等である。エーテル類は、一般
式ROR1 で表わされる。式においてR,R1 は炭
素数1〜12個のアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリール、アルアルキルであり、RとR1 は同じ
でも異ってもよい。その具体例としては、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ
イソブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジ−2−
エチルヘキシルエーテル、ジアリルエーテル、エチルア
リルエーテル、ブチルアリルエーテル、ジフェニルエー
テル、アニソール、エチルフェニルエーテル等である。
【0023】成分Aの調製法としては、■マグネシウム
化合物(成分1)、チタン化合物(成分2)及び電子供
与性化合物(成分3)をその順序に接触させる。■成分
1と成分3を接触させた後、成分2を接触させる。■成
分1,成分2及び成分3を同時に接触させる等の方法が
採用し得る。又、成分2を用いて接触させる前にハロゲ
ン含有化合物と接触させることもできる。
【0024】ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第IIa族、IV
a族、Va族元素のハロゲン化物  (以下、金属ハラ
イドという。)等が挙げられる。
【0025】ハロゲン化炭化水素としては、炭素数1〜
12個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライド
、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、1,2−ジ
クロルエタン、1,2−ジブロムエタン、1,2−ジヨ
ードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホルム
、メチルヨードホルム、1,1,2−トリクロルエチレ
ン、1,1,2−トリブロモエチレン、1,1,2, 
2−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロライド、1,2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジェン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、o−
ジクロルベンゼン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、p−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられる
。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いても
よい。
【0026】ハロゲン含有アルコールとしては、一分子
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味する
。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素原
子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。
【0027】それら化合物を例示すると、2−クロルエ
タノール、1−クロル−2−プロパノール、3−クロル
−1−プロパノール、1−クロル−2−メチル−2−プ
ロパノール、4−クロル−1−ブタノール、5−クロル
−1−ペンタノール、6−クロル−1−ヘキサノール、
3−クロル−1,2−プロパンジオール、2−クロルシ
クロヘキサノール、4−クロルベンズヒドロール、(m
,o,p)−クロルベンジルアルコール、4−クロルカ
テコール、4−クロル−(m,o)−クレゾール、6−
クロル−(m,o)−クレゾール、4−クロル−3,5
−ジメチルフェノール、クロルハイドロキノン、2−ベ
ンジル−4−クロルフェノール、4−クロル−1−ナフ
トール、(m,o,p)−クロルフェノール、p−クロ
ル−α−メチルベンジルアルコール、2−クロル−4−
フェニルフェノール、6−クロルチモール、4−クロル
レゾルシン、2−ブロムエタノール、3−ブロム−1−
プロパノール、1−ブルム−2−プロパノール、1−ブ
ロム−2−ブタノール、2−ブロム−p−クレゾール、
1−ブロム−2−ナフトール、6−ブロム−2−ナフト
ール、(m,o,p)−ブロムフェノール、4−ブロム
レゾルシン、(m,o,p)−フロロフェノール、p−
イオドフェノール:2,2−ジクロルエタノール、2,
3−ジクロル−1−プロパノール、1,3−ジクロル−
2−プロパノール、3−クロル−1−(α−クロルメチ
ル)−1−プロパノール、2,3−ジブロム−1−プロ
パノール、1,3−ジブロム−2−プロパノール、2,
4−ジブロムフェノール、2,4−ジブロム−1−ナフ
トール:2,2,2−トリクロルエタノール、1,1,
1−トリクロル−2−プロパノール、β,β,β−トリ
クロル−tert−ブタノール、2,3,4−トリクロ
ルフェノール、2,4,5−トリクロルフェノール、2
,4,6−トリクロルフェノール、2,4,6−トリブ
ロムフェノール、2,3,5−トリブロム−2−ヒドロ
キシトルエン、2,3,5−トリブロム−4−ヒドロキ
シトルエン、2,2,2−トリフルオロエタノール、α
,α,α−トリフルオロ−m−クレゾール、2,4,6
−トリイオドフェノール:2,3,4,6−テトラクロ
ルフェノール、テトラクロルハイドロキノン、テトラク
ロルビスフェノールA、テトラブロムビスフェノールA
、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール
、2,3,5,6−テトラフルオロフェノール、テトラ
フルオロレゾルシン等が挙げられる。
【0028】水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化
合物としては、HSiCl3 ,H2 SiCl2 ,
H3 SiCl,HCH3 SiCl2 , HC2 
H5 SiCl2 ,H(t−C4 H9 )SiCl
2 ,HC6 H5 SiCl2 , H(CH3 )
 2 SiCl,H(i−C3 H7 )2 SiCl
,H2 C2 H5 SiCl,H2 (n−C4 H
9 )SiCl、H2 (C6 H4 CH3 )Si
Cl、HSiCl(C6 H5 )2 等が挙げられる
【0029】金属ハライドとしては、B,Al,Ga,
In,Tl,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,B
iの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にBCl3 ,BBr3 , BI3 ,AlCl3 
,AlBr3 , GaCl3 ,GaBr3 , I
nCl3 ,TlCl3 ,SiCl4 ,SnCl4
 ,SbCl5 ,SbF5 等が好適である。
【0030】成分1,成分2及び成分3、更に必要に応
じて接触させることのできるハロゲン含有化合物との接
触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混合攪拌す
るが、機械的に共粉砕することによりなされる。接触は
40〜150℃の加熱下で行うことができる。
【0031】不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタン
、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、
シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得る。
【0032】本発明における成分Aの望ましい調製法は
、特開昭63−264607号、同58−198503
号、同62−146904号公報等に開示されている方
法である。より詳細には、■  (イ) 金属マグネシ
ウム、(ロ)ハロゲン化炭化水素、(ハ) 一般式Xn
 M(OR)m−n の化合物(前記のアルコキシ基含
有化合物と同じ)を接触させることにより得られるマグ
ネシウム含有固体を(ニ) ハロゲン含有アルコールと
接触させ、次いで(ホ)電子供与性化合物及び(ヘ) 
チタン化合物と接触させる方法(特開昭63−2646
07号公報)、■  (イ)マグネシウムジアルコキシ
ドと(ロ) 水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化
合物を接触させた後、(ハ)ハロゲン化チタン化合物を
接触させ、次いで(ニ)電子供与性化合物と接触させ(
必要に応じて更にハロゲン化チタン化合物と接触させる
)る方法(特開昭62−146904号公報)、■  
(イ) マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−珪
素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた後、
(ハ)電子供与性化合物と接触させ、次いで(ニ)チタ
ン化合物と接触させる方法(特開昭58−198503
号公報)である。 これらの内でも特に■の方法が最も望ましい。上記のよ
うにして成分Aは調製されるが、成分Aは必要に応じて
前記の不活性媒体で洗浄してもよく、更に乾燥してもよ
い。
【0033】又、成分Aは、更に有機アルミニウム化合
物の存在下、オレフィンと接触させて成分A中に生成す
るオレフィンポリマーを含有させてもよい。有機アルミ
ニウム化合物としては、本発明の触媒の一成分である後
記の有機金属化合物の中から選ばれる。
【0034】オレフィンとしては、エチレンの他プロピ
レン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペ
ンテン等のα−オレフィンが使用し得る。オレフィンと
の接触は、前記の不活性媒体の存在下行うのが望ましい
。接触は、通常100℃以下、望ましくは−10〜+5
0℃の温度で行われる。成分A中に含有させるオレフィ
ンポリマーの量は、成分A1g当り通常0.1〜100
gである。
【0035】成分Aとオレフィンの接触は、有機アルミ
ニウム化合物と共に電子供与性化合物を存在させてもよ
い。電子供与性化合物は、成分Aを調製させる際に用い
られる化合物およびSi−O−C結合もしくはSi−N
−C結合を有する有機珪素化合物などの中から選択され
る。オレフィンと接触した成分Aは必要に応じて前記の
不活性媒体で洗浄することができ、又更に乾燥すること
ができる。
【0036】有機金属化合物 有機金属化合物(以下成分Bという。)は、周期表第I
族ないし第III 族金属の有機化合物である。成分B
としては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛
及びアルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの
中でも特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用
い得る有機アルミニウム化合物としては、一般式  R
n AlX3−n (但し、Rはアルキル基又はアリー
ル基、Xはハロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を
示し、nは1≦n≦3の範囲の任意の数である。)で示
されるものであり、例えばトリアルキルアルミニウム、
ジアルキルアルミニウムモノハライド、モノアルキルア
ルミニウムジハライド、アルキルアルミニウムセスキハ
ライド、ジアルキルアルミニウムモノアルコキシド及び
ジアルキルアルミニウムモノハイドライドなどの炭素数
1ないし18個、好ましくは炭素数2ないし6個のアル
キルアルミニウム化合物又はその混合物もしくは錯化合
物が特に好ましい。具体的には、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウ
ム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミ
ニウムなどのトリアルキルアルミニウム、ジメチルアル
ミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
エチルアルミニウムブロミド、ジエチルアルミニウムア
イオダイド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどの
ジアルキルアルミニウムモノハライド、メチルアルミニ
ウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、メチ
ルアルミニウムジブロミド、エチルアルミニウムジブロ
ミド、エチルアルミニウムジアイオダイド、イソブチル
アルミニウムジクロリドなどのモノアルキルアルミニウ
ムジハライド、エチルアルミニウムセスキクロリドなど
のアルキルアルミニウムセスキハライド、ジメチルアル
ミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド
、ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジプロピルアル
ミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキ
シド、ジイソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジ
アルキルアルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアル
ミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドラ
イド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブ
チルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミ
ニウムハイドライドが挙げられる。これらの中でも、ト
リアルキルアルミニウムが、特にトリエチルアルミニウ
ム、トリイソブチルアルミニウムが望ましい。又、これ
らトリアルキルアルミニウムは、その他の有機アルミニ
ウム化合物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアル
ミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エ
チルアルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウ
ムエトキシド、ジエチルアルミニウムハイドライド又は
これらの混合物若しくは錯化合物等と併用することがで
きる。 又、酸素原子や窒素原子を介して2個以上のアルミニウ
ムが結合した有機アルミニウム化合物も使用可能である
。そのような化合物としては、例えば
【化3】 等を例示できる。
【0037】アルミニウム金属以外の金属の有機化合物
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他LiAl(C2 H5 
)4 ,LiAl(C7 H15)4 等の化合物が挙
げられる。
【0038】有機珪素化合物 本発明の触媒の一成分である有機珪素化合物(以下、成
分Cという。)は、前記一般式で表わされる。該式にお
いて、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂環
式炭化水素基であるが、望ましくはアルキル基、アルケ
ニル基等の脂肪族炭化水素基であり、特に望ましくはア
ルキル基である。なお、アルキル基にあたっては、分岐
したアルキル基の場合に、好結果を示すことが多い。R
2 は炭素数1〜10個の脂肪族若しくは脂環式炭化水
素基又はR4 Oである。該炭化水素基としては、望ま
しくはシクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロ
アルカジエニル基等の脂環式炭化水素基である。R4 
OのR4 はR1 と同意義である。R3 はメチル基
若しくはエチル基である。xは1若しくは2、yは0若
しくは1、zは2若しくは3であり、x+y+z=4で
ある。
【0039】以下、成分Cの具体例を列挙する。なお、
以下において、Me=メチル、Et=エチル、Pr=プ
ロピル、Bu=ブチル、Amy=アミル、Hex=ヘキ
シル、Oct=オクチル、Dec=デシル、CyPe=
シクロペンチル、CyHe=シクロヘキシル、CyPy
=シクロペンテニル、CyPt=シクロペンタジエニル
、CyHy=シクロヘキセニル基をそれぞれ示す。なお
、以下の具体例は、前記一般式において、R3 がメチ
ル基の場合についてのみであり、エチル基の場合は省略
した。それら具体例のR3 のメチル基をエチル基に代
えた化合物も、具体例として挙げることができる。
【0040】○(R1 O)2 Si(OR3 )2 
の化合物(n−PrO)2 Si(OMe)2 , (
i−PrO)2 Si(OMe)2 ,(t−BuO)
2 Si(OMe)2 ,(s−BuO)2 Si(O
Me)2 ,(n−BuO)2 Si(OMe)2 ,
(i−BuO)2 Si(OMe)2 ,(t−Amy
O)2 Si(OMe)2 ,(n−AmyO)2 S
i(OMe)2 ,(n−HexO)2 Si(OMe
)2 ,(n−OctO)2 Si(OMe)2 ,(
n−DecO)2 Si(OMe)2 ,(CyPeO
)2 Si(OMe)2 ,(CyHeO)2 Si(
OMe)2 ,(CyPyO)2 Si(OMe)2 
,(CyPtO)2 Si(OMe)2 ,(CyHy
O)2 Si(OMe)2 。 ○(R1 O)(R4 O)Si(OR3 )2 の化
合物(i−PrO)(n─BuO)Si(OMe)2 
,(n−PrO)(t─BuO)Si(OMe)2 ,
(t−BuO)(n─BuO)Si(OMe)2 ,(
s−BuO)(i─BuO)Si(OMe)2 ,(t
−AmyO)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(n
−AmyO)(i−PrO)Si(OMe)2 ,(n
−BuO)(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(s
−BuO)(s−AmyO)Si(OMe)2 ,(i
−BuO)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(t
−AmyO)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(
t−AmyO)(n−HexO)Si(OMe)2 ,
(CyPeO)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(
CyPeO)(i−PrO)Si(OMe)2 ,(C
yPeO)(n−BuO)Si(OMe)2 ,(Cy
PeO)(i−BuO)Si(OMe)2 ,(CyP
eO)(s−BuO)Si(OMe)2 ,(CyPe
O)(t−BuO)Si(OMe)2 ,(CyPeO
)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyPeO
)(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyPeO
)(n−HexO)Si(OMe)2 ,(CyPeO
)(n−OctO)Si(OMe)2 ,(CyHeO
)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)
(i−PrO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)(
n−BuO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)(i
−BuO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)(s−
BuO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)(t−B
uO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)(n−Am
yO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)(t−Am
yO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)(n−He
xO)Si(OMe)2 ,(CyHeO)(n−Oc
tO)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(n−Pr
O)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(i−PrO
)Si(OMe)2 ,(CyPyO)(n−BuO)
Si(OMe)2 ,(CyPyO)(i−BuO)S
i(OMe)2 ,(CyPyO)(s−BuO)Si
(OMe)2 ,(CyPyO)(t−BuO)Si(
OMe)2 ,(CyPyO)(n−AmyO)Si(
OMe)2,(CyPyO)(t−AmyO)Si(O
Me)2 ,(CyPyO)(n−HexO)Si(O
Me)2 ,(CyPyO)(n−OctO)Si(O
Me)2 ,(CyPtO)(n−PrO)Si(OM
e)2 ,(CyPtO)(i−PrO)Si(OMe
)2 ,(CyPtO)(n−BuO)Si(OMe)
2 ,(CyPyO)(i−BuO)Si(OMe)2
 ,(CyPtO)(s−BuO)Si(OMe)2 
,(CyPtO)(t−BuO)Si(OMe)2 ,
(CyPtO)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,
(CyPtO)(t−AmyO)Si(OMe)2 ,
(CyPtO)(n−HexO)Si(OMe)2 ,
(CyPtO)(n−OctO)Si(OMe)2 ,
(CyHyO)(n−PrO)Si(OMe)2 ,(
CyHyO)(i−PrO)Si(OMe)2 ,(C
yHyO)(n−BuO)Si(OMe)2 ,(Cy
HyO)(i−BuO)Si(OMe)2 ,(CyH
yO)(s−BuO)Si(OMe)2 ,(CyHy
O)(r−BuO)Si(OMe)2 ,(CyHyO
)(n−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyHyO
)(t−AmyO)Si(OMe)2 ,(CyHyO
)(n−HexO)Si(OMe)2 ,(CyHyO
)(n−Oct)Si(OMe)2 。
【0041】○(R1 O)R2 Si(OR3 )2
 の化合物 (i−PrO)MeSi(OMe)2 ,(i−PrO
)n−PrSi(OMe)2 ,(n−PrO)t−A
mySi(OMe)2,(i−PrO)n−HexSi
(OMe)2 ,(n−BuO)MeSi(OMe)2
 ,(t−BuO)MeSi(OMe)2 ,(s−B
uO)EtSi(OMe)2 ,(i−BuO)i−P
rSi(OMe)2 ,(t−BuO)t−BuSi(
OMe)2,(n−BuO)s−BuSi(OMe)2
 ,(t−BuO)n−AmySi(OMe)2 ,(
n−AmyO)i−PrSi(OMe)2 ,(t−A
myO)t−BuSi(OMe)2 ,(t−AmyO
)t−AmySi(OMe)2 ,(t−AmyO)M
eSi(OMe)2 ,(n−AmyO)EtSi(O
Me)2 ,(n−HexO)MeSi(OMe)2 
,(n−HexO)EtSi(OMe)2 ,(n−H
exO)i−PrSi(OMe)2 ,(n−HexO
)t−BuSi(OMe)2 ,(n−HexO)n−
HexSi(OMe)2 ,(n−HexO)n−Oc
tSi(OMe)2 ,(n−OctO)MeSi(O
Me)2 ,(n−OctO)n−OctSi(OMe
)2 ,(i−PrO)CyPeSi(OMe)2 ,
(n−PrO)CyPeSi(OMe)2 ,(n−B
uO)CyPeSi(OMe)2 ,(i−BuO)C
yPeSi(OMe)2 ,(s−BuO)CyPeS
i(OMe)2 ,(t−BuO)CyPeSi(OM
e)2 ,(n−AmyO)CyPeSi(OMe)2
 ,(t−AmyO)CyPeSi(OMe)2 ,(
n−HexO)CyPeSi(OMe)2 ,(n−O
ct)CyPeSi(OMe)2 ,(i−PrO)C
yHeSi(OMe)2 ,(n−PrO)CyHeS
i(OMe)2 ,(n−BuO)CyHeSi(OM
e)2 ,(i−BuO)CyHeSi(OMe)2 
,(s−BuO)CyHeSi(OMe)2 ,(t−
BuO)CyHeSi(OMe)2 ,(n−AmyO
)CyHeSi(OMe)2 ,(t−AmyO)Cy
HeSi(OMe)2 ,(n−HexO)CyHeS
i(OMe)2 ,(n−Oct)CyHeSi(OM
e)2 ,(n−PrO)CyPySi(OMe)2 
,(i−PrO)CyPySi(OMe)2 ,(n−
BuO)CyPySi(OMe)2 ,(i−BuO)
CyPySi(OMe)2 ,(s−BuO)CyPy
Si(OMe)2 ,(t−BuO)CyPySi(O
Me)2 ,(n−AmyO)CyPySi(OMe)
2 ,(t−AmyO)CyPySi(OMe)2 ,
(n−HexO)CyPySi(OMe)2 ,(n−
Oct)CyPySi(OMe)2 ,(n−PrO)
CyPtSi(OMe)2 ,(i−PrO)CyPt
Si(OMe)2 ,(n−BuO)CyPtSi(O
Me)2,(i−BuO)CyPtSi(OMe)2 
,(s−BuO)CyPtSi(OMe)2 ,(t−
BuO)CyPtSi(OMe)2 ,(n−AmyO
)CyPtSi(OMe)2 ,(t−AmyO)Cy
PtSi(OMe)2 ,(n−HexO)CyPtS
i(OMe)2 ,(n−Oct)CyPtSi(OM
e)2 ,n−PrO)CyHySi(OMe)2 ,
(i−PrO)CyHySi(OMe)2 ,(n−B
uO)CyHySi(OMe)2 ,(i−PrO)C
yHySi(OMe)2 ,(s−BuO)CyHyS
i(OMe)2 ,(t−BuO)CyHySi(OM
e)2 ,(n−AmyO)CyHySi(OMe)2
 ,(t−AmyO)CyHySi(OMe)2 ,(
n−HexO)CyHySi(OMe)2 ,(n−O
ctO)CyHySi(OMe)2 ,(CyPeO)
MeSi(OMe)2 ,(CyPeO)EtSi(O
Me)2 ,(CyPeO)n−PrSi(OMe)2
 ,(CyPeO)i−PrSi(OMe)2 ,(C
yPeO)n−BuSi(OMe)2 ,(CyPeO
)i−BuSi(OMe)2 ,(CyPeO)s−B
uSi(OMe)2 ,(CyPeO)t−BuSi(
OMe)2 ,(CyPeO)n−AmySi(OMe
)2 ,(CyPeO)t−AmySi(OMe)2 
,(CyPeO)n−HexSi(OMe)2 ,(C
yPeO)n−OctSi(OMe)2 ,(CyHe
O)MeSi(OMe)2 ,(CyHeO)EtSi
(OMe)2 ,(CyHeO)n−PrSi(OMe
)2 ,(CyHeO)i−PrSi(OMe)2 ,
(CyHeO)n−BuSi(OMe)2 ,(CyH
eO)i−BuSi(OMe)2 ,(CyHeO)s
−BuSi(OMe)2 ,(CyHeO)t−BuS
i(OMe)2 ,(CyHeO)n−AmySi(O
Me)2 ,(CyHeO)t−AmySi(OMe)
2 ,(CyHeO)n−HexSi(OMe)2 ,
(CyHeO)n−OctSi(OMe)2 ,(Cy
PyO)MeSi(OMe)2 ,(CyPyO)Et
Si(OMe)2 ,(CyPyO)n−PrSi(O
Me)2 ,(CyPyO)i−PrSi(OMe)2
 ,(CyPyO)n−BuSi(OMe)2 ,(C
yPyO)i−BuSi(OMe)2 ,(CyPyO
)s−BuSi(OMe)2 ,(CyPyO)t−B
uSi(OMe)2 ,(CyPyO)n−AmySi
(OMe)2 ,(CyPyO)t−AmySi(OM
e)2 ,(CyPyO)n−HexSi(OMe)2
 ,(CyPyO)n−OctSi(OMe)2 ,(
CyPtO)MeSi(OMe)2 ,(CyPtO)
EtSi(OMe)2 ,(CyPtO)n−PrSi
(OMe)2 ,(CyPtO)i−PrSi(OMe
)2 ,(CyPtO)n−BuSi(OMe)2 ,
(CyPtO)i−BuSi(OMe)2 ,(CyP
tO)s−BuSi(OMe)2 ,(CyPtO)t
−BuSi(OMe)2 ,(CyPtO)n−Amy
Si(OMe)2 ,(CyPtO)t−AmySi(
OMe)2 ,(CyPtO)n−HexSi(OMe
)2 ,(CyPtO)n−OctSi(OMe)2 
,(CyHyO)MeSi(OMe)2 ,(CyHy
O)EtSi(OMe)2 ,(CyHyO)n−Pr
Si(OMe)2 ,(CyHyO)i−PrSi(O
Me)2 ,(CyHyO)n−BuSi(OMe)2
 ,(CyHyO)i−BuSi(OMe)2 ,(C
yHyO)s−BuSi(OMe)2 ,(CyHyO
)t−BuSi(OMe)2 ,(CyHyO)n−A
mySi(OMe)2 ,(CyHyO)t−AmyS
i(OMe)2 ,(CyHyO)n−HexSi(O
Me)2 ,(CyHyO)n−OctSi(OMe)
2 ,(CyPeO)CyPeSi(OMe)2 ,(
CyPeO)CyHeSi(OMe)2 ,(CyPe
O)CyPySi(OMe)2 ,(CyPeO)Cy
PtSi(OMe)2 ,(CyPeO)CyHySi
(OMe)2 ,(CyHeO)CyPeSi(OMe
)2 ,(CyHeO)CyHeSi(OMe)2 ,
(CyHeO)CyPySi(OMe)2 ,(CyH
eO)CyPtSi(OMe)2 ,(CyHeO)C
yHySi(OMe)2 ,(CyPyO)CyPeS
i(OMe)2 ,(CyPyO)CyHeSi(OM
e)2 ,(CyPyO)CyPySi(OMe)2 
,(CyPyO)CyPtSi(OMe)2,(CyP
yO)CyHySi(OMe)2 ,(CyPtO)C
yPeSi(OMe)2 ,(CyPtO)CyHeS
i(OMe)2 ,(CyPtO)CyPySi(OM
e)2 ,(CyPtO)CyPtSi(OMe)2 
,(CyPtO)CyHySi(OMe)2 ,(Cy
HyO)CyPeSi(OMe)2 ,(CyHyO)
CyHeSi(OMe)2 ,(CyHyO)CyPy
Si(OMe)2 ,(CyHyO)CyPtSi(O
Me)2 ,(CyHyO)CyHySi(OMe)2
 。
【0042】○(R1 O)Si(OR3 )3 の化
合物(i−PrO)Si(OMe)3 ,(n−BuO
)Si(OMe)3 ,(s−BuO)Si(OMe)
3 ,(i−BuO)Si(OMe)3 ,(t−Bu
O)Si(OMe)3 ,(t−AmyO)Si(OM
e)3 ,(n−AmyO)Si(OMe)3 ,(n
−HexO)Si(OMe)3 ,(n−OctO)S
i(OMe)3 ,(n−DecO)Si(OMe)3
 ,(CyPeO)Si(OMe)3 ,(CyHeO
)Si(OMe)3 ,(CyPyO)Si(OMe)
3 ,(CyPtO)Si(OMe)3 ,(CyHy
O)Si(OMe)3 。
【0043】本発明の触媒は、成分A,成分B及び成分
Cからなるが、それらの構成割合は、成分Bが成分A中
のチタン1グラム原子当り1〜2,000グラムモル、
望ましくは20〜500グラムモル、成分Cが成分B1
モルに対して0.001〜10モル、望ましくは0.0
1〜1.0モルとなるように用いられる。
【0044】プロピレンの多段階重合 プロピレンの多段階重合は、前記の重合触媒の存在下、
2段階以上の多段階でプロピレンの重合反応を行うもの
である。各段階にいては、そこで得られるポリプロピレ
ン成分の分子量を各々違えられるが、最も高分子量の成
分を生成する段階におけるポリプロピレン成分の分子量
をメルトフローレート(MFR)を尺度として、0.0
001g/10分〜10g/10分未満、望ましくは0
.001〜5g/10分、最も低分子量の成分を生成す
る段階におけるポリプロピレン成分のそれを同じく10
g/10分〜1000g/10分、望ましくは50〜5
00g/10分の範囲とすることが肝要である。各段階
で得られるポリプロピレン成分の分子量は、最終的に得
られるポリプロピレンの使用目的に応じ、上記の範囲内
で適宜設定でき、その調節は、通常水素若しくは他の公
知の分子量調節剤の使用量を変えることにより行われる
【0045】重合反応は、気相、液相のいずれでもよく
、液相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソブタ
ン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の不活性炭化水素中及び液状モノマー中で
行うことができる。重合温度は、通常−80℃〜+15
0℃、好ましくは40〜120℃の範囲である。重合圧
力は、例えば1〜60気圧でよい。各段階における重合
条件は、上記の範囲内で任意に設定できることは言う迄
もない。
【0046】多段階重合は、重合触媒、ポリプロピレン
及びその他を含む前段の反応生成物の存在下、次段のプ
ロピレンの重合反応を連続して行う直列方式、各段階で
個別にプロピレンの重合反応を行なわせ、各段階で得ら
れる反応生成物を合体させる並列方式のいずれでもよい
。勿論、必要に応じ直列方式と並列方式を組み合せるこ
とも任意である。又、各段階の重合割合は、最終ポリプ
ロピレンの使用目的に応じ任意に選択することができる
。更に、プロピレンの重合反応時に、各段階で得られる
ポリプロピレンの高結晶性を損なわない程度の少量のエ
チレンや1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−
ヘキセン等のα−オレフィンを存在させることも可能で
ある。
【0047】このようにして得られたポリプロピレンは
、通常1〜700g/10分のMFRを有するが、その
MFRを5〜400g/10分にするのが好ましくは、
10〜200g/10分とするのが特に好ましい。
【0048】
【実施例】本発明を実施例及び比較例により具体的に説
明する。なお、例におけるパーセント(%)は特に断ら
ない限り重量による。ポリマーの物性測定は、該ポリマ
ー粉末に、BHT(2,6−ジターシャリーブチル−4
−メチルフェノール)を0.18重量%、DSTDP(
ジステリアルチオジプロピオネート)を0.08重量%
、IRGANOX1010〔テトラキス−{メチレン−
(3,5−ジターシャリーブチル−4−ヒドロキシヒド
ロ−シンナメート)メタン}〕を0.04重量%、カル
シウムステアレートを0.06重量%それぞれ添加し、
溶融混練によりペレットとした後、射出成形により試験
片を作成して行った。曲げ弾性率:JIS  K  7
203−1982に準拠。又、ポリマーのMFRはAS
TM  D−1238に従って測定した。
【0049】実施例1 成分Aの調製 還流冷却器をつけた1リットルの反応容器に、窒素ガス
雰囲気下で、チップ状の金属マグネシウム(純度99.
5%、平均粒径1.6mm)8.3g及びn−ヘキサン
250mlを入れ、68℃で1時間攪拌後、金属マグネ
シウムを取出し、65℃で減圧乾燥するという方法で予
備活性化した金属マグネシウムを得た。次に、この金属
マグネシウムに、n−ブチルエーテル140ml及びn
−ブチルマグネシウムクロリドのn−ブチルエーテル溶
液(1.75モル/l)を0.5ml加えた懸濁液を5
5℃に保ち、更にn−ブチルエーテル50mlにn−ブ
チルクロライド38.5mlを溶解した溶液を50分間
で滴下した。攪拌下70℃で4時間反応を行った後、反
応液を25℃に保持した。次いで、この反応液にHC(
OC2 H5 )3   55.7mlを1時間で滴下
した。滴下終了後、60℃で15分間反応を行ない、反
応生成固体をn−ヘキサン各300mlで6回洗浄し、
室温で1時間減圧乾燥し、マグネシウムを19.0%、
塩素を28.9%を含むマグネシウム含有固体31.6
gを回収した。還流冷却器、攪拌機及び滴下ロートを取
付けた300mlの反応容器に、窒素ガス雰囲気下マグ
ネシウム含有固体6.3g及びn−ヘプタン50mlを
入れ懸濁液とし、室温で攪拌しながら2,2,2−トリ
クロルエタノール20ml(0.02ミリモル)とn−
ヘプタン11mlの混合溶液を滴下ロートから30分間
で滴下し、更に80℃で1時間攪拌した。得られた固体
をろ過し、室温のn−ヘキサン各100mlで4回洗浄
し、更にトルエン各100mlで2回洗浄して固体成分
を得た。上記の固体成分にトルエン40mlを加え、更
に四塩化チタン/トルエンの体積比が3/2になるよう
に四塩化チタンを加えて90℃に昇温した。攪拌下、フ
タル酸ジn−ブチル2mlとトルエン5mlの混合溶液
を5分間で滴下した後、120℃で2時間攪拌した。得
られた固体状物質を90℃でろ別し、トルエン各100
mlで2回、90℃で洗浄した。更に、新らたに四塩化
チタン/トルエンの体積比が3/2になるように四塩化
チタンを加え、120℃で2時間攪拌しした。得られた
固体物質を110℃でろ別し、室温の各100mlのn
−ヘキサンにて7回洗浄して成分A5.5gを得た。
【0050】プロピレンの重合 充分に窒素置換した5リットルのオートクレーブに、窒
素雰囲気下で上記で得られた成分A22.2mg、n−
ヘプタン1リットル中に0.2モルのトリエチルアルミ
ニウムを含む溶液6ml、及びn−ヘプタン1リットル
中に0.04モルのジイソプロポキシジメトキシシラン
を含む溶液6mlを混合し、5分間保持したものを入れ
た。第1段重合では液体プロピレン3リットルを圧入し
た後、オートクレーブ内部温度を70℃にして1時間重
合を行った。オートクレーブ内液相よりサンプルを一部
採取した後、引き続きオートクレーブ内部温度を70℃
に維持したままで水素を12リットル添加して、第2段
重合を開始し、35分間重合した。重合終了後、水素及
び未反応のプロピレンをパージしてオートクレーブ内の
ポリマーを取り出し、MFR  14.3g/10分の
ポリマー584.4gが得られた。なお、第1段重合終
了時に採取したサンプル中のポリマー重量は、20.1
gであり、そのMFRは0.2g/10分であった。次
にポリマーの化学分析を行い、第1段及び第2段の触媒
単位重量当たりの重合体の収量を求め、この値から第1
段と第2段の重合量比率を求めた。第2段で生成したポ
リマーのMFRは、第1段と最終的に得られたポリマー
の前記のMFR及び第1段と第2段の重合量比率から算
出した。表1に、重合活性(ポリマーkg/g・成分A
・時間)及び得られたポリマーの曲げ弾性率を示した。
【0051】実施例2〜5、比較例1〜3ジイソプロポ
キシジメトキシシランの代りに、表1に示す有機珪素化
合物を用い、かつ水素の使用量を変えた以外は、実施例
1と同様にしてプロピレンを2段で重合し、それらの結
果を表1に示した。
【表1】
【0052】
【発明の効果】プロピレンの単独多段重合により加工性
のよいポリプロピレンを得るに際して、後段でも触媒の
失活を著しく低減することができしかも高剛性のポリプ
ロピレンを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の方法を示すフローチャート図
である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)マグネシウム,チタン,ハロゲン及
    び電子供与性化合物を必須成分とする固体触媒成分、(
    B)有機金属化合物及び(C)一般式【化1】 〔但し、R1 は炭素数3〜10個の脂肪族若しくは脂
    環式炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の脂肪族若
    しくは脂環式炭化水素基又はR4 O、R3 はメチル
    基若しくはエチル基であり、xは1若しくは2、yは0
    若しくは1、zは2若しくは3、x+y+z=4、R4
     はR1 と同意義である。〕の有機珪素化合物とから
    なる重合触媒の存在下、プロピレンを多段階で重合する
    ことからなり、各段階において生成するポリプロピレン
    成分のメルトフローレート(MFR)を、最も高分子量
    の成分を生成する段階では0.0001g/10分〜1
    0g/10分未満、最も低分子量の成分を生成する段階
    では10g/10分〜1000g/10分の範囲内とし
    、かつ各段階において生成するポリプロピレンのMFR
    を異なるものとすることからなるポリプロピレンの製造
    方法。
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