JPH0435725B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、反射防止層を有する光学材料および
その製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an optical material having an antireflection layer and a method for producing the same.
一般に、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズなどの
光学レンズ、その他のプラスチツク製光学材料に
おいては反射防止性を有することが要求され、特
に眼鏡用レンズなどにおいては、キズの発生を防
止するためのハードコート層の他に、ゴーストや
フレアと呼ばれる反射像の形成を防止するため、
単層または多層からなる反射防止層を形成するこ
とが行われている。
Generally, optical lenses such as eyeglass lenses and camera lenses, as well as other plastic optical materials, are required to have anti-reflection properties.In particular, eyeglass lenses are required to have a hard coating to prevent scratches. In addition to the layer, to prevent the formation of reflected images called ghosts and flares,
Antireflection layers consisting of a single layer or multiple layers have been formed.
従来、反射防止層を形成する方法としては、真
空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレーテイ
ング法、CVD法などの蒸着法により、ガラスま
たはプラスチツクよりなる基体の表面に直接、あ
るいは基体の表面に有機物質よりなるハードコー
ト層やプライマーコート層を形成した上で、シリ
カその他の無機材料を被着させる方法が知られて
いる。 Conventionally, anti-reflection layers have been formed directly on the surface of a substrate made of glass or plastic, or by depositing organic substances on the surface of the substrate, using vapor deposition methods such as vacuum evaporation, sputtering, ion plating, and CVD. A method is known in which a hard coat layer or a primer coat layer is formed and then silica or other inorganic material is deposited on the hard coat layer or primer coat layer.
しかしながら、このような蒸着法によつて反射
防止層を形成する方法においては、概して生産性
が低くて高価となるという欠点に加え、基体の特
性が発現されなくなつたり、あるいは損なわれる
という問題点がある。例えば、基体がプラスチツ
ク基体である場合には、基体それ自体は染色可能
性を有するが蒸着法による反射防止層の形成によ
つて染色可能性が失われ、また蒸着のための苛酷
な条件によつて当該プラスチツク基体の耐衝撃性
が格段に低下するようになる。また、蒸着法にお
いては基体を例えば300℃以上に加熱することが
必要とされるが、プラスチツク基体はそのような
高温に加熱することはできない。しかし、低い加
熱温度で蒸着を行うと、形成される蒸着膜は基体
に対する密着性が不十分なものとなる。 However, in the method of forming an antireflection layer by such a vapor deposition method, in addition to the disadvantages of low productivity and high cost, there is also the problem that the characteristics of the substrate are not expressed or are impaired. There is. For example, when the substrate is a plastic substrate, the substrate itself has dyeability, but the dyeability is lost due to the formation of an anti-reflection layer by vapor deposition, and the harsh conditions for vapor deposition As a result, the impact resistance of the plastic substrate is significantly reduced. Furthermore, although vapor deposition methods require heating the substrate to, for example, 300° C. or higher, plastic substrates cannot be heated to such high temperatures. However, when vapor deposition is performed at a low heating temperature, the formed vapor deposited film has insufficient adhesion to the substrate.
また、基体の表面に有機物質よりなるハードコ
ート層やプライマーコート層を形成した場合に
は、それらの耐久性および耐熱性が低いため、更
にその上に蒸着法によつて反射防止層を形成する
と、クラツクや当該反射防止層の剥離が比較的早
い時期に発生するという問題点がある。 In addition, when a hard coat layer or a primer coat layer made of an organic substance is formed on the surface of the substrate, their durability and heat resistance are low, so it is difficult to form an antireflection layer on top of it by vapor deposition. However, there is a problem in that cracks and peeling of the antireflection layer occur relatively early.
一方、以上のような蒸着法によらずに、有機物
質または無機物質よりなる材料を、デイツピング
法、スピンコート法、スプレイコート法などによ
つて基体の表面に塗布し、これによつて単層また
は多層の反射防止層を形成する方法も多く提案さ
れており、例えば特開昭59−49501号公報、特開
昭59−49502号公報、特開昭60−68319号公報、特
開昭60−213901号公報などにおいては、ケイ素含
有化合物による被膜またはシリカ微粉末を分散し
てなる被膜よりなる反射防止層を形成することが
記載されている。 On the other hand, instead of using the above vapor deposition method, a material made of an organic or inorganic material is applied to the surface of the substrate by a dipping method, spin coating method, spray coating method, etc., thereby forming a single layer. Alternatively, many methods for forming multilayer antireflection layers have been proposed, such as JP-A-59-49501, JP-A-59-49502, JP-A-60-68319, and JP-A-60-60. Publication No. 213901 and the like describe the formation of an antireflection layer consisting of a coating made of a silicon-containing compound or a coating made by dispersing fine silica powder.
上記の反射防止層は酸化ケイ素の低屈折性を利
用するものであるが、酸化ケイ素の屈折率は1.46
であつて十分に低いものではなく、このため、必
ずしも優れた反射防止効果を得ることができな
い、という問題点がある。
The above anti-reflection layer utilizes the low refractive properties of silicon oxide, but the refractive index of silicon oxide is 1.46.
However, it is not sufficiently low, and therefore, there is a problem in that it is not necessarily possible to obtain an excellent antireflection effect.
本発明は、屈折率が十分に低く、これによつて
優れた反射防止効果が発揮される反射防止層を有
する光学材料を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide an optical material having an antireflection layer that has a sufficiently low refractive index and exhibits an excellent antireflection effect.
本発明の他の目的は、上記のような反射防止層
を有する光学材料を有利に製造することのできる
方法を提供するにある。 Another object of the present invention is to provide a method that can advantageously produce an optical material having an antireflection layer as described above.
本発明の反射防止層を有する光学材料は、屈折
率が1.48以上の透明なプラスチツク基体と、この
プラスチツク基体の表面を覆うよう形成した、平
均粒子径が0.3〜200nmのフツ化マグネシウムよ
りなる無機微粉末がバインダー中に分散されてな
り、前記プラスチツク基体よりも0.02以上低い屈
折率を有する厚さ50〜5000nmの反射防止層とを
有してなることを特徴とする。
The optical material having an antireflection layer of the present invention comprises a transparent plastic substrate with a refractive index of 1.48 or more, and an inorganic microorganism made of magnesium fluoride with an average particle size of 0.3 to 200 nm, which is formed to cover the surface of the plastic substrate. It is characterized by comprising a powder dispersed in a binder and an antireflection layer having a thickness of 50 to 5000 nm and having a refractive index lower by 0.02 or more than the plastic substrate.
本発明の製造方法は、屈折率が1.48以上の透明
なプラスチツク基体の表面に、平均粒子径が0.3
〜200nmのフツ化マグネシウムよりなる無機微粉
末とバインダーの材料とを含有する反射防止層形
成塗布液を塗布し、前記無機微粉末がバインダー
中に分散されてなり、前記プラスチツク基体より
も0.02以上低い屈折率を有する厚さ50〜5000nm
の反射防止層を形成することを特徴とする。 In the manufacturing method of the present invention, particles with an average particle diameter of 0.3 are coated on the surface of a transparent plastic substrate with a refractive index of 1.48 or more.
An antireflection layer forming coating solution containing an inorganic fine powder of magnesium fluoride of ~200 nm and a binder material is applied, and the inorganic fine powder is dispersed in the binder, and the anti-reflection layer is 0.02 or more lower than the plastic substrate. Thickness 50~5000nm with refractive index
It is characterized by forming an antireflection layer.
以下、本発明について具体的に説明する。 The present invention will be specifically explained below.
本発明においては、反射防止層が形成される基
体として、その屈折率が1.48以上の透明なプラス
チツク基体が用いられる。このようなプラスチツ
ク基体であれば、その材質が限定されるものでは
なく、例えばポリメチルメタクリレート、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート、酢酸セルロース、そ
の他の樹脂よりなるものを用いることができ、更
に近年、高屈折率材料として提案されている各種
のアクリレート共重合体、メタクリレート共重合
体、芳香族ブロム化合物を含有するポリマー、ポ
リウレタンなどを使用することもできる。 In the present invention, a transparent plastic substrate having a refractive index of 1.48 or more is used as the substrate on which the antireflection layer is formed. As long as such a plastic base is used, the material is not limited, and for example, those made of polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, diethylene glycol bisallyl carbonate, cellulose acetate, and other resins can be used. , various acrylate copolymers, methacrylate copolymers, polymers containing aromatic bromine compounds, polyurethane, etc. that have been proposed as high refractive index materials can also be used.
本発明において用いられるプラスチツク基体は
その屈折率が1.48以上のものであることが必要で
あり、屈折率が1.48未満のプラスチツク基体を用
いると、実質的に反射防止効果が発現されない場
合がある。そして、屈折率が1.54以上のプラスチ
ツク基体を用いると、十分に優れた反射防止効果
を得ることができる。 The plastic substrate used in the present invention must have a refractive index of 1.48 or more; if a plastic substrate with a refractive index of less than 1.48 is used, the antireflection effect may not be substantially achieved. When a plastic substrate with a refractive index of 1.54 or more is used, a sufficiently excellent antireflection effect can be obtained.
このように、プラスチツク基体の屈折率は1.48
以上であることが必要であるが、本発明において
は、屈折率が比較的低くて例えば屈折率が1.53以
下のプラスチツク材料に反射防止層を形成する場
合に、当該プラスチツク材料の表面に、屈折率が
1.48以上、好ましくは1.53以上の透明な有機物質
よりなる表面層を形成し、これによつて表面部分
の屈折率を調節したものをプラスチツク基体とし
て用いることができる。この表面層は、その屈折
率がプラスチツク材料の屈折率と近似したもので
あることが好ましい。この表面層は、ハードコー
ト層としての性質を有するものとして形成するこ
とも可能である。 Thus, the refractive index of the plastic substrate is 1.48
However, in the present invention, when an antireflection layer is formed on a plastic material having a relatively low refractive index, for example, a refractive index of 1.53 or less, the refractive index is but
A surface layer made of a transparent organic material having a refractive index of 1.48 or more, preferably 1.53 or more can be formed, thereby controlling the refractive index of the surface portion, and this can be used as a plastic substrate. Preferably, this surface layer has a refractive index similar to that of the plastic material. This surface layer can also be formed to have properties as a hard coat layer.
本発明において用いられるプラスチツク基体
は、最終的に使用目的に応じた形態とされ得るも
のであればよく、例えば各種のレンズなどの光学
材料としての形態を有するものであつてもよい
し、平板、その他の形態を有し、後に光学材料の
形態に加工されるものであつてもよい。このよう
なプラスチツク基体は、射出成型法や注型重合法
などによつて製造することができる。 The plastic substrate used in the present invention may be of any shape as long as it can be shaped according to the final purpose of use; for example, it may be shaped as an optical material such as various lenses, or it may be a flat plate, It may have another form and be later processed into the form of an optical material. Such a plastic substrate can be manufactured by injection molding, cast polymerization, or the like.
本発明においては、プラスチツク基体の表面を
覆うよう反射防止層が形成される。この反射防止
層は、フツ化マグネシウム微粉末を主体とする無
機微粉末がバインダー中に分散されてなるもので
ある。この無機微粉末は、フツ化マグネシウム微
粉末のみよりなるものであつてもよいし、あるい
はフツ化マグネシウム微粉末を主体とし、他の無
機物質の微粉末を含有するものであつてもよい。 In the present invention, an antireflection layer is formed to cover the surface of the plastic substrate. This antireflection layer is made by dispersing inorganic fine powder, mainly consisting of fine magnesium fluoride powder, in a binder. This inorganic fine powder may be composed only of fine magnesium fluoride powder, or may be mainly composed of fine magnesium fluoride powder and may contain fine powder of other inorganic substances.
ここにフツ化マグネシウム微粉末としては、平
均粒子径が0.3〜200nmのものが用いられるが、
特に0.5〜100nmの微粉末が好ましい。平均粒子
径が0.3nm未満のフツ化マグネシウム微粉末は製
造が困難であるためにコストが高くなつて実用的
ではなく、一方、平均粒子径が200nmより大きい
ものを使用すると、形成される反射防止層の透明
性が低下する。 The magnesium fluoride fine powder used here has an average particle size of 0.3 to 200 nm.
Particularly preferred is a fine powder of 0.5 to 100 nm. Magnesium fluoride fine powder with an average particle size of less than 0.3 nm is difficult to manufacture, resulting in high costs and is not practical.On the other hand, when using one with an average particle size of more than 200 nm, the anti-reflection that is formed The transparency of the layer decreases.
フツ化マグネシウム微粉末と共に用いられる無
機物質の微粉末としては、例えばシリカ(SiO2、
屈折率1.46)、フツ化アルミニウム(AlF3、屈折
率1.33〜1.39)、フツ化カルシウム(CaF2、屈折
率1.44)、フツ化リチウム(LiF、屈折率1.36〜
1.37)、フツ化ナトリウム(NaF、屈折率1.32〜
1.34)およびフツ化トリウム(ThF4、屈折率1.45
〜1.5)などを挙げることができる。これらの微
粉末は、平均粒子径が0.3〜200nmのものが好ま
しく、またその1種または2種以上を用いること
ができる。 Examples of fine inorganic powders used together with fine magnesium fluoride powder include silica (SiO 2 ,
Refractive index 1.46), aluminum fluoride (AlF 3 , refractive index 1.33-1.39), calcium fluoride (CaF 2 , refractive index 1.44), lithium fluoride (LiF, refractive index 1.36-1.39)
1.37), sodium fluoride (NaF, refractive index 1.32~
1.34) and thorium fluoride (ThF 4 , refractive index 1.45)
~1.5). These fine powders preferably have an average particle diameter of 0.3 to 200 nm, and one or more of them can be used.
以上の無機物質の微粉末が併用される場合にお
いては、無機微粉末全体の50重量%以上の割合の
部分が前記フツ化マグネシウム微粉末であること
が好ましい。 When the fine powders of the above inorganic substances are used together, it is preferable that the fine magnesium fluoride powder accounts for 50% by weight or more of the whole fine inorganic powders.
以上のフツ化マグネシウムを主体とする無機微
粉末が、後述するバインダー中に分散されて反射
防止層が形成される。この反射防止層の屈折率は
プラスチツク基体に対して0.02以上低いことが必
要であり、この屈折率の差が0.02以上でない場合
には優れた反射防止効果を得ることができない。
また、反射防止層におけるフツ化マグネシウムを
主体とする無機微粉末の割合は、耐擦傷性の点か
ら、反射防止層全体の3重量%以上、特に5重量
%以上であることが好ましい。 The above-mentioned inorganic fine powder mainly composed of magnesium fluoride is dispersed in a binder described later to form an antireflection layer. The refractive index of this antireflection layer must be 0.02 or more lower than that of the plastic substrate, and if the difference in refractive index is not 0.02 or more, excellent antireflection effects cannot be obtained.
Further, the proportion of the inorganic fine powder mainly composed of magnesium fluoride in the antireflection layer is preferably 3% by weight or more, particularly 5% by weight or more of the entire antireflection layer, from the viewpoint of scratch resistance.
本発明において、反射防止層は次のようにして
形成される。すなわち、上述のフツ化マグネシウ
ムを主体とする無機微粉末をバインダーの材料お
よび必要な分散媒体と共に混合して反射防止層形
成用塗布液を調製し、これをプラスチツク基体の
表面に塗布し、更に加熱などの硬化処理により硬
化させて反射防止層を形成する。 In the present invention, the antireflection layer is formed as follows. That is, a coating solution for forming an antireflection layer is prepared by mixing the above-mentioned inorganic fine powder mainly composed of magnesium fluoride with a binder material and a necessary dispersion medium, and this is coated on the surface of a plastic substrate, and then heated. The antireflection layer is formed by curing the antireflection layer by a curing process such as the following.
上記バインダーとしては、膜形成性を有する樹
脂を用いることができる。そのような樹脂として
は、例えばアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリアミド樹脂、アリキド樹脂、塩化ビニル樹
脂、フツ素樹脂、シリコン樹脂などの熱可塑性樹
脂または熱可硬化樹脂が用いられる。熱可硬化樹
脂がバインダーとされる場合においては、その材
料として当該樹脂の前駆体が用いられ、これによ
つて反射防止層形成用塗布液が調製される。 As the binder, a resin having film-forming properties can be used. Examples of such resins include acrylic resin, polyurethane resin, melamine resin, epoxy resin, polyester resin,
Thermoplastic resins or thermosetting resins such as polyamide resins, alkyd resins, vinyl chloride resins, fluorine resins, and silicone resins are used. When a thermosetting resin is used as the binder, a precursor of the resin is used as the material, and a coating liquid for forming an antireflection layer is prepared using this.
以上の樹脂の他、本発明においては、加熱によ
り硬化する被膜を形成する金属アルコキシドをバ
インダーとして用いることができ、特に低い屈折
率の反射防止層が形成されることから、シランの
アルコキシドを用いることが好ましい。そしてシ
ランのアルコキシドとしては、アルコキシシラン
またはカーボンフアンクシヨナルポリオルガノシ
ロキサンが用いられる。 In addition to the above-mentioned resins, in the present invention, metal alkoxides that form a film that hardens upon heating can be used as a binder, and since an antireflection layer with a particularly low refractive index is formed, silane alkoxides can be used. is preferred. As the silane alkoxide, alkoxysilane or carbon functional polyorganosiloxane is used.
アルコシシランの具体例としては、例えばテト
ラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリ
ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシ
シラン、エチルトリブトキシシラン、プロピルト
リメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラ
ン、プロピルトリプロポキシシラン、プロピルト
リブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキ
シシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジエチル
ジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、
ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジブドキ
シシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチ
ルプロピルジエトキシシランなどがある。 Specific examples of alkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyl Triethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltripropoxysilane, propyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane,
Dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane,
Examples include diethyldipropoxysilane, diethyldibudoxysilane, methylethyldimethoxysilane, and methylpropyldiethoxysilane.
カーボンフアンクシヨナルポリオルガノシロキ
サンとしては、例えば3,4−エポキシシクロヘ
キシルアルキルトリアルコキシシラン、メタクリ
ロキシアルキルトリアルコキシシラン、ビニルト
リアルコキシシラン、γ−グリシドキシアルキル
トリアルコキシシラン、アミノアルキルトリアル
コキシシランなどがある。 Examples of the carbon functional polyorganosiloxane include 3,4-epoxycyclohexylalkyltrialkoxysilane, methacryloxyalkyltrialkoxysilane, vinyltrialkoxysilane, γ-glycidoxyalkyltrialkoxysilane, and aminoalkyltrialkoxysilane. There is.
以上のバインダーの材料は、反射防止層形成用
塗布液において、フツ化マグネシウムを主体とす
る無機微粉末が分散された分散媒中に分散もしく
は溶解される。特にバインダーがシランのアルコ
キシドであるときには、フツ化マグネシウムを主
体とする無機微粉末と有機溶剤よりなる分散媒中
で混合することにより、あるいは更にその一部を
オリゴマー状に加水分解して熟成させることによ
り、好適な反射防止層形成用塗布液を得ることが
できる。 The above-mentioned binder material is dispersed or dissolved in a dispersion medium in which inorganic fine powder mainly composed of magnesium fluoride is dispersed in the coating liquid for forming an antireflection layer. In particular, when the binder is a silane alkoxide, it can be mixed in a dispersion medium consisting of an inorganic fine powder mainly composed of magnesium fluoride and an organic solvent, or a part of it can be further hydrolyzed into an oligomer form and aged. Accordingly, a suitable coating liquid for forming an antireflection layer can be obtained.
反射防止層形成用塗布液の調製を容易にするた
めに、必要に応じて、フツ化マグネシウムを主体
とする無機系微粒子について、親水化処理または
疎水化処理を行うことができる。 In order to facilitate the preparation of the coating solution for forming an antireflection layer, the inorganic fine particles mainly composed of magnesium fluoride may be subjected to a hydrophilic treatment or a hydrophobic treatment, if necessary.
反射防止層形成用塗布液は、上述の無機微粉末
とバインダーとが水または有機溶剤よりなる分散
媒中に、プラスチツク基体に対して容易に塗布す
ることができるよう、適当な濃度で均一に分散さ
れたものとされる。特に均一な塗布を達成するた
めには、分散媒として有機溶剤を用いることが好
ましい。 The coating solution for forming an antireflection layer is made by uniformly dispersing the above-mentioned inorganic fine powder and binder in a dispersion medium consisting of water or an organic solvent at an appropriate concentration so that it can be easily applied to a plastic substrate. It is assumed that the In order to achieve particularly uniform application, it is preferable to use an organic solvent as a dispersion medium.
分散剤として用いられる有機溶剤としては、例
えばアルコール、ケトン、エステル、ハロゲン化
炭化水素、エーテルなどがあり、特にメチルアル
コール、エチルアルコール、ブチルアルコール、
n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコー
ルなどのアルコール類が好ましく用いられる。 Examples of organic solvents used as dispersants include alcohols, ketones, esters, halogenated hydrocarbons, and ethers, particularly methyl alcohol, ethyl alcohol, butyl alcohol,
Alcohols such as n-propyl alcohol and isopropyl alcohol are preferably used.
反射防止層形成用塗布液には、更に塗膜の表面
の平滑性を向上させるためのフローコントロール
剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを添加するこ
とも可能である。 It is also possible to further add a flow control agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, etc. to the coating solution for forming an antireflection layer in order to improve the surface smoothness of the coating film.
このような反射防止層形成用塗布液は、プラス
チツク基体の表面に、通常のデイツピング法やス
ピンコート法を利用して塗布され、形成された塗
膜を硬化させることにより、反射防止膜が形成さ
れる。 Such a coating solution for forming an anti-reflection layer is applied to the surface of a plastic substrate using a normal dipping method or spin coating method, and the formed coating film is cured to form an anti-reflection film. Ru.
反射防止層形成用塗布液の塗布に際しては、プ
ラスチツク基体の表面に前処理を施すことが好ま
しく、これにより、反射防止層のプラスチツク基
体に対する密着性を向上させることができる。 When applying the coating solution for forming an antireflection layer, it is preferable to pre-treat the surface of the plastic substrate, thereby improving the adhesion of the antireflection layer to the plastic substrate.
このような前処理としては、薬品処理または活
性化ガス処理などがなされる。薬品処理は、酸ま
たはアルカリによる処理が一般的である。また、
活性化ガス処理としては、コロナ放電処理、低温
プラズマ処理などがあり、その他、紫外線とオゾ
ンを利用した処理も有効である。これらの前処理
は、複数の処理を連続的にまたは段階的にあるい
は並行して実施することも可能である。 Such pretreatment includes chemical treatment, activated gas treatment, and the like. Chemical treatment is generally acid or alkali treatment. Also,
Activated gas treatments include corona discharge treatment and low-temperature plasma treatment, and treatments using ultraviolet rays and ozone are also effective. A plurality of these pretreatments can be carried out continuously, in stages, or in parallel.
一般に透明な基体の表面に単層の反射防止層を
形成する場合において、当該基体の屈折率をn0、
反射防止層の屈折率をn1、その層厚をd1、設計波
長をλとすると、n1・d1=λ/4あるいはその奇
数倍であるときに、垂直に入射する光に対する位
相差が180度となつて干渉による反射光の強度は
最小となる。これを位相の条件という。ここで
(n1・d1)は光学膜厚といい、物質の屈折率と設
計波長λが定まれば、反射防止層の具体的な厚さ
が設計される。ここで設計波長λは、一般に可視
域の300〜800nmの波長の範囲から目的に応じて
選ばれる。 Generally, when forming a single-layer antireflection layer on the surface of a transparent substrate, the refractive index of the substrate is n 0 ,
If the refractive index of the antireflection layer is n 1 , its layer thickness is d 1 , and the design wavelength is λ, then when n 1 · d 1 = λ/4 or an odd multiple thereof, the phase difference for vertically incident light becomes 180 degrees, and the intensity of reflected light due to interference becomes minimum. This is called the phase condition. Here, (n 1 ·d 1 ) is called the optical film thickness, and once the refractive index of the substance and the design wavelength λ are determined, the specific thickness of the antireflection layer is designed. Here, the design wavelength λ is generally selected from the visible wavelength range of 300 to 800 nm depending on the purpose.
また、反射防止層の屈折率が基体の屈折率の平
方根に等しい場合すなわちn1=√0の場合に反射
率が最小となる。これを振幅の条件という。 Further, the reflectance is minimum when the refractive index of the antireflection layer is equal to the square root of the refractive index of the substrate, that is, when n 1 =√ 0 . This is called the amplitude condition.
従つて、反射防止層の形成に用いる材料を適当
に選択して、反射防止層の屈折率と膜厚を制御す
ることにより、これら2つの条件をできるだけ満
足させることが好ましい。 Therefore, it is preferable to satisfy these two conditions as much as possible by appropriately selecting the material used to form the antireflection layer and controlling the refractive index and thickness of the antireflection layer.
反射防止層は、その厚さが小さいほど、位相の
条件を容易に実現することができるので反射防止
効果の発現のために望ましい。一方、反射防止層
は実際上光学材料の最外表面を形成するものとな
るのである程度の硬度を有することが実用上必須
であり、これを達成するためには、反射防止層は
厚さが大きいものであることが望ましい。このよ
うな観点から、本発明においては、反射防止層の
厚さは50〜5000nm、好ましくは100〜3000nmの
範囲内とされる。 The smaller the thickness of the antireflection layer, the easier it is to realize the phase conditions, which is desirable for achieving the antireflection effect. On the other hand, since the antireflection layer actually forms the outermost surface of the optical material, it is practically essential that it has a certain degree of hardness, and in order to achieve this, the antireflection layer must have a large thickness. It is desirable that the From this point of view, in the present invention, the thickness of the antireflection layer is within the range of 50 to 5000 nm, preferably 100 to 3000 nm.
なお、反射防止層の形成に用いる材料を適当に
選択することにより、反射防止層の諸性能、例え
ばプラスチツク基体に対する密着性、耐擦傷性な
どを良好なものとすることが可能である。 By appropriately selecting the material used to form the antireflection layer, it is possible to improve various properties of the antireflection layer, such as adhesion to a plastic substrate and scratch resistance.
本発明の反射防止層を有する光学材料は、プラ
スチツク基体を覆うよう形成された、バインダー
中にフツ化マグネシウム微粉末を主体とする無機
微粉末が分散された反射防止層を有し、しかもこ
のフツ化マグネシウムの屈折率が1.38ときわめて
低いために優れた反射防止効果が得られる。ま
た、フツ化マグネシウム微粉末が平均粒子径が
0.3〜200nmの非常に粒子径の小さいものである
ため、形成される反射防止層に十分な透明性が得
られる。更にこの反射防止層は、有機物質よりな
るバインダーによつて形成されているため染色可
能性を有す、優れた耐擦傷性および耐久性を得る
ことができ、プラスチツク基体に対して高い密着
性を得ることができる。
The optical material having an antireflection layer of the present invention has an antireflection layer formed to cover a plastic substrate, in which fine inorganic powder mainly composed of fine magnesium fluoride powder is dispersed in a binder, and the antireflection layer is formed to cover a plastic substrate. Magnesium chloride has an extremely low refractive index of 1.38, which provides excellent antireflection effects. In addition, the average particle size of magnesium fluoride fine powder is
Since the particles have a very small particle size of 0.3 to 200 nm, sufficient transparency can be obtained in the antireflection layer formed. Furthermore, since this anti-reflection layer is formed from a binder made of organic substances, it can be dyed, has excellent scratch resistance and durability, and has high adhesion to plastic substrates. Obtainable.
また、反射防止層を形成するためには、反射防
止層形成用塗布液をプラスチツク基体の表面に塗
布して硬化させればよいので、製造がきわめて容
易で生産の効率が高く、しかもプラスチツク基体
の有する特性が阻害されることがなく、耐衝撃性
が低下するようなこともない。 In addition, in order to form an anti-reflection layer, the coating solution for forming an anti-reflection layer can be applied to the surface of a plastic substrate and cured, making it extremely easy to manufacture and highly efficient. The properties of the material are not impaired, and the impact resistance is not reduced.
本発明の光学材料は、眼鏡用レンズを始め、サ
ングラス、フアシヨングラス、スキー用またはバ
イク用ゴーグル、安全メガネ、双眼鏡レンズ、カ
メラレンズ、その他の用途に好ましく使用するこ
とができる。 The optical material of the present invention can be preferably used for eyeglass lenses, sunglasses, fashion glasses, ski or motorcycle goggles, safety glasses, binocular lenses, camera lenses, and other uses.
以下、本発明の実施例について説明するが、本
発明がこれらに限定されるものではない。
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.
実施例 1
プラスチツク基体
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート
35重量部とジアリルフタレート65重量部とを、イ
ソプロペニルパーオキシジカーボネートを重合開
始剤として共重合させ、厚さ2mmの板状に成型さ
れたプラスチツク基体を製造した。このプラスチ
ツク基体の屈折率は1.54であつた。Example 1 Plastic substrate diethylene glycol bisallyl carbonate
35 parts by weight of diallylphthalate and 65 parts by weight of diallyl phthalate were copolymerized using isopropenyl peroxydicarbonate as a polymerization initiator to produce a plastic substrate molded into a plate shape with a thickness of 2 mm. The refractive index of this plastic substrate was 1.54.
反射防止層形成用塗布液
平均粒子径が約20nmのフツ化マグネシウム微
粉末60重量部と、エポキシ樹脂(旭電化工業社製
の「EP4100」と「ED503」と「EH261」とを重
量で46:31:23の割合で混合したもの)40重量部
とを、エチルアルコール中に混合し分散させて固
形分濃度5.5重量%の反射防止層形成用塗布液A
を調製した。Coating liquid for forming an antireflection layer: 60 parts by weight of fine magnesium fluoride powder with an average particle size of about 20 nm, and 46 parts by weight of epoxy resins ("EP4100", "ED503", and "EH261" manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.): 40 parts by weight (mixed at a ratio of 31:23) in ethyl alcohol and dispersed to form a coating liquid A for forming an antireflection layer with a solid content concentration of 5.5% by weight.
was prepared.
反射防止層
上記プラスチツク基体を濃度5%の水酸化ナト
リウム水溶液中に50℃で10分間浸漬させてその表
面に前処理を施し、このプラスチツク基体の表面
に、上記反射防止層形成用塗布液Aをデイツピン
グ法により塗布し、その後60℃で30分間、80℃で
16時間加熱して硬化させ、平均厚さ300nm、屈折
率1.40の反射防止層を形成して光学材料を製造し
た。Antireflection layer The above plastic substrate is pretreated by immersing it in a 5% sodium hydroxide aqueous solution at 50°C for 10 minutes, and the above coating liquid A for forming an antireflection layer is applied to the surface of the plastic substrate. Apply by dipping method, then at 60℃ for 30 minutes and at 80℃.
An optical material was manufactured by heating and curing for 16 hours to form an antireflection layer with an average thickness of 300 nm and a refractive index of 1.40.
評 価
以上のようにした得られた光学材料は、赤紫色
の反射光色を有し、その全光線透過率は96.4%で
あつた。そして、反射防止層を形成する前のプラ
スチツク基体の全光線透過率は91.8%であり、従
つて、反射防止層により優れた反射防止効果が得
られることが明らかである。Evaluation The optical material obtained as described above had a reddish-purple reflected light color, and its total light transmittance was 96.4%. The total light transmittance of the plastic substrate before forming the antireflection layer was 91.8%, and it is therefore clear that the antireflection layer provides an excellent antireflection effect.
また、この光学材料を、赤、青、黄の3色混合
した分散染料液中に90℃で25分間浸漬して染色処
理を行つたところ、全光線透過率が60%に低下す
るまでに染色された。この染色後の光学材料にお
いて、反射防止層の剥離は認められず、反射防止
効果の低下も認められなかつた。 When this optical material was dyed by immersing it in a disperse dye solution containing a mixture of three colors: red, blue, and yellow at 90°C for 25 minutes, the dyeing process was completed until the total light transmittance decreased to 60%. It was done. In this optical material after dyeing, no peeling of the antireflection layer was observed, and no decrease in the antireflection effect was observed.
また、反射防止層に縦横に1mm間隔の切り込み
を入れて合計100個の反射防止層片を形成し、そ
の上に粘着テープを貼付した後剥離させてこのと
きに粘着テープと共に剥離される反射防止層片の
有無を調べることにより、反射防止層の密着性テ
ストを行つた。その結果、剥離された反射防止層
片の数は0であつた。 In addition, a total of 100 pieces of anti-reflection layer are formed by making cuts in the anti-reflection layer at 1 mm intervals vertically and horizontally, and adhesive tape is pasted on top of the pieces and then peeled off.At this time, the anti-reflection layer is peeled off along with the adhesive tape. The adhesion of the antireflection layer was tested by examining the presence or absence of layer pieces. As a result, the number of peeled antireflection layer pieces was zero.
また、反射防止層の表面に500gの荷重でスチ
ールウールを対接させた状態で10回往復動させて
擦過し、これによつて反射防止層に生ずる傷の状
態をA,A′,B,B′,C,C′の6段階で評価す
る耐擦傷性テストを行つたところ、結果はBであ
つた。ここに、評価がA,A′,B,またはB′で
あれば、実用上問題のない耐擦傷性を有するもの
と認められる。 In addition, steel wool was placed against the surface of the anti-reflection layer with a load of 500 g and rubbed back and forth 10 times. An abrasion resistance test was conducted in which the scratch resistance was evaluated in six grades: B', C, and C', and the result was B. Here, if the evaluation is A, A', B, or B', it is recognized that the material has scratch resistance that causes no practical problems.
更に、上記光学材料に「サンシヤイン ウエザ
ーメーター」よりの光を400時間照射する加速処
理を行い、その後に、クラツクの発生の有無を調
べ、また上記と同様の密着性テストおよび耐擦傷
性テストを行つた。その結果、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。 Furthermore, the above optical material was subjected to an accelerated process of being irradiated with light from a "Sunshine Weather Meter" for 400 hours, and after that, the presence or absence of cracks was examined, and the same adhesion test and scratch resistance test as above were conducted. Ivy. As a result, there were no cracks, and the results of the adhesion test and scratch resistance test were the same as before the accelerated treatment, and no abnormalities were observed.
実施例 2
プラスチツク基体
市販のジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート製眼鏡用レンズ(外径70mm、中心厚1.8mm、
度数−0.25ジオプトリー、屈折率1.49)をプラス
チツク材料として用意した。Example 2 Plastic base Commercially available diethylene glycol bisallyl carbonate eyeglass lens (outer diameter 70 mm, center thickness 1.8 mm,
A plastic material with a power of -0.25 diopters and a refractive index of 1.49 was prepared.
一方、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン35重量部と、メチルアルコールシリカゾル
50重量部と、0.01Nの塩酸10重量部と、無水マレ
イン酸5重量部との混合物100重量部に、テトラ
イソプロピルビス(ジオクチルフオスフアイト)
チタネート「プレンアクト41B」(味の素(株)製)
20重量部を添加して表面層形成用塗布液Aを調製
した。そして上記プラスチツク材料の表面に実施
例1と同様にして前処理を施した上、上記表面層
形成用塗布液Aをデイツピング法により塗布し、
その後60℃で20分間、120℃で3時間加熱して硬
化させ、平均厚さ2500nm、屈折率1.57のハード
コート層としての性質を有する表面層を形成し、
プラスチツク基体を得た。 On the other hand, 35 parts by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and methyl alcohol silica sol
Tetraisopropyl bis(dioctyl phosphite) is added to 100 parts by weight of a mixture of 50 parts by weight, 10 parts by weight of 0.01N hydrochloric acid, and 5 parts by weight of maleic anhydride.
Titanate “Plen Act 41B” (manufactured by Ajinomoto Co., Inc.)
A coating liquid A for forming a surface layer was prepared by adding 20 parts by weight. Then, the surface of the plastic material was pretreated in the same manner as in Example 1, and the coating liquid A for forming a surface layer was applied by a dipping method,
After that, it is cured by heating at 60°C for 20 minutes and at 120°C for 3 hours to form a surface layer having properties as a hard coat layer with an average thickness of 2500 nm and a refractive index of 1.57.
A plastic substrate was obtained.
反射防止層
上記表面層を形成したプラスチツク基体に、実
施例1において調製した反射防止層形成用塗布液
Aを、実施例1におけると同様ではあるがデイツ
ピング速度を調整した条件で塗布し硬化処理し
て、平均厚さが100nm、屈折率1.40の反射防止層
を形成して光学材料を製造した。Antireflection Layer The coating liquid A for forming an antireflection layer prepared in Example 1 was applied to the plastic substrate on which the above surface layer was formed under the same conditions as in Example 1, but the dipping speed was adjusted, and the coating was cured. Then, an antireflection layer with an average thickness of 100 nm and a refractive index of 1.40 was formed to produce an optical material.
評 価
以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.8%であつた。そして、反射防止層を形
成する前の表面層を有するプラスチツク基体の全
光線透過率は90.3%であり、従つて、反射防止層
により優れた反射防止効果が得られることが明ら
かである。Evaluation The total light transmittance of the optical material obtained as described above was 96.8%. The total light transmittance of the plastic substrate having the surface layer before forming the antireflection layer was 90.3%, and it is therefore clear that the antireflection layer provides an excellent antireflection effect.
また、この光学材料を、実施例1と同様にして
赤、青、黄の3色混合した分散染料液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が74%に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。 In addition, when this optical material was dyed with a disperse dye solution containing a mixture of three colors of red, blue, and yellow in the same manner as in Example 1, the dyeing was completed until the total light transmittance decreased to 74%. . In this optical material after dyeing, no peeling of the antireflection layer was observed, and no decrease in the antireflection effect was observed.
また、実施例1と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は0、耐擦
傷性テストの評価はA′であつた。 Further, the number of peeled antireflection layer pieces was 0 in the adhesion test conducted in the same manner as in Example 1, and the evaluation in the scratch resistance test was A'.
更に実施例1におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。 Furthermore, no cracks occurred in the optical material after the accelerated treatment performed in the same manner as in Example 1, and the results of the adhesion test and the scratch resistance test were the same as before the accelerated treatment, and no abnormalities were observed. Nakatsuta.
またこの反射防止層を有する光学材料に対して
落球法による耐衝撃性テストを行つた。すなわち
温度20℃において高さ1.27mの位置より重さ16.3
gの鋼球を光学材料上に自由落下させて光学材料
の破損の有無を調べた。その結果、光学材料に全
く破損は認められなかつた。 Furthermore, an impact resistance test using a falling ball method was conducted on the optical material having this antireflection layer. In other words, at a temperature of 20℃, the weight is 16.3 from a height of 1.27m.
The presence or absence of damage to the optical material was examined by allowing a steel ball of g to fall freely onto the optical material. As a result, no damage was observed to the optical material.
なお、上記表面層を有するプラスチツク基体に
通常のスパツタリング法によつてフツ化マグネシ
ウムを被着させて反射防止層を形成して比較用の
光学材料を製造した。しかし、この光学材料は、
落球法による耐衝撃性テストにおいて、完全に破
砕した。 Incidentally, an optical material for comparison was manufactured by depositing magnesium fluoride on a plastic substrate having the above-mentioned surface layer by a conventional sputtering method to form an antireflection layer. However, this optical material
It completely shattered in the impact resistance test using the falling ball method.
以上のことから、本発明の光学材料においては
プラスチツク基体の耐衝撃性が反射防止層の形成
によつて損なわれないことが明らかである。 From the above, it is clear that in the optical material of the present invention, the impact resistance of the plastic substrate is not impaired by the formation of the antireflection layer.
実施例 3
プラスチツク基体
実施例1で用いたものと同じ屈折率1.54のプラ
スチツク基体を用意した。Example 3 Plastic Substrate A plastic substrate having the same refractive index of 1.54 as that used in Example 1 was prepared.
反射防止層形成用塗布液
平均粒子径約20nmのフツ化マグネシウム微粉
末を5重量%含有するエチルアルコール100重量
部と、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン3重量部と、メチルトリメトキシシラン15重
量部と、0.01Nの塩酸10重量部と、無水マレイン
酸0.5重量部との混合物に、n−プロピルアルコ
ール50重量部と、エチルセロソルブ3.7重量部と
を添加し、攪拌して反射防止層形成用塗布液Bを
調製した。Coating liquid for forming an antireflection layer: 100 parts by weight of ethyl alcohol containing 5% by weight of fine magnesium fluoride powder with an average particle size of approximately 20 nm, 3 parts by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 15 parts by weight of methyltrimethoxysilane. 50 parts by weight of n-propyl alcohol and 3.7 parts by weight of ethyl cellosolve were added to a mixture of 10 parts by weight of 0.01N hydrochloric acid, and 0.5 parts by weight of maleic anhydride, and the mixture was stirred to form an antireflection layer. Coating liquid B was prepared.
反射防止層
上記プラスチツク基体の表面に実施例1と同様
にして前処理を施した上、上記反射防止層形成用
塗布液Bをデイツピング法により塗布し、その後
60℃で1時間、120℃で3時間加熱して硬化させ、
平均厚さ250nm、屈折率1.41の反射防止層を形成
して光学材料を製造した。Antireflection Layer The surface of the plastic substrate was pretreated in the same manner as in Example 1, and then the coating solution B for forming an antireflection layer was applied by a dipping method.
Cured by heating at 60℃ for 1 hour and 120℃ for 3 hours,
An optical material was manufactured by forming an antireflection layer with an average thickness of 250 nm and a refractive index of 1.41.
評 価
以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.4%であつた。そして反射防止層を形成
する前のプラスチツク基体の全光線透過率は91.8
%であり、従って、反射防止層により優れた反射
防止効果が得られることが明らかである。Evaluation The total light transmittance of the optical material obtained as described above was 96.4%. The total light transmittance of the plastic substrate before forming the antireflection layer is 91.8.
%, therefore, it is clear that an excellent antireflection effect can be obtained by the antireflection layer.
また、この光学材料を、実施例1と同様にして
赤、青、黄の3色混合した分散染色液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が42%に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。 In addition, when this optical material was dyed with a dispersion dyeing solution containing a mixture of three colors, red, blue, and yellow, in the same manner as in Example 1, it was dyed until the total light transmittance decreased to 42%. . In this optical material after dyeing, no peeling of the antireflection layer was observed, and no decrease in the antireflection effect was observed.
また、実施例1と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は0、耐擦
傷性テストの評価はBであつた。 Further, the number of peeled antireflection layer pieces was 0 in the adhesion test conducted in the same manner as in Example 1, and the evaluation in the scratch resistance test was B.
更に実施例1におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。 Furthermore, no cracks occurred in the optical material after the accelerated treatment performed in the same manner as in Example 1, and the results of the adhesion test and the scratch resistance test were the same as before the accelerated treatment, and no abnormalities were observed. Nakatsuta.
実施例 4
プラスチツク基体
市販のジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート製眼鏡用レンズ(外径70mm、中心厚2.0mm、
度数−0.25ジオプトリー、屈折率1.49)をプラス
チツク材料として用意した。Example 4 Plastic base Commercially available diethylene glycol bisallyl carbonate eyeglass lens (outer diameter 70 mm, center thickness 2.0 mm,
A plastic material with a power of -0.25 diopters and a refractive index of 1.49 was prepared.
一方、市販のシリコン系ハードコート剤「スミ
マールG−35」(住友化学(株)製)100c.c.に、平均粒
子径60nmのコロイド状五酸化アンチモンゾル
「ATM−130S」(日産化学社製)15gと、イソプ
ロピルアルコール10gと、エチルセロソルブ5g
とを添加して、表面層形成用塗布液Bを調製し
た。 On the other hand, commercially available silicone hard coating agent "Sumimar G-35" (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 100 c.c. was mixed with colloidal antimony pentoxide sol "ATM-130S" (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) with an average particle size of 60 nm. ) 15g, isopropyl alcohol 10g, and ethyl cellosolve 5g
A coating liquid B for forming a surface layer was prepared by adding the following.
上記プラスチツク材料の表面に実施例1と同様
にして前処理を施した上、上記表面層形成用塗布
液Bをデイツピング法により塗布し、加熱硬化さ
せて平均厚さ3600nm、屈折率1.57のハードコー
ト層としての性質を有する表面層を形成してプラ
スチツク基体を得た。 The surface of the above plastic material was pretreated in the same manner as in Example 1, and then the above coating liquid B for forming a surface layer was applied by a dipping method and cured by heating to form a hard coat with an average thickness of 3600 nm and a refractive index of 1.57. A plastic substrate was obtained by forming a surface layer having the properties of a layer.
反射防止層
上記表面層を形成したプラスチツク基体に、実
施例3において調製した反射防止層形成用塗布液
Bを用い、実施例3におけると同様に塗布および
硬化処理して、平均厚さが270nm、屈折率1.41の
反射防止層を形成して光学材料を製造した。Antireflection Layer The plastic substrate on which the above surface layer was formed was coated and cured in the same manner as in Example 3 using coating solution B for forming an antireflection layer prepared in Example 3, so that the average thickness was 270 nm. An optical material was manufactured by forming an antireflection layer with a refractive index of 1.41.
評 価
以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.4%であつた。そして、反射防止層を形
成する前の表面層を有するプラスチツク基体の全
光線透過率は90.3%であり、従つて、反射防止層
により優れた反射防止効果が得られることが明ら
かである。Evaluation The total light transmittance of the optical material obtained as described above was 96.4%. The total light transmittance of the plastic substrate having the surface layer before forming the antireflection layer was 90.3%, and it is therefore clear that the antireflection layer provides an excellent antireflection effect.
また、この光学材料を、実施例1と同様にして
赤、青、黄の3色混合した分散染色液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が48%に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。 In addition, when this optical material was dyed with a dispersion dyeing solution containing a mixture of three colors of red, blue, and yellow in the same manner as in Example 1, the dyeing was performed until the total light transmittance decreased to 48%. . In this optical material after dyeing, no peeling of the antireflection layer was observed, and no decrease in the antireflection effect was observed.
また、実施例1と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は0、耐擦
傷性テストの評価はA′であつた。 Further, the number of peeled antireflection layer pieces was 0 in the adhesion test conducted in the same manner as in Example 1, and the evaluation in the scratch resistance test was A'.
更に実施例1におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。 Furthermore, no cracks occurred in the optical material after the accelerated treatment performed in the same manner as in Example 1, and the results of the adhesion test and the scratch resistance test were the same as before the accelerated treatment, and no abnormalities were observed. Nakatsuta.
またこの反射防止層を有する光学材料に対し
て、実施例2と同様にして落球法による耐衝撃性
テストを行つたところ、光学材料に全く破損は認
められなかつた。 Furthermore, when the optical material having this antireflection layer was subjected to an impact resistance test using the falling ball method in the same manner as in Example 2, no damage was observed in the optical material.
なお、上記表面層を有するプラスチツク基体に
通常のスパツタリング法によつてフツ化マグネシ
ウムを被着させて反射防止層を形成して比較用の
光学材料を製造した。しかし、この光学材料は、
落球法による耐衝撃性テストにおいて、完全に破
損した。 Incidentally, an optical material for comparison was manufactured by depositing magnesium fluoride on a plastic substrate having the above-mentioned surface layer by a conventional sputtering method to form an antireflection layer. However, this optical material
It was completely damaged in an impact resistance test using the falling ball method.
以上のことから、本発明の光学材料においては
プラスチツク基体の耐衝撃性が反射防止層の形成
によつて損なわれないことが明らかである。 From the above, it is clear that in the optical material of the present invention, the impact resistance of the plastic substrate is not impaired by the formation of the antireflection layer.
実施例 5
プラスチツク基体
実施例1で用たものと同じ屈折率1.54のプラス
チツク材料を用意し、その表面に実施例1と同様
にして前処理を施し、これに実施例2で調製した
ものと同じ表面層形成用塗布液Aをデイツピング
法により塗布し、更に加熱して硬化させ、平均厚
さ2500nm、屈折率1.57のハードコート層として
の性質を有する表面層を形成し、プラスチツク基
体を得た。Example 5 Plastic substrate A plastic material with the same refractive index of 1.54 as that used in Example 1 was prepared, its surface was pretreated in the same manner as in Example 1, and the same material as that prepared in Example 2 was prepared. Coating liquid A for surface layer formation was applied by a dipping method and further heated and cured to form a surface layer having properties as a hard coat layer with an average thickness of 2500 nm and a refractive index of 1.57, thereby obtaining a plastic substrate.
反射防止層形成用塗布液
平均粒子径が約40nmのフツ化マグネシウム微
粉末を用たほかは実施例3と同様にして反射防止
層形成用塗布液Cを調製した。Coating liquid for forming an antireflection layer Coating liquid C for forming an antireflection layer was prepared in the same manner as in Example 3, except that fine magnesium fluoride powder having an average particle size of about 40 nm was used.
反射防止層
上記プラスチツク基体の表面に、プラズマリア
クター装置「PR−501A」(ヤマト科学社製)を
用いて酸素ガス流量150ml/分、出力500Wで1分
間プラズマによる前処理を施した上、上記反射防
止層形成用塗布液Cを回転数3000rpmで1分間ス
ピンコート法により塗布し、その後60℃で1時
間、120℃で3時間加熱して硬化させ、平均厚さ
98nm、屈折率1.41の反射防止層を形成して光学
材料を製造した。Antireflection layer The surface of the plastic substrate was pretreated with plasma for 1 minute using a plasma reactor device "PR-501A" (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) at an oxygen gas flow rate of 150ml/min and an output of 500W, and then Coating liquid C for forming a prevention layer was applied by spin coating at a rotation speed of 3000 rpm for 1 minute, and then heated at 60°C for 1 hour and 120°C for 3 hours to cure, and the average thickness was
An optical material was manufactured by forming an antireflection layer with a thickness of 98 nm and a refractive index of 1.41.
評 価
以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.8%であつた。そして反射防止層を形成
する前のプラスチツク基体の全光線透過率は90.3
%であり、従つて、反射防止層により優れた反射
防止効果が得られることが明らかである。Evaluation The total light transmittance of the optical material obtained as described above was 96.8%. The total light transmittance of the plastic substrate before forming the antireflection layer is 90.3.
%, therefore, it is clear that the antireflection layer provides an excellent antireflection effect.
また、実施例1と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は0、耐擦
傷性テストの評価はA′であつた。 Further, the number of peeled antireflection layer pieces was 0 in the adhesion test conducted in the same manner as in Example 1, and the evaluation in the scratch resistance test was A'.
更に実施例1におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。 Furthermore, no cracks occurred in the optical material after the accelerated treatment performed in the same manner as in Example 1, and the results of the adhesion test and the scratch resistance test were the same as before the accelerated treatment, and no abnormalities were observed. Nakatsuta.
実施例 6
プラスチツク基体
実施例1で用いたものと同じ屈折率1.54のプラ
スチツク材料を用意した。Example 6 Plastic Substrate A plastic material having the same refractive index of 1.54 as that used in Example 1 was prepared.
一方、多官能性アクリル樹脂であるジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート15重量部と、芳
香族アクリル樹脂である2−ヒドロキシ−3−フ
エノキシプロピルアクリレート15重量部と、エチ
ルアルコール70重量部とに、光重合開始剤「イル
ガキュア184」0.6重量部を添加して表面層形成用
塗布液Cを調製した。そして上記プラスチツク材
料の表面に実施例1と同様にして前処理を施した
上、上記表面層形成用塗布液Cをデイツピング法
により塗布し、その後60℃で10分間予備乾燥さ
せ、その後、出力500Wの高圧水銀ランプを具え
てなる紫外線照射装置よりの光を下方に15cm離間
した位置において10秒間照射して硬化させ、平均
厚さ3000nm、屈折率1.56のハードコート層とし
ての性質を有する表面層を形成し、プラスチツク
基体を得た。 On the other hand, 15 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, which is a polyfunctional acrylic resin, 15 parts by weight of 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, which is an aromatic acrylic resin, and 70 parts by weight of ethyl alcohol were mixed with light. A coating liquid C for forming a surface layer was prepared by adding 0.6 parts by weight of a polymerization initiator "Irgacure 184". Then, the surface of the plastic material was pretreated in the same manner as in Example 1, and then the coating liquid C for forming a surface layer was applied by the dipping method, and then pre-dried at 60°C for 10 minutes. The surface layer was cured by irradiating it with light from an ultraviolet irradiation device equipped with a high-pressure mercury lamp for 10 seconds at a position 15 cm downward to form a surface layer with properties as a hard coat layer with an average thickness of 3000 nm and a refractive index of 1.56. A plastic substrate was obtained.
反射防止層
上記表面層を形成したプラスチツク基体に、実
施例5において調製した反射防止層形成用塗布液
Cを用い、実施例5におけると同様に塗布および
硬化処理して、平均厚さが98nm、屈折率1.41の
反射防止層を形成して光学材料を製造した。Antireflection layer The plastic substrate on which the above surface layer was formed was coated and cured in the same manner as in Example 5 using the coating liquid C for forming an antireflection layer prepared in Example 5, so that the average thickness was 98 nm. An optical material was manufactured by forming an antireflection layer with a refractive index of 1.41.
評 価
以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.8%であつた。そして、反射防止層を形
成する前の表面層を有するプラスチツク基体の全
光線透過率は90.7%であり、従つて、反射防止層
により優れた反射防止効果が得られることが明ら
かである。Evaluation The total light transmittance of the optical material obtained as described above was 96.8%. The total light transmittance of the plastic substrate having the surface layer before forming the antireflection layer was 90.7%, and it is therefore clear that the antireflection layer provides an excellent antireflection effect.
また、実施例1と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は0、耐擦
傷性テストの評価はA′であつた。 Further, the number of peeled antireflection layer pieces was 0 in the adhesion test conducted in the same manner as in Example 1, and the evaluation in the scratch resistance test was A'.
更に実施例1におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。 Furthermore, no cracks occurred in the optical material after the accelerated treatment performed in the same manner as in Example 1, and the results of the adhesion test and the scratch resistance test were the same as before the accelerated treatment, and no abnormalities were observed. Nakatsuta.
またこの反射防止層を有する光学材料に対し
て、実施例2と同様にして落球法による耐衝撃性
テストを行つたところ、光学材料に全く破損は認
められなかつた。 Furthermore, when the optical material having this antireflection layer was subjected to an impact resistance test using the falling ball method in the same manner as in Example 2, no damage was observed in the optical material.
なお、上記表面層を有するプラスチツク基体に
通常のスパツタリング法によつてフツ化マグネシ
ウムを被着させて反射防止層を形成して比較用の
光学材料を製造した。しかし、この光学材料は、
落球法による耐衝撃性テストにおいて、完全に破
砕した。 Incidentally, an optical material for comparison was manufactured by depositing magnesium fluoride on a plastic substrate having the above-mentioned surface layer by a conventional sputtering method to form an antireflection layer. However, this optical material
It completely shattered in the impact resistance test using the falling ball method.
以上のことから、本発明の光学材料においては
プラスチツク基体の耐衝撃性が反射防止層の形成
によつて損なわれないことが明らかである。 From the above, it is clear that in the optical material of the present invention, the impact resistance of the plastic substrate is not impaired by the formation of the antireflection layer.
実施例 7
プラスチツク基体
実施例1で用いたものと同じ屈折率1.54のプラ
スチツク基体を用意した。Example 7 Plastic Substrate A plastic substrate having the same refractive index of 1.54 as that used in Example 1 was prepared.
反射防止層形成用塗布液
実施例3における反射防止層形成用塗布液Bに
おいて、n−プロピルアルコール50重量部の代わ
りにジアセトンアルコール7重量部を用いたほか
は同様にして、反射防止層形成用塗布液Dを調製
した。Coating liquid for forming an antireflection layer An antireflection layer was formed in the same manner as in the coating liquid B for forming an antireflection layer in Example 3, except that 7 parts by weight of diacetone alcohol was used instead of 50 parts by weight of n-propyl alcohol. Coating liquid D was prepared.
反射防止層
上記プラスチツク基体の表面に、プラズマリア
クター装置「PR−501A」(ヤマト科学社製)を
用いて酸素ガス流量150ml/分、出力500Wで1分
間プラズマによる前処理を施した上、上記反射防
止層形成用塗布液Dをデイツピング法により塗布
し、その後60℃で30分間、120℃で3時間加熱し
て硬化させ、平均厚さ500nm、屈折率1.41の反射
防止層を形成して光学材料を製造した。Antireflection layer The surface of the plastic substrate was pretreated with plasma for 1 minute using a plasma reactor device "PR-501A" (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) at an oxygen gas flow rate of 150ml/min and an output of 500W, and then Coating liquid D for forming an antireflection layer is applied by a dipping method, and then heated at 60°C for 30 minutes and at 120°C for 3 hours to cure, forming an antireflection layer with an average thickness of 500 nm and a refractive index of 1.41 to form an optical material. was manufactured.
評 価
以上のようにして得られた光学材料の全光線透
過率は96.0%であつた。そして反射防止層を形成
する前のプラスチツク基体の全光線透過率は91.5
%であり、従つて、反射防止層により優れた反射
防止効果が得られることが明らかである。Evaluation The total light transmittance of the optical material obtained as described above was 96.0%. The total light transmittance of the plastic substrate before forming the antireflection layer is 91.5.
%, therefore, it is clear that the antireflection layer provides an excellent antireflection effect.
また、この光学材料を、実施例1と同様にして
赤、青、黄の3色混合した分散染料液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が47%に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。 In addition, when this optical material was dyed with a disperse dye solution containing a mixture of three colors, red, blue, and yellow, in the same manner as in Example 1, the dyeing was completed until the total light transmittance decreased to 47%. . In this optical material after dyeing, no peeling of the antireflection layer was observed, and no decrease in the antireflection effect was observed.
また、実施例1と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は0、耐擦
傷性テストの評価はBであつた。 Further, the number of peeled antireflection layer pieces was 0 in the adhesion test conducted in the same manner as in Example 1, and the evaluation in the scratch resistance test was B.
更に実施例1におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐衝撃性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。 Furthermore, no cracks occurred in the optical material after the accelerated treatment performed in the same manner as in Example 1, and the results of the adhesion test and impact resistance test were the same as before the accelerated treatment, and no abnormalities were observed. Nakatsuta.
またこの反射防止層を有する光学材料に対し
て、実施例2と同様にして落球法による耐衝撃性
テストを行つたところ、光学材料に全く破損は認
められなかつた。 Furthermore, when the optical material having this antireflection layer was subjected to an impact resistance test using the falling ball method in the same manner as in Example 2, no damage was observed in the optical material.
以上のことから、本発明の光学材料においては
プラスチツク基体の耐衝撃性が反射防止層の形成
によつて損なわれないことが明らかである。 From the above, it is clear that in the optical material of the present invention, the impact resistance of the plastic substrate is not impaired by the formation of the antireflection layer.
実施例 8
プラスチツク基体
1−アクリロキシ−2,4,6,−トリブロモ
ベンゼン25重量部と、2,2−ビス(4−メタク
リロキシエトキシ−3,5−ジブロモフエニル)
プロパン50重量部と、スチレン15重量部とを共重
合させ、厚さ2mmの板状に成型されたプラスチツ
ク基体を製造した。このプラスチツク基体の屈折
率は1.60であつた。Example 8 Plastic substrate 25 parts by weight of 1-acryloxy-2,4,6-tribromobenzene and 2,2-bis(4-methacryloxyethoxy-3,5-dibromophenyl)
A plastic substrate molded into a plate having a thickness of 2 mm was produced by copolymerizing 50 parts by weight of propane and 15 parts by weight of styrene. The refractive index of this plastic substrate was 1.60.
反射防止層形成用塗布液
実施例3における反射防止層形成用塗布液Bに
おいて、フツ化マグネシウム微粉末の含有割合を
15重量%に変更すると共に、n−プロピルアルコ
ールとエチルセロソルブの添加量を調整して全体
の固型分濃度を25重量%としたほかは実施例3と
同様にして、反射防止層形成用塗布液Eを調製し
た。Coating liquid for forming an antireflection layer In the coating liquid B for forming an antireflection layer in Example 3, the content ratio of fine magnesium fluoride powder was
Coating for forming an antireflection layer was carried out in the same manner as in Example 3, except that the concentration was changed to 15% by weight, and the amounts of n-propyl alcohol and ethyl cellosolve were adjusted to make the total solids concentration 25% by weight. Solution E was prepared.
反射防止層
上記プラスチツク基体を濃度20%の水酸化ナト
リウム水溶液中に80℃で30分間浸漬させて表面に
前処理を施し、このプラスチツク基体の表面に上
記反射防止層形成用塗布液Eをデイツピング法に
より塗布し、その後60℃で30分間120℃で3時間
加熱して硬化させ、平均厚さ2800nm、屈折率
1.40の反射防止層を形成して光学材料を製造し
た。Antireflection layer The above plastic substrate is pretreated by immersing it in an aqueous sodium hydroxide solution with a concentration of 20% at 80°C for 30 minutes, and the above coating liquid E for forming an antireflection layer is applied to the surface of the plastic substrate by a dipping method. The average thickness was 2800 nm, the refractive index was
An optical material was manufactured by forming an antireflection layer of 1.40.
評 価
以上のようにした得られた光学材料の全光線透
過率は96.0%であつた。そして反射防止層を形成
する前のプラスチツク基体の全光線透過率は88.6
%であり、従つて、反射防止層により優れた反射
防止効果が得られることが明らかである。Evaluation The total light transmittance of the optical material obtained as described above was 96.0%. The total light transmittance of the plastic substrate before forming the antireflection layer is 88.6.
%, therefore, it is clear that the antireflection layer provides an excellent antireflection effect.
また、この光学材料を、実施例1と同様にして
赤、青、黄の3色混合した分散染料液により染色
処理を行つたところ、全光線透過率が72%に低下
するまでに染色された。この染色後の光学材料に
おいて、反射防止層の剥離は認められず、反射防
止効果の低下も認められなかつた。 In addition, when this optical material was dyed with a disperse dye solution containing a mixture of three colors of red, blue, and yellow in the same manner as in Example 1, the dyeing was completed until the total light transmittance decreased to 72%. . In this optical material after dyeing, no peeling of the antireflection layer was observed, and no decrease in the antireflection effect was observed.
また、実施例1と同様にして行つた密着性テス
トによる剥離された反射防止層片の数は0、耐擦
傷性テストの評価はA′であつた。 Further, the number of peeled antireflection layer pieces was 0 in the adhesion test conducted in the same manner as in Example 1, and the evaluation in the scratch resistance test was A'.
更に実施例1におけると同様にして行つた加速
処理後の光学材料においても、クラツクの発生は
なく、密着性テストおよび耐擦傷性テストの結果
は加速処理前と同様であり、異常は全く認められ
なかつた。 Furthermore, no cracks occurred in the optical material after the accelerated treatment performed in the same manner as in Example 1, and the results of the adhesion test and the scratch resistance test were the same as before the accelerated treatment, and no abnormalities were observed. Nakatsuta.
またこの反射防止層を有する光学材料に対し
て、実施例2と同様にして落球法による耐衝撃性
テストを行つたところ、光学材料に全く破損は認
められなかつた。 Furthermore, when the optical material having this antireflection layer was subjected to an impact resistance test using the falling ball method in the same manner as in Example 2, no damage was observed in the optical material.
以上のことから、本発明の光学材料においては
プラスチツク基体の耐衝撃性が反射防止層の形成
によつて損なわれないことが明らかである。 From the above, it is clear that in the optical material of the present invention, the impact resistance of the plastic substrate is not impaired by the formation of the antireflection layer.
Claims (1)
と、このプラスチツク基体の表面を覆うよう形成
した、平均粒子径が0.3〜200nmのフツ化マグネ
シウムよりなる無機微粉末がバインダー中に分散
されてなり、前記プラスチツク基体よりも0.02以
上低い屈折率を有する厚さ50〜5000nmの反射防
止層とを有してなることを特徴とする反射防止層
を有する光学材料。 2 プラスチツク基体は、その表面に、屈折率が
1.48以上の表面層を有する請求項1に記載の反射
防止層を有する光学材料。 3 屈折率が1.48以上の透明なプラスチツク基体
の表面に、平均粒子径が0.3〜200nmのフツ化マ
グネシウムよりなる無機微粉末とバインダーの材
料とを含有する反射防止層形成用塗布液を塗布
し、前記無機微粉末がバインダー中に分散されて
なり、前記プラスチツク基体よりも0.02以上低い
屈折率を有する厚さ50〜5000nmの反射防止層を
形成することを特徴とする反射防止層を有する光
学材料の製造方法。[Claims] 1. A transparent plastic substrate with a refractive index of 1.48 or more, and an inorganic fine powder made of magnesium fluoride with an average particle size of 0.3 to 200 nm, which is formed to cover the surface of the plastic substrate, in a binder. 1. An optical material having an antireflection layer having a thickness of 50 to 5000 nm and having a refractive index lower by 0.02 or more than the plastic substrate. 2 The plastic substrate has a refractive index on its surface.
The optical material having an antireflection layer according to claim 1, having a surface layer of 1.48 or more. 3. Applying a coating liquid for forming an antireflection layer containing a binder material and an inorganic fine powder of magnesium fluoride with an average particle size of 0.3 to 200 nm on the surface of a transparent plastic substrate with a refractive index of 1.48 or more, An optical material having an antireflection layer, characterized in that the inorganic fine powder is dispersed in a binder to form an antireflection layer with a thickness of 50 to 5000 nm and having a refractive index lower than that of the plastic substrate by 0.02 or more. Production method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1227461A JPH02167501A (en) | 1988-09-09 | 1989-09-04 | Optical member having antireflection layer and production thereof |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22450588 | 1988-09-09 | ||
JP63-224505 | 1988-09-09 | ||
JP1227461A JPH02167501A (en) | 1988-09-09 | 1989-09-04 | Optical member having antireflection layer and production thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02167501A JPH02167501A (en) | 1990-06-27 |
JPH0435725B2 true JPH0435725B2 (en) | 1992-06-12 |
Family
ID=26526099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1227461A Granted JPH02167501A (en) | 1988-09-09 | 1989-09-04 | Optical member having antireflection layer and production thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH02167501A (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07159602A (en) * | 1993-12-02 | 1995-06-23 | Dainippon Printing Co Ltd | Antireflection film and its production |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS5734507A (en) * | 1980-08-11 | 1982-02-24 | Seiko Epson Corp | Polarizing plate |
JPS5846301A (en) * | 1981-09-14 | 1983-03-17 | Toray Ind Inc | Transparent material having antireflection film |
JPS63124332A (en) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Hitachi Ltd | Manufacture of reflection preventing film |
-
1989
- 1989-09-04 JP JP1227461A patent/JPH02167501A/en active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2601123A (en) * | 1947-04-05 | 1952-06-17 | American Optical Corp | Composition for reducing the reflection of light |
JPS5734507A (en) * | 1980-08-11 | 1982-02-24 | Seiko Epson Corp | Polarizing plate |
JPS5846301A (en) * | 1981-09-14 | 1983-03-17 | Toray Ind Inc | Transparent material having antireflection film |
JPS63124332A (en) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Hitachi Ltd | Manufacture of reflection preventing film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH02167501A (en) | 1990-06-27 |
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