JPH04365866A - 薄膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板の成膜室への搬送
を効率よく行うようにした薄膜形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の薄膜形成装置は図５及び図６に示
す構成になっている。それらの図において、１は排気手
段を備えた成膜室、２は成膜室１に上下動自在に設けら
れた基板ホルダ、３は成膜室１に隣接して設けられ排気
手段を備えた基板４の着脱室、５は成膜室１と着脱室３
との間に形成された開口、６は開口５を開閉するゲート
弁、７は着脱室３の後壁に形成された挿通口である。

【０００３】８は一端部が成膜室１に固着された支持杆
、９は成膜室１と支持杆８の他端部との間に設けられた
ガイド軸、１０はガイド軸９に沿い移動自在に設けられ
た基板、１１は基板１０と着脱室３の後壁との間に設け
られたベローズ、１２は支持杆８の他端部に設けられた
エアシリンダであり、シリンダ軸１３の先端が基板１０
に固着され、基板１０を前進，後退させる。１４は基部
が基板１０に固着された搬送軸であり、挿通口７を挿通
し、先端部に基板４が載置される。

【０００４】そして、ゲート弁６を閉じた状態で着脱室
３を開き、搬送軸１４に基板４を載置し、着脱室３を閉
じ、着脱室３を荒引きし、ゲート弁６を開き、エアシリ
ンダ１２により搬送軸１４を前進し、排気状態にある成
膜室１に基板４を開口５を通して挿入する。このとき、
基板４の両側部が搬送軸１４から突き出しており、基板
ホルダ２の両側の爪１５が基板１４の両側部の下部に位
置し、基板ホルダ２の上動により基板４が基板ホルダ２
に把持される。つぎに搬送軸１４をエアシリンダ１２に
より後退し、ゲート弁６を閉じる。

【０００５】成膜完了後、ゲート弁６を開き、搬送軸１
４を前進し、基板ホルダ２を下動して基板４を搬送軸１
４の先端部に載置し、搬送軸１４を後退し、ゲート弁６
を閉じ、着脱室３を開いて基板４を交換し、前記作業を
繰り返す。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来の前記装置の場合
、搬送軸１４と基板ホルダ２との間における基板４の受
け渡し機構を要して構成が複雑であり、かつ、両者の位
置合せがきわめて困難であり、さらに、搬送軸１４が前
進したのち後退し、ゲート弁６が閉じるまで成膜を行え
なく、搬送工程に長時間を要し、しかもゲート弁６が高
価であるという問題点がある。本発明は、前記の点に留
意し、構成を簡単にし、基板の搬送及び成膜の効率化を
はかった薄膜形成装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の薄膜形成装置は、成膜室を備えた中央室と
、その中央室の左側及び右側に隣接し基板の着脱室を備
えた左室及び右室と、中央室と左室との間に形成された
左開口と、中央室と右室との間に形成された右開口と、
右室及び中央室を貫通し先端が左室に位置した搬送軸と
、搬送軸の先端に固着され搬送軸の後退時左開口を閉塞
する左弁体と、搬送軸の基部側に固着され搬送軸の前進
時右開口を閉塞する右弁体と、左弁体と右弁体の中間の
搬送軸に固着され搬送軸の前進時及び後退時に左開口及
び右開口を閉塞する中間弁体と、左弁体と中間弁体の中
間の搬送軸に設けられた左基板ホルダと、中間弁体と右
弁体の中間の搬送軸に設けられた右基板ホルダとを備え
たものである。

【０００８】

【作用】前記のように構成された本発明の薄膜形成装置
は、成膜室を備えた中央室の両側に基板の着脱室を備え
た左室及び右室が設けられ、搬送軸に先端から順次左弁
体，左基板ホルダ，中間弁体，右基板ホルダ，右弁体が
固着され、搬送軸の前進時、中央室の両側の開口を中間
弁体，右弁体が閉塞するため、中央室で右基板ホルダの
基板に成膜中に、左室で基板の交換を行い、搬送軸の後
退時、両開口を左弁体，中間弁体が閉塞するため、中央
室で左基板ホルダの基板に成膜中に、右室で基板の交換
を行うことができ、基板の搬送に無駄がなく、成膜効率
が向上する。

【０００９】

【実施例】１実施例について図１ないし図４を参照して
説明する。それらの図において図５と同一符号は同一も
しくは相当するものを示す。１６は成膜室１７を備えた
中央室、１８は中央室１６の左側に隣接し基板４の着脱
用の左着脱室１９を備えた左室、２０は中央室１６の右
側に隣接し基板４の着脱用の右着脱室２１を備えた右室
、２２，２３は中央室１６と左室１８，右室２０との間
に形成された左開口，右開口、２４，２５は左室１８，
右室２０の上部に設けられた左ガイド軸，右ガイド軸で
ある。

【００１０】搬送軸１４は右室２０，中央室１６を貫通
し、先端が左室１８に位置し、基部が基板１０に固着さ
れ、右室１７と基板１０との間のベローズ１１を貫通し
、支持杆８に支持されたエアシリンダ１２のシリンダ軸
１３により搬送軸１４が前進，後退する。

【００１１】２６は搬送軸１４の先端に固着された左弁
体であり、左ガイド軸２４をガイドとし、搬送軸１４の
後退時左開口２２を閉塞する。２７は搬送軸１４の基部
側に固着された右弁体であり、右ガイド軸２５をガイド
とし、搬送軸１４の前進時右開口２３を閉塞する。２８
は左弁体２６と右弁体２７の中間の搬送軸１４に固着さ
れた中間弁体であり、搬送軸１４の前進時左開口２２を
閉塞し、後退時右開口２３を閉塞する。

【００１２】２９は左弁体２６と中間弁体２８の中間の
搬送軸１４に設けられた左基板ホルダ、３０は中間弁体
２８と右弁体２７の中間の搬送軸１４に設けられた右基
板ホルダ、３１は成膜室１７の後側のイオン源、３２は
イオン源電極、３３はターゲットホルダ、３４は左室１
８，中央室１６，右室２０のそれぞれの上部に設けられ
たエアシリンダ、３５はそのエアシリンダ３４のシリン
ダ軸である。

【００１３】３６は両基板ホルダ２９，３０にそれぞれ
固着された円筒状の基体、３７はディスク、３８はディ
スク３７の上面に一体に立設された支持筒、３９は基体
３６と支持筒３８間に介在されたばね、４０はディスク
３７に支持された真空仕様のステッピングモータ、４１
はモータ４０により傘歯車４２，４３を介して回転する
回転軸であり、支持筒３８に軸受４４を介して貫通し、
回転軸４１の先端に基板４が着脱自在に支持されている
。

【００１４】４５，４６は左着脱室１９，右着脱室２１
のそれぞれの扉、４７，４８はＯリングであり、左室１
８と左着脱室１９，中央室１６と成膜室１７，右室２０
と右着脱室２１のそれぞれの境の上側及び下側に設けら
れている。

【００１５】つぎに、成膜工程について説明する。図１
に示す搬送軸１４が後退した状態において、左弁体２６
と中間弁体２８がそれぞれ左開口２２，右開口２３を閉
塞しており、中央室１６のエアシリンダ３４を作動し、
シリンダ軸３５を下動すると、図４に示すように、シリ
ンダ軸３５が左基板ホルダ２９のディスク３７をばね３
９に抗して下動し、ディスク３７の周縁部が上側のＯリ
ング４７を押圧してシールし、基板４を成膜室１７に位
置させ、モータ４０の作動により基板４を回転し、成膜
を行う。

【００１６】この成膜中、右室２０のエアシリンダ３４
を作動し、右基板ホルダ３０のディスク３７を下動し、
同様に、ディスク３７の周縁部がＯリング４７を押圧し
、右室２０と右着脱室２１をシールする。この状態で扉
４６を開き、回転軸４１に基板４の交換を行う。この間
、右室２０を高真空ポンプで排気しておく。

【００１７】基板４の交換後扉４６を閉め、右着脱室２
１を荒引きし、荒引き完了後、シリンダ軸３５を上動す
ると、ばね３９によりディスク３７が上動し、右室２０
及び右着脱室２１が高真空排気状態になる。

【００１８】左基板ホルダ２９の基板４の成膜が完了す
ると、中央室１６のシリンダ軸３５を上動してディスク
３７を上動し、エアシリンダ１２により搬送軸１４を前
進させ、図２に示すように、左基板ホルダ２９を左室１
８に移行し、中間弁体２８で左開口２２を閉塞し、右基
板ホルダ３０を中央室１６に移行し、右弁体２７で右開
口２３を閉塞する。

【００１９】そして、図１に示した場合と同様、中央室
１６に位置した右基板ホルダ３０の基板４を成膜室１７
に移行して成膜を行うとともに、その間に左室１８に位
置した左基板ホルダ２９の基板４を左着脱室１９に移行
し、扉４５を開いて成膜した基板４を未成膜の基板４に
交換し、左室１８の高真空排気、左着脱室１９の荒引き
を行う。

【００２０】以上を繰り返す。なお、前記実施例では、
基板４の交換を行う左，右着脱室１９，２１が左，右基
板ホルダ２９，３０のディスク３７の下面のみの空間で
あり、容積がきわめて小さく、大気にさらされたのち排
気する時間が少なく、排気効率がよい。さらに、成膜中
は、ディスク３７でシールしているため、モータ４０等
の自転機構部に着膜する恐れがない。

【００２１】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載する効果を奏する。成膜室１７
を備えた中央室１６の両側に基板４の着脱室１９，２１
を備えた左室１８及び右室２０が設けられ、搬送軸１４
に先端から順次左弁体２６，左基板ホルダ２９，中間弁
体２８，右基板ホルダ３０，右弁体２７が固着され、搬
送軸１４の前進時、中央室１６の両側の開口２２，２３
を中間弁体２８，右弁体２７が閉塞するため、中央室１
６で右基板ホルダ３０の基板４に成膜中に、左室１８で
基板４の交換を行い、搬送軸１４の後退時、両開口２２
，２３を左弁体２６，中間弁体２８が閉塞するため、中
央室１６で左基板ホルダ２９の基板４に成膜中に、右室
２０で基板４の交換を行うことができ、成膜と基板４の
交換が同時であり、基板４の搬送に無駄がなく、成膜効
率を格段に向上することができ、かつ、構成が簡単であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の薄膜形成装置の１実施例の切断正面図
である。

【図２】図１の他の状態の概略切断正面図である。

【図３】図１の一部の切断左側面図である。

【図４】図１の他の一部の切断左側面図である。

【図５】従来例の切断正面図である。

【図６】図５の一部の左側面図である。

【符号の説明】

４　　基板 １６　　中央室 １７　　成膜室 １８　　左室 １９　　左着脱室 ２０　　右室 ２１　　右着脱室 ２２　　左開口 ２３　　右開口 ２６　　左弁体 ２７　　右弁体 ２８　　中間弁体 ２９　　左基板ホルダ ３０　　右基板ホルダ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　成膜室を備えた中央室と、該中央室の
   左側及び右側にそれぞれ隣接し基板の着脱室を備えた左
   室及び右室と、前記中央室と前記左室との間に形成され
   た左開口と、前記中央室と前記右室との間に形成された
   右開口と、前記右室及び前記中央室を貫通し先端が前記
   左室に位置した搬送軸と、前記搬送軸の先端に固着され
   前記搬送軸の後退時前記左開口を閉塞する左弁体と、前
   記搬送軸の基部側に固着され前記搬送軸の前進時前記右
   開口を閉塞する右弁体と、前記左弁体と前記右弁体の中
   間の前記搬送軸に固着され前記搬送軸の前進時及び後退
   時に前記左開口及び前記右開口を閉塞する中間弁体と、
   前記左弁体と前記中間弁体の中間の前記搬送軸に設けら
   れた左基板ホルダと、前記中間弁体と前記右弁体の中間
   の前記搬送軸に設けられた右基板ホルダとを備えた薄膜
   形成装置。