JPH04350157A - Pvd装置 - Google Patents
Pvd装置Info
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- JPH04350157A JPH04350157A JP3123704A JP12370491A JPH04350157A JP H04350157 A JPH04350157 A JP H04350157A JP 3123704 A JP3123704 A JP 3123704A JP 12370491 A JP12370491 A JP 12370491A JP H04350157 A JPH04350157 A JP H04350157A
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- permanent magnet
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ラズマ流を磁場によって蒸発原料るつぼ上に導いて蒸発
原料を蒸発させ、該蒸発原料の上方に置かれた基体表面
に薄膜を形成するPVD装置に関するものである。
は真空蒸着処理を行なう前記PVD(physical
vaper deposition)装置として、図
10に示すように、真空室1の側部に、たとえば圧力勾
配型プラズマガン2を取付け、前記プラズマガン2から
のプラズマ流3を空芯コイル9によって、10−2〜1
0−4Torrの圧力状態とされた真空室1に引き出し
、このプラズマ流3を蒸発原料るつぼ5の下方に設置さ
れた1個の固定永久磁石6の作る磁場によってるつぼ5
に集束させて、蒸発原料4を蒸発させるとともに、該蒸
発原料4の上方に置かれた基体10の表面に薄膜を形成
するものがある。なお、反応ガス導入口12よりN2、
O2等の反応ガスを導入してもよい。
2からのプラズマ流3を一対の永久磁石15の磁場によ
ってシート状に変形し、該シート状プラズマ流3を、そ
の幅方向に設けた細長いるつぼ5の下方に設置された1
個の細長い固定永久磁石6によって蒸発原料4上に導き
、蒸発原料4を蒸発させ、該蒸発原料4の上方に置かれ
た基体10の表面に薄膜を形成するものがある。
成では、るつぼ5の下方に設置される永久磁石6によっ
て形成される磁束密度分布は、該永久磁石6の設置位置
および形状によって一定状態となっているので、前記磁
束密度分布と相関関係にあるプラズマ流の密度分布も一
定状態である。すなわち、蒸着面積あるいは蒸発原料4
の溶融状態は一定状態であるため、蒸着面積を変更する
には、薄膜が形成される基体10とるつぼ5との間の距
離を変更するか、プラズマガン2の出力を変更するか、
または、るつぼ5の下方に設置された1個の固定永久磁
石6を形状の異なるものに取り替えることが不可欠であ
り、非常に操作が面倒であるという問題を有する。一方
、一般に、PVD装置においては、基体10の表面に形
成される薄膜の膜厚分布は、図11,図13に示すよう
に、永久磁石6の中心上で最大値をとり、中心から外れ
るにしたがって下降する傾向にあり、膜厚が不均一とな
るという問題を有する。特に、基体10が連続的に移動
するストリップである場合、ストリップの幅方向におけ
る膜厚の均一性を確保することができないという問題を
有する。したがって、本発明は前記従来の問題を、簡単
な手段で解決することのできるPVD装置を提供するこ
とを目的とする。
成するために、プラズマガンからのプラズマ流を磁場に
よって蒸発原料るつぼ上に導いて蒸発原料を蒸発させ、
該蒸発原料の上方に置かれた基体表面に薄膜を形成する
PVD装置において、前記蒸発原料るつぼの下方に複数
個の永久磁石を水平方向に移動可能に配設したものであ
る。
つぼの下方に複数の永久磁石を設け、この複数の永久磁
石を水平方向に移動可能としたため、るつぼ部に所望の
磁束密度分布が形成できてプラズマ流が蒸発原料上に集
束する密度を容易に変更することができる。すなわち、
蒸発原料に集束するプラズマの密度分布は各永久磁石の
水平方向の位置関係に依存する。したがって、プラズマ
の密度分布と相関関係にある蒸発原料の溶融範囲も各永
久磁石の水平方向の位置関係に依存するため、基体上に
形成される薄膜の膜厚分布も各永久磁石の水平方向の位
置関係に依存する。このことにより、膜厚の薄くなる基
体部位に対応するるつぼにプラズマを密に集束させる一
方、膜厚の厚くなる基体部位に対応するるつぼにプラズ
マを粗に集束させることによって膜厚の均一性の向上が
図れる。また、るつぼの所定部位にプラズマを集束させ
ないようにすることによって溶融範囲(蒸着範囲)を変
更することができる。
説明する。本発明は、前記従来のPVD装置におけるる
つぼ5の下方に配置する永久磁石6を複数の永久磁石6
a,6b,…で構成し、これら永久磁石6a,6b,…
を各々駆動装置により水平移動可能としたものである。 その他は従来と同様であるため同一部分に同一符号を付
して説明を省略する。図1は、本発明にかかるPVD装
置の第1実施例を示し、永久磁石6は図2に示すように
、円形状のるつぼ5の中心部に1/4円柱状の4個の永
久磁石6a〜6dを同一円周上に配設したものである。
別個のモータ7にネジ軸13により支持され、各モータ
7を駆動することにより、各永久磁石6a〜6dはるつ
ぼ5の下方で水平方向(放射方向)に移動可能となって
いる。なお、8は永久磁石6a〜6dの位置検出装置で
ある。
磁石6a〜6dで構成したがこれに限らず、また、永久
磁石6a〜6dの形状も実施例のものに限らない。さら
に、永久磁石6を処理室1内に配置したが、処理室1外
のるつぼ5の下方に設置してもよい。
磁石6a〜6dを外方に移動すると、るつぼ5上の磁束
密度は各永久磁石6a〜6dの水平方向の位置に依存す
るため、図3に示すように、外周の近傍は高く、中央付
近は低くなる。したがって、プラズマ流3はるつぼ5の
外周方向で密に、また基体の中央付近に対応するるつぼ
5の中央付近で粗に集束することになり、膜厚の均一性
の向上が図れる。
3は、各永久磁石6a〜6dの水平方向の位置に基づく
磁束密度分布に応じて蒸着原料るつぼ5に集束すること
になるため、前記各永久磁石6a〜6dの水平方向の位
置を変更することにより、蒸着原料4の溶融範囲あるい
は溶融度合が調節できて膜厚の均一性が図れるとともに
、蒸着面積の変更を容易に行うことができる。
動させる必要のない場合には、図4に示すように、1台
のモータ7の出力軸をギヤボックス14とネジ軸13を
介して永久磁石6a〜6dに接続し、各永久磁石6a〜
6dを連動して移動させるようにしてもよい。
に示す従来のシートプラズマ式PVD装置に適用したも
ので、細長いるつぼ5の下方に複数の永久磁石6a〜6
dを一列に配設し、各永久磁石6a〜6dをネジ軸13
とキヤボックス14を介して各永久磁石に対応したモー
タ7に連結して水平移動可能としたものであって、各永
久磁石6a〜6dをシート状プラズマの幅方向にそれぞ
れ独立して移動可能となっている。そして、各永久磁石
6a〜6dを移動させることにより、たとえば図7に示
すような磁束密度を形成させることができ、蒸発原料4
の溶融の度合あるいは範囲の変更と、薄膜の膜厚分布を
均一にすることができる。
a〜6dの位置を独立して移動させる必要のない場合に
は、図8に示すように、1台のモータ7にギヤボックス
14とネジ軸13を介して各永久磁石6a〜6dを接続
し、各永久磁石6a,6bと6c,6dを連動して移動
させるようにしてもよい。また、図9に示すように、複
数のプラズマガン2を配設する場合にあっては、各プラ
ズマ3の密度分布を調整できるように、各プラズマ3に
対応した各永久磁石6a〜6c,6d〜6fをそれぞれ
水平移動可能にしてもよい。
よれば、るつぼの下方に設置する永久磁石を複数の永久
磁石で構成し、これらを水平移動可能としたから、永久
磁石間の間隔を調整することによって、るつぼ部に所望
の磁束密度分布を形成させることができる。すなわち、
蒸発原料に集束するプラズマの密度分布を最適な分布に
することができ、均一な厚みの薄膜を得ることができる
ばかりか、基体の大きさに応じて最適な蒸着面積を確保
することができ、成膜の効率向上を図ることができる。
略図である。
けるるつぼでの磁束密度を示すグラフである。
手段の平面図である。
略図である。
示すグラフである。
手段の正面図である。
面図である。
である。
ある。
蒸発原料、5…るつぼ、6,6a〜6d…永久磁石、7
…モータ、10…基体。
Claims (1)
- 【請求項1】 プラズマガンからのプラズマ流を磁場
によって蒸発原料るつぼ上に導いて蒸発原料を蒸発させ
、該蒸発原料の上方に置かれた基体表面に薄膜を形成す
るPVD装置において、前記蒸発原料るつぼの下方に複
数個の永久磁石を水平方向に移動可能に配設したことを
特徴とするPVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3123704A JPH0768609B2 (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | Pvd装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3123704A JPH0768609B2 (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | Pvd装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04350157A true JPH04350157A (ja) | 1992-12-04 |
JPH0768609B2 JPH0768609B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=14867285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3123704A Expired - Lifetime JPH0768609B2 (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | Pvd装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0768609B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5964989A (en) * | 1996-12-13 | 1999-10-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Ionized PVD device and method of manufacturing semiconductor device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS637364A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-13 | Hitachi Ltd | バイアススパツタ装置 |
JPH02101160A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-12 | Asahi Glass Co Ltd | イオンプレーティング方法 |
-
1991
- 1991-05-28 JP JP3123704A patent/JPH0768609B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS637364A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-13 | Hitachi Ltd | バイアススパツタ装置 |
JPH02101160A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-12 | Asahi Glass Co Ltd | イオンプレーティング方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5964989A (en) * | 1996-12-13 | 1999-10-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Ionized PVD device and method of manufacturing semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0768609B2 (ja) | 1995-07-26 |
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