JPH04362029A - ボールブランクの成膜装置 - Google Patents
ボールブランクの成膜装置Info
- Publication number
- JPH04362029A JPH04362029A JP16078691A JP16078691A JPH04362029A JP H04362029 A JPH04362029 A JP H04362029A JP 16078691 A JP16078691 A JP 16078691A JP 16078691 A JP16078691 A JP 16078691A JP H04362029 A JPH04362029 A JP H04362029A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film forming
- ball
- ball blank
- container
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズなどの光学素子
をプレス成形で製造するときに用いるボ−ルブランクの
成膜装置に関するものである。
をプレス成形で製造するときに用いるボ−ルブランクの
成膜装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】光学素子としてのガラス成形品には、プレ
ス成形前に、ボ−ルブランクの状態で、表面に離形用の
皮膜を予め形成しておくことがなされている。このため
の成膜装置は、成膜チャンバ−内に位置して、多数のボ
−ルブランクを収納する容器が配置され、また、これに
対向する位置に蒸着手段を配置しているけれども、その
具体的構成としては、例えば、特開平２−２６８５１号
公報に開示されているように、容器に対して個々の定位
置に保持されたボ−ルブランクを、半径の異なる二個の
同心円状の部材に沿って所定速度で回転させ、上記蒸着
手段により、全表面に膜付けを行うものが知られている
。
ス成形前に、ボ−ルブランクの状態で、表面に離形用の
皮膜を予め形成しておくことがなされている。このため
の成膜装置は、成膜チャンバ−内に位置して、多数のボ
−ルブランクを収納する容器が配置され、また、これに
対向する位置に蒸着手段を配置しているけれども、その
具体的構成としては、例えば、特開平２−２６８５１号
公報に開示されているように、容器に対して個々の定位
置に保持されたボ−ルブランクを、半径の異なる二個の
同心円状の部材に沿って所定速度で回転させ、上記蒸着
手段により、全表面に膜付けを行うものが知られている
。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ボ−ルブランクの成膜装置では、ボ−ルブランクを個々
に保持する方式であるため、装置の構造が複雑となり、
また、処理能力にも限界がある。
ボ−ルブランクの成膜装置では、ボ−ルブランクを個々
に保持する方式であるため、装置の構造が複雑となり、
また、処理能力にも限界がある。
【０００４】
【発明の目的】本発明は上記事情に基いてなされたもの
で、容器の回転に連れて、その中で、緩やかにボ−ルブ
ランクが自由回転し、相互の接触も穏やかで、全ての面
が蒸着手段により成膜出来る、構成のシンプルなボ−ル
ブランクの成膜装置を提供しようとするものである。
で、容器の回転に連れて、その中で、緩やかにボ−ルブ
ランクが自由回転し、相互の接触も穏やかで、全ての面
が蒸着手段により成膜出来る、構成のシンプルなボ−ル
ブランクの成膜装置を提供しようとするものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】すなわち、本発明にお
いては、成膜チャンバ−内に位置して、多数のボ−ルブ
ランクを収納する容器が配置され、また、これにガスを
励起する蒸着手段を配置しているボ−ルブランクの成膜
装置において、上記容器は、上方を開口しかつ平坦な底
面を備えた構成で、垂直方向に対して傾いた回転軸で回
転されるようにその底面を傾斜して軸支されている。
いては、成膜チャンバ−内に位置して、多数のボ−ルブ
ランクを収納する容器が配置され、また、これにガスを
励起する蒸着手段を配置しているボ−ルブランクの成膜
装置において、上記容器は、上方を開口しかつ平坦な底
面を備えた構成で、垂直方向に対して傾いた回転軸で回
転されるようにその底面を傾斜して軸支されている。
【０００６】
【作用】このように、容器の底面が傾いた状態で回転す
るだけで、内部のボ−ルブランクを具合良く転動させる
ことができるので、装置がシンプルで、しかも、ボ−ル
ブランクの大量成膜処理が可能である。
るだけで、内部のボ−ルブランクを具合良く転動させる
ことができるので、装置がシンプルで、しかも、ボ−ル
ブランクの大量成膜処理が可能である。
【０００７】
【実施例】次に、本発明の実施例を図１を参照して具体
的に説明する。ここでは、本発明を実施するためのボ−
ルブランクの成膜装置は、所謂、容量結合型高周波プラ
ズマＣＶＤ装置であって、真空排気口９を有する成膜チ
ャンバ−１１には、原料ガスの供給系１０、高周波放電
（あるいは直流放電でも良い）発生手段などを装備して
いる。すなわち、図において、符号４は、上記高周波放
電発生手段のコイル状アンテナであり、これには上記成
膜チャンバ−１１の外側に設けた高周波放電用電源６か
らマッチングボックス５を介して高周波電流が供給され
る。
的に説明する。ここでは、本発明を実施するためのボ−
ルブランクの成膜装置は、所謂、容量結合型高周波プラ
ズマＣＶＤ装置であって、真空排気口９を有する成膜チ
ャンバ−１１には、原料ガスの供給系１０、高周波放電
（あるいは直流放電でも良い）発生手段などを装備して
いる。すなわち、図において、符号４は、上記高周波放
電発生手段のコイル状アンテナであり、これには上記成
膜チャンバ−１１の外側に設けた高周波放電用電源６か
らマッチングボックス５を介して高周波電流が供給され
る。
【０００８】特に、本発明に係る容器２は、上記成膜チ
ャンバ−１１内に配置された回転支持台１上に載置され
ており、その形状は、上方を開口しかつメッシュで構成
された平坦な底面を備えた平篭型の構成で、その中には
多数の被成膜ボ−ルブランク３が収納されている。上記
支持台１は、その平面と直交する回転軸１Ａを具備して
おり、上記回転軸１Ａは垂直方向に対して所要の角度、
例えば、１０〜２０度、好ましくは１５度程、傾いた状
態で軸支され、適当な回転手段（図示せず）で回転駆動
されるようになっている。このため、容器２の底面は傾
斜した状態であり、上記支持台１の回転で容器２が回転
される時、その上で、上記ボ−ルブランク３を、相互の
接触が穏やかで、かつ、緩やかに自由回転させる。なお
、図中、符号７は、ボ−ルブランクの成膜時、その成膜
の厚さを測定するための水晶振動子式膜厚モニタ−、８
は上記容器中のボ−ルブランクを加熱するためのヒ−タ
−である。
ャンバ−１１内に配置された回転支持台１上に載置され
ており、その形状は、上方を開口しかつメッシュで構成
された平坦な底面を備えた平篭型の構成で、その中には
多数の被成膜ボ−ルブランク３が収納されている。上記
支持台１は、その平面と直交する回転軸１Ａを具備して
おり、上記回転軸１Ａは垂直方向に対して所要の角度、
例えば、１０〜２０度、好ましくは１５度程、傾いた状
態で軸支され、適当な回転手段（図示せず）で回転駆動
されるようになっている。このため、容器２の底面は傾
斜した状態であり、上記支持台１の回転で容器２が回転
される時、その上で、上記ボ−ルブランク３を、相互の
接触が穏やかで、かつ、緩やかに自由回転させる。なお
、図中、符号７は、ボ−ルブランクの成膜時、その成膜
の厚さを測定するための水晶振動子式膜厚モニタ−、８
は上記容器中のボ−ルブランクを加熱するためのヒ−タ
−である。
【０００９】なお、上記実施例において、例えば、ボ−
ルブランクの直径が７ｍｍ程度のとき、底面のメッシュ
は１ｍｍ程度で良い。
ルブランクの直径が７ｍｍ程度のとき、底面のメッシュ
は１ｍｍ程度で良い。
【００１０】このような構成では、ボ−ルブランクに対
する膜付けは、次のようにしてなされる。先ず、十分に
表面を洗浄したボ−ルブランク３を容器２内に入れ、こ
の容器を支持台１上に載せる。その後、真空排気口９か
ら成膜チャンバ−１１内に対して、真空排気を行い、内
部を、例えば、約１×１０−５Ｔｏｒｒの真空度にする
。この時、ボ−ルブランク３に対しては、ヒ−タ−８に
より、所定温度までの加熱が行われる。真空排気および
ボ−ルブランクの加熱が終了したならば、上記支持台１
を回転し、これによって、容器２の底面上で上記ボ−ル
ブランク３を転動させ、一方、原料ガス供給系１０から
ＣＨ４ ガスを上記成膜チャンバ−に供給する。また、
高周波電源６からマッチングボックス５を介して高周波
電力をアンテナ４に供給し、放電を開始したあと、ＣＨ
４ ガス圧を５×１０−４Ｔｏｒｒに調整する。このよ
うに、高周波放電を開始すると、ＣＨ４ ガスの放電で
、ボ−ルブランク３の表面に付着して、炭化水素膜が形
成される。この場合、容器２の底面が傾斜しているので
、ボ−ルブランク３はその自由回転で、全ての面にほぼ
均等に膜が形成される。この時の成膜の厚さは上記膜厚
モニタ−７で検知され、その検知した結果から、所定の
膜厚になったと判定されると、高周波電力の供給および
ＣＨ４ ガスの供給を止め、ヒ−タ−の付勢を解除し、
支持台１の回転を停止し、容器を成膜チャンバ−１１か
ら取出すのである。
する膜付けは、次のようにしてなされる。先ず、十分に
表面を洗浄したボ−ルブランク３を容器２内に入れ、こ
の容器を支持台１上に載せる。その後、真空排気口９か
ら成膜チャンバ−１１内に対して、真空排気を行い、内
部を、例えば、約１×１０−５Ｔｏｒｒの真空度にする
。この時、ボ−ルブランク３に対しては、ヒ−タ−８に
より、所定温度までの加熱が行われる。真空排気および
ボ−ルブランクの加熱が終了したならば、上記支持台１
を回転し、これによって、容器２の底面上で上記ボ−ル
ブランク３を転動させ、一方、原料ガス供給系１０から
ＣＨ４ ガスを上記成膜チャンバ−に供給する。また、
高周波電源６からマッチングボックス５を介して高周波
電力をアンテナ４に供給し、放電を開始したあと、ＣＨ
４ ガス圧を５×１０−４Ｔｏｒｒに調整する。このよ
うに、高周波放電を開始すると、ＣＨ４ ガスの放電で
、ボ−ルブランク３の表面に付着して、炭化水素膜が形
成される。この場合、容器２の底面が傾斜しているので
、ボ−ルブランク３はその自由回転で、全ての面にほぼ
均等に膜が形成される。この時の成膜の厚さは上記膜厚
モニタ−７で検知され、その検知した結果から、所定の
膜厚になったと判定されると、高周波電力の供給および
ＣＨ４ ガスの供給を止め、ヒ−タ−の付勢を解除し、
支持台１の回転を停止し、容器を成膜チャンバ−１１か
ら取出すのである。
【００１１】なお、上記実施例では、ＣＨ４ ガスを励
起して、膜形成を行うための蒸着手段に、高周波放電発
生手段を用いたが、直流放電による場合、あるいはＣＨ
４ ガスの励起にイオンガンを用いる場合も採用できる
ことは勿論である。
起して、膜形成を行うための蒸着手段に、高周波放電発
生手段を用いたが、直流放電による場合、あるいはＣＨ
４ ガスの励起にイオンガンを用いる場合も採用できる
ことは勿論である。
【００１２】
【発明の効果】以上の実施例で示したように、本発明の
成膜装置によれば、以下のような効果を奏することがで
きる。 （１） ボ−ルブランクが傾斜面上で転動するので、
容器を回転することにより、穏やかにボ−ルブランクが
自由回転し、ボ−ルブランク同士の衝突による損傷も無
く、全面的に膜付けが出来る。 （２） 容器の中にボ−ルブランクをランダムに収納
するだけで良いから、大量処理に適しており、低コスト
で提供できる。 （３） ボ−ルブランクの収容のための容器は、例え
ば、平篭などの簡単な構成で良く、従来のように、個々
のボ−ルブランクを保持する治具などが不要となるから
、構成、設備が簡素である。
成膜装置によれば、以下のような効果を奏することがで
きる。 （１） ボ−ルブランクが傾斜面上で転動するので、
容器を回転することにより、穏やかにボ−ルブランクが
自由回転し、ボ−ルブランク同士の衝突による損傷も無
く、全面的に膜付けが出来る。 （２） 容器の中にボ−ルブランクをランダムに収納
するだけで良いから、大量処理に適しており、低コスト
で提供できる。 （３） ボ−ルブランクの収容のための容器は、例え
ば、平篭などの簡単な構成で良く、従来のように、個々
のボ−ルブランクを保持する治具などが不要となるから
、構成、設備が簡素である。
【図１】本発明を実施するための成膜装置の一実施例の
概略図である。
概略図である。
１ 支持台
２ 容器
３ ボ−ルブランク
４ アンテナ
５ マッチングボックス
６ 高周波放電用電源
７ 膜厚モニタ−
８ ヒ−タ−
９ 真空排気口
１０ 原料ガス供給系
１１ 成膜チャンバ−
Claims (4)
- 【請求項１】 成膜チャンバ−内に位置して、多数の
ボ−ルブランクを収納する容器が配置され、また、成膜
の前駆体としての導入ガスを励起する蒸着手段を備えた
ボ−ルブランクの成膜装置において、上記容器は、上方
を開口しかつ平坦な底面を備えた構成で、垂直方向に対
して傾いた回転軸で回転されるようにその底面を傾斜し
て軸支されていることを特徴とするボ−ルブランクの成
膜装置。 - 【請求項２】 前記蒸着手段は、上記成膜チャンバ−
に導入されたガスを高周波放電あるいは直流放電により
励起する構成であることを特徴とする請求項１に記載の
ボ−ルブランクの成膜装置。 - 【請求項３】 前記蒸着手段は、上記成膜チャンバ−
に導入されたガスをイオンガスにより励起する構成であ
ることを特徴とする請求項１に記載のボ−ルブランクの
成膜装置。 - 【請求項４】 上記容器の底面はメッシュで構成され
ていることを特徴とする請求項１に記載のボ−ルブラン
クの成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16078691A JP2757899B2 (ja) | 1991-06-06 | 1991-06-06 | ボールブランクの成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16078691A JP2757899B2 (ja) | 1991-06-06 | 1991-06-06 | ボールブランクの成膜装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04362029A true JPH04362029A (ja) | 1992-12-15 |
| JP2757899B2 JP2757899B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=15722422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16078691A Expired - Fee Related JP2757899B2 (ja) | 1991-06-06 | 1991-06-06 | ボールブランクの成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2757899B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-06 JP JP16078691A patent/JP2757899B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2757899B2 (ja) | 1998-05-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5183547A (en) | Sputtering apparatus and system for sputtering employing same | |
| US3931789A (en) | Vapor deposition apparatus | |
| KR19980701759A (ko) | 반도체장치의 제조방법 및 반도체 제조장치 | |
| US6105534A (en) | Apparatus for plasma jet treatment of substrates | |
| US6241824B1 (en) | Apparatus for the coating of substrates in a vacuum chamber | |
| US5660693A (en) | Ion vapour deposition apparatus and method | |
| US2912351A (en) | Lens coating apparatus and process | |
| US5427671A (en) | Ion vapor deposition apparatus and method | |
| US3396696A (en) | Lens turner for high vacuum evaporators | |
| JPH04362029A (ja) | ボールブランクの成膜装置 | |
| EP0567501B1 (en) | Ion vapour deposition apparatus and method | |
| JP2009108384A (ja) | 成膜装置 | |
| TWI391507B (zh) | 光學鍍膜裝置 | |
| JPH0356668A (ja) | スパッター装置 | |
| JPH03264667A (ja) | カルーセル型スパッタリング装置 | |
| JP2592396B2 (ja) | 薄膜の形成装置 | |
| JPS59157281A (ja) | スパツタリング装置 | |
| WO2017156614A1 (ru) | Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий и способ нанесения на ней оптических покрытий | |
| TWI841863B (zh) | 表面處理裝置及表面處理方法 | |
| JP3732748B2 (ja) | スパッタ成膜装置 | |
| JPH11350137A (ja) | 真空成膜装置における基板支持装置 | |
| JPH06136543A (ja) | プラズマｃｖｄ装置 | |
| JP2005179701A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0510464U (ja) | カルーセル型スパツタリング装置 | |
| JP3059746B2 (ja) | 真空成膜製造装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |