JPH04349127A - 成形金型の製造方法 - Google Patents
成形金型の製造方法Info
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- JPH04349127A JPH04349127A JP14696491A JP14696491A JPH04349127A JP H04349127 A JPH04349127 A JP H04349127A JP 14696491 A JP14696491 A JP 14696491A JP 14696491 A JP14696491 A JP 14696491A JP H04349127 A JPH04349127 A JP H04349127A
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Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/22—Non-oxide ceramics
-
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- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/50—Structural details of the press-mould assembly
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学式ピックアップに
使用される対物レンズなどの光学ガラス素子などを成形
するための成形金型の製造方法に係わり、特に耐熱性の
離型用コ−ティング膜、例えば窒化アルミニウム(Al
N)の膜または、酸窒化アルミニウム(Alx Oy
Nz )の膜などを成形部材の成形面に均一厚さに形成
した成形金型の製造方法に関する。
使用される対物レンズなどの光学ガラス素子などを成形
するための成形金型の製造方法に係わり、特に耐熱性の
離型用コ−ティング膜、例えば窒化アルミニウム(Al
N)の膜または、酸窒化アルミニウム(Alx Oy
Nz )の膜などを成形部材の成形面に均一厚さに形成
した成形金型の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】対物レンズなどの光学ガラス素子を成形
するための成形部材の成形面については、その離型性(
非ぬれ性)及び耐熱性を向上させるために、成形面の表
面に耐熱性の離型用コ−ティング膜を形成することが従
来より行われている。例えば特願平2−4885号公報
では、成形面にAlN(窒化アルミニウム)またはAl
x Oy Nz (酸窒化アルミニウム)からなるコ−
ティング膜をマイクロプラズマCVD法にて形成するよ
うにし、これによって成形金型の高温下での離型性及び
耐熱性の向上を図ることが提案されている。
するための成形部材の成形面については、その離型性(
非ぬれ性)及び耐熱性を向上させるために、成形面の表
面に耐熱性の離型用コ−ティング膜を形成することが従
来より行われている。例えば特願平2−4885号公報
では、成形面にAlN(窒化アルミニウム)またはAl
x Oy Nz (酸窒化アルミニウム)からなるコ−
ティング膜をマイクロプラズマCVD法にて形成するよ
うにし、これによって成形金型の高温下での離型性及び
耐熱性の向上を図ることが提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この公
報に開示されたマイクロプラズマCVD法によりコ−テ
ィング膜を形成し場合、帯電効果により成形面の外周部
が荷電部となるため、膜厚が成形面の外周部で中央部よ
りも厚くなってしまい、均一な十分な厚さのコ−ティン
グ膜を得ることができなかった。このため、成形面にコ
−ティング膜を形成した従来の成形金型ではコ−ティン
グ膜厚のばらつきのため、成形加工精度が落ちるという
問題が生じていた。本発明は上記問題点に鑑み、成形部
材の成形面に耐熱性の離型用薄膜を簡単な方法で均一厚
さに蒸着形成することができる成形金型の製造方法を提
供することを目的とする。
報に開示されたマイクロプラズマCVD法によりコ−テ
ィング膜を形成し場合、帯電効果により成形面の外周部
が荷電部となるため、膜厚が成形面の外周部で中央部よ
りも厚くなってしまい、均一な十分な厚さのコ−ティン
グ膜を得ることができなかった。このため、成形面にコ
−ティング膜を形成した従来の成形金型ではコ−ティン
グ膜厚のばらつきのため、成形加工精度が落ちるという
問題が生じていた。本発明は上記問題点に鑑み、成形部
材の成形面に耐熱性の離型用薄膜を簡単な方法で均一厚
さに蒸着形成することができる成形金型の製造方法を提
供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
、本発明に係わる成形金型の製造方法は成形面を形成し
た成形部材にその外周を覆う金属片を取付けた状態で成
形部材の成形面全体及び該成形面に隣接する金属片表面
に耐熱性の離型用薄膜を蒸着形成することを特徴とし、
特に、成形部材の成形面に隣接する金属片表面が成形面
の曲率にほぼ倣うように形成されていることを特徴とす
る。
、本発明に係わる成形金型の製造方法は成形面を形成し
た成形部材にその外周を覆う金属片を取付けた状態で成
形部材の成形面全体及び該成形面に隣接する金属片表面
に耐熱性の離型用薄膜を蒸着形成することを特徴とし、
特に、成形部材の成形面に隣接する金属片表面が成形面
の曲率にほぼ倣うように形成されていることを特徴とす
る。
【0005】
【作用】上記構成の成形金型の製造方法によれば、成形
面を形成した成形部材にその外周を覆う金属片を取付け
た状態で成形部材の成形面全体及び該成形面に隣接する
金属片表面に耐熱性の離型用薄膜を蒸着形成するので、
帯電効果による影響がこの金属片の外周部に現れること
となり、成形部材の成形面には影響がでないものとなる
。従って、成形金型を簡単に低コストで得ることができ
る。
面を形成した成形部材にその外周を覆う金属片を取付け
た状態で成形部材の成形面全体及び該成形面に隣接する
金属片表面に耐熱性の離型用薄膜を蒸着形成するので、
帯電効果による影響がこの金属片の外周部に現れること
となり、成形部材の成形面には影響がでないものとなる
。従って、成形金型を簡単に低コストで得ることができ
る。
【0006】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は、成形金型の成形部材の成形面に窒化アル
ミニウムの薄膜を蒸着形成するために使用するマイクロ
プラズマCVD装置を示す断面図で、図2は、成形部材
の外周にパラボラアンテナ状の帯電防止用の金属片を取
付けた状態を示す断面図で、図3は、図2の成形部材を
備えたレンズ成形用プレス金型を示す断面図である。ま
ず本実施例に係わるレンズ成形金型の一例を図3に基づ
いて説明する。図3中符号31は上型、32は下型、3
3は上型31の内部に上下動自在に設けられた中子、3
4は下型32の内部に上下動自在に設けられた中子であ
る。上記中子33の先端にはその下端面(成形面)30
aが凸状に形成された成形部材30が接着などにより固
定されている。また上記中子34の先端にはその上端面
(成形面)3aが凹状に形成された成形部材3が接着な
どにより固定されている。上記成形部材3,30及び中
子33,34は、耐熱性や強度性に優れた超硬材料によ
って形成されている。また、上記成形部材3の成形面3
aには、2図に拡大して示すように、窒化アルミニウム
(AlN)などの薄膜14が均一厚さにコ−ティング(
蒸着形成)されている。上記成形部材30の成形面30
aにも、同様に窒化アルミニウム(AlN)などの薄膜
14が均一厚さにコ−ティングされている。
する。図1は、成形金型の成形部材の成形面に窒化アル
ミニウムの薄膜を蒸着形成するために使用するマイクロ
プラズマCVD装置を示す断面図で、図2は、成形部材
の外周にパラボラアンテナ状の帯電防止用の金属片を取
付けた状態を示す断面図で、図3は、図2の成形部材を
備えたレンズ成形用プレス金型を示す断面図である。ま
ず本実施例に係わるレンズ成形金型の一例を図3に基づ
いて説明する。図3中符号31は上型、32は下型、3
3は上型31の内部に上下動自在に設けられた中子、3
4は下型32の内部に上下動自在に設けられた中子であ
る。上記中子33の先端にはその下端面(成形面)30
aが凸状に形成された成形部材30が接着などにより固
定されている。また上記中子34の先端にはその上端面
(成形面)3aが凹状に形成された成形部材3が接着な
どにより固定されている。上記成形部材3,30及び中
子33,34は、耐熱性や強度性に優れた超硬材料によ
って形成されている。また、上記成形部材3の成形面3
aには、2図に拡大して示すように、窒化アルミニウム
(AlN)などの薄膜14が均一厚さにコ−ティング(
蒸着形成)されている。上記成形部材30の成形面30
aにも、同様に窒化アルミニウム(AlN)などの薄膜
14が均一厚さにコ−ティングされている。
【0007】レンズをガラスプレスによって成形する場
合には、上記成形部材3と30間に加熱によって軟化さ
れたガラス材料が供給され、一対の中子33と34の一
方、または両方が前進して互いに加圧されることにより
、成形部材3の成形面3aと成形部材30の成形面30
aとによってレンズ40に球面、あるいは非球面の光学
面が転写される。各成形面3a,30aには高温にされ
たガラス材料が接触されるため、耐熱性が充分に確保さ
れている必要がある。また、成形されたレンズ40の光
学面の精度を高く保つためには各成形面3a,30aの
表面を緻密に加工できること、さらには各成形面3a,
30aがガラス材料に融着しにくい(ぬれ性が小さい)
ことが必要である。また、レンズの成形は各成形面3a
と30aとのプレスによってなされることを考えれば強
度も充分に確保されていることが必要となる。
合には、上記成形部材3と30間に加熱によって軟化さ
れたガラス材料が供給され、一対の中子33と34の一
方、または両方が前進して互いに加圧されることにより
、成形部材3の成形面3aと成形部材30の成形面30
aとによってレンズ40に球面、あるいは非球面の光学
面が転写される。各成形面3a,30aには高温にされ
たガラス材料が接触されるため、耐熱性が充分に確保さ
れている必要がある。また、成形されたレンズ40の光
学面の精度を高く保つためには各成形面3a,30aの
表面を緻密に加工できること、さらには各成形面3a,
30aがガラス材料に融着しにくい(ぬれ性が小さい)
ことが必要である。また、レンズの成形は各成形面3a
と30aとのプレスによってなされることを考えれば強
度も充分に確保されていることが必要となる。
【0008】次に上記成形部材3(または30)の成形
面3a(または30a)に窒化アルミニウムの膜を形成
するために使用されるマイクロプラズマCVD装置及び
その形成方法を図1に基づいて簡単に説明する。図1に
おいて、符号1は石英管などによって形成された反応管
であり、その内部が反応室Aとなっている。符号2はマ
イクロ波発振器を持つマイクロ波プラズマ発生装置であ
る。そして成形部材3は、反応室A内にて支持部材4上
に設置される。支持部材4はその上端にホルダ5が設け
られ、このホルダ5に前記成形部材3が設置される。
面3a(または30a)に窒化アルミニウムの膜を形成
するために使用されるマイクロプラズマCVD装置及び
その形成方法を図1に基づいて簡単に説明する。図1に
おいて、符号1は石英管などによって形成された反応管
であり、その内部が反応室Aとなっている。符号2はマ
イクロ波発振器を持つマイクロ波プラズマ発生装置であ
る。そして成形部材3は、反応室A内にて支持部材4上
に設置される。支持部材4はその上端にホルダ5が設け
られ、このホルダ5に前記成形部材3が設置される。
【0009】反応室Aの上端にはガス供給ノズル6が配
置されている。このガス供給ノズル6は多重管であり、
この実施例の場合には二重管となっている。ソ−ス供給
部には、恒温室7が設けられ、その内部にバブラ8が配
置されている。このバブラ8内に反応性ガス源として臭
化アルミニウム(AlBr3 )が充填されている。ま
た9は導入ガスである水素ガス(H2 )のボンベ、1
0及び11は窒素ガス(N2)のボンベである。バブラ
8側から供給されるガスは、二重管のガス供給ノズル6
の内管から反応室A内に供給され、ボンベ11が使用さ
れる場合には、これから供給される窒素ガスはガス供給
ノズル6の外管から反応室Aに供給される。また12は
メカニカルブ−スタポンプ、13はロ−タリポンプであ
る。両ポンプのいずれかによって反応室A内の真空圧が
設定される。
置されている。このガス供給ノズル6は多重管であり、
この実施例の場合には二重管となっている。ソ−ス供給
部には、恒温室7が設けられ、その内部にバブラ8が配
置されている。このバブラ8内に反応性ガス源として臭
化アルミニウム(AlBr3 )が充填されている。ま
た9は導入ガスである水素ガス(H2 )のボンベ、1
0及び11は窒素ガス(N2)のボンベである。バブラ
8側から供給されるガスは、二重管のガス供給ノズル6
の内管から反応室A内に供給され、ボンベ11が使用さ
れる場合には、これから供給される窒素ガスはガス供給
ノズル6の外管から反応室Aに供給される。また12は
メカニカルブ−スタポンプ、13はロ−タリポンプであ
る。両ポンプのいずれかによって反応室A内の真空圧が
設定される。
【0010】このCVD装置では、混合気体を放電させ
プラズマ化するために、例えば2.45GHzのマイク
ロ波を使用し、これにより、500℃以下程度の低温に
てAlNを析出するようにしている。これは、プラズマ
中における励起が、物質の比誘電率と誘電体損失角に関
係することに着目したことによる。すなわち、ソ−スと
して臭化アルミニウム(AlBr3 )が使用され、こ
れと窒素ガス(N2)ならびに水素ガス(H2)が混合
されて、この気体がマイクロ波によって放電されてプラ
ズマ化されると、AlとN、AlとBrとH、などの組
み合わせのラジカルな結合が存在するようになる。例え
ば2.45GHzのマイクロ波によって励起された場合
には、比誘電率ならびに誘電体損失角とがマイクロ波の
影響を受け、上記組み合わせのラジカルな結合が共振状
態となり、各々の元素ごとに分かれ、AlやNが熱力学
的平衡状態を保つようになる。そして、これが成形部材
3の成形面3aにて反応し、AlNの薄膜14が形成さ
れる。この場合、AlBr3 とN2 とのモル比を最
適なもの(例えばN2 /AlBr3 のモル比が15
程度)とすれば、430℃程度の低温下において、ミラ
−指数が(001)配向となった多結晶のAlNの薄膜
14を得ることができる。また薄膜14の表面粗さも非
常に滑らかなものとなる。
プラズマ化するために、例えば2.45GHzのマイク
ロ波を使用し、これにより、500℃以下程度の低温に
てAlNを析出するようにしている。これは、プラズマ
中における励起が、物質の比誘電率と誘電体損失角に関
係することに着目したことによる。すなわち、ソ−スと
して臭化アルミニウム(AlBr3 )が使用され、こ
れと窒素ガス(N2)ならびに水素ガス(H2)が混合
されて、この気体がマイクロ波によって放電されてプラ
ズマ化されると、AlとN、AlとBrとH、などの組
み合わせのラジカルな結合が存在するようになる。例え
ば2.45GHzのマイクロ波によって励起された場合
には、比誘電率ならびに誘電体損失角とがマイクロ波の
影響を受け、上記組み合わせのラジカルな結合が共振状
態となり、各々の元素ごとに分かれ、AlやNが熱力学
的平衡状態を保つようになる。そして、これが成形部材
3の成形面3aにて反応し、AlNの薄膜14が形成さ
れる。この場合、AlBr3 とN2 とのモル比を最
適なもの(例えばN2 /AlBr3 のモル比が15
程度)とすれば、430℃程度の低温下において、ミラ
−指数が(001)配向となった多結晶のAlNの薄膜
14を得ることができる。また薄膜14の表面粗さも非
常に滑らかなものとなる。
【0011】これらの反応室A内の反応は、成形面3a
だけでなく、その成形部材の外周部3bに取付けられた
成形面3aの曲率にほぼ倣うように形成された金属片1
5の上面15aにも、同様な反応を起こしAlNの薄膜
14が形成される。この時、帯電効果によりこの金属片
15の外周部15b付近が荷電部となりAlNの薄膜1
4が厚く形成される。この金属片15の径を成形面3a
の径に対して十分に大きく設定しておけば、成形面3a
は帯電効果の影響を受けずに均一な薄膜がコ−ティング
される。
だけでなく、その成形部材の外周部3bに取付けられた
成形面3aの曲率にほぼ倣うように形成された金属片1
5の上面15aにも、同様な反応を起こしAlNの薄膜
14が形成される。この時、帯電効果によりこの金属片
15の外周部15b付近が荷電部となりAlNの薄膜1
4が厚く形成される。この金属片15の径を成形面3a
の径に対して十分に大きく設定しておけば、成形面3a
は帯電効果の影響を受けずに均一な薄膜がコ−ティング
される。
【0012】次に、成形面が凸状の場合の金属片の他の
実施例を図4を基に説明する。凸状の成形面30aをも
つ成形部材30の外周部30bに取付ける金属片16は
、その上面16aが成形面30aの曲率にほぼ倣うよう
に形成されている。図2の実施例と同様に帯電効果によ
る影響をこの金属片16の外周部16bで吸収し、成形
面30aは均一厚さの薄膜14がコ−ティング(蒸着形
成)される。
実施例を図4を基に説明する。凸状の成形面30aをも
つ成形部材30の外周部30bに取付ける金属片16は
、その上面16aが成形面30aの曲率にほぼ倣うよう
に形成されている。図2の実施例と同様に帯電効果によ
る影響をこの金属片16の外周部16bで吸収し、成形
面30aは均一厚さの薄膜14がコ−ティング(蒸着形
成)される。
【0013】
【発明の効果】以上のように本発明の成形金型の製造方
法によれば、成形面を形成した成形部材にその外周を覆
う金属片を取付けた状態で成形部材の成形面全体及び該
成形面に隣接する金属片表面に耐熱性の離型用薄膜を蒸
着形成するので、帯電効果による影響がこの金属片の外
周部に現れることとなり、成形部材の成形面には影響が
でないものとなる。従って、精度の高い成形金型を簡単
に低コストを得ることができる。
法によれば、成形面を形成した成形部材にその外周を覆
う金属片を取付けた状態で成形部材の成形面全体及び該
成形面に隣接する金属片表面に耐熱性の離型用薄膜を蒸
着形成するので、帯電効果による影響がこの金属片の外
周部に現れることとなり、成形部材の成形面には影響が
でないものとなる。従って、精度の高い成形金型を簡単
に低コストを得ることができる。
【図1】成形部材の成形面に窒化アルミニウムを形成す
るマイクロプラズマCVD装置を示す断面図。
るマイクロプラズマCVD装置を示す断面図。
【図2】本発明の実施例の帯電防止用の金属片を成形部
材に取付けた状態を示す断面図。
材に取付けた状態を示す断面図。
【図3】本実施例の成形部材を備えたレンズ成形用プレ
ス金型を示す断面図。
ス金型を示す断面図。
【図4】本発明の他の実施例の帯電防止用の金属片を成
形部材に取付けた状態を示す断面図。
形部材に取付けた状態を示す断面図。
3,30 成形金型3a,30a
成形面
成形面
Claims (2)
- 【請求項1】 材料を一対の相対向する成形面で加圧
成形して素子を成形する成形金型の製造方法において、
成形面を形成した成形部材にその外周部を覆う金属片を
取付けた状態で成形部材の成形面全体及び該成形面に隣
接する金属片表面に耐熱性の離型用薄膜を蒸着形成する
ことを特徴とする成形金型の製造方法。 - 【請求項2】 成形部材の成形面に隣接する金属片表
面が成形面の曲率にほぼ倣うように形成されていること
を特徴とする請求項1に記載の成形金型の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14696491A JPH04349127A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 成形金型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14696491A JPH04349127A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 成形金型の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04349127A true JPH04349127A (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=15419568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14696491A Withdrawn JPH04349127A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 成形金型の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04349127A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017075090A (ja) * | 2015-10-01 | 2017-04-20 | ショット アクチエンゲゼルシャフトSchott AG | 改善された清浄化性を示す引掻抵抗の被覆、改善された清浄化性を示す耐引掻性の被覆を備えた基材及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-05-22 JP JP14696491A patent/JPH04349127A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017075090A (ja) * | 2015-10-01 | 2017-04-20 | ショット アクチエンゲゼルシャフトSchott AG | 改善された清浄化性を示す引掻抵抗の被覆、改善された清浄化性を示す耐引掻性の被覆を備えた基材及びその製造方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980806 |