JPH0434438A - 感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （ａｌ産業上の利用分野 この発明は、複写機等の画像形成装置に使用される電了
写真怒光体の製造方法に関する。

（′ｂ）従来の技術 電子写真窓光体としては現在、有機感光体（ＯＰＣ）が
広（用いられ、特に電荷発生層と電荷輸送層を積層する
機能９Ｊ離型感光体や、硬く耐剛性が優れているアモル
ファスシリコン（ａ−３ｉ）を成膜した感光体が一般に
使用されている。

前者は従来、槽の中に収容された感光液の中に感光体の
基体を浸漬し引き上げ乾燥させて成膜する浸漬塗布方法
で製造され、機能分離型の場合は電荷発生層の塗工、電
荷輸送層の塗工と２回の塗布を行っていた。また、最近
では、リング状容器の中に感光液を収容し、そのリング
状の容器の内径側に基体を通過さゼて塗布する基体移動
方式も開発されている。

後者は、水素またはハロゲンを含むシリコン化合物の原
料ガスが収容された堆積室に置かれた基体にプラズマに
より成膜するプラズマＣＶＤ法や、反応性スパッタリン
グ法等が一般的である。

（Ｃ１発明が解決しようとする課題 しか巳ながら、上述の浸漬塗布方式ては、感光液のボッ
トライフ等の理由により廃棄する星が多く、感光液の使
用効率が２０　’ｙ６〜７０％と低い。

特に、電荷発生層は一本当たりの塗布量が数■であるの
に感光液の量は３〜４ｉ必要である。また装置が大型に
なる等の欠点があった。一方基体移動方式は感光液の使
用効率は高いが（３０′７６以上）、基体にリング状容
器との摺接部で傷がつき易く、塗布ムラが多く感光体と
して品質が悪くなるという欠点があった。

また、アモルファスシリコンの膜を形成した感光体は、
その堆積膜厚が２０〜４０μｍと厚くする必要があり、
成“膜に長時間を要する。さらに暗電流が大きいためブ
ロッキング層、表面層が必要となり、そのために多種の
ガスを必要とするとともに、ＣＶＤ装置への流入ガス璽
の調整が煩わしい等の欠点があった。この他、膜を形成
する際に生じる粉状のＳｉ８ｇポリマー、Ｓｉのフレー
クが成膜表面に付着して膜の異常成長を発生し、画像に
悪影響を及ぼすという欠点があった。

そこでこの発明の目的；よ、良質の感光体を短時間で効
率良く製造する方法を提供することにあるｆｄ）課題を
解決するための手段 この発明の感光体の装造方法ては、導電性の基体上に電
荷発生層と電荷輸送層とを積層巳てなる感光体において
、 前記基体上に前記電荷発生層としてアモルファスシリコ
ン層を形成し、 前記アモルファスシリコン層の形成された基体を、リン
グ状容器に収容された電荷輸送物性の感光液の中を、基
体の外周面を前記リング状容器の内径側に摺接さセなが
ら軸方向に移動させることにより、前記アモルファスシ
リコン層の上に電荷輸送層を形成することを特徴とする
。

（８１作用 この発明に係る感光体の製造方法では、電荷発生層とし
てアモルファスシリコン層を基体上に形成し、その上に
電荷輸送層を、リング状容器内の感光液中を、リング状
の内径側に基体の外周面を摺接さ一１！なから通過さ−
Ｕることにより形成する。

このため、アモルファスシリコン膜のみを形成する場合
はど膜厚を必要とゼず（２μｍｎ以下）、短時間にアモ
ルファスシリコン膜を形成できる。アモルファスシリコ
ン膜は非常に硬く傷つき歎（・ので、その上に電荷輸送
層を形成に際して、リング状容器に収容された電荷輸送
物性の感光液の中を、基体の外周面を前記リング状容器
の内径側に摺接さモながら軸方向に移動さセ塗布しても
、基体に傷がつくことがない。従って、感光液の使用効
率が亮く、短時間で良質の感光体を製造することができ
る。

（ｆ）実施例 第１図は、この発明の実施例である感光体の製造方法に
より製造した感光体の円筒状の外壁の一部の概略図であ
る。感光体ドラム１００の回りにはアモルファスシリコ
ン膜１０１よりなる電荷発生層が形成されており、その
上に電荷輸送層１０２が形成されている。アモルファス
シリコン膜１０１は電子ザイクロン共鳴（ＥＣＲ）プラ
ズマＣＶＤ装置にて膜厚はぼ０．２μＩｉ’ｌ　Ｃ０、
２〜０゜５μ口゛Ｌが最適膜厚）に成膜し、その上に後
述の塗布装置により電荷輸送層１０２を厚みほぼ１５μ
ｍ１１に形成した。

第２図は、同窓光体のアモルファスシリコンより成る電
荷発生層を形成するための電子リイクコトロン共鳴（Ｅ
ＣＲ＞プラズマＣ’ｖ’　Ｄ装置の概略構成図である。

本装置は、プラズマの生成を行うプラズマ室１１と、成
膜が行われる堆積室１２により構成されている。プラズ
マ室１１と堆積室１２は図示セぬターボ分子ポンプおよ
び油回転ポンプにより矢印の方に真空排気される。プラ
ズマ室１１は空洞共振器構造となっており、導波管１４
を通して２゜４５ＧＨｚのマイクロ波が透過できる石英
で構成されている。プラズマ室１１にはガス導入管１７
が接続されており、）（２，Ｈｅ、Ａｒ等のガスが導入
される。プラズマ室１１の周囲には磁気コイル１６が配
置され、プラズマ室１１内の適当な領域てＥＣＲ条件を
満たす磁界を発生さセるとともに、堆積室１２内にプラ
ズマを引き出す発散磁界を形成している。なお、プラズ
マはプラズマ引き出し窓１３を介して堆積室′Ｌ２に引
き出される。堆積室１２内に−ま感光体の基体１００が
装着される。基体ｌＯＯは導電性材料、例えばアルミニ
ウム（ＡＩ）より構成されている。基体１００は均一に
成膜が行われるように支持機構（図示セぬ）により回転
可能に支持されている。堆積室１２には原料ガス５ｉＨ
ａを導入するガス導入管１９が設けられている。

以上のような装置にて、まずプラズマ室１１および堆積
室１２が排気され、次にプラズマ室１２に２０ＳＣＣＭ
のガスＡｒが、堆積室１２には原料ガス５ｉｌｔ　（１
２０３ＣＣＭ）が導入される。このときの圧力は通常１
０−４〜１０−３Ｔｏｒｒ程度に設定されており、本実
施例では６．４　Ｘｌ０−３である。磁気コイル１６に
は予め電流が印加され磁場が形成７゜ されており、ｅラズマ室１１にマイクロ波（マイクロ波
電力２．５ｋＷ）を導入することによってプラズマの生
成を行う。生成されたプラズマはプラズマ引き出し窓１
３を介して堆積室１２に輸送され、基体１００上に膜を
形成する。このとき基体１００は回転されていて均一に
膜が形成される。プラズマ引き出し窓１３の形状、プラ
ズマ引き出し窓１３から基体１００まての距離を調整し
て膜の均一化を図ることができる。本実施例では０．２
μｍｎの膜厚に成膜した。　プラズマ室１２に導入する
ガスはＨｚ、Ｈｅ、Ａｒ等が用いられ、原料ガスとして
は５ｉｔｌａ、５ｉｚ）１６．ＳｉＦ４，５ｉＨ２Ｃ１
□等の水素またはハロゲンを含むシリコン化合物が用い
られる。

またアモルファスシリコンの電荷発生層の形成は、通常
のプラズマＣＶＤ法、反応性スパッタリング法を用いて
もよい。

次にアモルファスシリコンの電荷発生層の形成された基
体に電荷輸送物性の感光液を塗布する。

第３図は、同感光体に電荷輸送物性の感光液を塗布する
ための塗布装置である。

電荷輸送物性を有する感光液２１が収容された塗工槽２
２の底面中央部には、基体１００の外径大の侵入孔２３
が形成されている。この侵入孔２３には局面に弾性ゴム
からなるブレード２４が設けられ、基体１００やその上
下の保持部材が侵入孔２３に位置しているときそれらに
密着して、内部の感光液２１が漏れないようになってい
る。基体ＬＯＯの表面には、上述の装置によりアモルフ
ァスシリコンよりなる電荷発生層が形成されている。こ
の基体１００を侵入孔２３から塗工槽２２−・と侵入さ
せ感光液２１の中を通過さセる。これによって基体１０
０の表面のアモルファスシリコン膜の上に電荷輸送物性
を有する感光液２１が塗布される。なお、基体１００の
押し上げは図示せぬ押上機構によって行われる。

以上のような構成の塗布装置により塗布を施すと、従来
の電荷発生層は、前記侵入孔２３のブレード２４により
傷がつき易く、塗布膜にムラができてしまい実用には供
ゼないのであるが、本実施例では、電荷発生層をアモル
ファスシリコンとしたため極めて硬＜、感光液使用量の
少ないリング状容器を備える塗布装置を用いても傷つく
ことがない。従って、浸漬塗布装置により塗布する場合
に比較して大幅に感光液を節約することがてきる本実施
例では、感光液として、ヒドラゾン系電荷輸送材（亜南
香料（株）製、ＡＢＰＨ）１重量ン８重量部に溶解し作
成じだ。この感光液により乾燥膜厚が１５μｍとなるよ
・）に塗布し、７０゜Ｃて１時間の乾燥により製品とし
た。

この感光体を複写機に実装して複写テストを行った結果
、画像に影響を及ぼす傷等がなく、大変良好であった。

（ｇ）発明の効果 以上のように、この発明の感光体の製造方法によれば、
電荷発生層としてアモルファスシリコン膜を、基体上に
形成し、その上に電荷輸送物性を有する感光液を収容す
るリング状容器の内径部に基体を通過させて塗布を行・
）基体移動方式により電荷輸送層を形成する。これによ
り、アモルファスシリコン膜のみを形成する場合はど膜
厚を必要とセず（２μｍ〕−東以下）、短時間にアモル
ファスシリコン膜を形成できるとともに、アモルファス
シリコン膜は非常に硬（傷つき難いので、その上に電荷
輸送層をリング状容器に収容された感光液の中を、基体
の外周面を前記リング状容器の内径側に摺接させながら
軸方向に移動させ塗布しても、基体に傷がつくことがな
い。従って、感光液の使用効率が高く、短時間で良質の
感光体を製造することができ、感光体のコスト低減、品
質向上を図ることができた。

１０１−電荷発生層（アモルファスシリコン）、１０２
−電荷輸送層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性の基体上に電荷発生層と電荷輸送層とを積
   層してなる感光体において、 前記基体上に前記電荷発生層としてアモルファスシリコ
   ン層を形成し、 前記アモルファスシリコン層の形成された基体を、リン
   グ状容器に収容された電荷輸送物性の感光液の中を、基
   体の外周面を前記リング状容器の内径側に摺接させなが
   ら軸方向に移動させることにより、前記アモルファスシ
   リコン層の上に電荷輸送層を形成することを特徴とする
   感光体の製造方法。