JPH0436386A - スラグの改善 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［０００１］

【卒業上の利用分野】

本発明は、ガス化帯域と水浴とを備えたガス化反応器中
で粒状石炭を部分燃焼させて、合成ガスとフライアッシ
ュとを含有する熱いガス流及びスラグを該ガス化帯域に
おいて生成させる工程、及び生成しなスラグを反応帯域
から該水浴中に排出させる工程を含んでなる石炭のガス
化法に関する。 ［０００２］

【従来の技術】

石炭の部分燃焼即ちガス化は石炭を高められた温度及び
恐らく高められた圧力にて制限容量の酸素と反応させる
ことを伴い、しかしてこの反応は有利には水蒸気、二酸
化炭素又は種々の他の物質の如き追加的な剤の存在下で
行われる。石炭のガス化は合成ガスとして知られている
ガスを生成し、しかしてこのガスは主として一酸化炭素
及び水素を含有する。種々の量の他のガス例えば二酸化
炭素及びメタン並びに種々の液体及び固体の物質も生成
する。 多くの石炭は、炭素及び水素に加えて種々の量の無機の
不燃性物質を含有している。この不燃性物質は究極的に
は酸化過程の粒状副生物になり、そしてその粒子の密度
や大きさのような特性並びに反応器の形状や状態に依り
、反応器において″フライアッシュ粒子　（比較的軽い
）及び゛′スラグ゛（比較的稠密な）とそれぞれ呼ばれ
る粒子への大まかな分離を受は得る。垂直に配置された
ガス化帯域又は反応器において、フライアッシュ粒子は
頭部から除去され、一方比較的稠密な物質は反応器の炉
床において溶融スラグ（しばしば、分離された鉄を含む
。）として集められる。反応器の炉床から、スラグはス
ラグタップと称される出口又はオリフィスを通じて下向
きに水浴中に排出される。 ［０００３］ このスラグは、　°“還元性パ雰囲気から引き出される
ので、充分に酸化性である雰囲気が利用される燃焼ボイ
ラーと通常関連のあるスラグとは組成及び性質において
異なっている傾向かあ、る。例えば、石炭の部分燃焼法
からのスラグは、ボイラースラグと通常関連のない成分
である元素状鉄及び硫化物を含有し得る。 ［０００４］

【発明が解決しようとする課題】

スラグは、その究極的廃棄に関する限り、不所望な性質
を有しうる。特に、スラグは不所望な種例えば砒素、セ
レン及び上記硫化物を含有し得、そしてスラグが利用さ
れるべきであったりあるいは埋めたて式ごみ廃棄として
廃棄されるべきである場合、そのような物質をスラグが
環境に容易に放出しない形態になければならない。存在
する硫化物は特にやっかいであり、何故なら強酸性物質
と接触すると硫化水素が発生するからである。従って、
部分燃焼法において水浴の底部から除去されるスラグは
、使用又は廃棄の前に更なる処理を通常受ける。本発明
は特に、かかるスラグからのＨ２Ｓの発生の問題を取り
扱う。 ［０００５］

【課題を解決するための手段】

本発明の方法はそれ故、水浴の酸化還元電位を、硫化物
がスラグ中に存在又は混在（ｉ　ｎｃ　Ｉｕｓ　１ｏｎ
）するのを妨げるのに充分なレベルに調整（ｆｏｒｍｕ
ｌａｔｉｏｎ）又は維持することを特徴とする。 本発明によれば、ガス流は急冷されそして冷却され、そ
して少なくともフライアッシュの大部分がガス流から除
去される。 ［０００６］ 本発明の有利な態様では、水浴の酸化還元電位は、−０
，３ｖないし１．２ｖ特に０．Ｏｖないし０．５Ｖに維
持される。水浴中の水の酸化還元電位は、種々のやり方
で例えば適当な酸化体の添加により、上記のレベルに維
持され得る。例えば、酸素カミ該浴の組成水に添加され
得あるいは該浴の再循環路に添加され得る。該酸素は、
空気としであるいは純粋な又は半純粋な酸素として添加
され得る。その代わりに、固体の又は溶解された添加剤
力板水浴の酸化還元電位を所望レベルにもならすなめに
又は維持するために用いられ得る。適当な酸化体には、
アルカリ及びアルカリ土類の過硫酸塩及び過塩素酸塩、
鉄（ＩＩＩ）塩例えば塩化物、臭化物及び硝酸塩、アル
カリ及びアルカリ土類の亜硫酸塩及び鉄酸塩、過酸化物
例えば過酸化水素、並びにクロム酸塩及び過マンガン酸
塩がある。当業者が気付くように、酸素又は添加剤は、
効果的な量即ち酸化還元電位を所望範囲にもならすのに
充分な量にて添加される。酸化体は、必要に応じて連続
的に又は断続的に添加され得る。 ［０００７］ 水浴は水のいかなる適当な給源に由来していてもよく、
該浴に添加される空気酸素又は他の添加剤の量をもたら
す種々のイオン種を含有する、ということが理解されよ
う。例えば、種々の金属イオン例えば鉄イオン及びナト
リウムイオンが該浴中に存在し得る。唯一の有意的要件
は、水の外来成分の濃度又は性質が本発明の態様におけ
る酸化還元電位の所望的変更又は維持を実質的程度まで
妨害しないことである、ということを当業者は認識する
であろう。 ［０００８］

【作用】

水浴を上記の酸化還元範囲即ち酸化還元レベルに制御す
ることにより、ガス化反応からのスラグ中の硫黄含有種
が可溶性種（水とともにその後除去される。）又は硫黄
（スラグ粒子上の不動態性表面を形成する。）に変換さ
れ得るようになる、と信じられる。従って、硫化物がス
ラグ中に存在又は混在するのを妨げることの可能な酸化
体は、スラグ中において、不溶性の硫黄含有種の生成を
妨げあるいは変換してより高い酸化状態（硫酸塩におい
てのように）で存在する硫黄をもたらすのに充分な酸化
能を有する組成物即ち化合物又はそれらの混合物を指す
。 かくして、該酸化体は、強酸（Ｈ２Ｓを発生する。）及
び明らかに硫化物のような組成物を排除する。上記に記
載したように、スラグ中における硫化物を妨げることの
可能な組成物の効果的量が用いられる。スラグの所与質
量層たりのこの量は、開始時又は新たな石炭の導入時に
スラグの試料の硫黄含有率を分析することにより決めら
れ得る。有利には、存在する硫黄種を変換するのに充分
な酸化体組成物（好ましくは、少なくとも化学量論的基
準）が用いられ、通常該組成物の過剰量が用いられる。 ［０００９］ 合成ガス（本質的に一酸化炭素及び水素）及び粒状フラ
イスラグを生成させるべき石炭の部分燃焼は周知であり
、公知の方法の概観が「工業化学のウルマン百科事典（
Ｕｌｌｍａｎｎｓ　　Ｅｎｚｙｋｌｏｐａｄｉｅ　　Ｄ
ｅｒ　　Ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ　　Ｃｈｅｍｉｅ）、
第１０巻（１９５８）、第３６０〜４５８頁」に記載さ
れている。水素及び−酸化炭素、フライスラグを含有す
るガスの製造のためのかかる方法が現在いくつか開発さ
れつつある。従って、ガス化法の詳細は、本発明の理解
に必要な限りのみ関連づけられる。 ［００１０］ 一般に、ガス化は、石炭を制限容量の酸素でもって通常
８００℃ないし２０００℃の温度特に１０５０℃ないし
２０００℃の温度にて部分燃焼させることにより行われ
る。１０５０℃ないし２０００℃の温度が用いられる場
合、生成物ガスは非常に少量のガス副生物例えばタール
、フェノール及び凝縮性炭化水素を含有し得る。適当な
石炭には、亜炭、歴青炭、亜歴青炭、無煙炭及び褐炭が
ある。亜炭及び歴青炭が好ましい。より急速で完全なガ
ス化を達成させるために、石炭を最初に微粉砕すること
が好ましい。粒子の大きさは、好ましくは固体の石炭供
給物の７０％が２００メツシユふるいを通過し得るよう
に選ばれる。ガス化は有利には酸素及び水蒸気の存在下
で行われ、しかして酸素の純度は好ましくは少なくとも
９０容量％であり、窒素、二酸化炭素及びアルゴンは不
純物として許容され得る。石炭の水含有率があまりにも
高い場合、石炭は使用前に乾燥されるべきである。雰囲
気は、酸素対水分及び灰分不含の石炭の重量比を０．６
〜１．０好ましくは０．８〜０．９の範囲に調整するこ
とにより還元性に維持される。一般に酸素と水蒸気の比
率ば１容量部の酸素当たｉ’）０．１〜１．０容量部の
水蒸気が存在するよう選ばれることが好ましいけれども
、酸素対水蒸気の実質的に異なる比率での方法に本発明
は適用できる。用いられる酸素は有利には、石炭と接触
される前に特に約２００℃ないし約５００℃の温度に加
熱される。 ［００１１］ ガス化が行われる高温は、石炭を酸素及び水蒸気と反応
器中で高速にて反応させることにより得られる。有利な
線状速度は１秒当たり１０〜１００メートルであるけれ
ども、−層高い又は−層低い速度も用いられ得る。ガス
化が遂行され得る圧力は、広範囲特に１〜２００バール
にて変えられ得る。滞留時間は広範囲に変えられ得、し
かして通常滞留時間は０，２〜２０秒であり、０．５〜
１５秒の滞留時間が有利である。 ［００１２］ 出発物質が変換された後、水素、−酸化炭素、二酸化炭
素及び水蒸気を含んでなる反応生成物ガスが反応器から
除去される。スラグ粒子は、反応器の下部に落下し、そ
れから水浴中に落下する。水浴は、例えば０．２ｖの酸
化電位に維持される。通常１０５０℃ないし１８００’
Ｃの温度分有する合成ガスはフライアッシュを含有し、
頭部から除去される。該ガスから不純物の除去を可能に
するために反応生成物流は最初に急冷されそして冷却さ
れるべきである。ガス流を冷却するために種々の精巧な
技法が開発されており、しかしてこれらの技法は一般に
急冷ガス、及び廃熱の利用で水蒸気が発生されるボイラ
ーを用いることにより特徴づけられる。粒状のフライア
ッシュ固体をガス流から除去するために、サイクロン又
は他の適当な技法も与えられ得る。かかる処理の結果、
はとんど固体を含有せずかつ特に２０℃ないし４０℃の
温度を有するガスが得られる。スラグ粒子は水浴の底部
から除去される。本発明に従って酸化還元レベルに維持
されたスラグ浴から除去されたスラグ粒子は、Ｈ２Ｓの
発生についての試験において、この汚染物について実質
的に低減した放出レベルを示した。 ［００１３］ 本発明を特定の装置とともに例示したが、特記されてい
る場合を除いて他の装置又は類似の装置が用いられ得る
、ということを当業者は理解するであろう。本明細書及
び特許請求の範囲に用いられている用語゛′帯域“は、
適当である場合、順次的に操作されるセグメント装置（
区分化された装置）の使用、あるいは効率の向上又は大
きさの束縛の克服のために１つの装置を複数の装置に分
けること、等を含む。複数の装置の並行操作も、無菌本
発明の範囲にある。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ガス化帯域と水浴とを備えたガス化反応器
   中で粒状石炭を部分燃焼させて、合成ガスとフライアッ
   シュとを含有する熱いガス流及びスラグを該ガス化帯域
   において生成させる工程、及び生成したスラグを反応帯
   域から該水浴中に排出させる工程を含んでなる石炭のガ
   ス化法において、該水浴の酸化還元電位を、硫化物がス
   ラグ中に存在又は混在するのを妨げるのに充分なレベル
   に調整又は維持することを特徴とする上記ガス化法。
2. 【請求項２】水浴の酸化還元電位を−０．３ｖないし１
   ．２ｖに維持する、請求項１記載のガス化法。
3. 【請求項３】合成ガスを含有する熱いガス流を急冷しそ
   して冷却し、フライアッシュをこの合成ガスから除去し
   、そしてこの合成ガスを回収する、請求項２記載のガス
   化法。
4. 【請求項４】硫化物がスラグ中に存在又は混在するのを
   妨げることの可能な酸化体を水浴に添加して水浴の酸化
   還元電位を−０．３ｖないし１．２ｖに維持する、請求
   項２記載のガス化法。